JPH10222883A - 貼り合わせ型光ディスクおよびその製造方法 - Google Patents
貼り合わせ型光ディスクおよびその製造方法Info
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- JPH10222883A JPH10222883A JP9022714A JP2271497A JPH10222883A JP H10222883 A JPH10222883 A JP H10222883A JP 9022714 A JP9022714 A JP 9022714A JP 2271497 A JP2271497 A JP 2271497A JP H10222883 A JPH10222883 A JP H10222883A
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- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 記録層を有する基板と記録層の有しないダミ
ーディスクとの貼り合わせ型光ディスクにおいて、貼り
合わせ部の剥離を防止する。 【解決手段】 貼り合わせ型光ディスクの構成は射出成
形により、片面に凹凸状の記録ピットを形成したポリカ
ーボネート樹脂の基板１を作製し、記録ピットが形成さ
れている面に反射膜２を形成する。反射膜２はＲＯＭ型
ディスクではＡｌ、Ａｕ等の単層で形成され、記録可能
なＲＡＭ型ディスクでは多層膜で形成されている。反射
膜２の腐食防止のためアクリル系紫外線硬化樹脂からな
る保護層３を反射膜２の上に形成する。記録ピットを形
成しないダミーディスク５として、基板１と同様にポリ
カーボネート樹脂を射出成形で作製し、エポキシ系の接
着剤を用いて貼り合わせて光ディスク６を形成する。ダ
ミーディスク５の接着剤を塗布する全領域を粗面化して
接着性を向上させる。
ーディスクとの貼り合わせ型光ディスクにおいて、貼り
合わせ部の剥離を防止する。 【解決手段】 貼り合わせ型光ディスクの構成は射出成
形により、片面に凹凸状の記録ピットを形成したポリカ
ーボネート樹脂の基板１を作製し、記録ピットが形成さ
れている面に反射膜２を形成する。反射膜２はＲＯＭ型
ディスクではＡｌ、Ａｕ等の単層で形成され、記録可能
なＲＡＭ型ディスクでは多層膜で形成されている。反射
膜２の腐食防止のためアクリル系紫外線硬化樹脂からな
る保護層３を反射膜２の上に形成する。記録ピットを形
成しないダミーディスク５として、基板１と同様にポリ
カーボネート樹脂を射出成形で作製し、エポキシ系の接
着剤を用いて貼り合わせて光ディスク６を形成する。ダ
ミーディスク５の接着剤を塗布する全領域を粗面化して
接着性を向上させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は片面上に少なくとも
１層以上の記録面が形成されている基板と、記録面が形
成されていないダミーディスクとを貼り合わせる構造の
光ディスクとその製造方法に関する。
１層以上の記録面が形成されている基板と、記録面が形
成されていないダミーディスクとを貼り合わせる構造の
光ディスクとその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光の照射により情報の記録・再生
を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク、各種追記
型光ディスク、デジタルオーディオディスク（所謂、コ
ンパクトディスク）、光学式ビデオディスク（所謂、レ
ーザディスク）等の各種媒体が実用化されている。これ
ら光ディスクはいずれもポリカーボネート樹脂等のプラ
スチック、或いはガラス製の透明基板上に記録層や反射
膜等の機能膜よりなる記録部が形成された構成となって
いる。
を行う光ディスクとしては、光磁気ディスク、各種追記
型光ディスク、デジタルオーディオディスク（所謂、コ
ンパクトディスク）、光学式ビデオディスク（所謂、レ
ーザディスク）等の各種媒体が実用化されている。これ
ら光ディスクはいずれもポリカーボネート樹脂等のプラ
スチック、或いはガラス製の透明基板上に記録層や反射
膜等の機能膜よりなる記録部が形成された構成となって
いる。
【０００３】また、利用方法からは、コンパクトディス
クやレーザディスクのように再生のみを行うＲＯＭ（Ｒ
ｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）的な光ディスクと、
光磁気ディスクや各種追記型光ディスクのように情報を
