JPH10217121A

JPH10217121A - シリコンの再生処理方法、シリコン固形物の清浄化処理方法、それらの方法に用いるワークの清浄化処理装置、シリコン板、およびシリコン固形物

Info

Publication number: JPH10217121A
Application number: JP1933197A
Authority: JP
Inventors: Eikichi Yamaharu; 栄吉山春
Original assignee: YAMAKI KOGYO KK; Tomoe Engineering Co Ltd
Current assignee: YAMAKI KOGYO KK; Tomoe Engineering Co Ltd
Priority date: 1997-01-31
Filing date: 1997-01-31
Publication date: 1998-08-18

Abstract

(57)【要約】【課題】シリコンインゴットをスライスするときに発生
するスクラップ材としてのシリコン板を、接着剤などの
不純物が付着していない清浄なシリコン板として再生処
理し、高品質のシリコンが要求される半導体製造分野な
どにおいて有効に利用できるようにする。【解決手段】接着剤を用いて接続された複数のシリコン
インゴットを切断することにより発生する切断残余のイ
ンゴット接続部９５を分離して得られるシリコン板９０
の外表面に、研掃材を混入した高速空気流を吹きつける
ブラスト処理を施し、上記シリコン板９０の外表面を清
浄化する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明が属する技術分野】本願発明は、シリコンインゴ
ットをスライスしてシリコンウエハを製造する際に発生
するスクラップとしてのいわゆるジャンクションと称さ
れる部分のシリコンや、るつぼ残と称されるシリコンを
有効にリサイクル使用するための技術に関する。

【０００２】

【発明の背景】周知のとおり、近時、ＩＣ、ＬＳＩ、あ
るいは太陽電池などの各種の半導体や半導体機器類を製
造する分野においては、シリコンの消費量が非常に多
く、その供給が需要に追いつかない緊迫状況もみられ
る。そこで、従来では、その解決策の一つとして、シリ
コン原料の利用率を高める観点から、シリコンウエハを
作成するためのシリコンインゴットを製造する場合に発
生するスクラップ部分を再利用することも試みられてい
る。すなわち、たとえば図２０に示すように、シリコン
単結晶のインゴット９Ａをチョクラルスキー法（ＣＺ
法）によって製造する場合には、るつぼ９２に収容され
た同図仮想線で示す溶融状態のシリコン９Ｂを所定温度
に制御しつつ、その上方より種結晶（ＳＥＤＤ）９３を
降下させて単結晶を育成し、その結晶の育成速度に合わ
せて上記種結晶９３を上方に回転させながら引き上げ
る。このようにして製造されたシリコンインゴット９Ａ
の上層部（トップ）９４ａおよび下層部（テイル）９４
ｂは、シリコンの純度が低いものとなっており、一般的
にはスクラップとされるが、従来ではこのような部分を
再利用していた。

【０００３】しかしながら、上記シリコンインゴット９
Ａの上層部９４ａおよび下層部９４ｂを再利用しても、
シリコンの供給量はいまだ充分であるとは言えなかっ
た。また、上記シリコンインゴット９Ａの上層部９４ａ
および下層部９４ｂは、その中間層部分と比較すると、
不純物を比較的多く含有し、シリコン純度が低いため
に、高いシリコン純度が要求される半導体製造分野にお
いては、上記の部分をそのまま再利用することができな
いという不具合もあった。

【０００４】一方、シリコンインゴットからシリコンウ
エハを製造する作業は、たとえば図２１に示すような工
程でなされている。すなわち、シリコンインゴット９
は、１本ずつの単位で単独でスライスされるのではな
く、複数本のシリコンインゴット９，９を互いに接続し
たかたちで、多数枚の薄板状、あるいは比較的長めの円
柱状の部材としてワイヤカットされる。シリコンインゴ
ット９を１本単位でスライスしていたのでは、その作業
効率が悪いからである。複数本のシリコンインゴット９
を接続する手段としては、シリコンインゴット９，９の
間にカーボン板９１を挟み込んだ上で、このカーボン板
９１の両面にたとえばエポキシ樹脂系の接着剤を塗布
し、この接着剤を用いて複数のシリコンインゴット９，
９を強固に接着する手段が採用されている。このような
シリコンインゴット９，９を順次スライスしてゆくと、
最終的には、上記シリコンインゴット９，９どうしの接
続部９５が切断残余のスクラップとなる。

【０００５】上記スクラップとされる接続部９５は、２
枚のシリコン板９０，９０の間にカーボン板９１が挟ま
れた形態となるが、これらの各部材は接着剤を介して強
固に接着されており、上記シリコン板９０，９０を互い
に剥離させることは難しい。また、仮にこれら２枚のシ
リコン板９０，９０を剥離させても、その表面には、接
着剤が付着している。このように接着剤が付着したシリ
コン板９０，９０は、半導体製造分野において再利用す
ることはできない。そこで、従来では、上記接続部９５
については、そのまま廃棄されるか、あるいはアルミニ
ウムなどの金属類を溶解したときのシリコン添加用の材
料としてせいぜい使用されていたのが実情であった。

【０００６】さらに、従来では、図２０に示すＣＺ法に
よってシリコンインゴットを製造する場合、るつぼ９２
の底部には、いわゆるるつぼ残と称されるシリコンの固
形物９９が残存することとなるが、このシリコン部分に
ついても廃棄処理がなされていた。

【０００７】本願発明は、このような事情のもとで考え
出されたものであって、シリコンインゴットをスライス
するときに発生するスクラップ材としてのシリコン板な
どのシリコンを、接着剤などの不純物が付着していない
清浄なシリコン材料として再生処理し、高品質のシリコ
ンが要求される半導体製造分野などにおいて有効に利用
できるようにすることをその課題としている。

【０００８】

【発明の開示】上記の課題を解決するため、本願発明で
は、次のような技術的手段を採用している。

【０００９】本願発明の第１の側面によれば、シリコン
の再生処理方法が提供される。このシリコンの再生処理
方法は、接着剤を用いて接続された複数のシリコンイン
ゴットを切断することにより発生する切断残余のインゴ
ット接続部を分離して得られるシリコン板の外表面に、
研掃材を混入した高速空気流を吹きつけるブラスト処理
を施し、上記シリコン板の外表面を清浄化することに特
徴づけられる。

【００１０】上記インゴット接続部を分離する作業は、
上記インゴット接続部を加熱して上記接着剤を炭化させ
てから行う構成とすることができる。このように、上記
インゴット接続部の接着剤を予め炭化させておけば、そ
の接着力を著しく低下させることができ、接着剤を介し
て互いに接続されていた２枚のシリコン板を簡単に分離
させることができる。

