JPH10237676A - レジスト塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 カゼイン原液またはレジスト中に混入した微
生物の繁殖を防止することにより、塗布不良や現像不良
を生じることがないレジスト塗布装置を提供することを
目的とする。 【解決手段】 レジスト塗布装置は、純水槽２、カゼイ
ン槽３および重クロム酸塩槽４からそれぞれ送液され、
計量槽５において計量された純水、カゼイン原液および
重クロム酸塩原液を調合してレジストの新液を生成する
調合槽６と、調合槽６において調合されたレジストを貯
留する一対の貯留槽７、８と、金属薄板１にレジストを
塗布するためのレジスト槽９と、レジスト槽９からオー
バフローしたレジストを回収するための第１の回収槽１
３と、第１の回収槽１３により回収したレジストを調合
槽６に送液するための第２の回収槽１４と、殺菌液とし
てののアルカリ溶液を貯留するアルカリ溶液槽１５を備
える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、金属薄板の主面
にレジストを塗布するレジスト塗布装置に関し、特に、
カラー受像管用のシャドウマスク、トリニトロン（登録
商標）管等に使用するアパーチャグリル、半導体素子用
のリードフレーム等をフォトエッチング法により製造す
る際に用いられるレジスト塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、フォトエッチング法によりシャ
ドウマスクを製造する際には、特開平８−１４６６１３
号公報に開示されているように、その素材である長尺の
金属薄板をその長手方向に搬送させながら、その主面に
工業用水や純水等の洗浄液を吹き付けて洗浄した後、レ
ジスト塗布装置におけるレジスト槽に貯留されたレジス
ト中に金属薄板を浸漬させ、当該金属薄板をレジスト中
から引き上げることにより、金属薄板の主面にレジスト
を塗布している。なお、金属薄板に塗布されるレジスト
としては、例えば感光性樹脂基材として天然水溶性のカ
ゼインを含み、重クロム酸塩が添加されたものが使用さ
れる。

【０００３】また、上述したレジスト塗布装置は、カゼ
インを含むカゼイン原液を貯留するカゼイン槽と、重ク
ロム酸塩を含む重クロム酸塩原液を貯留する重クロム酸
塩槽と、純水を貯留する純水槽と、カゼイン槽、重クロ
ム酸塩槽および純水槽からそれぞれ所定量だけ送液され
たカゼイン原液、重クロム酸塩原液および純水を調合し
てレジストの新液を生成する調合槽とを備える。上記カ
ゼイン槽、重クロム酸塩槽および純水槽と調合槽とは、
それぞれ電磁弁等を介して流路接続されている。また、
調合槽とレジスト槽とは、電磁弁等介して流路接続され
ており、調合槽において生成されたレジストの新液はレ
ジスト槽に送液される。

【０００４】なお、レジスト槽に送液されたレジストを
循環使用する場合においては、レジスト槽からオーバフ
ローさせたレジストを調合槽等に回収する回収経路をさ
らに配設している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したようなレジス
ト塗布装置においては、カゼイン槽に貯留されたカゼイ
ン原液の液面は空気と接触しているため、空気中の微生
物（細菌）がカゼイン槽内のカゼイン原液に混入する。
そして、この微生物がカゼイン原液、特に牛乳カゼイン
などの天然水溶性のカゼイン原液中で群生繁殖して、カ
ゼイン槽に貯留されたカゼイン原液内に微生物のコロニ
ー（集落）が生成される。この微生物のコロニーを含む
カゼイン原液が調合槽を経てレジスト槽へ送液されるこ
とにより、レジスト槽に貯留されたレジスト内に微生物
のコロニーが混入する。

【０００６】同様に、レジスト槽に貯留されたレジスト
の液面は空気と接触しているため、空気中の微生物（細
菌）がレジスト槽内のレジストに混入する。そして、こ
の微生物がレジスト、特に牛乳カゼインなどの天然水溶
性のカゼインを含むレジスト中で群生繁殖して、レジス
ト槽に貯留されたレジスト内に微生物のコロニーが生成
される。

