JPH10202174A - 基板搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 吸引チャックによる塗布膜への影響を解消す
るとともに、安定して確実に基板を搬送するための、基
板搬送方法を提供するものであり、特に、液晶表示装置
の表示パネルに代表されるガラス基板に、感光性樹脂膜
や接着剤層、保護膜などの塗布膜を形成する塗布装置に
適した基板搬送方法を目的とする。 【解決手段】 塗布液を塗布して基板に塗布膜を形成す
る塗布部１と、該塗布膜を乾燥させる乾燥部２とからな
る塗布処理ラインにおいて、吸着部と把手部とで構成さ
れた吸着治具を、吸着治具装着部３にて基板の非塗布面
に装着して、前記吸着治具の把手部をつかんで塗布膜を
形成する基板を搬送し、乾燥工程を終了後、吸着治具離
脱部４にて基板から吸着治具を取り外す基板搬送方法で
あって、吸着治具離脱部４にて基板から取り外した吸着
治具を、吸着治具装着部３に戻し、再度、基板の非塗布
面に装着させる吸着治具搬送装置８０を備えている基板
搬送方法である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置の表
示パネルに代表されるガラス基板などの枚葉基板への塗
布液の塗布工程において、塗布処理を受ける基板の搬送
方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示装置や、プラズマディ
スプレイなどのガラス基板に、感光性樹脂膜や接着剤
層、保護膜などを形成するための樹脂溶液やインキなど
の塗布液を塗布する方式としては、回転塗布方式が多用
されている。回転塗布方式は、塗布液を塗布する基板を
高速で回転しながら、基板上に塗布液を滴下し、遠心力
によって塗布液を薄く塗り拡げる方式であるが、塗布液
の塗布効率が１０％程度と低く、しかも、基板のコーナ
部分の塗布膜厚が厚くなりすぎるという欠点があり、今
後見込まれる基板寸法の大型化にともなって、塗布液の
使用量、塗布膜厚の均一性、および塗布工程の生産性な
どの点において課題が多い。

【０００３】上述の回転塗布方式の欠点を解消する方式
として、ナイフ塗布方式、ロール塗布方式、ダイ塗布方
式がある。これらの方式は、いずれも基板と塗布手段と
の間に間隙を設け、その間隙寸法によって塗布膜厚を決
定し、塗布面の平滑性を得る方式であるが、これらの方
式を用いる場合、基板表面の平滑度（凹凸度）が、要求
される塗布膜厚の精度よりも大きいとき、均一な厚みの
塗布膜を得ることが困難である。さらに、基板表面の平
滑度の影響を受けにくい塗布方式として、浸漬方式、ま
たは垂れ流し方式があるが、これらの方式では、非塗布
部を被覆することが不可欠であり、塗布作業が煩雑にな
る。

【０００４】そこで、上記のような各塗布方式における
欠点を解消して、塗布液自体の物性の影響を受けること
なく、枚葉基板に安定して均一な塗布膜を形成できる塗
布装置を、国際出願ＰＣＴ／ＪＰ９４／００８４５（国
際出願日：平成６年５月２７日）において、出願人は先
に提案した。この塗布装置は、上方に向かって開口する
とともに、水平方向に延びる帯状のスリットを有する塗
布ヘッドと、前記塗布ヘッドに塗布液を供給する塗布液
供給手段と、前記塗布ヘッドの上方に対向して配置さ
れ、塗布主面を下方に向けかつ傾斜状態に基板を吸着保
持する基板保持部材とを備えている。