記録し、再生を行うＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓ
ｓ Ｍｅｍｏｒｙ）的な光ディスクとに分類される。
クやレーザディスクのように再生のみを行うＲＯＭ（Ｒ
ｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）的な光ディスクと、
光磁気ディスクや各種追記型光ディスクのように情報を
記録し、再生を行うＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓ
ｓ Ｍｅｍｏｒｙ）的な光ディスクとに分類される。
【０００４】ＲＯＭ的な光ディスクの再生は、透明基板
上に再生レーザ光の１／４波長程度の深さに凹凸状プリ
ピットが形成され、その上を覆うように反射膜が成膜さ
れていて、プリピットで生じる光の干渉による反射率変
化を検出して行われる。
上に再生レーザ光の１／４波長程度の深さに凹凸状プリ
ピットが形成され、その上を覆うように反射膜が成膜さ
れていて、プリピットで生じる光の干渉による反射率変
化を検出して行われる。
【０００５】一方、ＲＡＭ的な光ディスクの記録再生
は、例えば光磁気ディスクの場合、記録情報に応じて記
録部の磁化方向を上向き或いは下向きに揃った領域を形
成して記録し、再生はその部分で反射した直線偏光の回
転角θk （カー回転角）を検出して行っている。また、
相変化ディスクの場合は記録情報に応じて記録ピットを
結晶からアモルファス状態に変えて記録し、それに伴う
反射率変化を検出して再生を行っている。
は、例えば光磁気ディスクの場合、記録情報に応じて記
録部の磁化方向を上向き或いは下向きに揃った領域を形
成して記録し、再生はその部分で反射した直線偏光の回
転角θk （カー回転角）を検出して行っている。また、
相変化ディスクの場合は記録情報に応じて記録ピットを
結晶からアモルファス状態に変えて記録し、それに伴う
反射率変化を検出して再生を行っている。
【０００６】従来の光磁気ディスクの記録部は、記録磁
性膜であるＴｂＦｅＣｏ膜の両側を、記録磁性膜の酸化
防止と、多重干渉による光磁気信号のエンハンスの効果
のため、透明な誘電体膜、例えばＳｉＮで覆い、更にＡ
ｌ反射膜で覆った４層構造で構成されている。一方、相
変化ディスクの記録部は相変化膜であるＧｅＳｂＴｅ膜
の両側を、酸化防止と多重干渉による光磁気信号のエン
ハンスの効果のため、透明な誘電体膜、例えばＺｎＳ−
ＳｉＯ2 膜等で覆い、更にＡｌ反射膜で覆った４層構造
で構成されている。
性膜であるＴｂＦｅＣｏ膜の両側を、記録磁性膜の酸化
防止と、多重干渉による光磁気信号のエンハンスの効果
のため、透明な誘電体膜、例えばＳｉＮで覆い、更にＡ
ｌ反射膜で覆った４層構造で構成されている。一方、相
変化ディスクの記録部は相変化膜であるＧｅＳｂＴｅ膜
の両側を、酸化防止と多重干渉による光磁気信号のエン
ハンスの効果のため、透明な誘電体膜、例えばＺｎＳ−
ＳｉＯ2 膜等で覆い、更にＡｌ反射膜で覆った４層構造
で構成されている。
【０００７】ところで最近、コンパクトディスクと同じ
直径１２０ｍｍのディスクに現行テレビ並みの画質で映
画１本を納めるデジタル・ビデオ・ディスクの開発が進
められている。このデジタル・ビデオ・ディスクは記録
容量をコンパクトディスクの６〜８倍まで高める必要が
あるため、現行レーザの波長である７８０ｎｍよりも短
い６３５〜６５０ｎｍのレーザを記録再生に用い、厚さ
０．６ｍｍの単板ディスクの記録面を対向させて貼り合
わせた構造の光ディスクが考案されている（日経エレク
トロニクス １９９５年２月２７日号 Ｎｏ６３０）。
再生専用のディスクには記録面がディスク両面に形成さ
れているＳＤ−１０型ディスクと、記録面は片面のみで
他の面は記録面が形成されていないダミーディスクが貼
り合わされたＳＤ−５型ディスクが提案されている。ま
た、記録が可能なディスクにも両面に記録できるタイプ
と片面のみにできるタイプとがある。
直径１２０ｍｍのディスクに現行テレビ並みの画質で映
画１本を納めるデジタル・ビデオ・ディスクの開発が進
められている。このデジタル・ビデオ・ディスクは記録
容量をコンパクトディスクの６〜８倍まで高める必要が
あるため、現行レーザの波長である７８０ｎｍよりも短
い６３５〜６５０ｎｍのレーザを記録再生に用い、厚さ
０．６ｍｍの単板ディスクの記録面を対向させて貼り合
わせた構造の光ディスクが考案されている（日経エレク
トロニクス １９９５年２月２７日号 Ｎｏ６３０）。
再生専用のディスクには記録面がディスク両面に形成さ
