JPH10209065A - 半導体製造装置 - Google Patents
半導体製造装置Info
- Publication number
- JPH10209065A JPH10209065A JP912797A JP912797A JPH10209065A JP H10209065 A JPH10209065 A JP H10209065A JP 912797 A JP912797 A JP 912797A JP 912797 A JP912797 A JP 912797A JP H10209065 A JPH10209065 A JP H10209065A
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- resin
- furnace
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 長時間使用しても反応管の炉口部をシールす
るＯリングが変形したり、外れたりしないようにする。 【解決手段】 Ｏリング押え１２を二重構造にして、石
英製ボートキャップ６に接する内側のＯリング押え１３
はボートキャップ６を損傷しないように弾性のあるテフ
ロン等の樹脂製とし、樹脂製Ｏリング押え１３の外側の
Ｏリング押え１４は、樹脂製Ｏリング押え１３の変形を
防止するためにステンレス等の金属製とする。
るＯリングが変形したり、外れたりしないようにする。 【解決手段】 Ｏリング押え１２を二重構造にして、石
英製ボートキャップ６に接する内側のＯリング押え１３
はボートキャップ６を損傷しないように弾性のあるテフ
ロン等の樹脂製とし、樹脂製Ｏリング押え１３の外側の
Ｏリング押え１４は、樹脂製Ｏリング押え１３の変形を
防止するためにステンレス等の金属製とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は拡散、化学気相成長
を行うための半導体製造装置に係り、特に縦型炉の炉口
部をシールするＯリングを押えるＯリング押えに関する
ものである。
を行うための半導体製造装置に係り、特に縦型炉の炉口
部をシールするＯリングを押えるＯリング押えに関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】図３で縦型炉を具備した半導体製造装置
の概略を説明する。筐体１内部の上方に縦型炉２が設け
られ、縦型炉２の下方にボートエレベータ３が設けられ
る。このボートエレベータ３の昇降スライダ４には炉口
蓋５が設けられ、炉口蓋５には石英製のボートキャップ
６を介して石英製のボート７が載置される。このボート
７には被処理物であるウェーハ８が水平姿勢で多段に挿
入され保持される。ボートエレベータ３はウェーハ８が
挿入されたボート７を縦型炉２に挿入し、ボート７を挿
入することで炉口蓋５で縦型炉２の下部に開口した炉口
部を閉塞する。縦型炉２内でウェーハ８に所要の処理が
なされ、処理が完了するとボートエレベータ３によりボ
ート７が引き出される。
の概略を説明する。筐体１内部の上方に縦型炉２が設け
られ、縦型炉２の下方にボートエレベータ３が設けられ
る。このボートエレベータ３の昇降スライダ４には炉口
蓋５が設けられ、炉口蓋５には石英製のボートキャップ
６を介して石英製のボート７が載置される。このボート
７には被処理物であるウェーハ８が水平姿勢で多段に挿
入され保持される。ボートエレベータ３はウェーハ８が
挿入されたボート７を縦型炉２に挿入し、ボート７を挿
入することで炉口蓋５で縦型炉２の下部に開口した炉口
部を閉塞する。縦型炉２内でウェーハ８に所要の処理が
なされ、処理が完了するとボートエレベータ３によりボ
ート７が引き出される。
【０００３】上述した縦型炉の炉口部１６について図２
により説明する。縦型炉を構成する反応管９の内部にボ
ートキャップ６を介してボート７を収納させる。炉口蓋
５はボートエレベータ（図示せず）に設けられ、炉口蓋
５上には石英製のボートキャップ６が設けられる。反応
管９の下端にはフランジ９ａが形成され、該フランジ９
ａはボートキャップ６の下端に形成されたフランジ６ａ
にＯリング１０を介して当接可能となっている。このＯ
リング１０は、ボートキャップ６のフランジ６ａの周端
上部に形成された段差１５に設けられる。この段差１５
に設けられたＯリング１０を押し込むために、ボートキ
ャップ６のフランジ６ａの外側にＯリング押え１１が設
けられる。Ｏリング押え１１は、また、フランジ６ａに
接してボートキャップ６を固定する。
により説明する。縦型炉を構成する反応管９の内部にボ
ートキャップ６を介してボート７を収納させる。炉口蓋
５はボートエレベータ（図示せず）に設けられ、炉口蓋
５上には石英製のボートキャップ６が設けられる。反応
管９の下端にはフランジ９ａが形成され、該フランジ９
ａはボートキャップ６の下端に形成されたフランジ６ａ
にＯリング１０を介して当接可能となっている。このＯ
リング１０は、ボートキャップ６のフランジ６ａの周端
上部に形成された段差１５に設けられる。この段差１５
に設けられたＯリング１０を押し込むために、ボートキ
ャップ６のフランジ６ａの外側にＯリング押え１１が設
けられる。Ｏリング押え１１は、また、フランジ６ａに
接してボートキャップ６を固定する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
縦型炉の炉口部１６では、石英製ボートキャップ６と石
英製反応管９とをＯリング１０でシールしているが、こ
のＯリング１０を固定するためにＯリング押え１１が設
けられている。このＯリング押え１１は同時に石英製ボ
ートキャップ６を固定する役割を持つため、石英を損傷
しない弾性のテフロン等の樹脂で作られている。
縦型炉の炉口部１６では、石英製ボートキャップ６と石
英製反応管９とをＯリング１０でシールしているが、こ