【０００５】この塗布装置では、先ず、基板保持部材を
上向きにして塗布処理を受ける基板を装着し、次いで、
塗布主面が下向きになるように、基板保持部材を反転す
る。次に、塗布ヘッドに塗布液を供給してスリットから
塗布液を吐出し、下向きに傾斜した基板と塗布ヘッドと
の間隙に帯状の液溜まりを形成する。さらに、基板と塗
布ヘッドとの間隙を一定に維持しながら、この液溜まり
を横切る方向に、塗布ヘッドまたは基板を相対的に移動
させることによって、塗布液の液溜まりを基板の塗布主
面に順次接触させて基板に塗布膜を形成する。その後、
基板保持部材を再び反転して基板を上向きにし、塗布液
を塗布した基板を基板保持部材から取り外し、乾燥装置
に搬送して、熱盤、温熱風、または遠赤外線ヒーターな
どの乾燥手段を用いて、塗布膜を乾燥させ、均一な厚み
の塗布膜を基板に形成する。

【０００６】上記塗布装置の基板保持部材に塗布処理を
受ける基板を装着したり、基板保持部材から塗布処理を
終えた基板を排出して乾燥装置へ搬送するとき、基板の
非塗布面を吸着して搬送する基板搬送装置が用いられて
いる。図９は、上記塗布装置と、塗布装置へ基板を供給
する基板供給装置、および塗布装置から基板を排出する
基板排出装置の平面配置図である。

【０００７】図において、１０は塗布装置であり、塗布
処理を受ける基板Ｓの塗布主面を下方へ向け、かつ傾斜
状態で基板を吸着保持する基板保持部材１１と、前記基
板保持部材１１を回動可能に回転軸１４を介して保持す
る塗布部枢体１８と、前記塗布部枢体１８の基板保持部
材１１と対向する面に、リニアガイド１７に移動可能に
載置され、上方に向かって開口するとともに、水平方向
に延びる帯状のスリット１６を有する塗布ヘッド１５と
が設けられている。１９は、基板保持部材１１と塗布ヘ
ッド１５とを設けた塗布部枢体１８を傾斜することによ
って、基板保持部材１１に吸着保持した基板Ｓの塗布主
面と、前記塗布ヘッド１５との間隙を一定に維持した状
態で、基板の傾斜角度と塗布ヘッドの移動傾斜角度とを
調節可能に支持する架台である。

【０００８】図において、７１は、塗布装置１０に基板
Ｓを供給する基板供給装置であり、また、７２は、塗布
装置１０から基板Ｓを排出する基板排出装置である。基
板供給装置７１と、基板排出装置７２とは、いわゆるマ
ニピュレータロボットであり、回動自在な基板着脱アー
ム７５を備え、該アーム７５の先端には、図示していな
いが基板を吸着保持する吸引チャックを設けてある。

【０００９】図９は、塗布装置１０の基板保持部材１１
に吸着保持されている基板Ｓに対して、塗布ヘッド１５
による塗布処理が開始されるときの状態を示している。
このとき、基板供給装置７１は、次に塗布処理を受ける
基板Ｓを、図示しない前工程装置の基板排出位置Ｕにて
基板着脱アーム７５に吸着保持している。また、基板排
出装置７２の基板着脱アーム７５は、塗布装置１０にて
塗布処理された基板Ｓを排出するために、塗布装置１０
の基板保持部材１１が回転軸１４を介して反転する基板
着脱位置Ｖにて待機している。前記基板供給装置７１の
基板着脱アーム７５は、図に示す基板排出位置Ｕと基板
着脱位置Ｖとの間を往復動可能であり、また基板排出装
置７２の基板着脱アーム７５は、図に示す基板着脱位置
Ｖと、図示しない後工程装置の基板供給位置Ｗとの間で
往復動可能である。

【００１０】塗布装置１０おいて、塗布ヘッド１５によ
る基板Ｓへの塗布処理が完了すると、先ず、塗布装置１
０の基板保持部材１１が、回転軸１４を回転中心にして
基板着脱位置Ｖに反転し、待機している基板排出装置７
２の基板着脱アーム７５に基板Ｓを移載する。次に、基
板排出装置７２は、塗布処理を終えた基板Ｓを載置した
基板着脱アーム７５を、基板着脱位置Ｖから基板供給位
置Ｗに移動し、図示しない後工程装置に基板Ｓを供給す
る。同時に、基板供給装置７１の基板着脱アーム７５
が、基板排出位置Ｕから基板着脱位置Ｖに移動し、塗布
処理を終えた基板を離脱して基板着脱位置Ｖにて待機し
ている基板保持部材１１に、次に塗布処理を受ける新し
い基板Ｓを移載する。

