JPH10202040A - 酸素冨化ガスを製造する真空/圧力スイング吸着(vpsa)方法 - Google Patents
酸素冨化ガスを製造する真空/圧力スイング吸着(vpsa)方法Info
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- JPH10202040A JPH10202040A JP10014771A JP1477198A JPH10202040A JP H10202040 A JPH10202040 A JP H10202040A JP 10014771 A JP10014771 A JP 10014771A JP 1477198 A JP1477198 A JP 1477198A JP H10202040 A JPH10202040 A JP H10202040A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 好適なガスとそれ程好適ではないガスとの混
合物から好適なガスで冨化された生成物を製造する真空
/圧力スイング吸着方法を提供する。 【解決手段】 a)供給ガス混合物をほぼ一定の高い吸
着圧で吸着剤床の供給端に通して好適なガスを吸着さ
せ、ボイドガスを吸着剤床の第二の端部から出させ、 b)プロセス降圧工程の間に、ガスを吸着剤床の一端又
は両端から出させることによって吸着剤床を降圧し、 c)プロセス脱着工程の間に、貧酸素還流ガスを吸着剤
床の別の端に流して吸着された好適なガスの内のいくら
をパージし、 d)プロセス再加圧工程の間に、ガスを吸着剤床の一端
又は両端に入れさせることによって吸着剤床を再加圧
し、その場合、好適なガスの貧な還流ガスを吸着剤床の
第二端に供給しかついくらかの供給ガス混合物を吸着剤
床の供給端に供給する。
合物から好適なガスで冨化された生成物を製造する真空
/圧力スイング吸着方法を提供する。 【解決手段】 a)供給ガス混合物をほぼ一定の高い吸
着圧で吸着剤床の供給端に通して好適なガスを吸着さ
せ、ボイドガスを吸着剤床の第二の端部から出させ、 b)プロセス降圧工程の間に、ガスを吸着剤床の一端又
は両端から出させることによって吸着剤床を降圧し、 c)プロセス脱着工程の間に、貧酸素還流ガスを吸着剤
床の別の端に流して吸着された好適なガスの内のいくら
をパージし、 d)プロセス再加圧工程の間に、ガスを吸着剤床の一端
又は両端に入れさせることによって吸着剤床を再加圧
し、その場合、好適なガスの貧な還流ガスを吸着剤床の
第二端に供給しかついくらかの供給ガス混合物を吸着剤
床の供給端に供給する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、好適なガスとそれ
程好適ではないガスとの混合物から好適なガスで冨化さ
れた生成物を製造するVPSA方法に関し、一層特に
は、酸素優先性吸着剤を平衡条件下で使用して空気から
酸素冨化生成物を製造するVPSA方法に関する。
程好適ではないガスとの混合物から好適なガスで冨化さ
れた生成物を製造するVPSA方法に関し、一層特に
は、酸素優先性吸着剤を平衡条件下で使用して空気から
酸素冨化生成物を製造するVPSA方法に関する。
【0002】
【従来の技術】VPSA処理では、易吸着性成分及び難
吸着性成分を含有する供給ガス混合物を、易吸着性成分
を高い吸着圧で選択吸着することができる吸着剤床に通
す。次いで、床を、易吸着性成分を脱着させて床から取
り出すために低い脱着圧に降圧した後に、再加圧し、更
なる量の供給ガス混合物を床に導入し、そのようにして
サイクルの吸着脱着作業が床において続けられる。
吸着性成分を含有する供給ガス混合物を、易吸着性成分
を高い吸着圧で選択吸着することができる吸着剤床に通
す。次いで、床を、易吸着性成分を脱着させて床から取
り出すために低い脱着圧に降圧した後に、再加圧し、更
なる量の供給ガス混合物を床に導入し、そのようにして
サイクルの吸着脱着作業が床において続けられる。
【0003】そのようなVPSA処理は、多床系におい
て行われ、各々の床は、同じVPSA処理シーケンス
を、そのような処理シーケンスを吸着系の他の床におい
て行うことに相関させたサイクル基準で採用するのが普
通である。空気を分離するためのVPSA系では、窒素
を易吸着性成分として選択吸着する吸着剤が採用され、
酸素が難吸着性成分として回収されてきた。選択吸着さ
れた窒素の前端が形成して床内を供給端から製品端に前
進して平衡基準で作動するゼオライト系モレキュラーシ
ーブがこのタイプのものであり、酸素か窒素のいずれか
を所望の生成物として製造するためにVPSA処理サイ
クルで使用されることができる。後者の場合に、酸素冨
化空気流もまた回収される。
て行われ、各々の床は、同じVPSA処理シーケンス
を、そのような処理シーケンスを吸着系の他の床におい
て行うことに相関させたサイクル基準で採用するのが普
通である。空気を分離するためのVPSA系では、窒素
を易吸着性成分として選択吸着する吸着剤が採用され、
酸素が難吸着性成分として回収されてきた。選択吸着さ
れた窒素の前端が形成して床内を供給端から製品端に前
進して平衡基準で作動するゼオライト系モレキュラーシ
ーブがこのタイプのものであり、酸素か窒素のいずれか
を所望の生成物として製造するためにVPSA処理サイ
クルで使用されることができる。後者の場合に、酸素冨
化空気流もまた回収される。
【0004】空気から低純度酸素を定常速度で造るため
の安価な方法が要求される。有用な低純度酸素の例は、
酸素を40%含有するガス流であり、これは燃焼プロセ
ス用の酸化剤として使用されることができる。そのよう
なガス流は、空気のほとんど2倍程多くの酸素を含有
し、窒素対酸素の比は空気の半分よりも小さい。所定量
の酸素に対して窒素が少ないので、窒素を加熱する際に
失われる燃焼エネルギーは少なくなる。また、廃棄する
フルーガスも少なくなり;バーナーは大きくする必要が
なく;かつ一層高い燃焼温度に到達され得る。
の安価な方法が要求される。有用な低純度酸素の例は、
酸素を40%含有するガス流であり、これは燃焼プロセ
ス用の酸化剤として使用されることができる。そのよう
なガス流は、空気のほとんど2倍程多くの酸素を含有
し、窒素対酸素の比は空気の半分よりも小さい。所定量
の酸素に対して窒素が少ないので、窒素を加熱する際に
失われる燃焼エネルギーは少なくなる。また、廃棄する
フルーガスも少なくなり;バーナーは大きくする必要が
なく;かつ一層高い燃焼温度に到達され得る。
【0005】低純度冨化酸素は、高純度酸素を製造し、
次いでそれに空気をブレンドして低純度酸素の流れを製
造することにより、2工程で製造されるのが典型的であ
る。適度の量の冨化された低純度酸素を製造する改良さ
れた方法が、Campbell等に係る米国特許第4,
867,766号及び再発行米国特許第34,434号
に開示されている。それらの中では、高純度酸素(典型
的には、約90〜95モル%)が圧力スイング吸着(P
SA)系によって製造され、高純度酸素に空気がブレン
ドされて低純度酸素流が製造されている。高純度酸素