【０００７】このようなコロニーを含むレジスト中に金
属薄板を浸漬させて金属薄板の主面にレジストを薄膜状
に塗布した場合には、金属薄板の主面にコロニーが付着
し、さらにそのコロニー上にレジストが塗布されること
となる。このため、レジストの乾燥時にコロニーの付着
部分のレジストの塗膜が凸状となって、その後の現像・
硬膜工程で塗膜に亀裂を生じたり、コロニーの付着部分
にレジストが塗布されないで、塗膜に斑点状の塗布抜け
を生じるといった塗布不良の原因となる。

【０００８】また、カゼイン槽内のカゼイン原液やレジ
スト槽内のレジストにおいて微生物が繁殖することによ
り、カゼイン原液やレジストの腐敗が促進し、金属薄板
に塗布されたレジストの感光特性が変化することによ
り、その後の現像工程で現像不良を生じる場合もある。

【０００９】このような塗布不良や現像不良が生じた場
合には、後工程であるエッチング工程でエッチング不良
などの不具合を生じ、金属薄膜に所望の形状の透孔など
が形成されないことになる。

【００１０】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、カゼイン原液またはレジスト中に混入
した微生物の繁殖を防止することにより、塗布不良や現
像不良を生じることがないレジスト塗布装置を提供する
ことを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、レジスト槽に貯留されたカゼインを含むレジスト中
に金属薄板を浸漬させた後、当該金属薄板をレジスト中
から引き上げることにより、金属薄板にレジストを塗布
するレジスト塗布装置において、カゼインを含むカゼイ
ン原液を貯留するカゼイン槽と、カゼンイ槽内のカゼイ
ン原液をレジスト槽に供給するための供給手段と、カゼ
イン槽を殺菌するための殺菌液をカゼイン槽に供給する
殺菌液供給手段とを備えることを特徴とする。

【００１２】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、供給手段がカゼイン槽とレジスト槽と
を接続する供給経路を有し、殺菌液供給手段によりカゼ
イン槽に供給された殺菌液を、供給経路を介してレジス
ト槽に供給している。

【００１３】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、レジスト槽に供給された殺菌液をカゼ
イン槽に戻す戻り経路をさらに備え、カゼイン槽に供給
された殺菌液を供給経路、レジスト槽、戻り経路および
カゼイン槽において循環している。

【００１４】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の発明において、カゼイン槽から供給されたカゼイン原
液と他の薬液とを調合することによりレジストを生成す
るための供給系路中に配設された調合槽と、レジスト槽
内のレジストを調合槽に回収することによりレジストを
循環使用するためのレジスト回収経路とをさらに有し、
戻り経路は、レジスト回収経路とカゼイン槽とを接続し
ている。

【００１５】請求項５に記載の発明は、請求項２乃至４
いずれかに記載の発明において、供給経路中に配設され
レジスト槽に一定量のレジストを供給するためのレジス
ト供給ポンプと、供給経路においてレジスト供給ポンプ
と並列に接続されたレジスト供給ポンプより送液能力が
高い殺菌液供給ポンプとをさらに有している。

【００１６】請求項６に記載の発明は、レジスト槽に貯
留されたカゼインを含むレジスト中に金属薄板を浸漬さ
せた後、当該金属薄板をレジスト中から引き上げること
により、金属薄板にレジストを塗布するレジスト塗布装
置において、その内部にカゼインを含むカゼイン原液を
貯留するカゼイン槽と、カゼンイ槽内のカゼイン原液を
レジスト槽に供給するためカゼイン槽とレジスト槽とを
接続する供給経路と、レジスト槽とカゼイン槽とを接続
する戻り経路と、カゼイン槽、供給経路、レジスト槽お
よび戻り経路により形成される循環系路中のいずれかの
箇所に殺菌液を供給する殺菌液供給手段とを備えること
を特徴とする。

【００１７】請求項７に記載の発明は、レジスト槽に貯
留されたカゼインを含むレジスト中に金属薄板を浸漬さ
せた後、当該金属薄板をレジスト中から引き上げること
により、金属薄板にレジストを塗布するレジスト塗布装
置において、レジスト槽の内部を殺菌するための殺菌液
をレジスト槽に供給する殺菌供給手段を備えることを特
徴とする。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１は、この発明の第１実施形
態に係るレジスト塗布装置の概要図である。

