JPH10225863A - 研磨装置 - Google Patents

研磨装置

Info

Publication number
JPH10225863A
JPH10225863A JP2672997A JP2672997A JPH10225863A JP H10225863 A JPH10225863 A JP H10225863A JP 2672997 A JP2672997 A JP 2672997A JP 2672997 A JP2672997 A JP 2672997A JP H10225863 A JPH10225863 A JP H10225863A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
polishing
plate
polishing cloth
fluid
joining
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2672997A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Inaba
高男 稲葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Original Assignee
Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Seimitsu Co Ltd filed Critical Tokyo Seimitsu Co Ltd
Priority to JP2672997A priority Critical patent/JPH10225863A/ja
Priority to DE19804750A priority patent/DE19804750C2/de
Priority to US09/021,451 priority patent/US5961378A/en
Publication of JPH10225863A publication Critical patent/JPH10225863A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/10Single-purpose machines or devices
    • B24B7/16Single-purpose machines or devices for grinding end-faces, e.g. of gauges, rollers, nuts, piston rings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B29/00Machines or devices for polishing surfaces on work by means of tools made of soft or flexible material with or without the application of solid or liquid polishing agents
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】研磨布の交換を容易且つ迅速に行うことができ
る研磨装置を提供する。 【解決手段】研磨台20は、定盤30と、定盤30に着
脱自在に設けられ、研磨布11が張り付けられる研磨布
着脱板40とを備え、定盤30は、互いの間に接合解除
用流体を導入させる接合解除用流体導入路33を有し、
接合解除用流体導入路33に接合解除用流体を供給する
流体供給部70を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、研磨台に張り付け
られ、被研磨材を研磨する研磨布を備える研磨装置に係
わり、特に、研磨布の交換を容易且つ迅速に行うことが
できる研磨装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体材料に回路を形成したいわゆる半
導体チップを製造する過程では、半導体ウェーハの表面
を研磨する工程がある。この工程では、従来、種々の研
磨装置が用いられるが、一般に、研磨台に張り付けら
れ、半導体ウェーハを研磨する研磨布を備えている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、そのよ
うな従来の研磨装置では、研磨布の交換に際しては、研
磨台の上で研磨布を引き剥がさざるを得ないので、装置
内に研磨屑などのゴミが散乱してしまい、その清掃作業
のために、作業が煩雑となる場合がある。また、その交
換作業の間、終始、装置を停止していなければならない
ので、半導体ウェーハの研磨枚数の一層の増加の要望に
応えることが難しいという問題がある。
【0004】これらの問題を解決する手段として、本発
明者らは、研磨台を、定盤と、定盤に着脱自在に設けら
れ、研磨布が張り付けられる研磨布着脱板とで構成する
ことを考えた。これによれば、研磨布の交換に際して
は、まず、研磨布着脱板を定盤から取り外し、代わりに
