JPH10235203A - 光触媒活性を有する薄膜の形成方法 - Google Patents
光触媒活性を有する薄膜の形成方法Info
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 52
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 title claims abstract description 26
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 239000008139 complexing agent Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 claims abstract description 20
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 64
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 claims description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 49
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 49
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 abstract description 46
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 37
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 17
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 abstract description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010304 firing Methods 0.000 abstract description 3
- 238000001879 gelation Methods 0.000 abstract description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 13
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 12
- 230000000844 anti-bacterial effect Effects 0.000 description 11
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 11
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 11
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 10
- 239000002585 base Substances 0.000 description 9
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 8
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 8
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 6
- 241000894006 Bacteria Species 0.000 description 5
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 5
- 239000001965 potato dextrose agar Substances 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 4
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000843 anti-fungal effect Effects 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 4
- 230000001877 deodorizing effect Effects 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N iron oxide Inorganic materials [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- -1 zirconium alkoxide Chemical class 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] BSDOQSMQCZQLDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000009918 complex formation Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 2
- 150000002169 ethanolamines Chemical class 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002504 physiological saline solution Substances 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 2
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 2
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N (fluoren-9-ylideneamino) n-naphthalen-1-ylcarbamate Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C1=NOC(=O)NC1=CC=CC2=CC=CC=C12 PFNQVRZLDWYSCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 1-phenylbutane-1,3-dione Chemical compound CC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 CVBUKMMMRLOKQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 3-(oxolan-2-yl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1CCCO1 WUPHOULIZUERAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001817 Agar Polymers 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N Glucose Natural products OC[C@H]1OC(O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@@H]1O WQZGKKKJIJFFOK-GASJEMHNSA-N 0.000 description 1
- GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N Indium phosphide Chemical group [In]#P GPXJNWSHGFTCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N Methylacetoacetic acid Chemical compound COC(=O)CC(C)=O WRQNANDWMGAFTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 240000004808 Saccharomyces cerevisiae Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000061456 Solanum tuberosum Species 0.000 description 1
- 235000002595 Solanum tuberosum Nutrition 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000008272 agar Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N aluminium triethoxide Chemical compound CCO[Al](OCC)OCC JPUHCPXFQIXLMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229940121375 antifungal agent Drugs 0.000 description 1
- 229910000410 antimony oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001580 bacterial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007621 bhi medium Substances 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052980 cadmium sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);selenium(2-) Chemical compound [Se-2].[Cd+2] UHYPYGJEEGLRJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000011162 core material Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 1