【００１９】このレジスト塗布装置は、純水を貯留する
純水槽２と、カゼインを含むカゼイン原液を貯留するカ
ゼイン槽３と、重クロム酸アンモニュウム等の重クロム
酸塩を含む重クロム酸塩原液を貯留する重クロム酸塩槽
４と、純水槽２、カゼイン槽３および重クロム酸塩槽４
からそれぞれ送液された純水、カゼイン原液および重ク
ロム酸塩原液を計量するための計量槽５と、計量槽５に
おいて計量された純水、カゼイン原液および重クロム酸
塩原液を調合してレジストの新液を生成する調合槽６
と、調合槽６において調合されたレジストの新液を温度
調節しながら貯留する一対の貯留槽７、８と、搬送ロー
ラ１６、１７および一対のスクィージローラ１８、１９
を有し長尺の金属薄板１にレジストを塗布するためのレ
ジスト槽９と、レジスト槽９におけるオーバフロー部１
２からオーバフローしたレジストを回収するための第１
の回収槽１３と、第１の回収槽１３により回収したレジ
ストを調合槽６に送液するための第２の回収槽１４とを
備える。

【００２０】このレジスト塗布装置により金属薄板１に
レジストを塗布する場合においては、純水、カゼイン原
液および重クロム酸塩原液を計量して調合することによ
り、予めレジストの新液を生成しておく。すなわち、電
磁弁２２を開放して純水槽２内の純水を計量槽５に流下
させて計量した後、電磁弁２５を開放してこの純水を調
合槽６内に流下させる。また、電磁弁２３を開放してカ
ゼイン槽３内のカゼイン原液を計量槽５に流下させて計
量した後、電磁弁２５を開放してこのカゼイン原液を調
合槽６内に流下させる。さらに、電磁弁２４を開放して
重クロム酸塩槽４内の重クロム酸塩原液を計量槽５に流
下させて計量した後、電磁弁２５を開放してこの純水を
調合槽６内に流下させる。そして、調合槽６内におい
て、これらの純水、カゼイン原液および重クロム酸塩原
液を混合手段３２で混合することにより、レジストの新
液を生成する。

【００２１】調合槽６において調合されたレジストは、
ポンプ３３および電磁弁２６、２７を介して一対の貯留
槽７、８の内のいずれか一方の貯留槽に送液され、温度
制御された状態で貯留される。そして、このレジスト
は、電磁弁２８、２９およびポンプ３４の作用により、
レジスト槽９に送液される。なお、特に一対の貯留槽
７、８を配設しているのは、レジストの塗布時において
一方の貯留槽７または８からレジスト槽９にレジストを
順次送液している間に、次のレジスト新液の調合と他方
の貯留槽７または８への貯留とを完了させておくことに
より、金属薄板１へのレジスト塗布を連続して行うため
である。

【００２２】レジスト槽９においては、金属薄板１が搬
送ローラ１６、１７により搬送されてレジスト中に浸漬
される。そして、この金属薄板１は一対のスクィージロ
ーラ１８、１９によりスクィージされ、その両主面に付
着した余分なレジストを除去された後、図示しない乾燥
装置に向けて搬送される。

【００２３】このレジスト塗布工程において、レジスト
槽９のオーバフロー部１２よりオーバフローしたレジス
トは、第１の回収槽１３に貯留される。そして、このレ
ジストはポンプ３５の作用により第２の回収槽１４に送
られる。第２の回収槽１４に貯留されたレジストは、調
合槽６においてレジストの調合を行う際に、ポンプ３６
により調合槽６に送液される。なお、第２の回収槽１４
に貯留されたレジストを計量槽５に送液し、このレジス
トを電磁弁２５を介して調合槽６に送液するようにして
もよい。

【００２４】なお、上述した構成においては、電磁弁２
３、計量槽５、電磁弁２５、調合槽６、ポンプ３３、電
磁弁２６、２７、貯留槽７、８、電磁弁２８、２９およ
びポンプ３４を接続する経路が、カゼイン槽３とレジス
ト槽９とを接続する供給経路を構成する。また、第１の
回収槽１３、ポンプ３５、第２の回収槽１４およびポン
プ３６を接続する経路が、レジスト槽９内のレジストを
調合槽６に回収するレジスト回収経路を構成する。