(典型的には、少なくとも99.5モル%)に空気をブ
レンドして低純度酸素流を製造することを伴う低純度酸
素を製造するその他の初期の方法が、それらの中で従来
技術として挙げられている。
次いでそれに空気をブレンドして低純度酸素の流れを製
造することにより、2工程で製造されるのが典型的であ
る。適度の量の冨化された低純度酸素を製造する改良さ
れた方法が、Campbell等に係る米国特許第4,
867,766号及び再発行米国特許第34,434号
に開示されている。それらの中では、高純度酸素(典型
的には、約90〜95モル%)が圧力スイング吸着(P
SA)系によって製造され、高純度酸素に空気がブレン
ドされて低純度酸素流が製造されている。高純度酸素
(典型的には、少なくとも99.5モル%)に空気をブ
レンドして低純度酸素流を製造することを伴う低純度酸
素を製造するその他の初期の方法が、それらの中で従来
技術として挙げられている。
【0006】Choe等に係る米国特許第5,382,
280号は、空気から窒素を製造するプロセスの第2段
においてガス流から酸素を除くために平衡ベースの酸素
選択性吸着剤を使用することについて記載している。吸
着剤は、ラングミュアタイプ1形状、無限の選択性を有
すると記載されており、原料中のわずか約1〜5%の酸
素を受け入れるにすぎない。Choe等は、更に、ユニ
ット中に「残留し得る酸素」を除くパージ工程について
教示している。そのようなスルーパージは、パージ工程
の終りに向かって流出ガスの急激な酸素含量の低下を生
じる。
280号は、空気から窒素を製造するプロセスの第2段
においてガス流から酸素を除くために平衡ベースの酸素
選択性吸着剤を使用することについて記載している。吸
着剤は、ラングミュアタイプ1形状、無限の選択性を有
すると記載されており、原料中のわずか約1〜5%の酸
素を受け入れるにすぎない。Choe等は、更に、ユニ
ット中に「残留し得る酸素」を除くパージ工程について
教示している。そのようなスルーパージは、パージ工程
の終りに向かって流出ガスの急激な酸素含量の低下を生
じる。
【0007】Ruthven等は、ヘリウムとの混合物
から水素を濃縮するための圧力スイングプロセスについ
て記載している。「Concentration of
atrace Component by Pres
sure−Swing Adsorption」、Ru
thven,D.M.等、Chemical Engi
neering Science(OXFORD) 4
9巻、1号、1994年1月、51〜60頁を参照。使
用されている吸着剤は、ゼオライト5Aである。圧力ス
イングサイクルは77Kでランする。水素等温線が、
「ラングミュア式によってよく表わされる」。吸着剤
は、ヘリウムよりも水素について高い選択性である。そ
れでも、定圧パージ工程の間に、流出物中の水素濃度は
急激に低下する。
から水素を濃縮するための圧力スイングプロセスについ
て記載している。「Concentration of
atrace Component by Pres
sure−Swing Adsorption」、Ru
thven,D.M.等、Chemical Engi
neering Science(OXFORD) 4
9巻、1号、1994年1月、51〜60頁を参照。使
用されている吸着剤は、ゼオライト5Aである。圧力ス
イングサイクルは77Kでランする。水素等温線が、
「ラングミュア式によってよく表わされる」。吸着剤
は、ヘリウムよりも水素について高い選択性である。そ
れでも、定圧パージ工程の間に、流出物中の水素濃度は
急激に低下する。
【0008】Ruthven等もChoe等も、圧力ス
イングサイクルを、一層強く吸着される成分をほぼ一定
の濃度で有するガスの定常流を生じる脱着パージ工程で
ランしようとする好結果が得られる試みを例示していな
い。
イングサイクルを、一層強く吸着される成分をほぼ一定
の濃度で有するガスの定常流を生じる脱着パージ工程で
ランしようとする好結果が得られる試みを例示していな
い。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】よって、本発明の目的
は、好適なガスとそれ程好適ではないガスとの混合物か
ら好適なガスで冨化された生成物を製造する改良された
方法を提供するにある。
は、好適なガスとそれ程好適ではないガスとの混合物か
ら好適なガスで冨化された生成物を製造する改良された
方法を提供するにある。
【0010】本発明の別の目的は、酸素冨化生成物を、
初めに高純度酸素を製造することを必要としないで製造
するにある。
初めに高純度酸素を製造することを必要としないで製造
するにある。
【0011】本発明のそれ以上の目的は、混合のエント
ロピーを発生し、それによりエネルギーを消耗させるブ
レンディング工程を回避するプロセスによって酸素冨化
生成物を製造するにある。
ロピーを発生し、それによりエネルギーを消耗させるブ
レンディング工程を回避するプロセスによって酸素冨化
生成物を製造するにある。
【0012】本発明のなお別の目的は、一吸着サイクル
で空気から直接に定常生成物流を製造しかつ低い圧縮比
で作動する圧縮機を用いることができるプロセスによっ
て酸素冨化生成物を製造するにある。
で空気から直接に定常生成物流を製造しかつ低い圧縮比
で作動する圧縮機を用いることができるプロセスによっ
て酸素冨化生成物を製造するにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】好適なガスとそれ程好適
ではないガスとの供給混合物から好適なガスで冨化され
たガスを混合物を抜き出す真空/圧力スイング吸着方法
は、平衡基準で該好適なガスについて選択吸着優先を示
す吸着剤床を採用する。その方法は、下記の工程を含
む: 1:供給ガスをほぼ一定の高い吸着圧で吸着剤床の供給
端の中に通して、床を供給ガスから酸素を吸着させ、ボ
イドガスを床の他の端から出させ、そのボイドガスの一
部を後にパージ及び生成物加圧工程の間に使用するため
に高圧サージタンクに供給し; 2:プロセス降圧工程の間に、ガスを床の一端又は両端
から出させることによって床を降圧し、床の該他の端を
出るガスの内のいくらかを貧酸素還流ガスとして使用す
るために低圧サージタンクに供給し、次いで床の供給端
から出るガスの内のいくらを酸素冨化生成物ガスとして
使用しても又は再圧縮して後のプロセス工程の間に1つ
又はそれ以上の床の供給端に供給する供給ガスへの補足
として循環させてもよく; 3:プロセス脱着工程の間に、低圧サージタンクからの
貧酸素還流ガスは床の該他の端の中に流れて吸着された
酸素の内のいくらをパージし、酸素冨化生成物ガスをほ
ぼ一定な又は一定に近い、もしくは徐々に下降している
低い圧力の吸着剤床の供給端から出させ; 4:プロセス再加圧工程の間に、ガスを床の一端又は両
端に入れさせることによって床を再加圧し、その場合、
好適なガスの貧ないくらかの還流を好ましくは高圧サー
ジタンクから床の排出端の中に供給してよくかつ供給ガ