新たな研磨布着脱板を装着することで、装置の停止時間
を短縮することができる。
【0005】また、取り外した研磨布着脱板を、定盤か
ら離れた場所に移動し、そこで研磨布を引き剥がすこと
で、装置内へのゴミの散乱を避けることができる。しか
し、そのように、研磨台を、定盤と研磨布着脱板とで構
成すると、研磨布着脱板の離脱が困難になる場合が危惧
される。その理由は、一つには、研磨圧力により、定盤
と研磨布着脱板とが密着することによる接合作用を受け
ることであり、他には、定盤と研磨布着脱板との間に研
磨液が染み入った場合、この接合作用を受けることであ
る。
【0006】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たもので、研磨布の交換を容易且つ迅速に行うことがで
きる研磨装置を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決する為の手段】本発明の研磨装置は、研磨
台と、該研磨台に張り付けられ、被研磨材を研磨する研
磨布とを備える研磨装置において、前記研磨台は、定盤
と、該定盤に着脱自在に設けられ、前記研磨布が張り付
けられる研磨布着脱板とを備え、前記定盤と前記研磨布
着脱板のいずれか一方又は双方は、互いの間に接合解除
用流体を導入させる接合解除用流体導入路を有し、前記
接合解除用流体導入路に接合解除用流体を供給する流体
供給部を有することを特徴とする。
【0008】即ち、研磨布着脱板を定盤から取り外す際
には、流体供給部により、接合解除用流体導入路から定
盤と研磨布着脱板との間に接合解除用流体を導入させる
ことで、研磨布着脱板と定盤の接合が解除される。ま
た、前記研磨布着脱板を前記定盤に対して離間させる方
向に移動させると共に保持する研磨布着脱板移動駆動部
を有するという構成を加えることで、研磨布着脱板と定
盤の接合を解除した後の保持、及び離間させる方向への
移動がなされる。
【0009】また、前記定盤が研磨方向に動作自在に設
けられ、前記流体供給部は、前記接合解除用流体を吐き
出す流体吐出部と、該流体吐出部を前記接合解除用流体
導入路に接続、接続解除する接続駆動部とを有し、該接
続駆動部は、前記定盤、前記研磨布着脱板及び前記研磨
布の動作領域の外に配置されているという構成を加える
ことで、定盤と共に研磨布着脱板及び研磨布を研磨方向
に動作させる際に、流体供給部は、定盤、研磨布着脱板
及び研磨布の動作領域から退避することができる。
【0010】或いは、前記定盤が研磨方向に動作自在に
設けられ、前記研磨布着脱板移動駆動部は、前記研磨布
着脱板に当接される当接部と、該当接部を前記研磨布着
脱板に当接、離間させる移動駆動部本体とを有し、該移
動駆動部本体は、前記定盤、前記研磨布着脱板及び前記
研磨布の動作領域の外に配置されているという構成を加
えることで、定盤と共に研磨布着脱板及び研磨布を研磨
方向に動作させる際に、研磨布着脱板移動駆動部は、定
盤、研磨布着脱板及び研磨布の動作領域から退避するこ
とができる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
る研磨装置の好ましい実施の形態について詳説する。図
1に示すように、本実施形態の研磨装置100は、被研
磨材としての半導体ウェーハ1を研磨する研磨部10
と、半導体ウェーハ1を吸着保持して研磨部10に所望
の研磨圧力で押圧する保持押圧部90とを備えている。
【0012】研磨部10は、研磨台20と、研磨台20
の上面に貼り付けられ、半導体ウェーハ1を研磨する研
磨布11とを備えている。研磨台20は、定盤30と、
定盤30の上面に着脱自在に設けられ、研磨布11が上
面に貼り付けられる研磨布着脱板40と、定盤30を半
導体ウェーハ1に平行な水平方向、即ち、研磨方向(図
中矢印A方向)に動作自在に支持すると共にその方向に
駆動する回転駆動部50と、設置床3上に設置され、回
転駆動部50が装着され支持される支持体60と、定盤
30と研磨布着脱板40との接合を解除するために後述
するように設けられた接合解除用流体導入路33に接合
解除用流体として高圧の空気を供給する流体供給部70
と、研磨布着脱板40を定盤30に対して離間させる方
向、即ち、上方及び下方(図中矢印E、F方向)に移動
させると共に保持する研磨布着脱板移動駆動部80とを
備えている。研磨布着脱板40は、その下面側に四個の
係合突起41を有している。
【0013】定盤30は、研磨布着脱板40の係合突起
41と係合する図2の四個の係合凹部31と、研磨布着
脱板40との接合面である上面に高圧の空気を導入させ
る接合解除用流体導入路33と、上下に貫通した当接部
用通路39とを有している。接合解除用流体導入路33
は、図2に示すように、定盤30の上面側に溝状に設け
られた導入溝35と、図1に示すように定盤30を上下
に貫通し、導入溝35に接続された導入孔37とからな
り、図2の導入溝35は、三重の同心円部35aとそれ
らを連絡する四本の直線部35bとからなっている。
【0014】前記流体供給部70は、図1に示すように
接合解除用流体導入路33の導入孔37の下端に空気を