【００１１】本願発明の第１の側面によって提供される
シリコンの再生処理方法においては、シリコン板の外表
面に、接着剤が強固に接着しており、またその他の付着
物が存在していても、研掃材を混入した高速空気流を吹
きつけるブラスト処理を施すことによって、それら接着
剤やその他付着物を適切に剥離除去させることができ、
シリコン板の外表面の清浄化が図れる。ブラスト処理に
よる付着物の剥離除去作用は、剥離除去対象となる付着
物に対して研掃材が高速で衝突することによりなされる
ために、シリコン板の清浄化処理を短時間で、かつ能率
良く行うことが可能となる。このようにしてシリコン板
の清浄化を図れば、このシリコン板を半導体製造用の原
材料として有効に利用することができる。とくに、上記
シリコン板は、もともとは高品質のシリコンインゴット
の一部分であったものであり、そのシリコン純度は非常
に高いものであるから、高いシリコン純度が要求される
半導体製造分野における半導体製造用の材料としては、
最適なものとすることができる。上記清浄化処理がなさ
れたシリコン板は、たとえばＩＣやＬＳＩなどの各種半
導体機器製造用の原材料として、あるいは単結晶または
多結晶の太陽電池基材の原材料などとして、種々有効利
用を図ることができる。むろん、本来的には、スクラッ
プとされていたシリコン板を有効に利用するのであるか
ら、良質のシリコンを安価に供給できる効果も得られ
る。

【００１２】本願発明の好ましい実施の形態では、上記
ブラスト処理を終了したシリコン板の外表面を、洗浄水
を用いて洗浄する工程をさらに有している。上記シリコ
ン板の外表面を洗浄する工程は、上記シリコン板の外表
面に洗浄水を高速噴射する作業、および／または上記シ
リコン板を噴流状の洗浄水中に進入させる作業とするこ
とができる。

【００１３】このような構成によれば、シリコン板の外
表面に、ブラスト処理用の研掃材や、ブラスト処理によ
ってシリコン板から剥離された接着剤などが残存してい
る場合に、これらを洗浄水によって洗い落とすことがで
きる。したがって、シリコン板の外表面を一層清浄にで
き、半導体向けの高純度のシリコンとして利用する場合
により適するものとすることができる。

【００１４】本願発明の他の好ましい実施の形態では、
上記シリコン板に対するブラスト処理および洗浄処理
は、上記シリコン板の表裏両面のそれぞれに対して行う
構成とすることができる。

【００１５】このような構成によれば、シリコン板の表
裏両面のそれぞれの清浄化が図れ、高純度のシリコン材
料として再利用を図る場合にやはり好ましいものとな
る。シリコンインゴットを切断したときに発生する切断
残余のインゴット接続部を分離して得られるシリコン板
は、片面のみに接着剤が付着し、その反対側の片面には
接着剤が付着されていないのが一般的であるが、上記イ
ンゴット接続部の分離する作業などを行っているときに
は、このシリコン板の表裏両面に汚れが付着するのが一
般的であるから、上記構成のように、シリコン板の表裏
両面のそれぞれに対してブラスト処理や洗浄処理を行え
ば、そのような不具合を適切に解消することができ、好
ましい。

【００１６】本願発明の第２の側面によれば、シリコン
固形物の清浄化処理方法が提供される。このシリコン固
形物の清浄化処理方法は、シリコン板またはシリコンる
つぼ残などのシリコン固形物の外表面に研掃材を混入し
た高速空気流を吹きつけるブラスト処理を施し、上記シ
リコン固形物の外表面の付着物を剥離除去することに特
徴づけられる。

【００１７】本願発明の第２の側面によって提供される
シリコン固形物の清浄化処理方法においては、本願発明
の第１の側面によって提供されるシリコン再生処理方法
と同様に、外表面に付着物のあるシリコン板またはシリ
コンるつぼ残などのシリコン固形物を清浄化することに
よって、そのシリコン固形物を半導体製造用などの新た
なシリコン材として有効に利用することが可能となる。

【００１８】本願発明の第３の側面によれば、ワークの
清浄化処理装置が提供される。このワークの清浄化処理
装置は、所望の板状のワークの片面に研掃材を混入した
高速空気流を吹きつけ可能なブラストノズルをそれぞれ
有する第１のブラスト装置および第２のブラスト装置
と、所定位置に供給された板状のワークを上記第１のブ
ラスト装置に供給するとともに、上記第１のブラスト装
置でのブラスト処理が終了したワークを上記第１のブラ
スト装置から外部に取り出す第１のワーク移載装置と、
上記第１のワーク移載装置によって外部に取り出された
ワークの表裏を反転させるワーク反転装置と、上記ワー
ク反転装置で表裏反転されたワークを上記第２のブラス
ト装置に供給するとともに、上記第２のブラスト装置で
のブラスト処理が終了したワークを上記第２のブラスト
装置から外部に取り出す第２のワーク移載装置と、を具
備していることに特徴づけられる。

【００１９】本願発明の第３の側面によって提供される
ワークの清浄化処理装置においては、たとえば、シリコ
ンインゴットをスライスしたときに発生するインゴット
接続部を分離して得られるシリコン板を、所定位置に供
給すると、このシリコン板は、第１のワーク移載装置に
よって第１のブラスト装置に供給され、この第１のブラ
スト装置によってその表面（片面）にブラスト処理が施
され、清浄化される。次いで、上記第１のブラスト装置
によって表面のブラスト処理が終了したシリコン板は、
上記第１のワーク移載装置によって外部に取り出されて
からワーク反転装置によって表裏反転され、その後第２
のワーク移載装置によって第２のブラスト装置に供給さ
れる。この第２のブラスト装置においては、上記シリコ
ン板の裏面にブラスト処理が施され、その清浄化がなさ
れる。そして、この裏面の清浄化がなされたシリコン板
を、上記の第２のワーク移載装置によって外部に取り出
すことができる。このように、本願発明の第３の側面に
よって提供されるワークの清浄化装置によれば、所望の
シリコン板の表裏両面へのブラスト処理を連続して機械
作業によって行うことができ、本願発明の第１の側面に
よって提供されるシリコンの再生処理方法や、本願発明
の第２の側面によって提供されるシリコン固形物の清浄
化処理方法を、能率良くかつ適切に実施することができ
る。

【００２０】本願発明の好ましい実施の形態では、上記
第１のブラスト装置および第２のブラスト装置のそれぞ
れは、上記ワークを載置可能な複数の小テーブルを有す
るターンテーブルを具備しており、このターンテーブル
は、上記各小テーブルへのワークの投入がなされるワー
ク投入ポジション、各小テーブル上に載置されたワーク
の上面へのブラスト処理がなされるブラスト処理ポジシ
ョン、および上記各小テーブルからのワークの取り出し
がなされるワーク取り出しポジションのそれぞれのポジ
ションに上記小テーブルを移動させるように公転動作が
自在であり、かつ上記小テーブルは、少なくとも上記ブ
ラスト処理ポジションに移動したときに自転可能である
構成とすることができる。