【００１１】次いで、新しい基板Ｓを吸着保持した基板
保持部材１１は、回転軸１４を中心にして基板着脱位置
Ｖから塗布装置１０の塗布位置に反転して復帰する。こ
の間に、基板供給装置７１の基板着脱アーム７５が、基
板着脱位置Ｖから基板排出位置Ｕへ、また、基板排出装
置７２の基板着脱アーム７５が、基板供給位置Ｗから基
板着脱位置Ｖへ移動復帰し、さらに、塗布ヘッド１５も
塗布開始位置に復帰して図９に示す状態に戻り、次の新
しい基板への塗布処理を再び開始する。

【００１２】図１０は、塗布装置１０に備えられた基板
保持部材１１と基板着脱アーム７５との間での基板の受
け渡し方法を示す図である。図１０（ａ）は、基板保持
部材１１に下向けに吸着保持された基板Ｓの塗布主面
（下面）に、塗布ヘッド１５を用いて、塗布液を塗布し
ている状態を示している。基板保持部材１１は、図示さ
れていないが基板保持面に複数の吸引孔が設けられ、該
吸引孔は、図示しない吸引装置に接続され、吸引装置を
駆動することにより吸引孔に吸引作用が生じて、基板Ｓ
を吸着保持することができる。また、図示するように、
基板着脱位置Ｖには、塗布処理を終えた基板Ｓを、基板
保持部材１１から離脱するための基板着脱アーム７５が
待機している。基板着脱アーム７５の先端には、基板Ｓ
の端縁部を吸着保持する吸引チャック７９が装着されて
おり、図示しない吸引装置に接続されている。

【００１３】基板保持部材１１に下向きに吸着保持され
た基板Ｓを、基板保持部材１１から離脱するときは、先
ず、図１０（ｂ）に示すように、回転軸１４を中心にし
て基板保持部材１１を反転し、基板Ｓを上向きにしなが
ら、基板保持部材１１に設けられた空間１３が、あらか
じめ待機している基板着脱アーム７５の吸着部に位置す
る位置に回動して停止し、その後、基板保持部材１１の
吸引孔による基板Ｓの吸引作用を止める。次いで、図１
０（ｃ）に示すように、基板着脱アーム７５が上昇し、
その先端部の吸引チャックが、基板保持部材１１の空間
１３に位置する基板Ｓの端縁部を吸着したのち、さらに
基板着脱アーム７５を上昇させて、基板Ｓを基板保持部
材１１から離脱する。基板Ｓを吸着した基板着脱アーム
７５は、その後、基板保持部材１１の上方から退避し、
後工程の、例えば、塗布膜乾燥装置の基板供給位置に向
けて基板Ｓを搬出する。

【００１４】図１１は、前記基板着脱位置Ｖにおける、
基板保持部材からの基板Ｓの離脱動作を示す断面拡大図
である。図において基板保持部材１１には、その基板保
持面にほぼ垂直に穿孔された複数の吸引孔１２が設けら
れ、吸引孔１２は図示しない吸引装置に接続され、吸引
口１２の吸引作用により基板Ｓを基板保持部材１１に吸
着保持している。また、前記基板保持部材１１は、基板
着脱アーム７５の吸引チャック７９が、基板Ｓの端縁部
Ｓｅ近傍の非塗布面（基板保持部材への吸着面）を吸着
保持するとき、または、基板Ｓを基板保持部材１１に吸
着保持させるとき、基板着脱アーム７５が通過するため
の空間１３を備えている。