供給するものであり、高圧の空気を吐き出す流体吐出部
71と、流体吐出部71を接合解除用流体導入路33の
導入孔37の下端に接続、接続解除する接続駆動部73
とを有している。接続駆動部73は、例えば、エアシリ
ンダであり、定盤30、研磨布着脱板40及び研磨布1
1の動作領域の外に配置されている。
【0015】定盤30の当接部用通路39は、図2に示
すように導入溝35の外縁より更に外側に三個等間隔で
周設されている。図1の研磨布着脱板移動駆動部80
は、研磨布着脱板40に当接される当接部81と、当接
部81を当接部用通路39を通じて研磨布着脱板40に
当接させて(図中矢印E方向に)押し上げ、或いは、当
接部用通路39より下方に(図中矢印F方向に)離間さ
せる移動駆動部本体83とを有しており、移動駆動部本
体83は、例えば、油圧シリンダであり、定盤30、研
磨布着脱板40及び研磨布11の動作領域の外に配置さ
れている。
【0016】以下に、研磨装置100における研磨布1
1の交換方法について説明する。即ち、まず、流体供給
部70の接続駆動部73を起動して、流体吐出部71を
図中矢印C方向に移動させ、接合解除用流体導入路33
の導入孔37の下端に接続し、その流体吐出部71から
接合解除用流体導入路33を通じて、定盤30と研磨布
着脱板40との間に高圧の空気を導入させる。これによ
り、研磨布着脱板40と定盤30が、研磨圧力や研磨液
の染み入り等の影響で強力に接合されていても、その接
合を解除することができる。
【0017】また、研磨布着脱板40と定盤30の接合
の解除と共に、研磨布着脱板移動駆動部80の移動駆動
部本体83を起動して、当接部81を当接部用通路39
を通じて研磨布着脱板40に当接させて図中矢印E方向
に押し上げる。これにより、研磨布着脱板40の保持、
及び離間させる方向への移動がなされる。よって、研磨
布着脱板40の取り外し作業を容易且つ迅速に行うこと
ができる。
【0018】そこで、取り外した研磨布着脱板40の代
わりに、新たな研磨布11が貼り付けられた研磨布着脱
板40を、定盤30に装着することで、装置の停止時間
を短縮することができる。また、取り外した研磨布着脱
板40を、定盤30から離れた場所に移動し、そこで研
磨布11を引き剥がすことで、装置内へのゴミの散乱を
避けることができる。
【0019】従って、研磨布11の交換を容易且つ迅速
に行うことができ、装置の停止時間の短縮を図ることが
できる。交換後の研磨において、回転駆動部50を起動
して定盤30と共に研磨布着脱板40及び研磨布11を
研磨方向(図中矢印A方向)に動作させる際には、流体
供給部70の流体吐出部71及び研磨布着脱板移動駆動
部80の当接部81は、それぞれ、図中矢印D方向、図
中矢印F方向に戻され、定盤30、研磨布着脱板40及
び研磨布11の動作領域から退避することができる。
【0020】以上のことから、本実施形態の研磨装置1
00では、容易に半導体ウェーハ1の研磨枚数の一層の
増加を図ることができる。尚、上記実施形態では、定盤
30に接合解除用流体導入路33を設けたが、研磨布着
脱板40に設けてもよく、或いは双方に設けてもよい。
また、本発明は、接合解除用流体としては、高圧の空気
に代えて液体であってもよく、更には、間隙に浸透し
て、その間の摩擦力を低減するような潤滑液、或いは、
研磨液を溶かす薬液であってもよい。
【0021】また、本明細書中定盤は、その少なくとも
一部に研磨布着脱板との接合面があればよく、その接合
面も平らなものに限定されず、うねりなどを有する場合
を含むものとする。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、研磨
布着脱板を定盤から取り外す際には、流体供給部によ
り、接合解除用流体導入路から定盤と研磨布着脱板の間
に接合解除用流体を導入させることで、研磨布着脱板と
定盤の接合が解除される。よって、研磨布着脱板の取り
外し作業を容易且つ迅速に行うことができる。
【0023】そこで、取り外した研磨布着脱板の代わり
に、新たな研磨布が張り付けられた研磨布着脱板を、定
盤に装着することで、装置の停止時間を短縮することが
できる。また、取り外した研磨布着脱板を、定盤から離
れた場所に移動し、そこで研磨布を引き剥がすことで、
装置内へのゴミの散乱を避けることができる。従って、
研磨布の交換を容易且つ迅速に行うことができる。
【0024】尚、上記以外の効果及びそのための構成に
ついては、重複記載を避ける目的で本項目には記載せ
ず、課題を解決する為の手段及び上記実施形態中のみに
記載。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の研磨装置の一実施形態を示す正面断面
【図2】図1の研磨装置の定盤を示す平面図
【符号の説明】
1…半導体ウェーハ(被研磨材) 11…研磨布 20…研磨台 30…定盤 33…接合解除用流体導入路 40…研磨布着脱板 70…流体供給部 71…流体吐出部 73…接続駆動部 80…研磨布着脱板移動駆動部 81…当接部 83…移動駆動部本体 100…研磨装置