【００２５】このようなレジスト塗布装置においては、
レジストの塗布作業を継続するに従って、カゼイン原液
中やレジスト中に微生物が繁殖するため、一定期間毎に
その殺菌作業を行う。この殺菌作業は、以下のようして
に実行される。

【００２６】殺菌作業を実行するに先立ち、電磁弁４０
を開放してレジスト槽９の底部からレジスト等を排出す
ることにより、純水槽２および重クロム酸塩槽４を除く
各槽および配管中のレジストおよびカゼインを除去す
る。この排出作業が完了すれば、電磁弁４０を閉止す
る。

【００２７】また、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶
液等のアルカリ溶液を貯留するアルカリ溶液槽１５を設
置し、このアルカリ溶液槽１５とカゼイン槽３とをポン
プ３７を介して接続する。また、貯留槽７、８からレジ
スト槽９に至るレジストの供給経路中において、ポンプ
３４より送液能力が高いポンプ３８をポンプ３４と並列
に配設する。さらに、第２の回収槽１４とカゼイン槽３
とをポンプ３９を介して接続する。

【００２８】この状態において、ポンプ３７を駆動し、
アルカリ溶液槽１５からカゼイン槽３にアルカリ溶液を
供給する。そして、電磁弁２３、２５、２６、２７、２
８、２９を開放するとともに、ポンプ３３、３４、３
５、３８、３９を駆動させる。これにより、アルカリ溶
液槽１５からカゼイン槽３に供給されたアルカリ溶液
は、カゼイン槽３から、電磁弁２３、計量槽５、電磁弁
２５、調合槽６、ポンプ３３、電磁弁２６、２７、貯留
槽７、８、電磁弁２８、２９、ポンプ３４、３８、レジ
スト槽９、第１の回収槽１３、ポンプ３５、第２の回収
槽１４およびポンプ３９を介してカゼイン槽３に至る循
環路を循環する。また、一定時間経過後に、ポンプ３６
を駆動するとともにポンプ３９の駆動を停止する。これ
により、アルカリ溶液は第２の回収槽１４から調合槽６
に至る経路を通過して循環する。そして、アルカリ溶液
の循環に伴って前記循環路全体が殺菌される。これによ
り、レジスト塗布装置における微生物の繁殖を防止する
ことができる。

【００２９】なお、上述した実施の形態において、ポン
プ３４より送液能力が高いポンプ３８をポンプ３４と並
列に配設しているのは、次のような理由による。

【００３０】すなわち、ポンプ３４は、金属薄板１に塗
布するために必要な量のレジストを貯留槽７または８か
らレジスト槽９に供給するためのものであり、一定時間
当たりに比較的少量のレジストを正確に送液できればよ
いことから、他のポンプ３３、３５、３６等とは異な
り、その送液量が比較的小さな定量ポンプが使用され
る。このため、上述したアルカリ溶液を循環させること
による殺菌作業時においても、ポンプ３４によるアルカ
リ溶液の送液量が小さいことから、循環路全体を循環す
るアルカリ溶液の循環量も小さくなってしまい、殺菌作
業に極めて長い時間をかけないと十分な殺菌効果が得ら
れないことになる。

【００３１】このため、貯留槽７、８からレジスト槽９
に至るレジストの供給経路中において、ポンプ３４より
送液能力が高いポンプ３８をポンプ３４と並列に配設
し、アルカリ溶液を循環させる殺菌作業時にはポンプ３
８をも使用することにより、十分な循環量を得るように
しているのである。

【００３２】より具体的には、一定量のレジストを供給
するためのポンプ３４による送液量は例えば毎分３リッ
トルであり、レジスト槽９の容量と同量の２００リット
ルのアルカリ溶液を循環させるためには約６７分の時間
を要する。これに対し、アルカリ溶液循環専用のポンプ
３８を併設した場合には、その送液量は例えば毎分２５
リットルとなり、約８分の時間で２００リットルのアル
カリ溶液を循環させることができる。このため、アルカ
リ溶液を約８．３倍の回数だけ循環させことが可能とな
り、アルカリ溶液の循環によるレジスト塗布装置の殺菌
効果を大幅に向上させることができる。