【００２１】このような構成によれば、第１のブラスト
装置および第２のブラスト装置のそれぞれのワーク投入
ポジションにおいて、小テーブル上に所望のシリコン板
を投入載置すると、その後このシリコン板はブラスト処
理ポジションに移送され、ブラスト処理される。そし
て、このブラスト処理が終了したシリコン板は、その後
ワーク取り出しポジションに移送され、このワーク取り
出しポジションから外部に取り出すことができる。上記
したワーク投入作業、ブラスト処理作業、ワーク取り出
し作業のそれぞれは、それぞれ同時に並行して行うこと
ができる。したがって、処理対象となるシリコン板が多
数枚であっても、これら多数枚のシリコン板を１枚ずつ
個々に連続して処理することが可能となり、大量のシリ
コン板を取り扱う場合にその作業性を良好にすることが
できる。また、シリコン板が載置される小テーブルは、
ブラスト処理がなされるときに自転させることができる
ために、シリコン板の上面の全面にブラストノズルを対
面配置させる必要はなく、シリコン板の上面の一部分に
のみブラストノズルを対面配置させた場合であっても、
上記シリコン板を自転させることによって、その全面に
ブラスト処理を効率よく、かつ均等に施すことが可能と
なる。

【００２２】本願発明の他の好ましい実施の形態では、
上記第２のワーク移載装置の後段には、ブラスト処理が
終了したワークの表裏両面を洗浄水を用いて洗浄する洗
浄装置が設けられている。上記洗浄装置は、上記シリコ
ン板の表裏両面の外表面に洗浄水を高速噴射する第１の
洗浄装置と、上記シリコン板を噴流状の洗浄水中に進入
させる第２の洗浄装置とを含んで構成されている。

【００２３】このような構成によれば、ブラスト処理が
終了したシリコン板の表裏両面を洗浄水を利用して洗浄
することができ、ブラスト処理用の研掃材やそれ以外の
異物やダスト類などを適切に除去することができる。

【００２４】本願発明の他の好ましい実施の形態では、
上記洗浄装置の後段には、上記洗浄装置によって洗浄さ
れたワークにエアを作用させて乾燥させる乾燥装置が設
けられている。

【００２５】このような構成によれば、洗浄装置によっ
て洗浄されたシリコン板を短時間で乾燥させることがで
き、洗浄処理が終了したシリコン板の次の取扱いを迅速
に行うことが可能となる。また、洗浄処理が終了したシ
リコン板にダスト類などが新たに付着し難くすることも
できる。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本願発明の好ましい実施の
形態について、図面を参照しつつ具体的に説明する。

【００２７】図１は、本願発明に係るシリコンの再生処
理方法において再生処理対象となるシリコン板９０を得
るための一連の作業工程を示す説明図である。

【００２８】同図（ａ）は、いわゆるジャンクションと
称されるインゴット切断残余のインゴット接続部９５を
示している。このインゴット接続部９５は、円板状の２
枚のシリコン板９０，９０の間に、円板状のカーボン板
９１を介装し、これらカーボン板９１と２枚のシリコン
板９０，９０とをエポキシ樹脂系の接着剤を介して接着
したものである。上記インゴット接続部９５は、先に図
２１を参照して説明したものと同様に、カーボン板９１
と接着剤とを用いて接続した複数本のシリコンインゴッ
ト９，９をスライスして多数枚のシリコンウエハを製造
する際に発生するスクラップである。したがって、上記
各インゴット９が高純度のシリコン単結晶である場合に
は、上記２枚のシリコン板９０，９０も、それと同様に
高純度のシリコン単結晶である。

【００２９】上記インゴット接続部９５から２枚のシリ
コン板９０，９０を分離させるためには、まず同図
（ｂ）に示すように、上記インゴット接続部９５の全体
を加熱する。この加熱作業は、たとえば上記インゴット
接続部９５を適当な加熱炉内に搬入し、たとえば６５０
℃の温度まで徐々に昇温させてから、その温度を２〜３
時間程度維持して行う。このような加熱処理を行えば、
エポキシ樹脂系の接着剤を炭化させることができる。次
いで、上記加熱処理が終了したインゴット接続部９５を
加熱炉から取り出した後には、上記インゴット接続部９
５にたとえばハンマなどを用いて軽い衝撃力を加える。
上記接着剤は炭化しているために、上記衝撃力によっ
て、２枚のシリコン板９０，９０を、同図（ｃ）に示す
ように、カーボン板９１から容易に剥離させることがで
きる。このようにして、カーボン板９１から分離された
２枚のシリコン板９０，９０のそれぞれが、再生処理対
象のシリコン板となる。ただし、上記２枚のシリコン板
９０，９０の片面（表面）には、炭化した接着剤が付着
している。また、その反対側の片面（裏面）には、上記
一連の作業時において、たとえばダスト類などが付着し
ている場合もある。

【００３０】図２は、本願発明に係るワークの清浄化処
理装置の一例を示す概略説明図である。

【００３１】この清浄化処理装置は、第１のブラスト装
置１Ａ、第２のブラスト装置１Ｂ、供給コンベア２、第
１の移載装置３Ａ、第２の移載装置３Ｂ、反転装置６、
洗浄乾燥装置４、排出コンベア５Ａ、およびその他後述
する各装置機器類を具備して構成されている。なお、本
実施形態でいうワークとは、具体的には、上記シリコン
板９０である。

【００３２】図３は、上記供給コンベア２を示す断面図
である。図４は、図３のIV−IV断面図である。図５は、
上記供給コンベア２に使用されているジグ２０の一例を
示す断面図である。これらの図において、上記供給コン
ベア２は、２条の無端状のチェーン２１，２１を、２つ
ずつ設けられたスプロケット２２，２２ａのそれぞれに
掛け回したものであり、一方のスプロケット２２には、
モータＭ１の駆動軸が連結されることにより、上記チェ
ーン２１，２１は矢印Ｎ１方向に循環駆動自在である。
上記２条のチェーン２１，２１には、ワークを載置する
ための略円板状のジグ２０が所定ピッチ間隔で複数取付
けられている。上記ジグ２０は、ワークとしての上記シ
リコン板９０を嵌入可能とする複数の凹状部２０ａ〜２
０ｃを有するものである。上記シリコン板９０として
は、たとえば５インチ、６インチ、８インチなどのサイ
ズが一般的であり、これらの各サイズに対応できるよう
に上記凹状部２０ａ〜２０ｃのサイズが決定されてい
る。むろん、上記凹状部２０ａ〜２０ｃの具体的なサイ
ズはこれに限定されず、そのサイズはシリコンインゴッ
トやシリコン板９０の実際のサイズに対応して適宜変更
可能である。上記供給コンベア２は、その上流側の図３
の符号Ａで示す位置において、ジグ２０上にワークが載
置されると、このワークを第１の移載装置３Ａの近傍ま
で移送する。