- 239000008121 dextrose Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000002708 enhancing effect Effects 0.000 description 1
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 description 1
- UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N ethanol;zirconium Chemical compound [Zr].CCO.CCO.CCO.CCO UARGAUQGVANXCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 229910021480 group 4 element Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052981 lead sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940056932 lead sulfide Drugs 0.000 description 1
- 230000005499 meniscus Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N methanol;titanium Chemical compound [Ti].OC.OC.OC.OC ZEIWWVGGEOHESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012811 non-conductive material Substances 0.000 description 1
- NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoferriooxy)iron hydrate Chemical compound O.O=[Fe]O[Fe]=O NDLPOXTZKUMGOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N oxoantimony Chemical compound [Sb]=O VTRUBDSFZJNXHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 238000013032 photocatalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 230000015843 photosynthesis, light reaction Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003227 poly(N-vinyl carbazole) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-].CCC[O-] XPGAWFIWCWKDDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTBRWVXQNMQQTK-UHFFFAOYSA-N strontium;ethanolate Chemical compound CCO[Sr]OCC YTBRWVXQNMQQTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GXMNGLIMQIPFEB-UHFFFAOYSA-N tetraethoxygermane Chemical compound CCO[Ge](OCC)(OCC)OCC GXMNGLIMQIPFEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N tri(butan-2-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-].CCC(C)[O-] WOZZOSDBXABUFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
であっても、優れた光触媒活性を発現し得る光触媒活性
を有する薄膜の形成方法組成物を得る。 【解決手段】 光硬化型ゾルゲル法により薄膜を形成す
るにあたり、基材上に未硬化の薄膜を形成した後、未硬
化の薄膜上に光半導性物質を付着させてから光を照射し
て薄膜を硬化させると共に光半導性物質を固定する、光
触媒活性を有する薄膜の形成方法。
Description
または脱臭などに用いられる光触媒活性を有する薄膜の
形成方法に関し、より詳細には、光硬化型ゾルゲル法を
用いた光触媒活性を有する薄膜の形成方法に関する。
の光分解などの化学反応の触媒としてだけでなく、水中
や空気中の環境汚染物質の分解除去、脱臭、抗菌、殺菌
などの多くの用途で注目を集めている。また、基材に、
抗菌性、防汚性及び脱臭性などの機能を付加するため
に、従来、基材表面にアナターゼ型酸化チタンなどの光
半導性物質を含有する薄膜を形成する方法が種々提案さ
れている。
ーティングなどにより塗布・固定し、その上に金属酸化
物ゾルを塗布し、ゾルゲル法により金属酸化物をゲル化
し、光触媒粉末を金属酸化物ゲルにより担持固定する方
法が提案されている(特開平5−309267号公
報)。
ル法による金属酸化物ゲルの生成は、以下のようにして