【００１５】図に示すように、基板保持部材１１に吸着
保持された基板Ｓを、基板保持部材１１から離脱すると
きは、基板保持部材１１に備えた空間１３の下方から、
基板着脱アーム７５を上昇させて、基板Ｓの非塗布面に
吸引チャック７９を当接し、図示しない吸引装置によっ
て吸引チャック７９に吸着作用を発生して、基板Ｓを吸
着保持する。次いで、基板保持部材１１の吸引孔１２に
よる吸着作用を止めるとともに、基板着脱アーム７５を
上昇して、基板Ｓを基板保持部材１１から離脱させる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】上記した塗布装置の基
板保持部材から塗布液を塗布した基板を離脱するとき、
塗布膜の膜厚の均一性を損なうような現象が生じる。す
なわち、基板着脱アーム７５の吸引チャック７９を、塗
布液が塗布された基板Ｓに吸着するとき、基板の吸着部
近辺において、吸引チャック７９の吸引作用によって基
板が冷却され、そのため、基板に塗布された塗布液の膜
厚が部分的に薄くなる現象がみられる。

【００１７】図１２は、吸引チャック７９の吸引作用に
よる塗布膜への影響を図示したものである。図におい
て、Ｒａは基板に塗布された塗布液であり、矢印は吸引
チャック７９付近の空気の流れを示している。図に示す
ように、吸引チャック７９が基板Ｓの非塗布面に当接さ
れる直前において、吸引チャック７９と基板Ｓとの空隙
から吸引チャック７９内に吸い込まれる高速の空気流に
よって、基板Ｓと吸引チェック７９とが急速に冷却さ
れ、そのため、基板Ｓ上に塗布された塗布膜Ｒａが、吸
引チェック７９の吸着面と同一の形状で厚みムラを生じ
る。

【００１８】本発明は、上述した吸引チャックによる塗
布膜への影響を解消するとともに、安定して確実に基板
を搬送するための、基板搬送方法を提供するものであ
り、特に、液晶表示装置の表示パネルに代表されるガラ
ス基板などの枚葉基板に、感光性樹脂膜や接着剤層、保
護膜などの塗布液を塗布する塗布装置に適した基板搬送
方法を目的とする。

【００１９】

【課題を解決するための手段】本発明は、塗布処理を行
う前に、あらかじめ、塗布処理を受ける基板に対し吸着
治具を装着しておき、該吸着治具を介して基板を搬送す
ることにより、塗布液を塗布した基板を塗布装置から排
出して乾燥装置に供給する際、吸引チャックによる吸引
動作によって生じる基板の冷却作用の発生を防止し、塗
布膜への影響を解消することができる。

【００２０】すなわち、本発明は、請求項１に示したよ
うに、塗布液を塗布して基板に塗布膜を形成する塗布工
程と、該塗布膜を乾燥させる乾燥工程とからなる塗布膜
形成工程において、把手部と吸着部とで構成された吸着
治具を、あらかじめ塗布工程前に、基板の非塗布面に吸
着させ、前記吸着治具の把手部をつかんで塗布膜を形成
する基板を搬送し、乾燥工程を終了後、基板から吸着治
具を取り外す基板搬送方法である。

【００２１】また、本発明は、請求項２に示したよう
に、請求項１の発明に加えて、乾燥工程後、基板から取
り外した吸着治具を、塗布工程前まで戻し、再度、基板
の非塗布面に吸着させる吸着治具回収工程を備えている
基板搬送方法である。

【００２２】

【発明の実施の形態】

（装置の構成）本発明における基板搬送方法の実施の形
態について、実施例の図面に基づいて詳細に説明する。
図１は、本発明の基板搬送方法の一実施例を示す装置配
置図であり、ガラス基板などの枚葉基板に塗布液を塗布
するための塗布処理ラインを示している。図において、
Ｓは基板を示しており、１は、基板Ｓに塗布液を塗布す
る塗布部であり、２は、塗布処理を終えた基板の塗布膜
を乾燥する乾燥部である。また、５は、塗布処理を受け
る基板の前処理部であり、基板Ｓの洗浄処理や乾燥処理
を行う。さらに、６は、塗布膜を形成した基板の後処理
部であり、塗布膜が感光性樹脂膜の場合、塗布膜の固化
処理や、微細パターンの露光、現像処理を行う。なお、
詳しくは後述するが、３は、基板Ｓの搬送に使用する吸
着治具を基板に装着する吸着治具装着部であり、４は、
基板Ｓに装着した吸着治具を基板Ｓから取り外す吸着治
具離脱部である。