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 研磨台と、該研磨台に張り付けられ、被
    研磨材を研磨する研磨布とを備える研磨装置において、 前記研磨台は、定盤と、該定盤に着脱自在に設けられ、
    前記研磨布が張り付けられる研磨布着脱板とを備え、 前記定盤と前記研磨布着脱板のいずれか一方又は双方
    は、互いの間に接合解除用流体を導入させる接合解除用
    流体導入路を有し、 前記接合解除用流体導入路に接合解除用流体を供給する
    流体供給部を有することを特徴とする研磨装置。
  2. 【請求項2】 前記研磨布着脱板を前記定盤に対して離
    間させる方向に移動させると共に保持する研磨布着脱板
    移動駆動部を有することを特徴とする請求項1記載の研
    磨装置。
  3. 【請求項3】 前記定盤が研磨方向に動作自在に設けら
    れ、 前記流体供給部は、前記接合解除用流体を吐き出す流体
    吐出部と、 該流体吐出部を前記接合解除用流体導入路に接続、接続
    解除する接続駆動部とを有し、該接続駆動部は、前記定
    盤、前記研磨布着脱板及び前記研磨布の動作領域の外に
    配置されていることを特徴とする請求項1又は2記載の
    研磨装置。
  4. 【請求項4】 前記定盤が研磨方向に動作自在に設けら
    れ、 前記研磨布着脱板移動駆動部は、前記研磨布着脱板に当
    接される当接部と、該当接部を前記研磨布着脱板に当
    接、離間させる移動駆動部本体とを有し、該移動駆動部
    本体は、前記定盤、前記研磨布着脱板及び前記研磨布の
    動作領域の外に配置されていることを特徴とする請求項
    2記載の研磨装置。
JP2672997A 1997-02-10 1997-02-10 研磨装置 Pending JPH10225863A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2672997A JPH10225863A (ja) 1997-02-10 1997-02-10 研磨装置
DE19804750A DE19804750C2 (de) 1997-02-10 1998-02-06 Poliervorrichtung
US09/021,451 US5961378A (en) 1997-02-10 1998-02-10 Polishing apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2672997A JPH10225863A (ja) 1997-02-10 1997-02-10 研磨装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10225863A true JPH10225863A (ja) 1998-08-25