れているＳＤ−１０型ディスクと、記録面は片面のみで
他の面は記録面が形成されていないダミーディスクが貼
り合わされたＳＤ−５型ディスクが提案されている。ま
た、記録が可能なディスクにも両面に記録できるタイプ
と片面のみにできるタイプとがある。
【０００８】これら光ディスクに用いられる透明基板と
しては、ガラスの他、ポリカーボネート、アクリル、エ
ポキシ等の樹脂が用いられている。その中でも成形性、
寸法安定性、低吸水性等で優れていることから、ポリカ
ーボネート樹脂が最も使用されている。
しては、ガラスの他、ポリカーボネート、アクリル、エ
ポキシ等の樹脂が用いられている。その中でも成形性、
寸法安定性、低吸水性等で優れていることから、ポリカ
ーボネート樹脂が最も使用されている。
【０００９】これらの材料で形成されたディスクとダミ
ーディスクの貼り合わせは、一般にホットメルト型接着
剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化性接着剤等により行わ
れている。接着剤のディスクへの供給はロールコート法
やスピンコート法が一般的に用いられている。
ーディスクの貼り合わせは、一般にホットメルト型接着
剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化性接着剤等により行わ
れている。接着剤のディスクへの供給はロールコート法
やスピンコート法が一般的に用いられている。
【００１０】ところで最近、紫外線を照射してから完全
に硬化するまで数時間かかる反応性の遅いエポキシ系接
着剤が開発されている。この接着剤を利用する場合は最
初にディスクの記録層にアクリル系紫外線硬化樹脂から
なる保護膜を形成し、その上に接着剤を均一に塗布す
る。次に２枚のディスクの接着面が向かい合うように貼
り合わせ、その後数時間放置することで接着強度が増
し、貼り合わせが完了する。この接着剤は紫外線照射後
に貼り合わせることが可能であるため、従来の紫外線硬
化型接着剤とは異なり、紫外線が透過しない厚い記録多
層膜を有するＲＡＭ型のディスクの貼り合わせが可能と
なる。
に硬化するまで数時間かかる反応性の遅いエポキシ系接
着剤が開発されている。この接着剤を利用する場合は最
初にディスクの記録層にアクリル系紫外線硬化樹脂から
なる保護膜を形成し、その上に接着剤を均一に塗布す
る。次に２枚のディスクの接着面が向かい合うように貼
り合わせ、その後数時間放置することで接着強度が増
し、貼り合わせが完了する。この接着剤は紫外線照射後
に貼り合わせることが可能であるため、従来の紫外線硬
化型接着剤とは異なり、紫外線が透過しない厚い記録多
層膜を有するＲＡＭ型のディスクの貼り合わせが可能と
なる。
【００１１】しかし、エポキシ系接着剤は記録膜の保護
膜であるアクリル系樹脂との密着性は優れているもの
の、基板材料であるポリカーボネート樹脂との密着性は
極めて悪い。即ち、２枚とも記録層が形成してあるＲＯ
Ｍ型、或いはＲＡＭ型ディスク同士を貼り合わせる場合
は、両方にアクリル系保護膜が存在するため十分な接着
力が得られるが、記録層が形成されていないダミーディ
スクを貼り合わせる場合には十分な接着力を得ることが
できず、長時間の経過後に貼り合わせたディスクが自然
に剥がれることがあった。
膜であるアクリル系樹脂との密着性は優れているもの
の、基板材料であるポリカーボネート樹脂との密着性は
極めて悪い。即ち、２枚とも記録層が形成してあるＲＯ
Ｍ型、或いはＲＡＭ型ディスク同士を貼り合わせる場合
は、両方にアクリル系保護膜が存在するため十分な接着
力が得られるが、記録層が形成されていないダミーディ
スクを貼り合わせる場合には十分な接着力を得ることが
できず、長時間の経過後に貼り合わせたディスクが自然
に剥がれることがあった。
【００１２】また、特開昭６０−６６３４３号公報で
は、記録層が形成されている樹脂基板と、有機樹脂保護
膜との接着性を向上させるために、基板の内周部と外周
部の記録層が形成されていない領域を粗面化する方法が
提案されている。しかし、この場合も内周部と外周部だ
けの粗面化であり、その粗面化面積は小さいため、ディ
スク全体として十分な接着力を得ることは困難であっ
た。
は、記録層が形成されている樹脂基板と、有機樹脂保護
膜との接着性を向上させるために、基板の内周部と外周
部の記録層が形成されていない領域を粗面化する方法が
提案されている。しかし、この場合も内周部と外周部だ
けの粗面化であり、その粗面化面積は小さいため、ディ
スク全体として十分な接着力を得ることは困難であっ