スの内のいくらかを床の供給端に供給してもよい。
ではないガスとの供給混合物から好適なガスで冨化され
たガスを混合物を抜き出す真空/圧力スイング吸着方法
は、平衡基準で該好適なガスについて選択吸着優先を示
す吸着剤床を採用する。その方法は、下記の工程を含
む: 1:供給ガスをほぼ一定の高い吸着圧で吸着剤床の供給
端の中に通して、床を供給ガスから酸素を吸着させ、ボ
イドガスを床の他の端から出させ、そのボイドガスの一
部を後にパージ及び生成物加圧工程の間に使用するため
に高圧サージタンクに供給し; 2:プロセス降圧工程の間に、ガスを床の一端又は両端
から出させることによって床を降圧し、床の該他の端を
出るガスの内のいくらかを貧酸素還流ガスとして使用す
るために低圧サージタンクに供給し、次いで床の供給端
から出るガスの内のいくらを酸素冨化生成物ガスとして
使用しても又は再圧縮して後のプロセス工程の間に1つ
又はそれ以上の床の供給端に供給する供給ガスへの補足
として循環させてもよく; 3:プロセス脱着工程の間に、低圧サージタンクからの
貧酸素還流ガスは床の該他の端の中に流れて吸着された
酸素の内のいくらをパージし、酸素冨化生成物ガスをほ
ぼ一定な又は一定に近い、もしくは徐々に下降している
低い圧力の吸着剤床の供給端から出させ; 4:プロセス再加圧工程の間に、ガスを床の一端又は両
端に入れさせることによって床を再加圧し、その場合、
好適なガスの貧ないくらかの還流を好ましくは高圧サー
ジタンクから床の排出端の中に供給してよくかつ供給ガ
スの内のいくらかを床の供給端に供給してもよい。
【0014】そのプロセスを用いて酸素を製造する場合
に、そのキーは、酸素選択性吸着剤を使用して、低純度
酸素(30〜60%)の定常流れを製造するのに選ぶほ
ぼ一定の圧力、60〜20kPaの範囲の圧力の脱着パ
ージを用いることである。発明のそれ以上の重要な特徴
は、レート選択性の代わりに、適当に酸素選択性であり
かつ平衡選択性をベースにした吸着剤を用いることであ
る。この特徴は、小さい圧力比及び低い圧縮費を用いる
ことを可能にする。発明のそれ以上の特徴は、好適な酸
素選択性吸着剤の性質を、下記の「吸着剤の最適化及び
選定」なるセクションにおいて説明する通りに、予期さ
れない方法で分離プロセスの作業条件に適合させること
である。「ほぼ一定」なる用語は、原料吸着又は生成物
脱着時間の少なくとも50%で一定なレベルを意味する
ことを注記する。
に、そのキーは、酸素選択性吸着剤を使用して、低純度
酸素(30〜60%)の定常流れを製造するのに選ぶほ
ぼ一定の圧力、60〜20kPaの範囲の圧力の脱着パ
ージを用いることである。発明のそれ以上の重要な特徴
は、レート選択性の代わりに、適当に酸素選択性であり
かつ平衡選択性をベースにした吸着剤を用いることであ
る。この特徴は、小さい圧力比及び低い圧縮費を用いる
ことを可能にする。発明のそれ以上の特徴は、好適な酸
素選択性吸着剤の性質を、下記の「吸着剤の最適化及び
選定」なるセクションにおいて説明する通りに、予期さ
れない方法で分離プロセスの作業条件に適合させること
である。「ほぼ一定」なる用語は、原料吸着又は生成物
脱着時間の少なくとも50%で一定なレベルを意味する
ことを注記する。
【0015】
【発明の実施の形態】本発明は、酸素冨化生成物を製造
する、O2 平衡選択性吸着剤を使用するVPSAサイク
ルを組み入れる。O2 /N2 平衡選択性を有しかつO2
/N2 レート選択性を事実上有しない吸着剤を使用す
る。例のO2 平衡選択性吸着剤(すなわち、吸着剤A)
の収着特性を図1に示す。図1は、吸着された量を圧力
に対してプロットし、ここで、 吸着剤A=BzIm/Co(Tpiv PP)/SP−Si
O2
する、O2 平衡選択性吸着剤を使用するVPSAサイク
ルを組み入れる。O2 /N2 平衡選択性を有しかつO2
/N2 レート選択性を事実上有しない吸着剤を使用す
る。例のO2 平衡選択性吸着剤(すなわち、吸着剤A)
の収着特性を図1に示す。図1は、吸着された量を圧力
に対してプロットし、ここで、 吸着剤A=BzIm/Co(Tpiv PP)/SP−Si
O2
【0016】O2 平衡選択性吸着剤Aは、小さいN2 収
着容量及び高い平衡選択性(O2 /N2 )を有する。吸
着剤Aは、1−ベンジルイミダゾール(BzIm)(1
7%)、コバルト(II)ピッケットフェンスポルフィ
リン(Collman,Accounts of Ch
emical Research、1977、10巻、
265頁によって開示される通り)及び粒径約50オン
グストロームを有する密な小さい粒子のシリカ(21重
量%)を含む担持された遷移元素複合体(TEC)組成
物である。Bzim及びCo(Tpiv PP)の溶液を用
いて、不活性雰囲気下でクロロホルム蒸発によってコー
ティングを行う。それ以上のO2 平衡選択性吸着剤を下
記に記載する。吸着剤Aの組成の範囲の具体例は、本願
と同時継続しかつ本願と同じ出願人に譲渡された米国特
許出願第08/339,872号に載せており、同特許
出願の教示を本明細書中に援用する。
着容量及び高い平衡選択性(O2 /N2 )を有する。吸
着剤Aは、1−ベンジルイミダゾール(BzIm)(1
7%)、コバルト(II)ピッケットフェンスポルフィ
リン(Collman,Accounts of Ch
emical Research、1977、10巻、
265頁によって開示される通り)及び粒径約50オン
グストロームを有する密な小さい粒子のシリカ(21重
量%)を含む担持された遷移元素複合体(TEC)組成
物である。Bzim及びCo(Tpiv PP)の溶液を用
いて、不活性雰囲気下でクロロホルム蒸発によってコー
ティングを行う。それ以上のO2 平衡選択性吸着剤を下
記に記載する。吸着剤Aの組成の範囲の具体例は、本願
と同時継続しかつ本願と同じ出願人に譲渡された米国特
許出願第08/339,872号に載せており、同特許
出願の教示を本明細書中に援用する。
【0017】下記の記述から理解される通りに、本発明
のVPSAサイクルは、サージタンクを2つ又はそれ以
上採用し、床−床均等化工程を必要としない。更に、還
流ガスをパージ及び生成物加圧のために使用する。発明
はO2 平衡選択性吸着剤を利用し、カーボンモレキュラ
ーシーブ(CMS)のようなレート選択性吸着剤を利用
しないことから、N2 に勝るO2 選択性は吸着時間に無
関係である、すなわち、分離は平衡をベースにして速度
論をベースにしないので、VPSAサイクルにおいてC
MSベースの吸着剤の不利に遭遇しない。
のVPSAサイクルは、サージタンクを2つ又はそれ以
上採用し、床−床均等化工程を必要としない。更に、還
流ガスをパージ及び生成物加圧のために使用する。発明
はO2 平衡選択性吸着剤を利用し、カーボンモレキュラ
ーシーブ(CMS)のようなレート選択性吸着剤を利用
しないことから、N2 に勝るO2 選択性は吸着時間に無
関係である、すなわち、分離は平衡をベースにして速度
論をベースにしないので、VPSAサイクルにおいてC
MSベースの吸着剤の不利に遭遇しない。
【0018】O2 平衡選択性吸着剤は、高いO2 濃度に