【００３３】図６は、上記第１の移載装置３Ａを示す要
部断面図である。この第１の移載装置３Ａは、第１のブ
ラスト装置１Ａへのワークの供給およびその排出を行う
ための装置であり、第１回動アーム３０ａと第２回動ア
ーム３０ｂとを具備している。上記第１回動アーム３０
ａは、上記供給コンベア２によって搬送されてきたワー
クを第１のブラスト装置１Ａの所定位置へ投入するため
のものであり、吸着ヘッド３１ａを供給コンベア２と第
１のブラスト装置１Ａとに移動させ得るように、モータ
Ｍ２によって水平方向に回動自在である。上記吸着ヘッ
ド３１ａは、上部に設けられたエア配管口３３が、エア
配管３４を介して真空ポンプ（図２の符号３６で示す）
の吸気側に接続されることにより、下部開口部３５に吸
引負圧を発生させ、所定のワークを真空吸着保持可能に
構成されたものである。上記吸着ヘッド３１ａは、往復
シリンダ３２ａによって昇降自在であり、吸着ヘッド３
１ａに吸着保持させたワークを任意に昇降できるように
構成されている。

【００３４】上記第２回動アーム３０ｂは、第１のブラ
スト装置１Ａでブラスト処理が終了したワークを第１の
ブラスト装置１Ａの外部に取り出すためのものであり、
上記第１回動アーム３０ａの吸着ヘッド３１ａや往復シ
リンダ３２ａと同様な機能を有する吸着ヘッド３１ｂや
往復シリンダ３２ｂを具備している。また、その水平方
向の回転動作は、モータＭ３によってなされる。

【００３５】図７は、上記第１のブラスト装置１Ａおよ
び第２のブラスト装置１Ｂの要部平面断面図である。図
８は、上記第１のブラスト装置１Ａおよび第２のブラス
ト装置１Ｂの要部側面断面図である。図９は、図８のIX
−IX平面断面図である。図１０は、上記第１のブラスト
装置１Ａおよび第２のブラスト装置１Ｂの全体の概略構
成を示す説明図である。

【００３６】本実施形態のワークの清浄化処理装置で
は、第１のブラスト装置１Ａと第２のブラスト装置１Ｂ
とは同一構成としている。したがって、図７ないし図１
０においては、第１のブラスト装置１Ａの構成を説明す
ることとし、第２のブラスト装置１Ｂについての説明は
省略する。上記第１のブラスト装置１Ａは、平面視円板
状のターンテーブル１１、このターンテーブル１１に複
数取付けられた小テーブル１２、上記ターンテーブル１
１の主要部を覆うケーシング１３、ブラストノズル１
０、およびその他後述する各部を具備して構成されてい
る。

【００３７】上記ターンテーブル１１は、図８によく表
れているように、軸１４を中心として水平方向に間欠的
に回転（公転）自在である。上記ターンテーブル１１を
間欠回転させる手段としては、たとえばゼネバ機構を採
用することができる。具体的には、上記軸１４に駆動連
結され、かつケーシング１３の外部に配された軸体１４
ａにゼネバギア１５を取付けた上で、このゼネバギア１
５に歯合するギヤ１５ａをモータＭ４などによって駆動
回転させる手段を採用することができる。このような手
段によれば、上記ギア１５ａを連続回転させた場合であ
っても、上記ゼネバギア１５およびターンテーブル１１
を一定の周期で間欠的に回転させることができる。

【００３８】上記複数の小テーブル１２は、上記ターン
テーブル１１の上面に等角度間隔で配置されており、そ
の下面部に連結された支持軸１６がターンテーブル１１
に取付けられたホルダ１７に支持されていることによ
り、その支持軸１６を中心として回転（自転）可能であ
る。上記各小テーブル１２は、図５において説明したジ
グ２０と同様に、上面に複数の凹状部を形成したもので
あり、複数種類のサイズのワークを位置決め載置可能で
ある。上記複数の小テーブル１２は、ターンテーブル１
１が公転動作を行うことにより、所定のポジションに順
次移送される。すなわち、図７によく表れているよう
に、上記第１のブラスト装置１Ａには、符号ＮａからＮ
ｆに示す計６箇所のポジションがあり、符号Ｎａで示す
ワーク投入ポジションでは、第１の移載装置３Ａによっ
て小テーブル１２の上面へのワークの投入載置がなされ
る。符号Ｎｂで示すワークの待機ポジションでは、小テ
ーブル１２上に載置されたワークがその後ブラスト処理
を施されるまでの待機がなされる。符号Ｎｃ，Ｎｄで示
すブラスト処理ポジションでは、ワークへのブラスト処
理がなされる。符号Ｎｅに示すエアブロー処理ポジショ
ンでは、ブラスト処理が終了したワークの上面にエアを
噴射してブラスト処理に使用された研掃材などをワーク
の上面から吹き飛ばす処理がなされる。符号Ｎｆで示す
ワーク取り出しポジションでは、上記ブラスト処理やエ
アブロー処理が終了したワークを第１の移載装置３Ａに
よって第１のブラスト装置１Ａの外部へ取り出す動作が
なされる。

【００３９】上記複数のポジションＮａ〜Ｎｆのうち、
ワーク投入ポジションＮａとワーク取り出しポジション
Ｎｆとは、ケーシング１３の外部に位置しており、ワー
クの投入および取り出しが容易になされるように構成さ
れている。これに対し、上記以外のポジションＮｂ〜Ｎ
ｅについては、ケーシング１３の内部に配されている。
上記ワーク投入ポジションＮａとワーク待機ポジション
Ｎｂとの間、およびワーク取り出しポジションＮｆとエ
アブローポジションＮｅとの間のそれぞれには、昇降自
在なシャッタゲート１８，１８が設けられており、ワー
クにブラスト処理を施す際には上記シャッタゲート１
８，１８が閉まることにより、ブラスト処理用の研掃材
などがケーシング１３の外部に不当に排出されることが
阻止されるようになっている。むろん、上記シャッタゲ
ート１８，１８は、ターンテーブル１１を公転させて小
テーブル１２を移動させるときには、その支障にならな
いように、逐次昇降動作を行う。

【００４０】図８および図９によく表れているように、
上記各小テーブル１２の支持軸１６の下端部には、プー
リ１９が取付けられている。上記各小テーブル１２がブ
ラスト処理ポジションＮｃ，Ｎｄおよびエアブローポジ
ションＮｅのそれぞれに配置されたときには、駆動機構
８から自転力が付与されるように構成されている。上記
駆動機構８は、モータＭ４の駆動軸に止着されたプーリ
８０、および複数のガイドプーリ８０ａに、無端状のベ
ルト８１を一連に掛け回したものであり、計３つの小テ
ーブル１２がブラスト処理ポジションＮｃ，Ｎｄおよび
エアブローポジションＮｅのそれぞれに移動したときに
は、それらのプーリ１９上記ベルト８１に適度な圧接力
で接触するようになっている。したがって、上記複数の
小テーブル１２は、ワーク投入ポジションＮａ、ワーク
取り出しポジションＮｆ、およびワーク待機ポジション
Ｎｆのそれぞれに位置するときには、自転動作は行わな
いものの、それ以外のポジションＮｃ〜Ｎｅに位置する
ときには、自転動作を行うこととなる。なお、上記駆動
機構８には、上記ベルト８１に一定のテンションを与え
るためのテンションプーリ８０ｂも適宜設けられる。