行われている。最終的に生成される金属酸化物の金属の
アルコキシドと、その溶媒と、金属アルコキシドを加水
分解するための水とを原料として用いる。このゾルゲル
法における反応は、以下のとおりである。
(OR)n が加水分解される。次に、反応(2)が進行
するに従って、金属酸化物MOn/2 が生成する。この金
属酸化物は、−M−O−M−O−の骨格を有する一種の
ポリマーである。そのため、反応(2)が進行するにつ
れて、金属アルコキシド溶液がゾルとなり、やがてゲル
化する。反応終了後、生成された金属酸化物ゲルを数百
℃に加熱することにより、焼成する。
れると共に、上記−M−O−M−O−の骨格を有する化
合物間に結合が形成される。従って、十分な機械的強度
を有する薄膜として金属酸化物薄膜が形成される。
は、反応(2)の終了後に数百℃の高温で焼成しなけれ
ばならなかった。そのため、使用する基材は、上記焼成
温度に耐え得るものでなければならなかった。従って、
上記先行技術に記載の方法では、使用する基材に制約が
あり、特に、耐熱性が十分でない有機材料からなる基材
を用いることができなかった。
性が十分でない基材上においても十分な光触媒性能を発
揮し得る薄膜を確実に形成することができ、従って基材
を構成する材料の制約が殆どない、光触媒活性を有する
薄膜の形成方法を提供することにある。
は、光硬化型ゾルゲル法による光触媒活性を有する薄膜
の形成方法であって、基材上に未硬化の薄膜を形成する
工程と、未硬化の薄膜上に光半導性物質を被着させる工
程と、薄膜に光を照射して硬化させると共に光半導性物
質を該薄膜に固定する工程とを備えることを特徴とす
る。
くは、請求項2に記載のように、光吸収波長を長波長側
にシフトさせる錯化剤が未硬化の薄膜に含有させる。ま
た、請求項1または2に記載の発明においては、好まし
くは、請求項3に記載のように、上記光半導性物質とし
て、二酸化チタンが用いられる。
〜3に記載の発明においては、製膜が光硬化型ゾルゲル
法により行われる。すなわち、従来のゾルゲル法では、
基材上にゾル液を塗布し、ゲル化させた後、数百℃の高
温で焼成する必要があったため、基材を構成する材料に
制約があったことに鑑み、本発明は、上記のような焼成
を必要としない光硬化型ゾルゲル法を用いることによ
り、上記問題を解決したことに特徴を有する。
を、金属アルコキシドを原料として用いた場合を例にと
り、説明する。 まず、金属アルコキシドに溶媒を加え、アルコキシド
溶液とし、さらに水を加えて溶液とする。
となる溶媒を揮発などにより除去する。 次に、上記金属アルコキシドの吸収波長の光を照射
し、金属アルコキシドを分解する。これにより、上記反
応(1)及び(2)が進行し、ゲル化が進行する。この
方法では、光硬化なので一般的なゾルゲル法における焼
成工程を必要としない。
光触媒活性を有する薄膜の製造方法では、従来必要であ
った焼成工程を必要としないため、基材として耐熱性の
低い有機樹脂などからなる基材を用いることも可能であ
る。
薄膜を形成する際に用いられる主原料としては、特に限
定されるものではないが、従来より光硬化型ゾルゲル法
において主原料として用いられている金属アルコキシド
を好適に用いることができる。
によりゲル化し得るものである限り特に限定されるもの
ではなく、該金属アルコキシドに用いられる金属の例を
挙げると、A1、Ba、Bi、Ca、Cr、Co、C
u、Fe、La、Mo、Nb、Ni、Pb、P、Si、
Sn、Sr、Ti、Ta、V、W、Y、Zrなどがあ
る。また、アルコキシ基の例を挙げると、メトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などがある。
アルミニウムブトキシド、アルミニウムエトキシド、ゲ
ルマニウムエトキシド、ストロンチウムエトキシド、チ
タンブトキシド、チタンエトキシド、チタンイソプロポ
キシド、チタンメトキシド、ジルコニウムブトキシド、
ジルコニウムエトキシド、ジルコニウムプロポキシド、
シリコンエトキシドなどは、一般に市販されており、入
手が容易であるので、好適に用い得る。
は、最終的に合成する金属酸化物、並びに溶媒に対する
金属アルコキシドの溶解性を考慮して選択することが好
ましい。また、上記金属アルコキシドは単独で用いられ
てもよく、二種以上併用されてもよい。
取り扱いが簡便であるため、アルコキシシランが特に好
ましく用いられる。また、耐薬品性能として耐アルカリ
性が要求される場合には、薄膜中にジルコニアが含有さ
れるように、ジルコニウムアルコキシドを用いることが
好ましい。
は、金属アルコキシドを溶解し得るものであれば特に限
定されるわけではないが、沈澱物を生成することなく金
属アルコキシドを溶解するものが好ましい。また、請求
項2に記載の発明においては、さらに後述の錯化剤を溶
解し得るもの、並びに錯化剤の添加により形成された錯
体を溶解し得るものであれば、特に限定されるものでは
ない。
された薄膜において力学的物性が低下したり、薄膜その
ものが形成され得ないことがある。請求項1〜3に記載
の発明において用い得る溶媒の例としては、メチルアル
コール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、
エトキシエチルアルコール、アリルアルコール、エチレ
ングリコール、エチレンオキシド、トリエタノールアミ
ン、キシレンなどを挙げることができる。
ために錯化剤が用いられるが、この錯化剤としては、β