暴露させることができる;よって、発明の方法は、O2
をバルク除去するためにCMS吸着剤を使用することを
必要としない。これは、吸着剤費を低減させるために吸
着剤を1つよりも多く使用する、或はO2 平衡選択性吸
着剤を高いO2 濃度に暴露させることを回避するために
2段を使用する従来技術のプロセスと異なる。
暴露させることができる;よって、発明の方法は、O2
をバルク除去するためにCMS吸着剤を使用することを
必要としない。これは、吸着剤費を低減させるために吸
着剤を1つよりも多く使用する、或はO2 平衡選択性吸
着剤を高いO2 濃度に暴露させることを回避するために
2段を使用する従来技術のプロセスと異なる。
【0019】発明を、本明細書以降に2床VPSA系の
作動について記載することによって例示することにする
が、1床又は2床よりも多くを、本発明を用いて採用す
ることができることは了解されるべきである。VPSA
サイクルを、図2及び3を参照しながら説明することに
する。
作動について記載することによって例示することにする
が、1床又は2床よりも多くを、本発明を用いて採用す
ることができることは了解されるべきである。VPSA
サイクルを、図2及び3を参照しながら説明することに
する。
【0020】VPSA系(図2を参照)は、2つの床1
0及び12を含み、各々の床は、上記した通りの吸着剤
Aで充填される。空気入口導管14は、供給空気を圧縮
機16に提供し、立ち代わって圧縮機16は圧縮された
空気を供給バルブ18及び20並びに供給入口22及び
24にそれぞれ供給する。一対の排気バルブ26及び2
8は、供給入口22及び24を導管30に接続し、立ち
代わって導管30を真空ポンプ32に連絡する。酸素冨
化生成物を導管32より提供する。
0及び12を含み、各々の床は、上記した通りの吸着剤
Aで充填される。空気入口導管14は、供給空気を圧縮
機16に提供し、立ち代わって圧縮機16は圧縮された
空気を供給バルブ18及び20並びに供給入口22及び
24にそれぞれ供給する。一対の排気バルブ26及び2
8は、供給入口22及び24を導管30に接続し、立ち
代わって導管30を真空ポンプ32に連絡する。酸素冨
化生成物を導管32より提供する。
【0021】床10及び12は出口導管34及び36を
含み、出口導管34及び36は、バルブ38及び40を
経て低圧サージタンク46と連絡しかつまたバルブ44
及び45を経て高圧サージタンク48及び廃棄出口管路
50と連絡する。これらの導管及びバルブは、高圧廃棄
ガスをいずれかの床から2つのサージタンクに及び廃棄
管路50に流れさせる。それらは、また、廃棄ガスの内
のいくらをサージタンクから低圧還流ガスとして床の内
のいずれかに戻して流れさせる。図2におけるバルブは
すべてコンピューターシステム及びプログラムロジック
(示さず)によって電気作動させる。
含み、出口導管34及び36は、バルブ38及び40を
経て低圧サージタンク46と連絡しかつまたバルブ44
及び45を経て高圧サージタンク48及び廃棄出口管路
50と連絡する。これらの導管及びバルブは、高圧廃棄
ガスをいずれかの床から2つのサージタンクに及び廃棄
管路50に流れさせる。それらは、また、廃棄ガスの内
のいくらをサージタンクから低圧還流ガスとして床の内
のいずれかに戻して流れさせる。図2におけるバルブは
すべてコンピューターシステム及びプログラムロジック
(示さず)によって電気作動させる。
【0022】図2の系の詳細な作動について説明する前
に、発明を組み入れたVPSAプロセスの簡単な概説に
ついて説明することにする。発明は、酸素選択性吸着剤
の1つ又はそれ以上の固定床を4つのプロセス工程を通
して循環させることによって空気から低純度酸素を生産
する。
に、発明を組み入れたVPSAプロセスの簡単な概説に
ついて説明することにする。発明は、酸素選択性吸着剤
の1つ又はそれ以上の固定床を4つのプロセス工程を通
して循環させることによって空気から低純度酸素を生産
する。
【0023】工程1:プロセス吸着工程の間に、空気を
ほぼ一定の高い圧力(好ましくは80〜210kPaの
範囲、一層好ましくは90〜130kPaの範囲)で吸
着剤床の供給端に通し、ボイドガスを床の排出端から出
させる。ガスが床の中を供給端から排出端に向かって前
方に流れるにつれて、酸素が吸着剤によって優先的に吸
着される。ガス流は、このようにして酸素が減って他の
成分、主に窒素やアルゴンで冨化される。床の排出端を
出るボイドガスが含有する酸素は、床の供給端に入る空
気に比べて少なくなる。そのボイドガスを後にパージ及
び生成物加圧工程の間に使用するために高圧サージタン
クに供給する。
ほぼ一定の高い圧力(好ましくは80〜210kPaの
範囲、一層好ましくは90〜130kPaの範囲)で吸
着剤床の供給端に通し、ボイドガスを床の排出端から出
させる。ガスが床の中を供給端から排出端に向かって前
方に流れるにつれて、酸素が吸着剤によって優先的に吸
着される。ガス流は、このようにして酸素が減って他の
成分、主に窒素やアルゴンで冨化される。床の排出端を
出るボイドガスが含有する酸素は、床の供給端に入る空
気に比べて少なくなる。そのボイドガスを後にパージ及
び生成物加圧工程の間に使用するために高圧サージタン
クに供給する。
【0024】工程2:プロセス降圧工程の間に、ガスを
床の一端又は両端から出させることによって床を降圧す
る。いくらかのガスは床の排出端から出、これを終局的
に1つ又はそれ以上の床用の貧酸素還流ガスとして使用
するために低圧サージタンクに供給する。いくらかのガ
スを床の供給端から酸素冨化ガスとして出させる。この
ガスの内のいくらを再圧縮して後のプロセス工程の間に
1つ又はそれ以上の床の第一端に供給する空気への補足
として循環させてもよい。それの内のいくらを二次生成
物ガスとして取り出し、プロセス脱着工程の間に床から
取り出す一次生成物ガスと組み合わせてもよい。そのよ
うに用いないこのガスのいずれも廃棄として取り出すこ
とができる。降圧工程において床の供給端から出るその
ガスの内のいくらを、床の供給端の末端空間から空気を
スイープするのに用いることができる。
床の一端又は両端から出させることによって床を降圧す
る。いくらかのガスは床の排出端から出、これを終局的
に1つ又はそれ以上の床用の貧酸素還流ガスとして使用
するために低圧サージタンクに供給する。いくらかのガ
スを床の供給端から酸素冨化ガスとして出させる。この
ガスの内のいくらを再圧縮して後のプロセス工程の間に
1つ又はそれ以上の床の第一端に供給する空気への補足
として循環させてもよい。それの内のいくらを二次生成
物ガスとして取り出し、プロセス脱着工程の間に床から
取り出す一次生成物ガスと組み合わせてもよい。そのよ
うに用いないこのガスのいずれも廃棄として取り出すこ
とができる。降圧工程において床の供給端から出るその
ガスの内のいくらを、床の供給端の末端空間から空気を
スイープするのに用いることができる。
【0025】工程3:プロセス脱着工程の間に、低圧サ
ージタンクからの貧酸素還流ガスが床の排出端の中に流