【００４１】上記ブラストノズル１０は、二つのブラス
ト処理ポジションＮｃ，Ｎｄのそれぞれの上方に設けら
れている。これらのブラストノズル１０は、研掃材を混
入した高速空気流をワークの上面に吹きつけ可能に構成
されたものである。図１１に示すように、上記ブラスト
ノズル１０は、先端が開口した中空状のノズル本体１０
Ａの基端部側に、エア配管８２と研掃材供給配管８３と
をそれぞれ接続したものである。上記エア配管８２は、
図１０によく表れているように、ケーシング１３の外部
に配されたルーツブロアなどの低圧空気発生源８４に接
続されたものである。上記研掃材供給配管８３は、ケー
シング１３の上部に載設されたサイクロン８５の下端開
口部に接続されている。上記サイクロン８５の内部に
は、研掃材ｍが収容されており、低圧空気発生源８４か
らノズル本体１０Ａ内に低圧大流量の空気が供給される
こととにより、研掃材供給配管８３を介してノズル本体
１０Ａ内に供給される研掃材ｍが、ノズル本体１０Ａの
開口部から上記空気流に混じって高速で噴射されるよう
になっている。上記研掃材ｍとしては、たとえば６０メ
ッシュの炭化珪素の粉粒材を採用することができる。上
記ブラストノズル１０から噴射される研掃材ｍは、ワー
クの上面の全域に噴射される必要はなく、ワーク上面の
一部領域でかまわない。ワークを載置支持する小テーブ
ル１２は、その支持軸１６を中心として自転しており、
ワーク上面の一部領域にのみ研掃材ｍが吹きつけられた
場合であっても、上記自転作用により、ワーク上面の全
面域に研掃材ｍを吹きつけることができるからである。

【００４２】上記第１のブラスト装置１Ａのケーシング
１３の下部は、ホッパー状に形成されているが、このケ
ーシング１３の下方には研掃材貯留容器８６が配置され
る。一方、上記サイクロン８５の上部のダクト８５ａに
は、吸引作用を発揮する集塵器（図示略）が配管接続さ
れる。上記研掃材貯留容器８６には、ワークに対して吹
きつけられた研掃材ｍが収容されるが、その研掃材ｍは
上記集塵器の吸引作用により、配管８６ａを介してサイ
クロン８５の吸引配管８５ｂに吸引される。またこのよ
うにしてサイクロン８５に吸引された研掃材ｍは、上記
研掃材供給配管８３を介してブラストノズル１０に供給
される。したがって、ブラスト処理に用いられる研掃材
ｍは、多数回にわたって繰り返し使用されることとな
る。一方、上記サイクロン８５内に復帰した研掃材ｍの
大半は研掃材供給配管８３を介してブラストノズル１０
に供給されるものの、その中に含まれている比重の小さ
なダスト類などは集塵器の吸引作用によってダクト８５
ａを介して集塵器に吸引され、適切に除去されることと
なる。したがって、同一の研掃材ｍを多数回にわたって
繰り返し使用しつつ、ブラスト処理によって発生したダ
スト類などについては、適切に集塵器に捕集することが
できる。

【００４３】図８によく表れているように、小テーブル
１２のエアブローポジションＮｅの上方には、エア排気
を行うエアノズル８７が設けられる。このエアノズル８
７は、ブラスト処理が終了したワークの上面にエアを高
速で噴射するものであり、このエア噴射によってワーク
上面に存在する研掃材やブラスト処理によって発生した
ワークの粉体などを大まかに除去することが可能であ
る。これは、後工程でなされる洗浄乾燥装置４の洗浄処
理の負担を小さくする上で有利となる。

【００４４】図１２は、上記反転装置６の構成を示す要
部断面図である。この反転装置６は、支持フレーム６０
に支持された軸体６２に、ワーク吸着プレート６１の一
端部を支持させた構成である。上記軸体６２は、図示し
ないモータなどによって駆動回転自在であり、この軸体
６２が駆動回転されることにより、上記ワーク吸着プレ
ート６１は、鉛直方向に約１８０°の角度範囲で回動自
在である。上記ワーク吸着プレート６１の略中央部に
は、真空ポンプ（図示略）の吸引側と、エア配管６４を
介して接続された吸気口６３が設けられており、そのワ
ーク吸着プレート６１の上面にワークを載置させたとき
には、上記吸気口６３に生じる吸引作用によって上記ワ
ークを吸着保持可能である。同図実線に示すように上記
ワーク吸着プレート６１が上面を向いているときには、
上記第１の移載装置３Ａの第２回動アーム３０ｂに保持
されたワークを上記ワーク吸着プレート６１上に移載可
能である。

【００４５】一方、上記反転装置６の一側方には、ワー
ク移動装置７が設けられている。このワーク移動装置７
は、ワークを載置支持可能なジグ７２を上面に備えたブ
ロック体７０が、水平方向に延びるガイドロッド７１に
沿って往復移動自在に設けられたものである。上記反転
装置６のワーク吸着プレート６１は、同図矢印Ｎ２方向
に回動することにより、その片面に吸着保持しているワ
ークを表裏１８０°反転させて、上記ワーク移動装置７
のジグ７２上に投入可能となっている。上記ワーク移動
装置７は、ジグ７２上に表裏反転されたワークが投入載
置されたときには、その後同図矢印Ｎ３方向に水平移動
し、上記ワークを第２の移載装置３Ｂの近傍に移動させ
るように構成されている。

【００４６】図１３は、上記第２の移載装置３Ｂの構成
を示す要部断面図である。この第２の移載装置３Ｂとし
ては、基本的には、上記第１の移載装置３Ａと同一の構
成のものを採用することができ、モータＭ５，Ｍ６の駆
動により水平方向に回動自在な第３回動アーム３０ｃお
よび第４回動アーム３０ｄを具備するとともに、これら
二つのアーム３０ｃ，３０ｂに往復シリンダ３２ｃ，３
２ｄによって昇降自在な吸着ヘッド３１ｃ，３１ｄを支
持させた構成とすることができる。この第２の移載装置
３Ｂは、第２のブラスト装置１Ｂへのワークの供給とそ
の取り出しを行う点において、上記第１の移載装置３Ａ
とはその役割が相違しており、第３回動アーム３０ｃ
は、上記ワーク移動装置７によって移送されてきたワー
クを第２のブラスト装置１Ｂの所定のワーク投入ポジシ
ョンに投入載置するように構成されている。これに対
し、第４回動アーム３０ｄは、第２のブラスト装置１Ｂ
のワーク取り出しポジションからブラスト処理が終了し
たワークを取り出して、洗浄乾燥装置４の所定箇所に移
載するように構成されている。

【００４７】図１４および図１５は、上記洗浄乾燥装置
４を示す断面図である。図１６は、図１４のXVI −XVI
要部断面図である。図１７は、上記洗浄乾燥装置４の一
部を構成する第１の洗浄装置４Ａの概念説明図である。
図１８は、図１４のX VIII−XVIII 要部断面図である。
図１９は、上記洗浄乾燥装置４に用いられている搬送コ
ンベア５の要部平面図である。