Family

ID=12201415

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2672997A Pending JPH10225863A (ja) 1997-02-10 1997-02-10 研磨装置

Country Status (3)

Country Link
US (1) US5961378A (ja)
JP (1) JPH10225863A (ja)
DE (1) DE19804750C2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107309726A (zh) * 2017-08-14 2017-11-03 海盐孚邦机械有限公司 一种柱塞套生产用半自动端面磨平机
CN112405297A (zh) * 2020-11-05 2021-02-26 温州素萨纺织品有限公司 纽扣生产用抛光设备
WO2022014167A1 (ja) * 2020-07-13 2022-01-20 信越半導体株式会社 片面研磨装置及び片面研磨方法、並びに研磨パッド

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6217425B1 (en) * 1998-06-12 2001-04-17 Tdk Corporation Apparatus and method for lapping magnetic heads
US6602380B1 (en) 1998-10-28 2003-08-05 Micron Technology, Inc. Method and apparatus for releasably attaching a polishing pad to a chemical-mechanical planarization machine
JP4616563B2 (ja) * 2004-01-29 2011-01-19 株式会社ミツトヨ 真空吸着ツールスタンド
IL168588A (en) * 2005-05-15 2010-06-30 Sarin Polishing Technologies L Apparatus and article for polishing gemstones
US7601050B2 (en) * 2006-02-15 2009-10-13 Applied Materials, Inc. Polishing apparatus with grooved subpad
US20080032609A1 (en) * 2006-03-08 2008-02-07 Benedict Jeffrey H Apparatus for reducing contaminants from a chemical mechanical polishing pad
CN105563295A (zh) * 2016-01-30 2016-05-11 天津市巨星祥海机械有限公司 一种新型抛光机
CN106002580A (zh) * 2016-06-20 2016-10-12 徐秀 一种工件抛光装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1291572A (en) * 1917-06-16 1919-01-14 William A Lorenz Disk-grinding machine.
SU643298A1 (ru) * 1977-09-29 1979-01-25 Предприятие П/Я А-1705 Инструмент дл очистки, шлифовки и полировки поверхностей деталей
JPH0453682A (ja) * 1990-06-19 1992-02-21 Mitsubishi Electric Corp 研磨工具
WO1995029039A1 (fr) * 1994-04-22 1995-11-02 Kabushiki Kaisha Toshiba Plaque support de surface de meulage separable et appareil associe
JP3264589B2 (ja) * 1994-09-07 2002-03-11 東芝機械株式会社 研磨装置
JP3418467B2 (ja) * 1994-10-19 2003-06-23 株式会社荏原製作所 ポリッシング装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107309726A (zh) * 2017-08-14 2017-11-03 海盐孚邦机械有限公司 一种柱塞套生产用半自动端面磨平机
WO2022014167A1 (ja) * 2020-07-13 2022-01-20 信越半導体株式会社 片面研磨装置及び片面研磨方法、並びに研磨パッド
JP2022017062A (ja) * 2020-07-13 2022-01-25 信越半導体株式会社 片面研磨装置及び片面研磨方法、並びに研磨パッド
CN112405297A (zh) * 2020-11-05 2021-02-26 温州素萨纺织品有限公司 纽扣生产用抛光设备

Also Published As

Publication number Publication date
US5961378A (en) 1999-10-05
DE19804750C2 (de) 2002-04-11
DE19804750A1 (de) 1998-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6261958B1 (en) Method for performing chemical-mechanical polishing
JP4601171B2 (ja) 基板を化学機械的に研磨するためのキャリアヘッド
JPH10225863A (ja) 研磨装置
US20010018322A1 (en) Backing members and planarizing machines for mechanical and chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods of making and using such backing members
KR19980071275A (ko) 가요성 캐리어 플레이트를 갖는 반도체 웨이퍼 연마 장치
EP1133378A2 (en) Semiconductor wafer polishing apparatus with a variable polishing force wafer carrier head
JP2001044150A (ja) ケミカルメカニカルポリシングのための装置および方法
JP2008078673A (ja) 研磨装置および研磨方法
JP3683149B2 (ja) 研磨装置の研磨ヘッドの構造
JP2016221668A (ja) 処理対象物を保持するためのテーブルおよび該テーブルを有する処理装置
JP5878733B2 (ja) テンプレート押圧ウェハ研磨方式
KR19980042438A (ko) 평편한 기재에서 반도체웨이퍼를 이탈하는 방법 및 그 장치
JP2001121413A (ja) 平板状の被加工材の保持方法
JP2004090137A (ja) 基板ホルダーおよびそれを備える基板加工装置
JP2000127025A (ja) ポリッシング装置及び研磨加工方法
KR20230011301A (ko) 양면연마장치의 연마패드 첩부방법
JP4489320B2 (ja) 研磨装置
JPH09246218A (ja) 研磨方法および装置
WO2004096492A1 (ja) ポリッシング装置
KR100899336B1 (ko) 화학적 기계적 연마 장치의 연마 헤드
JP2010099763A (ja) 研磨装置
JP2976862B2 (ja) 研磨装置
US7534166B2 (en) Chemical mechanical polishing apparatus
JPH11274280A (ja) ワーク用バキュームチャック装置
JP4642350B2 (ja) 基板の貼り合わせ装置及び貼り合わせ方法