れて入り、生成物ガスをほぼ一定の又は徐々に下降して
いる低い圧力(すなわち、生成物中の所望の酸素濃度に
応じて、吸着圧力の約0.9〜0.2、一層好ましくは
吸着圧力の約0.7〜0.3)の床の供給端から出させ
る。ガスが床の中を排出端から供給端に向かって後方に
流れるにつれて、酸素が床から脱着されてガス流の中に
入る。ガス流は、このようにして酸素で冨化され、プロ
セス圧力及びその他の条件により並びに酸素選択性吸着
剤の性質によって定められる最大濃度で出る。
ージタンクからの貧酸素還流ガスが床の排出端の中に流
れて入り、生成物ガスをほぼ一定の又は徐々に下降して
いる低い圧力(すなわち、生成物中の所望の酸素濃度に
応じて、吸着圧力の約0.9〜0.2、一層好ましくは
吸着圧力の約0.7〜0.3)の床の供給端から出させ
る。ガスが床の中を排出端から供給端に向かって後方に
流れるにつれて、酸素が床から脱着されてガス流の中に
入る。ガス流は、このようにして酸素で冨化され、プロ
セス圧力及びその他の条件により並びに酸素選択性吸着
剤の性質によって定められる最大濃度で出る。
【0026】プロセス脱着の間に、及び随意にプロセス
降圧工程の最後の部分の間に床を出る生成物ガスはほぼ
一定の圧力であるので、生成物圧縮機をほぼ一定のサク
ション圧でランさせることができる。それは、任意のタ
イプの圧縮機について、特に遠心又は軸流圧縮機のよう
な動圧縮機について有利である。
降圧工程の最後の部分の間に床を出る生成物ガスはほぼ
一定の圧力であるので、生成物圧縮機をほぼ一定のサク
ション圧でランさせることができる。それは、任意のタ
イプの圧縮機について、特に遠心又は軸流圧縮機のよう
な動圧縮機について有利である。
【0027】プロセス工程脱着の間に、及び随意にプロ
セス工程再加圧の間に床に入る低圧ガスをエキスパンダ
ー(図2に示さず)を通過させてエネルギーを回収して
いてもよい。
セス工程再加圧の間に床に入る低圧ガスをエキスパンダ
ー(図2に示さず)を通過させてエネルギーを回収して
いてもよい。
【0028】工程4:プロセス再加圧工程の間に、ガス
を床の一端又は両端に入れさせることによって床を再加
圧する。いくらかの貧酸素還流ガスを高圧サージタンク
から床の排出端の中に供給するのが好ましい。いくらか
の空気供給もまた床の供給端に入れさせる。床を、最終
の脱着圧からこのようにして加圧して脱着圧よりも10
kPa高いから吸着圧よりも10kPa低いまでの範囲
の中間圧、好ましくは約50kPaに、最終的に約10
5kPaの高い圧力にする。
を床の一端又は両端に入れさせることによって床を再加
圧する。いくらかの貧酸素還流ガスを高圧サージタンク
から床の排出端の中に供給するのが好ましい。いくらか
の空気供給もまた床の供給端に入れさせる。床を、最終
の脱着圧からこのようにして加圧して脱着圧よりも10
kPa高いから吸着圧よりも10kPa低いまでの範囲
の中間圧、好ましくは約50kPaに、最終的に約10
5kPaの高い圧力にする。
【0029】プロセスの重要な性能要求は、最大の酸素
濃度(MO)をプロセスについて選ぶ圧力レベルにおい
て十分に高くすることである。第二の望ましい性能特徴
は、多量の一次生成物酸素(PPO)を吸着剤の供給端
から外に取り出す間、一次生成物において実際の酸素濃
度が高いままであることである。別の望ましい性能特徴
は、フロー量比(FR)を比較的小さく、好ましくは2
よりも小さく、一層好ましくは1よりも小さくすること
である。FRとは、プロセス降圧工程の間に床の排出端
を出るガスの量対プロセス脱着工程の間にパージとして
要求される量の比と定義する。これらの3つの性能要求
は、吸着剤床特性及びプロセス条件の最良の選定を用い
ることによって同時に満足される。
濃度(MO)をプロセスについて選ぶ圧力レベルにおい
て十分に高くすることである。第二の望ましい性能特徴
は、多量の一次生成物酸素(PPO)を吸着剤の供給端
から外に取り出す間、一次生成物において実際の酸素濃
度が高いままであることである。別の望ましい性能特徴
は、フロー量比(FR)を比較的小さく、好ましくは2
よりも小さく、一層好ましくは1よりも小さくすること
である。FRとは、プロセス降圧工程の間に床の排出端
を出るガスの量対プロセス脱着工程の間にパージとして
要求される量の比と定義する。これらの3つの性能要求
は、吸着剤床特性及びプロセス条件の最良の選定を用い
ることによって同時に満足される。
【0030】図3は、発明の2床実施の例を示す。両方
の床は、それぞれの床によって行われるプロセス工程の
時間を食い違わせることによって同じサージタンクを共
有するのを可能にさせる。更に、サージタンクは、サー
ジタンクからのボイドガスを還流のためにそれらが共使
用することに関して床の結合を断つ。
の床は、それぞれの床によって行われるプロセス工程の
時間を食い違わせることによって同じサージタンクを共
有するのを可能にさせる。更に、サージタンクは、サー
ジタンクからのボイドガスを還流のためにそれらが共使
用することに関して床の結合を断つ。
【0031】この例では、サージタンクは、プロセス脱
着工程の間各々の床についてパージガスを供給する。サ
ージタンクは、また、プロセス再加圧工程の初めの部分
の間、床圧力が依然低い間に、各々の床について低圧の
加圧ガスを供給してもよい。サージタンクは、降圧工程
の少なくとも初めの部分の間に、各々の床からガスを受
け入れる。サージタンクは、また、更なるガスが要求さ
れるならば、プロセス吸着工程の間に各々の床からガス
を受け入れてもよい。サージタンクへの流れとサージタ
ンクからの流れとはバランスしなければならないので、
プロセス降圧工程の間に各々の床からサージタンクに入
る流量は、パージ用に要求されるガスの量の約2倍より
も少ないのが好適である。
着工程の間各々の床についてパージガスを供給する。サ
ージタンクは、また、プロセス再加圧工程の初めの部分
の間、床圧力が依然低い間に、各々の床について低圧の
加圧ガスを供給してもよい。サージタンクは、降圧工程
の少なくとも初めの部分の間に、各々の床からガスを受
け入れる。サージタンクは、また、更なるガスが要求さ
れるならば、プロセス吸着工程の間に各々の床からガス
を受け入れてもよい。サージタンクへの流れとサージタ
ンクからの流れとはバランスしなければならないので、
プロセス降圧工程の間に各々の床からサージタンクに入
る流量は、パージ用に要求されるガスの量の約2倍より
も少ないのが好適である。
【0032】発明は、任意の数の床によって実施してよ
い。その実施を、酸素冨化生成物のほぼ連続した流れが
存在するように配置するのが有利である。それを行う好
適な方法は、サイクル工程を、生成物ガスをどんなある
時にも排出する床が常に1つ及び1つだけ存在するよう
に配置することである。これは、少なくとも2つの床が
存在する場合に、行うことができる。
い。その実施を、酸素冨化生成物のほぼ連続した流れが
存在するように配置するのが有利である。それを行う好
適な方法は、サイクル工程を、生成物ガスをどんなある