【００２３】図において、７０、７１、７２、７３、７
４は、本実施例の塗布処理ラインを構成する各部の間に
配置され、基板Ｓを搬送する基板搬送装置である。基板
搬送装置７０〜７４は、いわゆるマニピュレータロボッ
トであり、図示していないがそれぞれ基板着脱アームを
備えている。基板搬送装置７０は前処理部５から吸着治
具装着部３へ、基板搬送装置７１は吸着治具装着部３か
ら塗布部１へ、基板搬送装置７２は塗布部１から乾燥部
２へ、基板搬送装置７３は乾燥部２から吸着治具離脱部
４へ、基板搬送装置７４は吸着治具離脱部４から後処理
部６へ、それぞれ基板Ｓを搬送する。

【００２４】基板搬送装置７０および基板搬送装置７４
の図示しない基板着脱アームは、その先端部に備えた吸
引チャックで基板Ｓを吸着保持して基板を搬送する。一
方、基板搬送装置７１、７２、７３は、基板着脱アーム
に吸引チャックを備えておらず、あらかじめ吸着治具装
着部３において基板Ｓに装着した吸着治具を、基板着脱
アームの先端で機械的に保持して基板を搬送する。

【００２５】図において、８０は、基板搬送装置７１、
７２、および７３によって基板を搬送するための図示し
ない吸着治具を、吸着治具装着部３にて基板Ｓへ装着し
たり、吸着治具離脱部４にて基板Ｓから取り外す吸着治
具着脱アーム８５を備えた吸着治具搬送装置である。

【００２６】（基板搬送方法）次に、吸着治具を用いる
基板搬送方法について詳細に説明する。図２は、吸着治
具装着部３の構成を示す斜視図である。図において、３
１は、基板Ｓを一時仮置きするための基板台である。図
１に示した基板搬送装置７０によって、前処理部から吸
着治具装着部３に搬送された基板Ｓは、一旦、基板台３
１の上に載せられる。この基板台３１は、載せる基板Ｓ
の大きさに対し、その両端部が小さくなっており、基板
台３１に載せられた基板Ｓの両端部は、基板台３１より
外側に延びている。基板台に載せられた基板Ｓは、その
上面が塗布液を塗布するための塗布主面になっており、
基板台３１からはみ出した基板Ｓの裏面は非塗布面にな
っている。

【００２７】図において、９０は、吸着治具である。吸
着治具９０は、図３に示すように、基板Ｓに吸着するた
めの吸着パッド９１と、前記吸着パッド９１に連結され
た把手９２で構成される。前記把手９２の内部には、吸
着パッド９１の吸引口と連結された吸引路９３と、前記
吸引路９３に設けられたリーク口９４を備えている。把
手９２は、リーク口９４を閉じたり、開いたりできるよ
うにスライド可能に構成され、把手９２をつかんで吸着
パッド９１を対象物に押しつけると、リーク口９４が閉
じ吸着パッド９１が対象物に吸着する。対象物から吸着
治具９０を引き離すときは、把手９２をつかんで引き下
げるとリーク口９４が開き、吸着パッド９１が対象物か
ら離脱する。

【００２８】本発明の基板搬送方法では、先ず、吸着治
具装着部３において、基板台３１に載置された基板Ｓ
に、上記吸着治具９０を装着する。吸着治具９０は、図
１に示した吸着治具搬送装置８０の吸着治具着脱アーム
８５によって、基板台３１に載置されている基板Ｓの、
基板台３１からはみ出している非塗布面に押し当てられ
て吸着される。次いで、吸着治具着脱アーム８５は、吸
着治具９０を基板Ｓに装着した後、吸着治具装着部３か
ら退避する。