た。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明は、ダミ
ーディスクの接着面の全面を粗面化することによって、
エポキシ系接着剤とポリカーボネート樹脂との接着性を
向上させ、長期間の使用によっても剥離が発生しない貼
り合わせ型光ディスクを提供する。
ーディスクの接着面の全面を粗面化することによって、
エポキシ系接着剤とポリカーボネート樹脂との接着性を
向上させ、長期間の使用によっても剥離が発生しない貼
り合わせ型光ディスクを提供する。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題に鑑
みなされたものであって、透明プラスチック基板の一主
面上に少なくとも１層以上の記録膜からなる記録面が形
成されているディスクと、記録面が形成されていないダ
ミーディスクとを貼り合わせる光ディスクの製造方法に
おいて、前記ダミーディスクの接着剤塗布面の全領域を
粗面化すると共に、前記ダミーディスクの粗面化した領
域上と、前記記録面が形成されているディスクの記録面
上に接着剤を塗布し、この接着剤を塗布した両面を対向
させて貼り合わせる製造方法を用いる。
みなされたものであって、透明プラスチック基板の一主
面上に少なくとも１層以上の記録膜からなる記録面が形
成されているディスクと、記録面が形成されていないダ
ミーディスクとを貼り合わせる光ディスクの製造方法に
おいて、前記ダミーディスクの接着剤塗布面の全領域を
粗面化すると共に、前記ダミーディスクの粗面化した領
域上と、前記記録面が形成されているディスクの記録面
上に接着剤を塗布し、この接着剤を塗布した両面を対向
させて貼り合わせる製造方法を用いる。
【００１５】前記ダミーディスクの表面粗度を３００ｎ
ｍ以上、１０μｍ以下とする。
ｍ以上、１０μｍ以下とする。
【００１６】前記ダミーディスクの粗面化は、サンドブ
ラスト処理によって行うこと、または、梨地処理を施し
たダミーディスク成形金型によりダミーディスクを射出
成形することによりなされること。
ラスト処理によって行うこと、または、梨地処理を施し
たダミーディスク成形金型によりダミーディスクを射出
成形することによりなされること。
【００１７】透明プラスチック基板の一主面上に少なく
とも１層以上の記録膜からなる記録面が形成されている
ディスクと、記録面が形成されていないダミーディスク
とを貼り合わせる光ディスクにおいて、前記ダミーディ
スクの接着剤が塗布される全領域が粗面化されていると
共に、前記ダミーディスクの粗面化された面と、前記記
録面が形成されているディスクの記録面とを対向させて
貼り合わせた貼り合わせ型光ディスクを構成する。
とも１層以上の記録膜からなる記録面が形成されている
ディスクと、記録面が形成されていないダミーディスク
とを貼り合わせる光ディスクにおいて、前記ダミーディ
スクの接着剤が塗布される全領域が粗面化されていると
共に、前記ダミーディスクの粗面化された面と、前記記
録面が形成されているディスクの記録面とを対向させて
貼り合わせた貼り合わせ型光ディスクを構成する。
【００１８】前記記録面が形成されているディスクと前
記ダミーディスクの厚みはそれぞれ０．６ｍｍで光ディ
スクを構成して上記課題を解決する。
記ダミーディスクの厚みはそれぞれ０．６ｍｍで光ディ
スクを構成して上記課題を解決する。
【００１９】ダミーディスクの接着剤が塗布される領域
全面を粗面化するため、ポリカーボネート樹脂とエポキ
シ系樹脂との接着性が向上し、貼り合わせ型光ディスク
の剥離を防止する。
全面を粗面化するため、ポリカーボネート樹脂とエポキ
シ系樹脂との接着性が向上し、貼り合わせ型光ディスク
の剥離を防止する。
【００２０】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態例について図
１ないし図７を参照して説明する。図１は本発明に係わ
る貼り合わせ型光ディスクの断面図である。図２は反射
膜上にスピンコート法により紫外線硬化樹脂の保護層を
塗布する工程を示す図であり、図３は紫外線硬化樹脂の
保護層に紫外線を照射し、硬化させる工程を示す図であ
る。また、図４は保護層形成面にスクリーン印刷法によ
りエポキシ系接着剤を塗布する工程を示す図であり、図
５は接着剤に紫外線を照射して硬化させる工程を示す図
である。更に図６はディスクの貼り合わせを示す図であ
り、図７は貼り合わせ型光ディスクの外観を示す図であ
る。
１ないし図７を参照して説明する。図１は本発明に係わ
る貼り合わせ型光ディスクの断面図である。図２は反射