時にも排出する床が常に1つ及び1つだけ存在するよう
に配置することである。これは、少なくとも2つの床が
存在する場合に、行うことができる。
【0033】空気は、大概水、二酸化炭素や炭化水素の
ような強く吸着される不純物を含有する。酸素選択性吸
着剤の作動を妨げるこれらのいずれも、それが吸着剤に
達する前に空気流から除くべきである。空気流から不純
物を除く一つの方法は、不純物について選択性の吸着剤
をベースにした圧力スイング吸着精製プロセスを用いる
ことである。不純物を生成物流中に許容することができ
るならば、発明からの酸素冨化生成物の内の一部又は全
部を圧力スイング吸着精製プロセス用のバック−パージ
として用いることができる。不純物について選択性の吸
着剤の層を各々の酸素選択性吸着剤床の第一端に加える
ことによって、圧力スイング吸着精製プロセスの少なく
とも一部を発明のプロセスに組み入れることができる。
ような強く吸着される不純物を含有する。酸素選択性吸
着剤の作動を妨げるこれらのいずれも、それが吸着剤に
達する前に空気流から除くべきである。空気流から不純
物を除く一つの方法は、不純物について選択性の吸着剤
をベースにした圧力スイング吸着精製プロセスを用いる
ことである。不純物を生成物流中に許容することができ
るならば、発明からの酸素冨化生成物の内の一部又は全
部を圧力スイング吸着精製プロセス用のバック−パージ
として用いることができる。不純物について選択性の吸
着剤の層を各々の酸素選択性吸着剤床の第一端に加える
ことによって、圧力スイング吸着精製プロセスの少なく
とも一部を発明のプロセスに組み入れることができる。
【0034】今、図2及び3を参照しながら、2床VP
SAプロセスを、上記した工程に一致させて説明するこ
とにする。記述において、すべてのバルブは、挙げる流
れを可能にするように作動させると仮定する。
SAプロセスを、上記した工程に一致させて説明するこ
とにする。記述において、すべてのバルブは、挙げる流
れを可能にするように作動させると仮定する。
【0035】工程4b:原料加圧工程。 床10:原料(空気)を床の供給端に導入して床10を
約50kPaの中間圧から約105kPaに加圧させ
る。 床12:この時間中、床12は工程2b(向流ブローダ
ウン)を受け、空気が床の底部ボイド領域から排出され
る。
約50kPaの中間圧から約105kPaに加圧させ
る。 床12:この時間中、床12は工程2b(向流ブローダ
ウン)を受け、空気が床の底部ボイド領域から排出され
る。
【0036】工程1:吸着工程。 床10:原料空気を床の供給端に導入し続け、床の頂部
からの上部ボイドガスを高圧サージタンク48及び廃棄
管路50に供給する。酸素が床10内の吸着剤によって
吸着される。床10内の圧力はこの工程の全体の間約1
05kPaのままであり、それにより圧縮機16を一定
の圧力に対して作動させることを可能にする。 床12:この工程の間、床12を、床の底部から真空ポ
ンプ32に生成物供給を与えることによってパージし、
ボイドガスの供給が低圧サージタンク46から(及び必
要ならば、サージタンク48からも)床の頂部に入り、
更に生成物を床の頂部から押し下げる。
からの上部ボイドガスを高圧サージタンク48及び廃棄
管路50に供給する。酸素が床10内の吸着剤によって
吸着される。床10内の圧力はこの工程の全体の間約1
05kPaのままであり、それにより圧縮機16を一定
の圧力に対して作動させることを可能にする。 床12:この工程の間、床12を、床の底部から真空ポ
ンプ32に生成物供給を与えることによってパージし、
ボイドガスの供給が低圧サージタンク46から(及び必
要ならば、サージタンク48からも)床の頂部に入り、
更に生成物を床の頂部から押し下げる。
【0037】工程2a:並流ブローダウン工程。 床10:床10の排出端からのボイドガスの流れを低圧
サージタンク46の中に与える。 床12:この時間中、還流ガスを高圧サージタンク48
から得て床12を生成物加圧する。
サージタンク46の中に与える。 床12:この時間中、還流ガスを高圧サージタンク48
から得て床12を生成物加圧する。
【0038】工程2b:向流ブローダウン工程。 床10:この時間中、ガスが床10の供給端から排出さ
れる。 床12:原料(空気)を床12の供給端に導入して床1
2を約50kPaの中間圧から約105kPaに加圧さ
せる。
れる。 床12:原料(空気)を床12の供給端に導入して床1
2を約50kPaの中間圧から約105kPaに加圧さ
せる。
【0039】工程3:パージ工程。 床10:この工程の間、床10を、床の底部から真空ポ
ンプ32に生成物供給を与えることによってパージし、
ボイドガスの供給が低圧サージタンク46から(及び必
要ならば、高圧サージタンク48からも)床の頂部に入
り、更に脱着された酸素を床の上部部分から押し下げ
る。 床12:原料空気を床の供給端に導入し続け、床の頂部
からの上部ボイドガスを高圧サージタンク48に供給す
る。酸素が床12内の吸着剤によって吸着される。床1
2内の圧力はこの工程の全体の間約105kPaのまま
であり、それにより圧縮機16を一定の圧力に対して作
動させることを可能にする。
ンプ32に生成物供給を与えることによってパージし、
ボイドガスの供給が低圧サージタンク46から(及び必
要ならば、高圧サージタンク48からも)床の頂部に入
り、更に脱着された酸素を床の上部部分から押し下げ
る。 床12:原料空気を床の供給端に導入し続け、床の頂部
からの上部ボイドガスを高圧サージタンク48に供給す
る。酸素が床12内の吸着剤によって吸着される。床1
2内の圧力はこの工程の全体の間約105kPaのまま
であり、それにより圧縮機16を一定の圧力に対して作
動させることを可能にする。
【0040】工程4a:生成物加圧工程。 床10:この時間中、還流ガスを高圧サージタンク48
から(及び必要ならば、低圧サージタンク48からも)
得て床10を生成物加圧する。 床12:床10の排出端からのボイドガスの流れを低圧
サージタンク46の中に与える。
から(及び必要ならば、低圧サージタンク48からも)
得て床10を生成物加圧する。 床12:床10の排出端からのボイドガスの流れを低圧
サージタンク46の中に与える。
【0041】サージタンク(この場合では、46及び4
8)を2つ又はそれ以上使用することは、プロセスにお
いて一層大きな融通性をもたらす。例えば、図3に示す
サイクルにおける個々の工程は、固定した時間を占める
必要はない。すなわち、圧力や組成のような物理的変数
を用いて各々の床について割り当てる時間を決めること
ができ;それにより温度、圧力や生成物需要の変化につ
いてプロセスを調節することができる。床−床ガス移動
を要しないので、各々の床を独立にランさせ、かつプロ
セスを単一床ユニットの集合と見なすことが可能であ
る。しかし、圧縮機及び真空ポンプを適当にサイズしか
つ配分するために、各々の床の総括サイクルを他の床の
サイクルといくらか同期させるのが好適である。必要な
らば、サージタンクを2つよりも多く使用することがで
きる。