−ジケトン類(R1 COCH2 COR2 、ただし、R1
は、例えばメチル基、エチル基、tert−ブチル基な
どであり、R2は例えばメチル基、エチル基、tert
−ブチル基などであり、R1 と同じものでもよい)、β
−ケトンエステル類(R3 COCH2 COOR4 、R3
は例えばメチル基、エチル基などであり、R4 は例えば
メチル基、エチル基などであり、R3 と同じであっても
よい)、あるいは各種エタノールアミン類(NH
3-X (C 2 H4 OH)X 、なお、Xは1〜3の整数)を
挙げることができる。
と、β−ケトン類として、アセチルアセトン、ベンゾイ
ルアセトンなどを、β−ケトン酸エステル類として、ア
セト酢酸メチルなどを、エタノールアミン類としてエタ
ノールアミンなどを示すことができる。
ない。しかしながら、金属アルコキシド1モルに対し
て、錯化剤は0.5〜3モルの範囲で用いることが好ま
しい。0.5モルより少ない場合には、錯化剤と金属ア
ルコキシドによるキレートの形成が不十分となり、薄膜
が形成されない場合がある。逆に、3モルよりも多くな
ると、反応系に不純物が多く混在し、形成される薄膜の
物性が低下することがある。
を形成した金属アルコキシドの光吸収波長がシフトし、
光硬化が容易となる。すなわち、照射する光の波長は、
錯体形成の要因となるキレート結合の示す吸収極大波長
が好ましいが、光硬化が起こる限り、特に限定されるも
のではない。
を組み合わせることにより、吸収極大波長が長波長側に
シフトされ、それによって作業の容易性や装置の簡便性
が改善される。すなわち、光吸収波長が長波長側にシフ
トするので、利用可能な光源や光学系の選択範囲が広げ
られる。
ではないが、形成された錯体が完全に反応するまで照射
することが、薄膜の化学的安定性を高め得るため、好ま
しい。この場合、反応進行度の測定方法の例を挙げる
と、基材上に塗布した薄膜について、上記吸収極大波長
スペクトルの変化を観察する方法を挙げることができ
る。
させるために用いられる光半導性物質は、光触媒活性を
有するものである限り、特に限定されるものではない。
例えば、酸化亜鉛、二酸化チタン、酸化タングステン、
チタン酸ストロンチウム、酸化第二鉄などの金属酸化
物;硫化亜鉛、硫化カドミウム、硫化鉛、セレン化亜
鉛、セレン化カドミウムなどの金属カルコゲナイド;シ
リコン、ゲルマニウムなどの第IV属元素;ガリウム−
リン、ガリウム−ヒ素、インジウム−リンなどのIII
−V属化合物;ポリアセチレン、ポリピロール、ポリチ
オフェン、ポリアニリン、ポリビニルカルバゾールなど
の有機半導体などを示すことができる。
及び入手の容易性を考慮すると、酸化チタン、酸化タン
グステンなどの金属酸化物を用いることが好ましい。中
でも、酸化チタンが入手が容易であるため利用し易く、
その種類として、アモルファス、ルチル型及びアナター
ゼ型の何れをも使用することができる。もっとも、抗
菌、防汚、脱臭、窒素酸化物の除去などの目的で薄膜を
使用する場合には、アナターゼ型酸化チタンの性能が最
も優れているため、アナターゼ型酸化チタンが最も好ま
しい。
いる酸化チタンは、多くの場合、表面がアルミナやシリ
カで完全にコーティングされているため光触媒作用が低
く、好ましくない。
く、二種以上併用されてもよい。また、光触媒性能を高
めるためには、次に述べる導電性物質などを光半導性物
質に添加してもよい。
さについても特に限定されるものではないが、請求項1
に記載の発明においては、光半導性物質を未硬化の薄膜
上に付着させる必要があるため、該光半導性物質の付着
を容易とし、かつ薄膜上に均一に分散させるには、光半
導性物質は微粉体であることが好ましい。
ましい粒径は、直径1nm〜100μmである。上記範
囲外では、薄膜上への分散性や付着性が低下することが
ある。
り被覆されてカプセル化されているものであってもよ
い。この場合多孔性物質については、光半導性物質の光
触媒作用によって容易に劣化されない材料であれば特に
限定されるものではなく、例えば、シリカもしくはアル
ミナなどの無機物やフッ素樹脂などの有機物を用いるこ
とができる。もっとも、光触媒反応に必要な光の透過率
などを考慮すると、光透過率に優れたシリカなどのガラ
ス状物質が特に好ましい。
性物質が光半導性物質と共に使用される。導電性物質を
添加することにより、光触媒性能をより一層高めること
ができる。
酸化チタンなどの光半導性物質の製造工程において、
構造中に導電性物質としての例えば酸化鉄成分を含有さ
せておくように、光半導性物質の一部として導電性物質
を含有させる方法、あるいは 酸化チタンなどの光半導性物質表面に、化学的または
物理的に導電性物質を担持させる方法などを挙げること
ができる。
と導電性物質の混合物を未硬化薄膜に付着させる方法
や、光半導性物質を付着させる前、あるいは/及び後
に、導電性物質を付着し、光半導性物質と接触させる方
法が挙げられる。
電性を付与するために用いられるカーボン粉末(繊
維)、金属粉末(繊維)を用い得る。例として、カーボ
ンブラック、銀、銅、金、鉄、アルミニウム、ニッケ
ル、白金、パラジウム、酸化錫、酸化インジウム等が挙
げられる。また、非導電体を核材とし、その表面に導電
体をコーティングしたものでもよい。例として、銀メッ
キ微粒子、アルミニウムコーティング微粒子、酸化錫で
表面がコーティングされた硫酸バリウム微粒子等が挙げ
られる。
は、入手が容易で比較的安価な酸化錫微粒子や酸化錫で