【００３３】アルカリ溶液の循環により、カゼイン槽３
から、電磁弁２３、計量槽５、電磁弁２５、調合槽６、
ポンプ３３、電磁弁２６、２７、貯留槽７、８、電磁弁
２８、２９、ポンプ３４、３８、レジスト槽９、第１の
回収槽１３、ポンプ３５、第２の回収槽１４およびポン
プ３９を介してカゼイン槽３に至る循環路の殺菌が終了
すれば、電磁弁４０を開放して殺菌作業に使用したアル
カリ溶液を排出した後、電磁弁４０を閉止してレジスト
塗布装置の殺菌作業を終了する。

【００３４】なお、上述した実施の形態においては、カ
ゼイン槽３に直接殺菌液としてのアルカリ溶液を供給し
ているが、例えばレジスト槽９にアルカリ溶液を投入
し、このアルカリ溶液を、第１の回収槽１３、ポンプ３
５、第２の回収槽１４およびポンプ３９よりなる戻り経
路を介してカゼイン槽３に供給するようにしてもよい。
また、計量槽５、調合槽６、貯留槽７、８または第１、
第２の回収槽１３、１４等にアルカリ溶液を投入するよ
うにしてもよい。すなわち、カゼイン槽３と、カゼイン
槽３とレジスト槽９と接続する供給経路と、レジスト槽
９と、レジスト槽９とカゼイン槽３とを接続する戻り経
路とにより形成される循環経路中のいずれかの箇所に殺
菌液を供給することにより、この循環経路中にアルカリ
溶液を循環させる構成をとることも可能である。

【００３５】次に、この発明の他の実施の形態について
説明する。図２は、この発明の第２実施形態に係るレジ
スト塗布装置の概要図である。なお、図１に示す第１実
施形態と同一の部材については、同一の符号を付して詳
細な説明を省略する。

【００３６】この第２実施形態に係るレジスト塗布装置
は、レジスト槽９におけるオーバフロー部１２からオー
バフローしたレジストを、図示しないドレインに排出す
るように構成されている。すなわち、この第２実施形態
に係るレジスト塗布装置は、上述した第１実施形態に係
るレジスト塗布装置に比べ、レジスト槽９におけるオー
バフロー部１２からオーバフローしたレジストを回収す
るための第１の回収槽１３と、第１の回収槽１３により
回収したレジストを調合槽６に送液するための第２の回
収槽１４とが省略されている。

【００３７】このレジスト塗布装置においては、レジス
ト槽９に送液されたレジストを循環使用する構成ではな
いことから、レジストの回収経路を具備していない。こ
のため、このレジスト塗布装置において殺菌作業を行う
場合には、アルカリ溶液の循環専用の戻り経路が設置さ
れる。以下、このレジスト塗布装置における殺菌作業に
ついて説明する。

【００３８】先ず、電磁弁４０を開放してレジスト槽９
の底部からレジスト等を排出することにより、純水槽２
および重クロム酸塩槽４を除く各槽および配管中のレジ
ストおよびカゼインを除去した後、電磁弁４０を閉止す
る。

【００３９】また、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）水溶
液等のアルカリ溶液を貯留するアルカリ溶液槽１５を設
置し、このアルカリ溶液槽１５とカゼイン槽３とをポン
プ３７を介して接続する。また、貯留槽７、８からレジ
スト槽９に至るレジストの供給経路中において、ポンプ
３４より送液能力が高いポンプ３８をポンプ３４と並列
に配設する。さらに、レジスト槽９とカゼイン槽３とを
ポンプ４２を介して接続する。