8)を2つ又はそれ以上使用することは、プロセスにお
いて一層大きな融通性をもたらす。例えば、図3に示す
サイクルにおける個々の工程は、固定した時間を占める
必要はない。すなわち、圧力や組成のような物理的変数
を用いて各々の床について割り当てる時間を決めること
ができ;それにより温度、圧力や生成物需要の変化につ
いてプロセスを調節することができる。床−床ガス移動
を要しないので、各々の床を独立にランさせ、かつプロ
セスを単一床ユニットの集合と見なすことが可能であ
る。しかし、圧縮機及び真空ポンプを適当にサイズしか
つ配分するために、各々の床の総括サイクルを他の床の
サイクルといくらか同期させるのが好適である。必要な
らば、サージタンクを2つよりも多く使用することがで
きる。
【0042】プロセス条件の最適化 発明のプロセス吸着工程において用いる高い圧力は、費
用を最少にするレベルに設定すべきである。ほとんどの
場合について、それは、吸着剤床及び接続パイピンング
内の摩擦圧力低下に適応させて、その場所の周囲圧力に
近いものになる。プロセス吸着工程において用いる最適
な圧力は、摩擦圧力低下に打ち勝つために供給空気を圧
縮するならば、周囲よりもわずかに高くするのがよく;
プロセス吸着工程において用いる最適な圧力は、摩擦圧
力低下に打ち勝つために廃棄を圧縮するならば、周囲よ
りもわずかに低くするのがよい。供給空気を別の圧力で
供給する場合には、通常、その供給圧力をプロセス吸着
工程における高い圧力用に用いるのが最良になる。
用を最少にするレベルに設定すべきである。ほとんどの
場合について、それは、吸着剤床及び接続パイピンング
内の摩擦圧力低下に適応させて、その場所の周囲圧力に
近いものになる。プロセス吸着工程において用いる最適
な圧力は、摩擦圧力低下に打ち勝つために供給空気を圧
縮するならば、周囲よりもわずかに高くするのがよく;
プロセス吸着工程において用いる最適な圧力は、摩擦圧
力低下に打ち勝つために廃棄を圧縮するならば、周囲よ
りもわずかに低くするのがよい。供給空気を別の圧力で
供給する場合には、通常、その供給圧力をプロセス吸着
工程における高い圧力用に用いるのが最良になる。
【0043】大きな床については、プロセス吸着工程に
おけるいずれの床の温度も、大概、空気原料の温度より
も2°〜5℃低くなる。
おけるいずれの床の温度も、大概、空気原料の温度より
も2°〜5℃低くなる。
【0044】プロセス脱着工程において用いる低い圧力
は、酸素冨化生成物中の所望の酸素濃度により及び酸素
選択性吸着剤の性質によって設定される。空気を105
kPaで吸着させる場合には、有効な吸着剤は、例えば
下記を与えることができる: 脱着圧30kPaにおいて酸素53% 脱着圧60kPaにおいて酸素31%。
は、酸素冨化生成物中の所望の酸素濃度により及び酸素
選択性吸着剤の性質によって設定される。空気を105
kPaで吸着させる場合には、有効な吸着剤は、例えば
下記を与えることができる: 脱着圧30kPaにおいて酸素53% 脱着圧60kPaにおいて酸素31%。
【0045】酸素選択性吸着剤 吸着剤の性質は、吸着平衡及び熱力学、吸着−脱着速
度、並びにボイドスペースと吸着剤密度との関係を含
む。吸着剤は、相対的な平衡ローディングを基にして強
酸素選択性であることが必須である。作用をレート選択
性に基づかせる吸着剤は、本発明において有用でない。
吸着剤は、窒素を吸着する傾向をちっとも持たないこと
が更に重要である。そのような吸着剤は、アルゴンを吸
着する傾向をほとんど持たないことが有用である。
度、並びにボイドスペースと吸着剤密度との関係を含
む。吸着剤は、相対的な平衡ローディングを基にして強
酸素選択性であることが必須である。作用をレート選択
性に基づかせる吸着剤は、本発明において有用でない。
吸着剤は、窒素を吸着する傾向をちっとも持たないこと
が更に重要である。そのような吸着剤は、アルゴンを吸
着する傾向をほとんど持たないことが有用である。
【0046】予期されない要求は、吸着剤が酸素を吸着
する強さが、むしろ小さい特定の範囲でなければならな
いことである。モデリングは、吸着剤が酸素を保持する
強さを、プロセス条件に予期されない方法で合わせる必
要があることを示した。別の予期されない関係は、吸着
剤が酸素を保持する強さが好適な範囲(下記に示す通り
である)である場合に、吸着剤の酸素についての最大容
量がかなり広い範囲にわたって変わり得ることである。
する強さが、むしろ小さい特定の範囲でなければならな
いことである。モデリングは、吸着剤が酸素を保持する
強さを、プロセス条件に予期されない方法で合わせる必
要があることを示した。別の予期されない関係は、吸着
剤が酸素を保持する強さが好適な範囲(下記に示す通り
である)である場合に、吸着剤の酸素についての最大容
量がかなり広い範囲にわたって変わり得ることである。
【0047】酸素選択性吸着剤は、高いMOを与える性
質を持たなければならずかつまた所定量の選択性吸着剤
についてできるだけ高いPPOを与えなければならな
い。これは、主に、酸素選択性吸着剤が正しいパターン
の酸素平衡ローディングを有し、また同時に重要な低い
窒素ローディングの性質及びボイドスペース対吸着剤質
量の小さい比を有することを必要とする。
質を持たなければならずかつまた所定量の選択性吸着剤
についてできるだけ高いPPOを与えなければならな
い。これは、主に、酸素選択性吸着剤が正しいパターン
の酸素平衡ローディングを有し、また同時に重要な低い
窒素ローディングの性質及びボイドスペース対吸着剤質
量の小さい比を有することを必要とする。
【0048】適例となる吸着剤 上に示した通りに、適した酸素選択性吸着剤の例は、下
記である:シリカ上に付着したBzIm/Co(Tpiv
PP)(シリカ21重量%)
記である:シリカ上に付着したBzIm/Co(Tpiv
PP)(シリカ21重量%)
【0049】ラングミュア等温線を所定の平衡酸素ロー
ディングに適合させておりかつ式を、吸着熱差を−1
3.1kcal/モル(−54.8kJ/モル)と取る
ことによって他の温度に拡張する。適例となる酸素選択
性吸着剤についてのモデリング結果を下記の表1に示
す。
ディングに適合させておりかつ式を、吸着熱差を−1
3.1kcal/モル(−54.8kJ/モル)と取る
ことによって他の温度に拡張する。適例となる酸素選択
性吸着剤についてのモデリング結果を下記の表1に示
す。
【0050】表1 高い(吸着)圧力 105kPa 低い(脱着)圧力 30kPa 並流ブローダウン圧力 37.5kPa 吸着温度 260〜320K 脱着熱 54.8kJ/モル 最大ローディング、LO 0.52モル/kg 嵩密度 330kg/m3 吸着剤密度 1490kg/m3
【0051】原料中の酸素の分圧 22.0kPa
【表1】
【0052】吸着温度は、吸着工程の終り近くに床のほ
とんどの部分において達する温度である。この吸着剤に
ついて、大きな、ほぼ断熱性の吸着剤床における継続サ
イクリングは、吸着温度を平均の供給温度よりも約3°
K程に大きく低下させ得る。
とんどの部分において達する温度である。この吸着剤に