のＯリング１０を固定するためにＯリング押え１１が設
けられている。このＯリング押え１１は同時に石英製ボ
ートキャップ６を固定する役割を持つため、石英を損傷
しない弾性のテフロン等の樹脂で作られている。
【０００５】しかし、樹脂で作られているＯリング押え
１１は高温にさらされるため長時間高温下で使用すると
変形し、Ｏリング押え１１の交換頻度が多くなり、メン
テナンス時間が増加していた。また、変形が高じてＯリ
ング１０が外れ、製品ウェーハへの悪影響が出るという
問題も起きていた。
１１は高温にさらされるため長時間高温下で使用すると
変形し、Ｏリング押え１１の交換頻度が多くなり、メン
テナンス時間が増加していた。また、変形が高じてＯリ
ング１０が外れ、製品ウェーハへの悪影響が出るという
問題も起きていた。
【０００６】本発明の目的は、上述した従来技術の問題
点を解消して、長時間高温下で使用しても反応管の炉口
部をシールするＯリングが変形したり、外れたりしない
ようにした半導体製造装置を提供することにある。
点を解消して、長時間高温下で使用しても反応管の炉口
部をシールするＯリングが変形したり、外れたりしない
ようにした半導体製造装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、石英製反応管
のフランジの下面に、炉口蓋上に設けた石英製ボートキ
ャップのフランジをＯリングを介して当接可能とし、Ｏ
リング押えが上記Ｏリングを押えるとともに上記ボート
キャップに接してボートキャップを固定するようにした
半導体製造装置において、上記Ｏリング押えを二重構造
として、Ｏリング及び石英製ボートキャップに接する内
側のＯリング押えは樹脂製とし、樹脂製Ｏリングの外側
のＯリング押えは金属製としたものである。
のフランジの下面に、炉口蓋上に設けた石英製ボートキ
ャップのフランジをＯリングを介して当接可能とし、Ｏ
リング押えが上記Ｏリングを押えるとともに上記ボート
キャップに接してボートキャップを固定するようにした
半導体製造装置において、上記Ｏリング押えを二重構造
として、Ｏリング及び石英製ボートキャップに接する内
側のＯリング押えは樹脂製とし、樹脂製Ｏリングの外側
のＯリング押えは金属製としたものである。
【０００８】樹脂製のＯリング押えを金属製のＯリング
押えで押えているので、長時間高温下で使用しても樹脂
製のＯリング押えは変形せず、Ｏリングが外れるという
ことがない。また石英製ボートキャップは樹脂製のＯリ
ング押えと接しているので破損することもない。
押えで押えているので、長時間高温下で使用しても樹脂
製のＯリング押えは変形せず、Ｏリングが外れるという
ことがない。また石英製ボートキャップは樹脂製のＯリ
ング押えと接しているので破損することもない。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下に本発明の半導体製造装置の
実施形態を説明する。本実施形態の半導体製造装置の基
本構造は従来例と同じであり、異なる点は、縦型炉の炉
口部のＯリング押えを二重構造とした点である。
実施形態を説明する。本実施形態の半導体製造装置の基
本構造は従来例と同じであり、異なる点は、縦型炉の炉
口部のＯリング押えを二重構造とした点である。
【００１０】図１に炉口部１６の要部図を示す。炉口蓋
５上には石英製のボートキャップ６が設けられる。石英
製ボートキャップ６のフランジ６ａの周端上部に段差１
５が形成され、その段差１５にＯリング１０が設けら
れ、図示しない反応管と炉口蓋５とをシールする。炉口
蓋５上の周端に、フランジ６ａの周端上部に設けたＯリ
ング１０を押え込むと共に、フランジ６ａの周端面と接
してボートキャップ６を固定するＯリング押え１２が設
けられる。
５上には石英製のボートキャップ６が設けられる。石英
製ボートキャップ６のフランジ６ａの周端上部に段差１
５が形成され、その段差１５にＯリング１０が設けら
れ、図示しない反応管と炉口蓋５とをシールする。炉口
蓋５上の周端に、フランジ６ａの周端上部に設けたＯリ
ング１０を押え込むと共に、フランジ６ａの周端面と接
してボートキャップ６を固定するＯリング押え１２が設
けられる。
【００１１】このＯリング押え１２は従来樹脂製の単体
で構成されていたが、これをテフロン等からなる樹脂製
Ｏリング押え１３と、ステンレス等からなる金属製Ｏリ
ング押え１４との二重構造とする。内側の樹脂製Ｏリン
グ押え１３は、その上部でＯリング１０と接してＯリン
グ１０を押え込むとともに、その下部でボートキャップ
６のフランジ６ａの周端面と接してボートキャップ６を
固定する。外側の金属製Ｏリング押え１４は樹脂製Ｏリ
ング押え１３と接触して樹脂製Ｏリング押え１３の背面
全面を押え込むようになっている。
で構成されていたが、これをテフロン等からなる樹脂製
Ｏリング押え１３と、ステンレス等からなる金属製Ｏリ
ング押え１４との二重構造とする。内側の樹脂製Ｏリン
グ押え１３は、その上部でＯリング１０と接してＯリン
グ１０を押え込むとともに、その下部でボートキャップ
６のフランジ６ａの周端面と接してボートキャップ６を
固定する。外側の金属製Ｏリング押え１４は樹脂製Ｏリ
ング押え１３と接触して樹脂製Ｏリング押え１３の背面
全面を押え込むようになっている。
【００１２】このようにＯリング１０及び石英製ボート
キャップ６のフランジ６ａに接するＯリング押え１３は
弾性のある樹脂製とし、その外側を金属製のＯリング押
え１４として、金属製Ｏリング押え１４で樹脂製Ｏリン
グ押え１３をバックアップするようにしたので、熱によ
る樹脂製Ｏリング押え１３が変形したり、Ｏリング１０
が外れたりするのを有効に防止することができる。
キャップ６のフランジ６ａに接するＯリング押え１３は
弾性のある樹脂製とし、その外側を金属製のＯリング押
え１４として、金属製Ｏリング押え１４で樹脂製Ｏリン