表面がコートされた硫酸バリウム微粒子が好ましい。酸
化アンチモンを、0.1〜20重量%添加した酸化錫
は、高い導電性を示すため好適に用いられる。
加量は、光半導性物質100重量部に対して0.01〜
100重量部であることが好ましく、導電性物質を光半
導性物質に含有させたり、表面に担持させたりする等の
接触させるための特別な工程を経ることなく添加した場
合は、1〜100重量部であることが好ましい。上記範
囲より少ないと導電性物質添加の効果が生じ難い。ま
た、上記範囲より多くしても、さらに効果を大きくする
ものではないが、光触媒効果を阻害するものではなく、
光半導性物質の担体として用いる場合等は添加量が大き
くなっても構わない。
いては、未硬化の薄膜を形成するための溶液を塗布し、
薄膜を形成し得るものであれば特に限定されるものでは
ない。このような基材の例を挙げると、ガラス、セラミ
ックスなどの無機材料、プラスチックスもしくは木材な
どの有機材料、あるいは金属などを挙げることができ
る。また、基材の形状及び大きさについても特に限定さ
れるものではない。
のモル比を金属アルコキシドを1として示すと、金属ア
ルコキシド:溶媒:水=1:10〜60:2〜8が好ま
しい。また、請求項2に記載の発明においては、上記と
同様に金属アルコキシドを1として示すと、金属アルコ
キシド:溶媒:錯化剤:水=1:10〜60:0.5〜
3:2〜8が好ましい。
少ない場合には、金属アルコキシドの溶解が不十分とな
り、均一な薄膜を得るのが困難となることがある。逆
に、溶媒が上記より多いと、後の工程において溶媒の除
去が困難となったり、乾燥工程が長時間となったりする
ことがある。水が上記範囲より少ない場合には、金属ア
ルコキシドの加水分散速度が低下することがあり、さら
に請求項2に記載の発明では、金属アルコキシドと錯化
剤により形成された錯体の加水分解の反応速度が低下し
たり、あるいは反応そのものが不十分となることがあ
る。
属アルコキシドの加水分散速度が高くなりすぎることが
あり、さらに請求項2に記載の発明では、錯体の反応速
度が高くなり過ぎるので、基材への塗布工程における取
り扱い性や形成される薄膜の物性が低下することがあ
る。錯化剤が上記範囲より少ない場合は、金属アルコキ
シドと錯体との間での錯体の形成が不十分となることが
あり、薄膜が形成されないことがある。逆に、錯化剤が
上記範囲より多過ぎると、反応系に不純物が多く混在す
ることになるため、形成される薄膜の物性が低下するこ
とがある。
の攪拌機やホモジナイザーを用いて行うことができる。
また、請求項2に記載の発明のように、錯化剤を用いる
場合には、金属アルコキシドからの錯体形成の確認を、
錯体の形成に伴うキレート結合による紫外線領域におけ
る吸収スペクトル変化を観察する方法を用いることがで
きる。
る方法については、特に限定されるものではない。塗布
方法の例を挙げると、スプレーコーティング、スピンコ
ーティング、ディップコーティング、ロールコーティン
グ、カーテンフローコーティング、メニスカスコーティ
ングなどを例示することができる。
ーティングを所望とする部位、コーティングの厚みなど
により上記塗布方法を選択することが好ましい。また、
一般的には、作業性及び装置の簡便性等を考慮すると、
スプレーコーティングやディップコーティングを用いる
ことが好ましい。
は、原料溶液のゲル化による粘度上昇が起こる前に塗布
を行う必要がある。許容される粘度範囲は、塗布方法に
よって異なるため、一義的には定め得ない。
形成した後に、光半導性物質を未硬化の薄膜上に付着さ
せる。この未硬化の薄膜上に光半導性物質を付着させる
方法については、スプレーコーティング、スピンコーテ
ィングまたは転写法などの任意の方法で行いうる。な
お、転写法とは、離型性を有する材料、例えばポリエチ
レンテレフタレートフィルム上に光半導性物質をフプレ
ーコーティングなどの適宜の方法により付着させた後、
該離型性を持つ材料に光半導性物質が付着されている面
と未硬化の薄膜とを例えばプレスで密着させることによ
り、光半導性物質を未硬化の薄膜上に写し取る方法であ
る。
抗菌、脱臭、防汚、窒素酸化物除去などの目的に応じて
必要な光触媒活性が発現され得る限り、特に限定される
ものではない。しかしながら、コストを低減するため、
並びに光硬化後の膜からの光半導性物質の脱離を防止す
るには、光半導性物質の使用量は少ない方が好ましい。
上を図るために導電性物質を付着させてもよい。光触媒
活性を高めるための導電性物質を未硬化の薄膜上に付着
させる方法については、市販の攪拌機やホモジナイザ
ーなどを用いて光半導性物質と導電性物質とを予め混合
した後該混合物を上記光半導性物質を付着させる方法に
より付着させ、しかる後、光硬化を行う方法、未硬化
の薄膜を形成した後に、光半導性物質を上記付着方法に
より付着させ、さらにその上に導電性物質をスプレーコ
ーティング、スピンコーティングまたは転写法などによ
り付着させる方法、未硬化の薄膜を形成した後に、ス
プレーコーティング、スピンコーティングまたは転写法
などにより導電性物質を未硬化の薄膜上に付着させ、し
かる後光半導性物質を上記付着方法に従って付着させる
方法などを挙げることができる。なお、導電性物質を付
着させる量は前述したとおりである。
媒を除去するために乾燥される。乾燥方法については、
市販されている各種乾燥機や加熱炉を用いたり、あるい
は室温放置により行い得る。しかしながら、膜に対する