【００４８】この洗浄乾燥装置４は、第１の洗浄装置４
Ａ、第２の洗浄装置４Ｂ、第１の乾燥装置４Ｃ、および
第２の乾燥装置４Ｄを具備しており、これら各装置にワ
ークを順次搬送するための手段として搬送コンベア５を
も具備している。

【００４９】上記搬送コンベア５は、上記洗浄乾燥装置
４の固定フレーム５９の適所に設けられた複数のスプロ
ケット５８に、２条のチェーン５０，５０を掛け回し
て、これら２条のチェーン５０，５０を矢印Ｎ４方向に
循環駆動自在としたものである。図１９によく表れてい
るように、上記２条のチェーン５０，５０には、丸棒状
などの複数本のロッド５１が横架設されており、これら
のロッド５１の上側に所望のワークを載置できるように
構成されている。上記ロッド５１は、チェーン５０，５
０の全長域にわたって所定ピッチ間隔で設けてもよい
が、これに限定されず、たとえばワークを載置するスペ
ースとなる一定領域にのみ複数本のロッド５１を部分的
に設けるようにしてもかまわない。

【００５０】上記チェーン５０，５０には、アタッチメ
ント５２も所定間隔で取付けられている。このアタッチ
メント５２は、上記複数本のロッド５１上に載置支持さ
れたワークの一端（移送方向後端）に接触し、ワークの
位置ずれを防止するためのものである。上記搬送コンベ
ア５のワーク移送経路のうち、第１の洗浄装置４Ａから
第１の乾燥装置４Ｃにいたる領域においては、上記ロッ
ド５１やアタッチメント５２の移送経路の上方に可撓性
を有する複数本のワイヤ５３が張設されている。また、
これら複数本のワイヤ５３を下方に押圧付勢するための
手段として、下方に弾発付勢された押圧ローラ５４も一
定間隔で適宜設けられている。上記押圧ローラ５４は、
図１６によく表れているように、上記複数本のワイヤ５
３を嵌入可能な溝部５４ａを有するものであり、この押
圧ローラ５４を支持する支持アーム５４ｂには常時上記
押圧ローラ５４を下向きに弾発付勢するバネ（図示略）
の押圧力が作用するように構成されている。上記ロッド
５１上に載置されるワークは、上記ロッド５１と上記ワ
イヤ５３との間に挟まれるようにして搬送される。この
ような手段を採用すれば、たとえばワークの下方から洗
浄水が高圧で噴射されても、この噴射圧によって上記ワ
ークが搬送コンベア５の上方へ浮き上がるようなことが
確実に阻止されることとなる。上記複数本のワイヤ５３
のそれぞれの長手方向の端部は、たとえば第１の洗浄装
置４Ａのケーシング４０ａや第１の乾燥装置４Ｃのケー
シング４０ｃなどの適当の位置に止着させておけばよ
い。第２の移載装置３Ｂは、第２のブラスト装置１Ｂか
ら取り出したブラスト処理終了のワークを、上記搬送コ
ンベア５の上流位置（図１４の符号Ｂで示す位置）に投
入載置するように設定されている。

【００５１】上記第１の洗浄装置４Ａは、ケーシング４
０ａの内部において、搬送コンベア５によって搬送され
るワークの上下両面（表裏両面）のそれぞれに対向する
複数の洗浄水噴射ノズル４１を具備している。上記洗浄
水噴射ノズル４１としては、本願発明では、たとえば所
定の洗浄水を単に一定圧で噴射するノズルを採用するこ
とが可能であるが、本実施形態においてはいわゆるウォ
ータブラスト処理が可能な洗浄水噴射ノズルが用いられ
ている。すなわち、上記洗浄水噴射ノズル４１は、図１
７に示すように、低圧大流量の空気を供給するルーツブ
ロア４２の排気側に第１エア配管４３ａを介して接続さ
れている。また、上記洗浄水噴射ノズル４１は、洗浄水
を貯留するタンク４４にも水供給管４５を介して接続さ
れている。上記タンク４４は、上記ルーツブロア４２の
排気側と第２エア配管４３ｂを介して接続されており、
上記タンク４４内の洗浄水は上記ルーツブロア４２によ
って加圧されている。

【００５２】このような構成の第１の洗浄装置４Ａで
は、ルーツブロア４２から供給される低圧大流量の空気
が洗浄水噴射ノズル４１から噴射されるとともに、タン
ク４４から供給される洗浄水がその空気流に混入して上
記洗浄水噴射ノズル４１から高速で噴射されることとな
る。このようにして得られる洗浄水の流速は、洗浄水を
単に加圧することによって噴射させる場合よりも格段に
高速とすることができ、洗浄水がワーク表面に衝突する
際の衝突エネルギーを大きくし、優れた洗浄効果が得ら
れることとなる。上記洗浄水噴射ノズル４１は、搬送コ
ンベア５によって搬送されるワークの全面に対して洗浄
水を噴射できるように、たとえば細幅な偏平状のノズル
開口形状となっている。上記洗浄水噴射ノズル４１から
ワークに噴射された洗浄水は、その後ケーシング４０ａ
の底部開口部４９ａを介して外部に排出され、その洗浄
水が繰り返し再利用できるように構成されている。

【００５３】上記第２の洗浄装置４Ｂは、図１８によく
表れているように、搬送コンベア５のワーク移送経路の
下方に洗浄水噴流槽４８を設けるとともに、その上方に
洗浄水噴射ノズル４１Ａを設けた構造とされている。上
記洗浄水噴流槽４８は、その内部に洗浄水を一定圧で供
給する洗浄水供給管４８ａを連結したものであり、この
洗浄水供給管４８ａから洗浄水噴流槽４８の内部に供給
される洗浄水が洗浄水噴流槽４８の上方へ噴流状態とな
って一定高さに盛り上がるように構成されている。搬送
コンベア５のロッド５１上に載置されたワークは、上記
洗浄水の噴流状の部分を通過するように設定されてい
る。上記洗浄水噴射ノズル４１Ａは、上記洗浄水の噴流
によるワークの洗浄作用を補助するためのものであり、
上記第１の洗浄装置４Ａに用いられていたいわゆるウォ
ータブラスト処理用の洗浄水噴射ノズル４１と同様もの
を採用することができる。また、これに代えて、所定の
洗浄水を一定圧で噴射するだけの噴射ノズルを用いるこ
ともできる。上記洗浄水噴流槽４８に供給される洗浄水
としては、たとえば清澄な水を加熱した湯を用いること
ができる。上記洗浄水噴流槽４８からオーバフローした
洗浄水は、ケーシング１３の底部開口部４９ｂから外部
に排出され、やはり繰り返し使用が行えるように構成さ
れている。

【００５４】図１４において、上記第１の乾燥装置４Ｃ
は、洗浄処理が終了したワーク外表面に付着されている
洗浄水のいわゆる水切りを行うための装置である。この
第１の乾燥装置４Ｃは、搬送コンベア５のワーク移送経
路の上下双方の位置に、エアを高速で噴出するエアノズ
ル４７，４７を設けたものである。エアを高速で噴射
し、ワークに付着している洗浄水のいわゆる水切りを行
えば、次の第２の乾燥装置４Ｄによってなされる乾燥処
理の負担を小さくすることができる。