グ押え１３をバックアップするようにしたので、熱によ
る樹脂製Ｏリング押え１３が変形したり、Ｏリング１０
が外れたりするのを有効に防止することができる。
【００１３】なお、上述した実施の形態ではＯリング押
えを二重構造としたが、それ以上の多重構造としてもよ
い。また、樹脂製Ｏリングと金属製Ｏリングとは別体と
してもよいが、金属製Ｏリングの内側に樹脂製Ｏリング
を密着形成して両者を一体化してもよい。
えを二重構造としたが、それ以上の多重構造としてもよ
い。また、樹脂製Ｏリングと金属製Ｏリングとは別体と
してもよいが、金属製Ｏリングの内側に樹脂製Ｏリング
を密着形成して両者を一体化してもよい。
【００１４】
【発明の効果】本発明によれば、Ｏリング押えを、樹脂
製Ｏリング押えと金属製Ｏリング押えとからなる二重構
造にしたので、長時間高温下で使用してもＯリング押え
が変形したり外れたりすることがなく、また石英製ボー
トキャップを破損する虞もない。したがってＯリングに
起因する製品ウェーハへの悪影響がなくなり、Ｏリング
押えの交換頻度も少なくなり、メンテナンス時間を削減
できる。
製Ｏリング押えと金属製Ｏリング押えとからなる二重構
造にしたので、長時間高温下で使用してもＯリング押え
が変形したり外れたりすることがなく、また石英製ボー
トキャップを破損する虞もない。したがってＯリングに
起因する製品ウェーハへの悪影響がなくなり、Ｏリング
押えの交換頻度も少なくなり、メンテナンス時間を削減
できる。
【図１】本発明の実施の形態による炉口部のＯリングに
よるシール構造の要部を示す断面図である。
よるシール構造の要部を示す断面図である。
【図２】従来例の炉口部のＯリングによるシール構造を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図３】縦型炉を有する半導体製造装置の概略を示す斜
視図である。
視図である。
５ 炉口蓋 ６ ボートキャップ １０ Ｏリング １２ Ｏリング押え １３ 樹脂製Ｏリング押え １４ 金属製Ｏリング押え
Claims (1)
- 【請求項１】石英製反応管のフランジの下面に、炉口蓋
上に設けた石英製ボートキャップのフランジをＯリング
を介して当接可能とし、Ｏリング押えが上記Ｏリングを
押えるとともに上記ボートキャップに接してボートキャ
ップを固定するようにした半導体製造装置において、 上記Ｏリング押えを二重構造として、Ｏリング及び石英
製ボートキャップに接する内側のＯリング押えは樹脂製
とし、樹脂製Ｏリングの外側のＯリング押えは金属製と
した半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00912797A JP3601926B2 (ja) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | 半導体製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP00912797A JP3601926B2 (ja) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | 半導体製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10209065A true JPH10209065A (ja) | 1998-08-07 |
| JP3601926B2 JP3601926B2 (ja) | 2004-12-15 |
Family
ID=11711976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP00912797A Expired - Fee Related JP3601926B2 (ja) | 1997-01-22 | 1997-01-22 | 半導体製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3601926B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005041284A1 (ja) | 2003-10-24 | 2005-05-06 | Tokyo Electron Limited | 縦型熱処理装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101667524B (zh) * | 2008-09-03 | 2011-09-14 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种反应腔室及应用该反应腔室的等离子体处理设备 |
-
1997
- 1997-01-22 JP JP00912797A patent/JP3601926B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005041284A1 (ja) | 2003-10-24 | 2005-05-06 | Tokyo Electron Limited | 縦型熱処理装置 |
| KR100885577B1 (ko) | 2003-10-24 | 2009-02-24 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 종형 열처리 장치 |
| US7674336B2 (en) | 2003-10-24 | 2010-03-09 | Tokyo Electron Limited | Processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3601926B2 (ja) | 2004-12-15 |
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