塵埃の付着防止や、乾燥時間の短縮を目的とした場合に
は、乾燥機を用いることが好ましい。この場合、薄膜上
の局部的な乾燥を防止するために、基材の材質や形状に
応じて乾燥機の選択を行う必要がある。
の光源としては、特に限定されるものではないが、例え
ば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライ
ドランプなどを用いることができる。これらの光源を用
いるにあたっては、フィルターなどを用いて、硬化に不
必要な波長の光をカットしてもよい。
は、薄膜の組成や厚みによって異なるため一概には定め
得ないが、例えば下記の方法により決定することが望ま
しい。請求項1に記載の発明において、錯化剤を用いな
い場合には、紫外光領域における金属アルコキシドの
光吸収波長を調べる。次に、上記金属アルコキシドの分
解が起こる波長の光を照射することが望ましい。光の
照射時間は、吸収波長における吸収スペクトル変化を調
べて決定する。
剤を用いる場合には、金属アルコキシド単独と、錯化
剤を併用した場合の吸収スペクトルを比較し、錯化剤の
使用による錯体形成に伴うキレート結合に由来する吸収
極大波長を決定する。この吸収極大波長は、一般的には
紫外光領域である。吸収極大波長付近の光を照射し、
吸収極大波長付近の吸収スペクトル変化を測定する。
光硬化のための照射光の波長は、上記吸収極大波長付近
とし、照射時間はの観測結果から決定する。上述した
各方法により、反応系に用いる金属アルコキシドや錯化
剤の種類に応じて好適な光照射条件を決定し得る。
る必要はない。もっとも、光硬化を行う前後、あるいは
光硬化と同時に、基材に熱を加えてもよい。また、基材
に原料溶液を塗布し、乾燥させた後、形成された未硬化
の薄膜に熱を加えてもよい。
硬化が促進され、硬化時間が短縮することがあり、硬化
した薄膜の物性、例えば膜強度等が向上することがあ
る。加熱を併用する場合、加える熱量については、基材
の変質や変形等が起こらない範囲であれば特に限定され
るものではない。
加熱炉を用いてもよい。しかしながら、基材の耐熱性、
大きさ及び光硬化と加熱とを同時に行うか否かなどの各
条件によって、異なる装置を適宜使用する必要がある。
膜を形成した後に、光半導性物質を未硬化の薄膜上に付
着させた後、光照射により光硬化型ゾルゲル法に従って
薄膜が硬化される。従って、高温の焼成工程を必要とせ
ずに薄膜が硬化されるので、基材を構成する材料として
耐熱性が劣る材料を用いることができる。すなわち、広
範な材料から基材を構成する材料を選択するこができ
る。加えて、上記未硬化の薄膜上に光半導性物質を付着
させた後硬化させるものであるため、光半導性物質が表
面に確実に露出され、従って光触媒活性がより確実に発
現し得る。
シフトさせる錯化剤が未硬化の薄膜に含有されているの
で、光吸収長波長側にシフトさせることができ、それに
よって利用可能な光源や光学系の選択範囲あるいは光学
系以外の装置の選択範囲を広げることができる。
物質として二酸化チタンを用いるため、該二酸化チタン
が入手容易であり、かつ優れた光触媒活性を発揮するた
め、安価でかつ光触媒性能に優れた薄膜を提供すること
ができる。
とにより、本発明を明らかにする。
ニウム(IV)テトラn−ブトキシド10gを、溶媒であ
る1−プロパノール80mlで希釈し、攪拌し、ジルコ
ニウムアルコキシド溶液を調製した。次に、錯化剤とし
てアセチルアセトン3gを加え、室温で1時間程度攪拌
し、金属アルコキシドとの間でキレートを形成させた。
これに、水2mlを加え、2時間程度攪拌した。
(長さ)×3mm(厚さ)の透明アクリル板の片面の全
面に、スプレーコーティング法で1μmの厚みに塗布し
た。次にスプレーコーティング法により、光半導性物質
であるアナターゼ型酸化チタン(1次粒径0.3μm、
和光純薬工業社製)0.2gを均一に分散するように付
着させた。しかる後、溶媒を揮発させて薄膜を乾燥した
後、波長300nmの光を6分間照射し、機能性薄膜サ
ンプルを得た。
リディックA−166、大日本インキ化学工業社製)2
gに、酸化チタン(アナターゼ型、1次粒径0.3μ
m、和光純薬社製)0.2gを混練し、トルエン5ml
を加えた。この懸濁液をスプレーコーティング法によ
り、50mm(幅)×50mm(長さ)×3mm(厚
さ)の透明アクリル板の片面の全面に塗布し、乾燥して
サンプルを作製した。
いて、下記の要領で抗菌性試験として、抗細菌性評価
及び抗真菌性評価を行った。その結果を表1に示す。
また、耐候性の促進試験を行った後のサンプルについて
も、抗菌性試験を行った。その結果を表2に示す。
ルを入れ、この上に試験菌液〔Heart Infusion Broth培
地(以下BHI培地、DIFCO社製、25g/l)を
生理食塩水で100倍希釈したものの中に、試験菌が1
×107 CFU/mlになるように調製したもの〕を各
1mlずつ分注して蓋をした。シャーレを密封して、蛍
光灯点灯下、30℃で1日間培養した後、培養後の試験
菌の生菌数を通常のコロニーカウント法により測定し
た。
日水製薬社製)上で培養したカビ、酵母について白金耳
を用いて菌体をかきとり、0.05重量%Tween8
0添加生理食塩水中に入れ、分散及び攪拌後、ガラスフ
ィルターを用いて濾過を行った。得られた濾液を100
00rpm及び15分間で遠心操作して、上澄み液を除
去し、沈澱物(胞子)を得た。これにポテトデキストロ