膜上にスピンコート法により紫外線硬化樹脂の保護層を
塗布する工程を示す図であり、図３は紫外線硬化樹脂の
保護層に紫外線を照射し、硬化させる工程を示す図であ
る。また、図４は保護層形成面にスクリーン印刷法によ
りエポキシ系接着剤を塗布する工程を示す図であり、図
５は接着剤に紫外線を照射して硬化させる工程を示す図
である。更に図６はディスクの貼り合わせを示す図であ
り、図７は貼り合わせ型光ディスクの外観を示す図であ
る。
【００２１】まず、貼り合わせ型光ディスクの構成は図
１に示すように、射出成形により、片面に凹凸状の記録
ピットを形成したポリカーボネート樹脂の基板１を作製
し、記録ピットが形成されている面に蒸着、或いはスパ
ッタリングにより反射膜２を形成する。前記反射膜２は
再生専用のＲＯＭ型ディスクではＡｌ、Ａｕ等の単層で
形成され、一方、記録可能なＲＡＭ型ディスクでは多層
膜で形成されている。つぎに反射膜２の腐食防止のため
アクリル系紫外線硬化樹脂からなる保護層３を反射膜２
の上にスピンコート法やスクリーン印刷法により形成す
る。一方、記録ピットを形成しないダミーディスク５と
して、基板１と同様にポリカーボネート樹脂を射出成形
で作製し、前述した基板１とエポキシ系の接着剤層４に
よって貼り合わせて光ディスク６を形成する。
１に示すように、射出成形により、片面に凹凸状の記録
ピットを形成したポリカーボネート樹脂の基板１を作製
し、記録ピットが形成されている面に蒸着、或いはスパ
ッタリングにより反射膜２を形成する。前記反射膜２は
再生専用のＲＯＭ型ディスクではＡｌ、Ａｕ等の単層で
形成され、一方、記録可能なＲＡＭ型ディスクでは多層
膜で形成されている。つぎに反射膜２の腐食防止のため
アクリル系紫外線硬化樹脂からなる保護層３を反射膜２
の上にスピンコート法やスクリーン印刷法により形成す
る。一方、記録ピットを形成しないダミーディスク５と
して、基板１と同様にポリカーボネート樹脂を射出成形
で作製し、前述した基板１とエポキシ系の接着剤層４に
よって貼り合わせて光ディスク６を形成する。
【００２２】実験例 つぎに、上述した構成であるＲＯＭ型の光ディスク６の
実験例について説明する。基板１はポリカーボネート樹
脂を直径が１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍとして射出成形
したものである。反射膜２はＲＯＭ型であるためＡｌ膜
をＲＦスパッタリングで５０ｎｍの厚さに作製する。つ
ぎに反射膜２の上に保護層３として紫外線硬化樹脂をス
ピンコート法により厚み１５μｍで積層する。ダミーデ
ィスク５は基板１と同様にポリカーボネート樹脂を直径
が１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍとして射出成形する。基
板１とダミーディスク５とを保護層３を内側にして接着
剤層４を介して貼り合わせ、光ディスク６を形成する。
このときダミーディスク５の接着面の表面粗度は４ｎｍ
である。
実験例について説明する。基板１はポリカーボネート樹
脂を直径が１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍとして射出成形
したものである。反射膜２はＲＯＭ型であるためＡｌ膜
をＲＦスパッタリングで５０ｎｍの厚さに作製する。つ
ぎに反射膜２の上に保護層３として紫外線硬化樹脂をス
ピンコート法により厚み１５μｍで積層する。ダミーデ
ィスク５は基板１と同様にポリカーボネート樹脂を直径
が１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍとして射出成形する。基
板１とダミーディスク５とを保護層３を内側にして接着
剤層４を介して貼り合わせ、光ディスク６を形成する。
このときダミーディスク５の接着面の表面粗度は４ｎｍ
である。
【００２３】つぎに、基板１とダミーディスク５との貼
り合わせ工程について図２ないし図７を参照して説明す
る。
り合わせ工程について図２ないし図７を参照して説明す
る。
【００２４】図２は反射膜２の上面に形成される記録面
１ａの上にアクリル系の紫外線硬化樹脂からなる保護層
３をスピンコート法で形成する様子を示していて、記録
面１ａを上にして装置の回転テーブル（図示せず）に載
置する。アクリル系の紫外線硬化樹脂１１は樹脂供給部
１２から樹脂供給管１３で樹脂が導かれて、ノズル１４
から記録面１ａ上に塗布される。
１ａの上にアクリル系の紫外線硬化樹脂からなる保護層
３をスピンコート法で形成する様子を示していて、記録