【００４０】この状態において、ポンプ３７を駆動し、
アルカリ溶液槽１５からカゼイン槽３にアルカリ溶液を
供給する。そして、電磁弁２３、２５、２６、２７、２
８、２９を開放するとともに、ポンプ３３、３４、３
８、４２を駆動させる。これにより、アルカリ溶液槽１
５からカゼイン槽３に供給されたアルカリ溶液は、カゼ
イン槽３から、電磁弁２３、計量槽５、電磁弁２５、調
合槽６、ポンプ３３、電磁弁２６、２７、貯留槽７、
８、電磁弁２８、２９、ポンプ３４、３８、レジスト槽
９およびポンプ４２を介してカゼイン槽３に至る循環路
を循環する。そして、アルカリ溶液の循環に伴って前記
循環路全体が殺菌される。これにより、レジスト塗布装
置における微生物の繁殖を防止することができる。

【００４１】アルカリ溶液の循環により、カゼイン槽３
から、電磁弁２３、計量槽５、電磁弁２５、調合槽６、
ポンプ３３、電磁弁２６、２７、貯留槽７、８、電磁弁
２８、２９、ポンプ３４、３８、レジスト槽９およびポ
ンプ４２を介してカゼイン槽３に至る循環路の殺菌が終
了すれば、電磁弁４０を開放して殺菌作業に使用したア
ルカリ溶液を排出した後、電磁弁４０を閉止してレジス
ト塗布装置の殺菌作業を終了する。

【００４２】なお、上述した第２実施形態においても、
カゼイン槽３に直接殺菌液としてのアルカリ溶液を供給
しているが、例えばレジスト槽９にアルカリ溶液を投入
し、このアルカリ溶液を、ポンプ４２を有する戻り経路
を介してカゼイン槽３に供給するようにしてもよい。ま
た、計量槽５、調合槽６、貯留槽７、８等にアルカリ溶
液を投入するようにしてもよい。すなわち、第１実施形
態の場合と同様、カゼイン槽３と、カゼイン槽３とレジ
スト槽９と接続する供給経路と、レジスト槽９と、レジ
スト槽９とカゼイン槽３とを接続する戻り経路とにより
形成される循環経路のいずれかに殺菌液を供給すること
により、この循環経路中にアルカリ溶液を循環させる構
成をとることも可能である。

【００４３】この第２実施形態においては、レジストの
回収経路を具備しないレジスト塗布装置に対して殺菌作
業を行う際に、レジスト槽からポンプ４２を介してカゼ
イン槽３に至るアルカリ溶液の戻り経路を付設すること
から、少量のアルカリ溶液を使用する場合においても十
分な殺菌効果を得ることができる。ただし、レジスト槽
からポンプ４２を介してカゼイン槽３に至るアルカリ溶
液の戻り経路を省略し、カゼイン槽３に供給されたアル
カリ溶液を、電磁弁２３、計量槽５、電磁弁２５、調合
槽６、ポンプ３３、電磁弁２６、２７、貯留槽７、８、
電磁弁２８、２９、ポンプ３４、３８およびレジスト槽
９を通過させた後、電磁弁４０から排出させる構成とし
てもよい。

【００４４】次に、この発明のさらに他の実施の形態に
ついて説明する。図３は、この発明の第３実施形態に係
るレジスト塗布装置の概要図である。なお、図１および
図２に示す第１、第２実施形態と同一の部材について
は、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

【００４５】この第３実施形態に係るレジスト塗布装置
は、予め調合されたレジストを貯留する貯留槽５３か
ら、ポンプ５４を介してレジスト槽９にレジストを供給
するように構成されている。すなわち、このレジスト塗
布装置においては、図１、図２に示す第１、第２実施形
態に係るレジスト塗布装置とは異なり、カゼイン槽３等
は省略されている。

【００４６】このような塗布装置においては、新鮮なレ
ジストを貯留した貯留槽５３を順次交換して使用するこ
とが多いことから、貯留槽５３内に微生物が繁殖するこ
とは希である。しかしながら、レジスト槽９にはレジス
トが長期的に貯留されることから、レジスト槽９内のレ
ジスト中に微生物が繁殖する場合がある。

【００４７】以下、このレジスト塗布装置における殺菌
作業について説明する。

【００４８】先ず、電磁弁４０を開放してレジスト槽９
の底部からレジストを排出する。また、水酸化ナトリウ
ム（ＮａＯＨ）水溶液等のアルカリ溶液を貯留するアル
カリ溶液槽５５を設置し、このアルカリ溶液槽５５とレ
ジスト槽９とをポンプ５６を介して接続する。