【００５５】図１５において、上記第２の乾燥装置４Ｄ
は、搬送コンベア５のワーク移送経路を囲むケーシング
４０ｄの内部に、エア配管４６を介して熱風を供給可能
に構成されたものある。また、上記ケーシング４０ｄ内
への熱風の供給を円滑するために、上記ケーシング４０
ｄには、ケーシング４０ｄ内の空気を外部に排出するた
めのエア配管４６ａも設けられている。上記エア配管４
６ａを介して外部に配置されるエアは、循環使用され
る。このような熱風供給手段によれば、ワークに残存付
着している洗浄水を確実に蒸発除去させることができ
る。

【００５６】次に、上記ワークの清浄化処理装置を用い
て、先の図１において説明したシリコン板９０の再生処
理を行う場合について説明する。

【００５７】図２において、まず、上記シリコン板９０
を供給コンベア２のジグ２０上に載置する。この載置作
業は、手作業で行ってもよいし、それ専用のワーク投入
装置を用いた機械作業によって行ってもかまわない。上
記供給コンベア２上に供給されたシリコン板９０は、そ
の後下流に移送された後に、第１の移載装置３Ａの第１
回動アーム３０ａによって取り出され、第１のブラスト
装置１Ａのワーク投入ポジションＮａに位置する小テー
ブル１２上に投入載置される。すると、その第１のブラ
スト装置１Ａ内では、その後上記シリコン板９０の上面
にブラスト処理が施され、たとえばその上面に付着して
いる炭化したエポキシ樹脂系接着剤が剥離除去されるこ
ととなる。このブラスト処理は、炭化珪素などの研掃材
ｍを高速でシリコン板９０の外表面に衝突させるもので
あるために、上記接着剤の剥離除去を短時間で能率良く
行うことが可能となる。

【００５８】上記ブラスト処理が終了したシリコン板９
０は、その後第１の移載装置３Ａの第２回動アーム３０
ｂによって外部に取り出され、反転装置６に供給され
る。この反転装置６では、上記シリコン板９０の表裏反
転作業がなされ、表裏反転されたシリコン板９０がその
後第２の移載装置３Ｂの第３回動アーム３０ｃによって
第２のブラスト装置１Ｂに供給される。この第２のブラ
スト装置１Ｂにおいても研掃材を用いたブラスト処理が
なされるが、この第２のブラスト装置１Ｂでは、上記シ
リコン板９０の裏面に対するブラスト処理が施されるこ
ととなる。したがって、上記第１のブラスト装置１Ａお
よび第２のブラスト装置１Ｂのそれぞれによって、上記
シリコン板９０の表裏両面の清浄化が図られることとな
る。このようにして表裏両面の清浄化が図られたシリコ
ン板９０は、その後第２の移載装置３Ｂの第４回動アー
ム３０ｄによって外部に取り出された後に、洗浄乾燥装
置４に供給される。

【００５９】この洗浄乾燥装置４においては、上記シリ
コン板９０の表裏両面が洗浄水によって洗浄処理され、
乾燥される。具体的には、第１の洗浄装置４Ａにおいて
は、上記シリコン板９０の表裏両面に対していわゆるウ
ォータブラスト処理が施されることにより、上記シリコ
ン板９０に付着していたブラスト処理用の研掃材やその
他の汚れなどが強制的に排除されることとなる。また、
第２の洗浄装置４Ｂにおいては、上記シリコン板９０が
洗浄水の噴流領域に進入することにより、いわゆるシリ
コン板９０の湯洗がなされる。したがって、このような
一連の洗浄処理により、シリコン板９０の外表面には、
接着剤はもとよりその他のダスト類もほとんど除去され
た清浄な外表面とすることができる。次いで、このよう
な洗浄処理が終了したシリコン板９０は、その後第１の
乾燥装置４Ｃによって洗浄水のいわゆる水切り処理がな
された後に、第２の乾燥装置４Ｄによって熱風乾燥され
る。したがって、上記シリコン板９０が洗浄水によって
濡れたまま外部へ排出されるようなことはなくなり、そ
の後のシリコン板９０の取扱いに際して便利なものとな
る。

【００６０】上記のようにして、シリコン板９０の外表
面に付着していた接着剤やその他のダスト類を除去すれ
ば、このシリコン板９０を半導体製造用のシリコン材料
として有効に利用することが可能となる。とくに、上記
シリコン板９０は、もともとはシリコンウエハを製造す
るためのシリコンインゴットの一部分であったために、
本来的に、そのシリコン純度は高く、品質の良好なシリ
コン材料とすることが可能となる。上記シリコン板９０
の具体的な利用用途としては、たとえば太陽電池基材、
ＩＣあるいはＬＳＩ製造用などのシリコン材料として用
いることができる。上記シリコン板９０を再溶融するこ
とにより、必要に応じてシリコン単結晶、シリコン多結
晶、あるいはアモルファスのシリコンを任意に作製する
ことが可能である。また、上記シリコン板９０は、従来
では、スクラップとされていたものであり、このシリコ
ン板９０をリサイクルすることによって得られるシリコ
ン材料は、そのシリコン純度が高いにもかかわらず、そ
のコストを非常に安価とすることができる。

【００６１】本願発明は上述の実施形態に限定されな
い。本願発明に係るシリコン固形物の清浄化処理方法に
おいては、その清浄化処理対象となるシリコン固形物
は、必ずしも複数接続されたシリコンインゴットを切断
したときに発生する切断残余としてのインゴット接続部
を構成していたシリコン板である必要はなく、それ以外
の原因によって発生したシリコン板を対象としてその外
表面の清浄化処理を図る用途にも適用することが可能で
ある。また、ＣＺ法などによってシリコンインゴットを
製造する場合にるつぼの底部に残るシリコンるつぼ残
を、その清浄化処理対象としてもよい。シリコンるつぼ
残は、従来においては廃棄処理がなされており、これを
回収しても、その表面は汚れており、そのままでは再利
用が困難であるが、その表面を本願発明の清浄化処理方
法によって清浄化すれば、有効に利用できることとな
る。

【００６２】さらに、本願発明に係るワークの清浄化処
理装置の具体的な構成も種々に設計変更自在である。た
とえば、第１および第２のブラスト装置１Ａ，１Ｂとそ
の後段の洗浄乾燥装置４とを互いに切り離したかたちの
装置としてもかまわない。また、ブラスト処理が終了し
たシリコン板を洗浄するための洗浄装置としては、上記
実施形態の第１の洗浄装置４Ａと第２の洗浄装置４Ｂと
の双方を備えたものとすることが望ましいが、やはり本
願発明はこれに限定されず、それらのいずれか一方のみ
を具備する構成としてもよい。