【００２９】次に、吸着治具装着部３から塗布部１に基
板Ｓが搬送される。吸着治具装着部３からの基板の搬送
は、図１に示した基板搬送装置７１によって行われる。
図４は、吸着治具装着部３における基板Ｓの搬送開始状
態を示している。図に示すように、吸着治具装着部３に
おいて、あらかじめ基板Ｓに吸着されている吸着治具９
０の把手が、基板搬送装置７１に備えた基板着脱アーム
７５によってつかまれた後、基板着脱アーム７５が上昇
することにより、基板Ｓが基板台３１から持ち上げられ
る。次いで、図５に示すように、基板着脱アーム７５が
塗布部１に移動し、塗布部１の塗布装置に備えられてい
る基板保持部材１１上に、基板Ｓを移載する。

【００３０】図５は、塗布部１の塗布装置に備えている
基板保持部材１１に、基板を装着している状態を示して
いる。基板保持部材１１は、回転軸１４を回転中心とし
て、図５に示す基板着脱位置と矢印で示す塗布位置の間
で反転回動可能である。基板保持部材１１に基板を装着
するときは、あらかじめ基板着脱位置に基板保持部材１
１を待機しておき、基板保持部材の上方から基板着脱ア
ーム７５を下降して、基板Ｓを基板保持部材１１に移載
する。なお、基板保持部材１１には、基板着脱アーム７
５の先端部が通過するための空間１３が設けられてお
り、前記空間１３を通して基板着脱アーム７５が下降ま
たは上昇する。基板着脱アーム７５によって基板保持部
材１１に移載された基板Ｓは、基板保持部材１１に設け
られた図示しない複数の吸引孔の吸引作用によって、基
板保持部材１１に吸着保持される。その後、基板保持部
材１１は、回転軸１４を中心にして塗布装置の塗布位置
に回動する。

【００３１】塗布装置の基板保持部材１１に装着された
基板Ｓは、次いで、塗布部１の塗布装置で塗布液を塗布
される。図６は、塗布部の塗布装置１０によって塗布液
を塗布中の基板Ｓの状態を示している。図において、１
５は、塗布装置１０に設けられた塗布ヘッドである。塗
布装置１０において、基板保持部材１１は、塗布ヘッド
１５に対向して基板Ｓの塗布主面を下向きにして、傾斜
状態で基板Ｓを吸着保持している。基板Ｓの非塗布面に
は、図に示すように、基板を搬送するための吸着治具９
０が装着された状態になっている。基板Ｓの下向きにな
った塗布主面と塗布ヘッド１５の上面とは一定の間隙を
維持しており、前記間隙には、塗布ヘッドの図示しない
スリットから吐出した塗布液が液溜まりを形成してい
る。この状態において、塗布ヘッド１５を基板の傾斜角
度に沿って斜め下方へ移動することによって、液溜まり
から基板Ｓの塗布主面に塗布液を順次付着し、基板の塗
布主面に塗布膜を形成する。

【００３２】塗布装置１０において上記塗布処理を行っ
ているあいだに、図１に示した塗布処理ラインにおい
て、次に塗布処理を受ける基板が、吸着治具装着部３に
搬送され、吸着治具搬送装置８０の吸着治具着脱アーム
８５が、吸着治具を基板に装着し、さらに、塗布部へ基
板を搬送した基板搬送装置７１の基板着脱アームが、再
び、吸着治具装着部３に戻り次の基板の搬送準備を開始
している。同時に、塗布部１から基板を搬出するための
基板搬送装置７２の基板着脱アームが、塗布装置１０の
基板着脱位置に移動し、塗布処理を終えた基板の排出処
理のため待機している。