ース液体培地(以下PDB培地、DIFCO社製)を適
量加えて胞子懸濁液を調製した。
が固まらないように45℃にてインキュベートし、これ
に上記の胞子懸濁液をPDA培地の1/10量加えて攪
拌した。
たサンプルを入れ、これに上記の胞子懸濁液入PDA培
地を50μlずつ滴下し、半球状に固化させた。シャー
レを密封して、蛍光灯点灯下、30℃にて3〜5日培養
した後、目視にて菌の生育を判定した。判定は以下の基
準により行った。 ○ 試験菌の生育が認められない × 試験菌の生育が認められる
ーボンアーク灯を用いる試験装置を用いて、耐候性の促
進試験を100時間行った後のサンプルについて、その
抗細菌性及び抗真菌性について上記のようにして評価し
た。
単に分散させた比較例の場合に比べて、光硬化型ゾルゲ
ル法により形成された無機質系薄膜に光半導性物質を担
持させた実施例では、抗細菌性及び抗真菌性の何れにお
いても優れた結果を示した。これは、実施例では、光半
導性物質としての酸化チタンが薄膜内に埋設されている
可能性が低く、かなりの割合で薄膜表面に露出している
ため、十分な光触媒活性を発現しているためと考えられ
る。
おいては、光硬化型ゾルゲル法により薄膜が硬化される
ので、高温の焼成工程を必要としない。従って、耐熱性
の劣る合成樹脂からなる基材を用いることができ、かつ
基材の材料も広範な材料から選択することができる。さ
らに、光半導性物質が未硬化の薄膜上に付着させた後に
薄膜が硬化されるので、光半導性物質を薄膜表面から確
実に露出させることができる。よって、光触媒活性が高
い薄膜を容易に提供することができる。また、無機物に
よる表面コーティングであるため、一般的な合成樹脂を
用いたコーティングに比べて耐候性も高められる。
Claims (3)
- 【請求項1】 光硬化型ゾルゲル法による光触媒活性を
有する薄膜の形成方法であって、 基材上に未硬化の薄膜を形成する工程と、 未硬化の薄膜上に光半導性物質を付着させる工程と、 薄膜に光を照射して硬化させると共に光半導性物質を該
薄膜に固定する工程とを備えることを特徴とする光触媒
活性を有する薄膜の形成方法。 - 【請求項2】 光吸収波長を長波長側に変化させる錯化
剤を未硬化の薄膜に含有させておくことを特徴とする請
求項1に記載の光触媒活性を有する薄膜の形成方法。 - 【請求項3】 光半導性物質として、二酸化チタンを用
いることを特徴とする請求項1または2に記載の光触媒
活性を有する薄膜の形成方法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP04546397A JP3759806B2 (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光触媒活性を有する薄膜の形成方法 |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10235203A true JPH10235203A (ja) | 1998-09-08 |
JP3759806B2 JP3759806B2 (ja) | 2006-03-29 |
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ID=12720074
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JP04546397A Expired - Fee Related JP3759806B2 (ja) | 1997-02-28 | 1997-02-28 | 光触媒活性を有する薄膜の形成方法 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001089141A (ja) * | 1999-09-16 | 2001-04-03 | Kansai Paint Co Ltd | 無機膜形成用塗布剤、その製造方法及びその無機膜形成方法 |
JP2008522931A (ja) * | 2004-12-06 | 2008-07-03 | コロロッビア イタリア ソシエタ ペル アチオニ | ナノ微粒子形状のTiO2分散の調製方法、並びにこの方法により得られる分散及びTiO2分散利用による表面特性変化 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03188938A (ja) * | 1989-08-18 | 1991-08-16 | Hitachi Ltd | 無機ポリマ薄膜の形成方法 |
JPH07171408A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-07-11 | Ishihara Sangyo Kaisha Ltd | 光触媒体およびその製造方法 |
JPH07232080A (ja) * | 1993-12-28 | 1995-09-05 | Toto Ltd | 光触媒機能を有する多機能材及びその製造方法 |
-
1997
- 1997-02-28 JP JP04546397A patent/JP3759806B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP3759806B2 (ja) | 2006-03-29 |
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