面１ａを上にして装置の回転テーブル（図示せず）に載
置する。アクリル系の紫外線硬化樹脂１１は樹脂供給部
１２から樹脂供給管１３で樹脂が導かれて、ノズル１４
から記録面１ａ上に塗布される。
【００２５】つぎに図３に示すように、前記塗布された
アクリル系の紫外線硬化樹脂１１を紫外線ランプ１５の
紫外線１６を照射して硬化させる。
アクリル系の紫外線硬化樹脂１１を紫外線ランプ１５の
紫外線１６を照射して硬化させる。
【００２６】接着剤層４の形成は図４に示すように、硬
化した保護層３を上にしてスクリーン印刷装置２０に載
置し、メッシュ構造の印刷用スクリーン２１を保護層３
を覆うように被せる。この印刷用スクリーン２１の上に
エポキシ系の接着剤２２を供給し、スキージ２３を矢印
の方向に往復させることで保護層３の上に接着剤層４を
均一な膜厚で塗布する。
化した保護層３を上にしてスクリーン印刷装置２０に載
置し、メッシュ構造の印刷用スクリーン２１を保護層３
を覆うように被せる。この印刷用スクリーン２１の上に
エポキシ系の接着剤２２を供給し、スキージ２３を矢印
の方向に往復させることで保護層３の上に接着剤層４を
均一な膜厚で塗布する。
【００２７】つぎは図５に示すように、図４に示した方
法で塗布した接着剤層４に紫外線を照射して硬化させる
工程であって、接着剤層４を紫外線ランプ１５の紫外線
１６を照射して硬化させる。このエポキシ系の接着剤２
２の粘度は８０００ｃｐｓ、ガラス転移点は１００℃で
あり、硬化させるために照射する紫外線光量は３００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 である。
法で塗布した接着剤層４に紫外線を照射して硬化させる
工程であって、接着剤層４を紫外線ランプ１５の紫外線
１６を照射して硬化させる。このエポキシ系の接着剤２
２の粘度は８０００ｃｐｓ、ガラス転移点は１００℃で
あり、硬化させるために照射する紫外線光量は３００ｍ
Ｊ／ｃｍ2 である。
【００２８】一方、ダミーディスク５の接着する面にも
基板１と同様に図４および図５に示す方法で接着剤層４
を形成し、硬化させる。尚、ここで用いるエポキシ系の
接着剤２２は従来例でも説明したように、紫外線照射後
に貼り合わせをすることが可能な接着剤である。
基板１と同様に図４および図５に示す方法で接着剤層４
を形成し、硬化させる。尚、ここで用いるエポキシ系の
接着剤２２は従来例でも説明したように、紫外線照射後
に貼り合わせをすることが可能な接着剤である。
【００２９】上述したようにして作製した基板１とダミ
ーディスク５とを、その接着剤層４を対向させ、図６に
示すようにプレスすることにより貼り合わせる。本実施
形態例では接着剤層４の厚みが５０μｍになるようにプ
レス圧力を０．８ｋｇｆ／ｃｍ2 に設定した。このプレ
ス終了後、数時間放置して接着剤を完全に硬化させ、図
７に示す貼り合わせ構造の光ディスク６を形成する。
ーディスク５とを、その接着剤層４を対向させ、図６に
示すようにプレスすることにより貼り合わせる。本実施
形態例では接着剤層４の厚みが５０μｍになるようにプ
レス圧力を０．８ｋｇｆ／ｃｍ2 に設定した。このプレ
ス終了後、数時間放置して接着剤を完全に硬化させ、図
７に示す貼り合わせ構造の光ディスク６を形成する。
【００３０】しかしながら、上述した方法で形成した光
ディスクを温度８０℃、湿度８５％の恒温槽に保管する
信頼性試験を行った結果、１０００時間経過後に貼り合
わせ部に剥がれの発生が確認された。この剥がれ面を観
察した結果、基板１の接着面には接着剤が付着していた
が、ダミーディスク５の接着面には接着剤は付着してい
なかった。即ち、基板１の接着面は下地がエポキシ系の
接着剤２２と密着性のよいアクリル系の保護層３である
のに対して、ダミーディスク５では下地がエポキシ系の
接着剤２２と接着性の悪いポリカーボネート樹脂である
ことが、剥がれの原因であると想定される。
ディスクを温度８０℃、湿度８５％の恒温槽に保管する
信頼性試験を行った結果、１０００時間経過後に貼り合
わせ部に剥がれの発生が確認された。この剥がれ面を観
察した結果、基板１の接着面には接着剤が付着していた
が、ダミーディスク５の接着面には接着剤は付着してい
なかった。即ち、基板１の接着面は下地がエポキシ系の
接着剤２２と密着性のよいアクリル系の保護層３である
のに対して、ダミーディスク５では下地がエポキシ系の
接着剤２２と接着性の悪いポリカーボネート樹脂である
ことが、剥がれの原因であると想定される。
【００３１】実施例１ 上記実験例の結果に基づいて、ダミーディスク５の接着