【００３３】塗布処理を終えた基板Ｓは、再び、基板保
持部材１１を反転回動することによって、基板着脱位置
に位置される。図７は、塗布装置１０での塗布処理を完
了した基板を、基板保持部材１１から排出している状態
を示している。塗布装置からの基板の排出は、図１に示
した基板搬送装置７２によって行われ、図７に示すよう
に、あらかじめ基板着脱位置に待機していた基板着脱ア
ーム７５に向けて、基板保持部材１１が回転軸１４を中
心にして反転回動することによって、基板保持部材１１
に吸着保持されている基板Ｓの非塗布面の吸着治具９０
が勘合される。次に、基板保持部材１１の図示しない吸
引孔による吸引作用を止めた後、基板着脱アーム７５を
上昇して基板Ｓを基板保持部材１１から離脱する。

【００３４】塗布処理を終えた基板Ｓは、次いで、図１
に示した乾燥部２に送られる。ここで、遠赤外線ヒータ
などの乾燥手段を用いて、基板に塗布されている塗布液
を乾燥させて均一な厚みの塗布膜を形成する。この間
に、前記塗布部１では、次に塗布処理を受ける基板が、
基板搬送装置７１によって塗布装置１０に供給され塗布
処理がなされる。

【００３５】乾燥部２にて乾燥処理を受けた基板Ｓは、
次いで、吸着治具離脱部４に搬送される。この搬送は、
図１に示した基板搬送装置７３によって行われる。吸着
治具離脱部４では、基板Ｓに装着されている吸着治具が
基板から取り外される。図８は、吸着治具離脱部４にお
いて、基板Ｓから吸着治具９０を取り外している状態を
示している。図８において、８５は、図１において示し
た吸着治具搬送装置８０の吸着治具着脱アームである。
図に示すように、基板台４１に載置された基板Ｓの端縁
裏面の非塗布面に装着されている吸着治具９０は、吸着
治具着脱アーム８５によって基板Ｓから取り外される。
吸着治具９０の基板からの取り外しは、図３に示したよ
うに吸着治具９０に設けられた把手９２を操作して、リ
ーク口９４から吸着パッド９１内に外気を吸入し、吸着
作用を止めることによってなされる。

【００３６】上記吸着治具離脱部４にて基板Ｓから取り
外された吸着治具９０は、図１に示した吸着治具搬送装
置８０によって、吸着治具装着部３に搬送され、吸着治
具装着部３にて、次に塗布処理を受ける基板の非塗布面
に装着される。すなわち、吸着治具９０は、吸着治具装
着部４から塗布部１へ、また、塗布部１から乾燥部２
へ、さらに、乾燥部２から吸着治具離脱部４へ、それぞ
れ基板を搬送するときに利用され、吸着治具離脱部４で
基板から取り外された後、吸着治具装着部３に運ばれて
再び基板に装着される。

【００３７】一方、吸着治具離脱部４にて吸着治具を取
り外された基板Ｓは、後工程部６に搬送される。後工程
部への基板の搬送は図１に示した基板搬送装置７４にて
行われる。後工程部６に送られた基板Ｓは、例えば、基
板がガラス基板であり、基板に形成された塗布膜が、着
色剤を含有する感光性樹脂膜の場合、露光装置に送られ
て感光性樹脂膜に微細パターンが焼き付けられ、現像、
定着のうえ、例えば、液晶表示装置用のドットマトリッ
クスカラーフィルタが形成される。

【００３８】上記に詳述した如く本発明の基板搬送方法
では、基板を搬送するときの吸着治具を、塗布工程前に
おいて、あらかじめ基板に装着しておき、塗布工程中
も、また、乾燥工程中も基板に装着しておくことによ
り、塗布工程から乾燥工程へ基板を搬送するときに、従
来みられた吸引チャックの吸引動作による局部的な基板
の温度変化が解消され、基板全面において均一な膜厚の
塗布膜を形成できるようになった。さらにまた、本実施
例で説明した、液溜まり方式の塗布装置を用いること
で、より均一な膜厚の塗布膜をガラス基板に形成するこ
とができる。