【００６３】さらに、本願発明に係るシリコンの再生処
理方法において用いるブラスト処理の具体的な作業工程
も種々に変更自在である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本願発明に係るシリコンの再生処理方法の再生
処理対象となるシリコン板を得るための一連の作業工程
を示す説明図である。

【図２】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の一例
を示す概略説明図である。

【図３】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の供給
コンベアの一例を示す断面図である。

【図４】図３のIV−IV断面図である。

【図５】図３に示す供給コンベアに使用されているジグ
の一例を示す断面図である。

【図６】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の第１
の移載装置の一例を示す要部断面図である。

【図７】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の第１
のブラスト装置および第２のブラスト装置の要部平面断
面図である。

【図８】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の第１
のブラスト装置および第２のブラスト装置の要部側面断
面図である。

【図９】図８のVIII−VIII平面断面図である。

【図１０】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の第
１のブラスト装置および第２のブラスト装置の概略構成
を示す説明図である。

【図１１】本願発明に係るワークの清浄化処理装置のブ
ラストノズルの一例を示す要部断面図である。

【図１２】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の反
転装置の一例を示す要部断面図である。

【図１３】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の第
２の移載装置の一例を示す要部断面図である。

【図１４】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の洗
浄乾燥装置の一例を示す断面図である。

【図１５】本願発明に係るワークの清浄化処理装置の洗
浄乾燥装置の一例を示す断面図である。

【図１６】図１４のXVI −XVI 要部断面図である。

【図１７】洗浄乾燥装置を構成する第１の洗浄装置の一
例を示す概念説明図である。

【図１８】図１４のX VIII−XVIII 要部断面図である。

【図１９】洗浄乾燥装置に適用されている搬送コンベア
の要部平面図である。

【図２０】シリコンインゴットを製造する工程の一例を
示す説明図である。

【図２１】シリコンインゴットからスクラップとしての
シリコン板が得られる過程を示す説明図である。

【符号の説明】

１Ａ第１のブラスト装置１Ｂ第２のブラスト装置２供給コンベア３Ａ第１の移載装置３Ｂ第２の移載装置４洗浄乾燥装置４Ａ第１の洗浄装置４Ｂ第２の洗浄装置４Ｃ第１の乾燥装置４Ｄ第２の乾燥装置５搬送コンベア６反転装置７ワーク移動装置８駆動機構９シリコンインゴット１０ブラストノズル１１ターンテーブル１２小テーブル９０シリコン板（ワーク）９１カーボン板９５インゴット接続部Ｎａワーク投入ポジションＮｃ，Ｎｄブラスト処理ポジションＮｆワーク取り出しポジションｍ研掃材

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】接着剤を用いて接続された複数のシリコ
ンインゴットを切断することにより発生する切断残余の
インゴット接続部を分離して得られるシリコン板の外表
面に、研掃材を混入した高速空気流を吹きつけるブラス
ト処理を施し、上記シリコン板の外表面を清浄化するこ
とを特徴とする、シリコンの再生処理方法。
【請求項２】上記インゴット接続部を分離する作業
は、上記インゴット接続部を加熱して上記接着剤を炭化
させてから行う、請求項１に記載のシリコンの再生処理
方法。
【請求項３】上記ブラスト処理を終了したシリコン板
の外表面を、洗浄水を用いて洗浄する工程をさらに有し
ている、請求項１または２に記載のシリコンの再生処理
方法。
【請求項４】上記シリコン板の外表面を洗浄する工程
は、上記シリコン板の外表面に洗浄水を高速噴射する作
業、および／または上記シリコン板を噴流状の洗浄水中
に進入させる作業である、請求項３に記載のシリコンの
再生処理方法。
【請求項５】上記シリコン板に対するブラスト処理お
よび洗浄処理は、上記シリコン板の表裏両面のそれぞれ
に対して行う、請求項３または４に記載のシリコンの再
生処理方法。
【請求項６】請求項１ないし５のいずれかに記載のシ
リコン再生処理方法によって外表面が清浄化された、シ
リコン板。
【請求項７】シリコン板またはシリコンるつぼ残など
のシリコン固形物の外表面に研掃材を混入した高速空気
流を吹きつけるブラスト処理を施し、上記シリコン固形
物の外表面の付着物を剥離除去することを特徴とする、
シリコン固形物の清浄化処理方法。
【請求項８】上記ブラスト処理を終了したシリコン固
形物の外表面を、洗浄水を用いて洗浄する工程をさらに
有している、請求項７に記載のシリコン固形物の清浄化
処理方法。
【請求項９】請求項７または８に記載のシリコン固形
物の清浄化処理方法によって外表面が清浄化された、シ
リコン固形物。
【請求項１０】所望の板状のワークの片面に研掃材を
混入した高速空気流を吹きつけ可能なブラストノズルを
それぞれ有する第１のブラスト装置および第２のブラス
ト装置と、所定位置に供給された板状のワークを上記第
１のブラスト装置に供給するとともに、上記第１のブラ
スト装置でのブラスト処理が終了したワークを上記第１
のブラスト装置から外部に取り出す第１のワーク移載装
置と、上記第１のワーク移載装置によって外部に取り出
されたワークの表裏を反転させるワーク反転装置と、上
記ワーク反転装置で表裏反転されたワークを上記第２の
ブラスト装置に供給するとともに、上記第２のブラスト
装置でのブラスト処理が終了したワークを上記第２のブ
ラスト装置から外部に取り出す第２のワーク移載装置
と、を具備していることを特徴とする、ワークの清浄化
処理装置。
【請求項１１】上記第１のブラスト装置および第２の
ブラスト装置のそれぞれは、上記ワークを載置可能な複
数の小テーブルを有するターンテーブルを具備してお
り、このターンテーブルは、上記各小テーブルへのワー
クの投入がなされるワーク投入ポジション、各小テーブ
ル上に載置されたワークの上面へのブラスト処理がなさ
れるブラスト処理ポジション、および上記各小テーブル
からのワークの取り出しがなされるワーク取り出しポジ
ションのそれぞれのポジションに上記小テーブルを移動
させるように公転動作が自在であり、かつ上記小テーブ
ルは、少なくとも上記ブラスト処理ポジションに移動し
たときに自転可能である、請求項１０に記載のワークの
清浄化処理装置。
【請求項１２】上記第２のワーク移載装置の後段に
は、ブラスト処理が終了したワークの表裏両面を洗浄水
を用いて洗浄する洗浄装置が設けられている、請求項１
０または１１に記載のワークの清浄化処理装置。
【請求項１３】上記洗浄装置は、上記シリコン板の表
裏両面の外表面に洗浄水を高速噴射する第１の洗浄装置
と、上記シリコン板を噴流状の洗浄水中に進入させる第
２の洗浄装置とを具備して構成されている、請求項１２
に記載のワークの清浄化処理装置。
【請求項１４】上記洗浄装置の後段には、上記洗浄装
置によって洗浄されたワークにエアを作用させて乾燥さ
せる乾燥装置が設けられている、請求項１２または１３
に記載のワークの清浄化処理装置。