面を粗面化し、ポリカーボネート樹脂とエポキシ系の接
着剤２２との接着性の改善を行った。まず、実験例と同
様に作製したダミーディスク５の接着面をサンドブラス
ト処理を施し、１００ｎｍ〜１０μｍの表面粗度をもた
せた。この工程以外は実験例と同様にして光ディスク６
を作製した。
面を粗面化し、ポリカーボネート樹脂とエポキシ系の接
着剤２２との接着性の改善を行った。まず、実験例と同
様に作製したダミーディスク５の接着面をサンドブラス
ト処理を施し、１００ｎｍ〜１０μｍの表面粗度をもた
せた。この工程以外は実験例と同様にして光ディスク６
を作製した。
【００３２】上述したようにして作製した光ディスク６
を温度８０℃、湿度８５％の恒温槽に保管する信頼性試
験を行った結果、ダミーディスク５の表面粗度が３００
ｎｍ以上であれば、１０００時間の経過後であっても、
接着剤層４における剥がれは生じなかった。
を温度８０℃、湿度８５％の恒温槽に保管する信頼性試
験を行った結果、ダミーディスク５の表面粗度が３００
ｎｍ以上であれば、１０００時間の経過後であっても、
接着剤層４における剥がれは生じなかった。
【００３３】実施例２ つぎに、放電加工等により接着面を梨地処理を施したダ
ミーディスク５の成形金型を用いて、接着面に１００ｎ
ｍ〜１０μｍの表面粗度を有するダミーディスク５を形
成した。この工程以外は実験例と同様にして光ディスク
６を作製した。
ミーディスク５の成形金型を用いて、接着面に１００ｎ
ｍ〜１０μｍの表面粗度を有するダミーディスク５を形
成した。この工程以外は実験例と同様にして光ディスク
６を作製した。
【００３４】上述したようにして作製した光ディスク６
を温度８０℃、湿度８５％の恒温槽に保管する信頼性試
験を行った結果、ダミーディスク５の表面粗度が３００
ｎｍ以上であれば、１０００時間の経過後であっても、
接着剤層４における剥がれは生じなかった。
を温度８０℃、湿度８５％の恒温槽に保管する信頼性試
験を行った結果、ダミーディスク５の表面粗度が３００
ｎｍ以上であれば、１０００時間の経過後であっても、
接着剤層４における剥がれは生じなかった。
【００３５】上記実験例と２つの実施例とから、ダミー
ディスク５の接着面全体を粗面化することにより、アン
カー効果が増し、ポリカーボネート樹脂とエポキシ系の
接着剤２２との接着性が改善されることが分かる。
ディスク５の接着面全体を粗面化することにより、アン
カー効果が増し、ポリカーボネート樹脂とエポキシ系の
接着剤２２との接着性が改善されることが分かる。
【００３６】尚、本発明は上述したＲＯＭ型の光ディス
クに限ることなく、書き換え可能なＲＡＭ型の光ディス
ク等、記録面のあるディスクとダミーディスクとを貼り
合わせる構造の光ディスク全般に用いて効果の大きいこ
とは当然である。
クに限ることなく、書き換え可能なＲＡＭ型の光ディス
ク等、記録面のあるディスクとダミーディスクとを貼り
合わせる構造の光ディスク全般に用いて効果の大きいこ
とは当然である。
【００３７】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
による貼り合わせ型光ディスクの製造方法による光ディ
スクは、長期間の使用においても貼り合わせ部が剥離す
ることがなく、信頼性の高い光ディスクを提供すること
ができる。
による貼り合わせ型光ディスクの製造方法による光ディ
スクは、長期間の使用においても貼り合わせ部が剥離す
ることがなく、信頼性の高い光ディスクを提供すること
ができる。
【図１】 本発明に係わる貼り合わせ型光ディスクの断
面図である。
面図である。
【図２】 反射膜上にスピンコート法により紫外線硬化
樹脂の保護層を塗布する工程を示す図である。
樹脂の保護層を塗布する工程を示す図である。
【図３】 紫外線硬化樹脂の保護層に紫外線を照射し、
硬化させる工程を示す図である。
硬化させる工程を示す図である。
【図４】 保護層上にスクリーン印刷法によりエポキシ
系接着剤を塗布する工程を示す図である。
系接着剤を塗布する工程を示す図である。
【図５】 接着剤に紫外線を照射して硬化させる工程を
示す図である。
示す図である。
【図６】 ディスクの貼り合わせ工程を示す図である。
【図７】 貼り合わせ型光ディスクの外観を示す図であ
る。
る。
１…基板、２…反射膜、３…保護層、４…接着剤層、５
…ダミーディスク、６…光ディスク、１１…紫外線硬化
樹脂、１２…樹脂供給部、１３…樹脂供給管、１４…ノ
ズル、１５…紫外線ランプ、１６…紫外線、２０…スク
リーン印刷装置、２１…印刷用スクリーン、２２…接着
剤、２３…スキージ