【００４９】この状態において、ポンプ５６を駆動し、
アルカリ溶液槽５５からレジスト槽９にアルカリ溶液を
供給する。これにより、アルカリ溶液でレジスト槽９が
殺菌され、レジスト塗布装置における微生物の繁殖を防
止することができる。

【００５０】アルカリ溶液によるレジスト槽９の殺菌が
終了すれば、電磁弁４０を開放して殺菌作業に使用した
アルカリ溶液を排出した後、電磁弁４０を閉止してレジ
スト塗布装置の殺菌作業を終了する。

【００５１】なお、この第３実施形態において、レジス
ト槽９に直接アルカリ溶液を供給しているが、貯留槽５
３を介してレジスト槽９にアルカリ溶液を供給するよう
にしてもよい。

【００５２】上述した第１、第２、第３実施形態におい
ては、殺菌作業時に、アルカリ溶液槽１５、５５やポン
プ３７、３８、３９、４２、５６およびそれらと他の槽
等を接続する送液経路を設置しているが、これらを固定
的にレジスト塗布装置に付設してもよい。

【００５３】また、上述した第１、第２、第３実施形態
においては、殺菌液としてアルカリ溶液を使用している
が、例えばサラシ粉等の殺菌剤を水で溶解したものな
ど、微生物を殺菌する作用のあるその他の殺菌液を使用
することも可能である。

【００５４】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、カゼイ
ン槽を殺菌するための殺菌液をカゼイン槽に供給する殺
菌液供給手段を備えることから、カゼイン原液中に混入
した微生物の繁殖を防止することができる。このため、
レジスト塗布装置における塗布不良やその後の現像工程
における現像不良の発生を防止することができる。

【００５５】請求項２に記載の発明によれば、殺菌液供
給手段によりカゼイン槽に供給された殺菌液を、カゼイ
ン槽とレジスト槽とを接続する供給経路を介してレジス
ト槽に供給することから、さらにレジスト槽等における
レジスト中に混入した微生物の繁殖を防止することがで
きる。

【００５６】請求項３に記載の発明によれば、レジスト
槽に供給された殺菌液をカゼイン槽に戻す戻り経路をさ
らに備え、カゼイン槽に供給された殺菌液を供給経路、
レジスト槽、戻り経路およびカゼイン槽において循環す
ることから、少量の殺菌液を使用する場合においても十
分な殺菌効果を得ることができる。

【００５７】請求項４に記載の発明によれば、カゼイン
槽から供給されたカゼイン原液と他の薬液とを調合する
ことによりレジストを生成するための供給系路中に配設
された調合槽と、レジスト槽内のレジストを調合槽に回
収することによりレジストを循環使用するためのレジス
ト回収経路とをさらに有し、戻り経路は、レジスト回収
経路とカゼイン槽とを接続することから、レジスト回収
路を利用して殺菌液を循環することにより、少量の殺菌
液を使用する場合においても十分な殺菌効果を得ること
ができる。

【００５８】請求項５に記載の発明によれば、供給経路
においてレジスト供給ポンプと並列に接続されたレジス
ト供給ポンプより送液能力が高い殺菌液供給ポンプを有
することから、殺菌液供給ポンプの駆動により殺菌液を
より大量に送液することができ、十分な殺菌効果を得る
ことができる。

【００５９】請求項６に記載の発明によれば、カゼイン
槽、供給経路、レジスト槽および戻り経路により形成さ
れる循環系路中のいずれかの箇所に殺菌液を供給する殺
菌液供給手段を備えることから、カゼイン原液またはレ
ジスト中に混入した微生物の繁殖を防止することができ
る。このため、レジスト塗布装置における塗布不良やそ
の後の現像工程における現像不良の発生を防止すること
ができる。このとき、殺菌液を循環使用することから、
少量の殺菌液を使用する場合においても十分な殺菌効果
を得ることができる。

【００６０】請求項７に記載の発明によれば、レジスト
槽の内部を殺菌するための殺菌液をレジスト槽に供給す
る殺菌供給手段を備えることから、レジスト中に混入し
た微生物の繁殖を防止することができる。このため、レ
ジスト塗布装置における塗布不良やその後の現像工程に
おける現像不良の発生を防止することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の第１実施形態に係るレジスト塗布装
置の概要図である。