【００３９】なお、本発明の基板搬送方法は、上記した
液溜まり方式の塗布装置に限らず、シート状の枚葉基板
に塗布液を塗布して、塗布膜を形成する各種の塗布装置
に応用できることは明らかである。

【００４０】

【発明の効果】以上、詳細に説明した如く、本発明の基
板搬送方法は、請求項１に示したように、塗布液を塗布
して基板に塗布膜を形成する塗布工程と、該塗布膜を乾
燥させる乾燥工程とからなる塗布膜形成工程において、
把手部と吸着部とで構成された吸着治具を、あらかじめ
塗布工程前に、基板の非塗布面に吸着させ、前記吸着治
具の把手部をつかんで塗布膜を形成する基板を搬送し、
乾燥工程を終了後、基板から吸着治具を取り外すので、
塗布工程から乾燥工程に基板を搬送するとき、搬送装置
が直接基板に触れることなく、吸着治具を介して基板を
搬送することができ、従って、基板に冷却作用による温
度変化が生じず、基板上の塗布膜に吸着跡を発生するこ
となく、均一な膜厚の塗布膜を形成することができる。

【００４１】また、本発明の基板搬送方法は、請求項２
に示したように、請求項１の発明に加えて、乾燥工程
後、基板から取り外した吸着治具を、塗布工程前まで戻
し、再度、基板の非塗布面に吸着させる吸着治具回収工
程を備えているので、吸着治具を基板に装着したり、基
板から吸着治具を取り外す作業に人手を介することなく
自動的に処理でき、また、吸着治具を反復して基板の搬
送に利用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の基板搬送方法を説明するための実施
例の装置配置図である。

【図２】 吸着治具装着部の一実施例を示す斜視図であ
る。

【図３】 吸着治具の一実施例である。

【図４】 吸着治具装着部からの基板の搬出動作を説明
するための斜視図である。

【図５】 塗布装置への基板の装着動作を説明するため
の斜視図である。

【図６】 塗布装置における基板への塗布処理動作を説
明するための斜視図である。

【図７】 塗布装置からの基板の搬出動作を説明するた
めの斜視図である。

【図８】 吸着治具離脱部の一実施例を示す斜視図であ
る。

【図９】 従来の基板搬送方法を説明するための装置配
置図である。

【図１０】 従来の基板搬送方法の詳細を説明するため
の動作説明図である。

【図１１】 従来の基板搬送方法における基板着脱動作
の説明図である。

【図１２】 吸引チャックによる冷却作用を説明するた
めの断面図である。

【符号の説明】

Ｓ 基板 １ 塗布部 ２ 乾燥部 ３ 吸着治具装着部 ４ 吸着治具離脱部 ５ 前工程部 ６ 後工程部 １０ 塗布装置 ３１、４１ 基板台 ７０〜７４ 基板搬送装置 ７５ 基板着脱アーム ８０ 吸着治具搬送装置 ８５ 吸着治具着脱アーム ９０ 吸着治具 ９１ 吸着パッド ９２ 把手

フロントページの続き (72)発明者 宮川 俊二 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塗布液を塗布して基板に塗布膜を形成す
   る塗布工程と、該塗布膜を乾燥させる乾燥工程とからな
   る塗布膜形成工程において、把手部と吸着部とで構成さ
   れた吸着治具を、あらかじめ塗布工程前に、基板の非塗
   布面に吸着させ、前記吸着治具の把手部をつかんで塗布
   膜を形成する基板を搬送し、乾燥工程を終了後、基板か
   ら吸着治具を取り外すことを特徴とする塗布膜形成工程
   における基板搬送方法。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板搬送方法におい
   て、乾燥工程後、基板から取り外した吸着治具を、塗布
   工程前まで戻し、再度、基板の非塗布面に吸着させる吸
   着治具回収工程を備えていることを特徴とする基板搬送
   方法。