…ダミーディスク、６…光ディスク、１１…紫外線硬化
樹脂、１２…樹脂供給部、１３…樹脂供給管、１４…ノ
ズル、１５…紫外線ランプ、１６…紫外線、２０…スク
リーン印刷装置、２１…印刷用スクリーン、２２…接着
剤、２３…スキージ
Claims (6)
- 【請求項１】 透明プラスチック基板の一主面上に少な
くとも１層以上の記録膜からなる記録面が形成されてい
るディスクと、記録面が形成されていないダミーディス
クとを貼り合わせる光ディスクの製造方法において、 前記ダミーディスクの接着剤塗布面の全領域を粗面化す
ると共に、 前記ダミーディスクの粗面化した領域上と、前記記録面
が形成されているディスクの記録面上に接着剤を塗布
し、この接着剤を塗布した両面を対向させて貼り合わせ
ることを特徴とする貼り合わせ型光ディスクの製造方
法。 - 【請求項２】 前記ダミーディスクの表面粗度が３００
ｎｍ以上、１０μｍ以下であることを特徴とする、請求
項１に記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法。 - 【請求項３】 前記ダミーディスクの粗面化は、サンド
ブラスト処理によって行うことを特徴とする、請求項１
に記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方法。 - 【請求項４】 前記ダミーディスクの粗面化は、梨地処
理を施したダミーディスク成形金型によりダミーディス
クを射出成形することによりなされることを特徴とす
る、請求項１に記載の貼り合わせ型光ディスクの製造方
法。 - 【請求項５】 透明プラスチック基板の一主面上に少な
くとも１層以上の記録膜からなる記録面が形成されてい
るディスクと、記録面が形成されていないダミーディス
クとを貼り合わせる光ディスクにおいて、 前記ダミーディスクの接着剤が塗布される全領域が粗面
化されていると共に、 前記ダミーディスクの粗面化された面と、前記記録面が
形成されているディスクの記録面とを対向させて貼り合
わせてあることを特徴とする貼り合わせ型光ディスク。 - 【請求項６】 前記記録面が形成されているディスクと
前記ダミーディスクの厚みはそれぞれ０．６ｍｍである
ことを特徴とする、請求項５に記載の貼り合わせ型光デ
ィスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9022714A JPH10222883A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | 貼り合わせ型光ディスクおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9022714A JPH10222883A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | 貼り合わせ型光ディスクおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10222883A true JPH10222883A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12090496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9022714A Pending JPH10222883A (ja) | 1997-02-05 | 1997-02-05 | 貼り合わせ型光ディスクおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10222883A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011249610A (ja) * | 2010-05-27 | 2011-12-08 | Arisawa Manufacturing Co Ltd | 透明印刷板、および、透明印刷板の製造方法 |
-
1997
- 1997-02-05 JP JP9022714A patent/JPH10222883A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011249610A (ja) * | 2010-05-27 | 2011-12-08 | Arisawa Manufacturing Co Ltd | 透明印刷板、および、透明印刷板の製造方法 |
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