【図２】この発明の第２実施形態に係るレジスト塗布装
置の概要図である。

【図３】この発明の第３実施形態に係るレジスト塗布装
置の概要図である。

【符号の説明】

１ 金属薄板 ２ 純水槽 ３ カゼイン槽 ４ 重クロム酸塩槽 ５ 計量槽 ６ 調液槽 ７、８、５３ 貯留槽 ９ レジスト槽 １３、１４ 回収槽 １５、５５ アルカリ溶液槽 ３４、３５、３７、３８、３９、４２、５６ ポンプ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レジスト槽に貯留されたカゼインを含む
   レジスト中に金属薄板を浸漬させた後、当該金属薄板を
   レジスト中から引き上げることにより、金属薄板にレジ
   ストを塗布するレジスト塗布装置において、 カゼインを含むカゼイン原液を貯留するカゼイン槽と、 前記カゼンイ槽内のカゼイン原液を前記レジスト槽に供
   給するための供給手段と、 前記カゼイン槽を殺菌するための殺菌液を前記カゼイン
   槽に供給する殺菌液供給手段と、 を備えることを特徴とするレジスト塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のレジスト塗布装置にお
   いて、 前記供給手段が前記カゼイン槽と前記レジスト槽とを接
   続する供給経路を有し、前記殺菌液供給手段により前記
   カゼイン槽に供給された殺菌液を、前記供給経路を介し
   て前記レジスト槽に供給するレジスト塗布装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載のレジスト塗布装置にお
   いて、 前記レジスト槽に供給された殺菌液を前記カゼイン槽に
   戻す戻り経路をさらに備え、前記カゼイン槽に供給され
   た殺菌液を前記供給経路、レジスト槽、戻り経路および
   カゼイン槽において循環するレジスト塗布装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のレジスト塗布装置にお
   いて、 前記カゼイン槽から供給されたカゼイン原液と他の薬液
   とを調合することによりレジストを生成するための前記
   供給系路中に配設された調合槽と、前記レジスト槽内の
   レジストを前記調合槽に回収することによりレジストを
   循環使用するためのレジスト回収経路とをさらに有し、
   前記戻り経路は、前記レジスト回収経路と前記カゼイン
   槽とを接続するレジスト塗布装置。
5. 【請求項５】 請求項２乃至４いずれかに記載のレジス
   ト塗布装置において、 前記供給経路中に配設され前記レジスト槽に一定量のレ
   ジストを供給するためのレジスト供給ポンプと、前記供
   給経路において前記レジスト供給ポンプと並列に接続さ
   れた前記レジスト供給ポンプより送液能力が高い殺菌液
   供給ポンプとをさらに有するレジスト塗布装置。
6. 【請求項６】 レジスト槽に貯留されたカゼインを含む
   レジスト中に金属薄板を浸漬させた後、当該金属薄板を
   レジスト中から引き上げることにより、金属薄板にレジ
   ストを塗布するレジスト塗布装置において、 その内部にカゼインを含むカゼイン原液を貯留するカゼ
   イン槽と、 前記カゼンイ槽内のカゼイン原液を前記レジスト槽に供
   給するため前記カゼイン槽と前記レジスト槽とを接続す
   る供給経路と、 前記レジスト槽と前記カゼイン槽とを接続する戻り経路
   と、 前記カゼイン槽、供給経路、レジスト槽および戻り経路
   により形成される循環系路中のいずれかの箇所に殺菌液
   を供給する殺菌液供給手段と、 を備えることを特徴とするレジスト塗布装置。
7. 【請求項７】 レジスト槽に貯留されたカゼインを含む
   レジスト中に金属薄板を浸漬させた後、当該金属薄板を
   レジスト中から引き上げることにより、金属薄板にレジ
   ストを塗布するレジスト塗布装置において、 前記レジスト槽の内部を殺菌するための殺菌液を前記レ
   ジスト槽に供給する殺菌供給手段を備えることを特徴と
   するレジスト塗布装置。