ついて、大きな、ほぼ断熱性の吸着剤床における継続サ
イクリングは、吸着温度を平均の供給温度よりも約3°
K程に大きく低下させ得る。
【0053】MOは、降圧の結果、酸素選択性吸着剤床
において達する最大酸素モルフラクションである。
において達する最大酸素モルフラクションである。
【0054】PPOは、一次生成物中に含有される酸素
対酸素選択性吸着剤床の容積、モル/m3 の最大比であ
る。
対酸素選択性吸着剤床の容積、モル/m3 の最大比であ
る。
【0055】FRは、並流ブローダウンガス対要求され
るパージガスの最小比である。
るパージガスの最小比である。
【0056】吸着剤の最適化及び選定 酸素選択性吸着剤は、ラングミュア等温線によって密接
に適合される酸素平衡を有するのが典型的である。ラン
グミュアパラメーターが制限プロセス性能に及ぼす作用
を調べた。任意の所定の温度について、考慮すべきラン
グミュアパラメーターは、3つある: 1.Ph−利用可能な部位の半分が占有される場合に吸
着された酸素と平衡にある酸素の半圧、又は分圧。 2.dH−モル吸着熱。 3.LO−酸素についての最大容量。
に適合される酸素平衡を有するのが典型的である。ラン
グミュアパラメーターが制限プロセス性能に及ぼす作用
を調べた。任意の所定の温度について、考慮すべきラン
グミュアパラメーターは、3つある: 1.Ph−利用可能な部位の半分が占有される場合に吸
着された酸素と平衡にある酸素の半圧、又は分圧。 2.dH−モル吸着熱。 3.LO−酸素についての最大容量。
【0057】第一のパラメーターは、吸着剤が酸素を吸
着する強さの尺度である。半圧が小さい程、吸着剤が酸
素を保持する強さは大きくなる。
着する強さの尺度である。半圧が小さい程、吸着剤が酸
素を保持する強さは大きくなる。
【0058】主要なプロセス性能変数は、下記である: 1.MO−降圧の結果、酸素選択性吸着剤床において達
する最大酸素モルフラクション。 2.PPO−一次生成物中に含有される酸素対酸素選択
性吸着剤床の容積。 3.FR−並流ブローダウンガス対要求されるパージガ
スの最小比。
する最大酸素モルフラクション。 2.PPO−一次生成物中に含有される酸素対酸素選択
性吸着剤床の容積。 3.FR−並流ブローダウンガス対要求されるパージガ
スの最小比。
【0059】所定の一連のプロセス条件について、MO
及びPPOはできるだけ大きくすべきであるのに対し、
FRは1よりも小さくすべきである。Phが低下して供
給ガス中の酸素の分圧(22kPa)に近くなるにつれ
て、MOは上昇して少なくとも0.529のピークにな
り、PPO値は上昇して15モル/吸着剤床1m3 を超
えるピークになる。同時に、FRフロー比は低下して1
よりも小さい最小になる。それは、並流ブローダウンガ
スのすべてを、廃棄として再圧縮しなければならない代
わりに、パージとして使用することを可能にする。
及びPPOはできるだけ大きくすべきであるのに対し、
FRは1よりも小さくすべきである。Phが低下して供
給ガス中の酸素の分圧(22kPa)に近くなるにつれ
て、MOは上昇して少なくとも0.529のピークにな
り、PPO値は上昇して15モル/吸着剤床1m3 を超
えるピークになる。同時に、FRフロー比は低下して1
よりも小さい最小になる。それは、並流ブローダウンガ
スのすべてを、廃棄として再圧縮しなければならない代
わりに、パージとして使用することを可能にする。
【0060】Phについての好適な範囲は、供給ガス中
の酸素の分圧の約0.3〜約0.8倍の範囲である。最
も好適な範囲は、供給ガス中の酸素の分圧の約0.4〜
約0.7倍である。酸素の分圧のゼロ減少を基にしたM
Oについての理論的な上限は、0.7329である。
の酸素の分圧の約0.3〜約0.8倍の範囲である。最
も好適な範囲は、供給ガス中の酸素の分圧の約0.4〜
約0.7倍である。酸素の分圧のゼロ減少を基にしたM
Oについての理論的な上限は、0.7329である。
【0061】Phが低下して供給ガス中の酸素の分圧
(22kPa)に近くなるにつれて、MOは上昇して約
0.317のピークになり、PPO値は上昇して20モ
ル/吸着剤床1m3 を超えるピークになる。同時に、F
Rフロー比は低下して1よりもはるかに小さい最小にな
り、他の2つの変数がそれらのピークに達する同じ点に
近い最小に達する。Phについての好適な範囲は、供給
ガス中の酸素の分圧の約0.3〜約0.8倍の範囲のま
まである。最も好適な範囲は、供給ガス中の酸素の分圧
の約0.4〜約0.7倍のままである。
(22kPa)に近くなるにつれて、MOは上昇して約
0.317のピークになり、PPO値は上昇して20モ
ル/吸着剤床1m3 を超えるピークになる。同時に、F
Rフロー比は低下して1よりもはるかに小さい最小にな
り、他の2つの変数がそれらのピークに達する同じ点に
近い最小に達する。Phについての好適な範囲は、供給
ガス中の酸素の分圧の約0.3〜約0.8倍の範囲のま
まである。最も好適な範囲は、供給ガス中の酸素の分圧
の約0.4〜約0.7倍のままである。
【0062】酸素の分圧のゼロ減少を基にしたMOにつ
いての理論的な上限は、0.3664である。
いての理論的な上限は、0.3664である。
【0063】大きな脱着熱は、下記の表2に示す通り
に、性能を害する。性能を、表2に挙げる条件での最良
のPh値について比べる。脱着熱は、吸着熱の負数であ
ることに留意すること。
に、性能を害する。性能を、表2に挙げる条件での最良
のPh値について比べる。脱着熱は、吸着熱の負数であ
ることに留意すること。
【0064】表2 高い(吸着)圧力 105kPa 低い(脱着)圧力 30kPa 並流ブローダウン圧力 37.5kPa 吸着温度 300K 最大ローディング、LO 1.5モル/kg 嵩密度 330kg/m3 吸着剤密度 1490kg/m3
【0065】原料中の酸素の分圧 22.0kPa
【表2】
【0066】Phの値は、脱着熱の各々のレベルについ
て最適に近くなるように選んだ。
て最適に近くなるように選んだ。
【0067】酸素脱着熱の増大は、3つの性能変数すべ
てを悪い方向に動かした。酸素脱着熱は、プロセス工程
2及び3の間に、温度を低下させる作用をする。それ
は、一次生成物流中の酸素を濃縮させようとしている期
間中に酸素の分圧のカットを増加させる。酸素脱着熱
は、約150kJ/モルよりも小さいのが好適であり、
酸素脱着熱は、約100kJ/モルよりも小さいのが一
層好適である。
てを悪い方向に動かした。酸素脱着熱は、プロセス工程
2及び3の間に、温度を低下させる作用をする。それ
は、一次生成物流中の酸素を濃縮させようとしている期
間中に酸素の分圧のカットを増加させる。酸素脱着熱
は、約150kJ/モルよりも小さいのが好適であり、
酸素脱着熱は、約100kJ/モルよりも小さいのが一
層好適である。
【0068】予期される通りに、性能は、最大ローディ
ング、LOを増大させるにつれて増大するが、その傾向
は非線状である。表3及び4は、2つの異なる脱着圧
(それぞれ30kPa及び60kPa)におけるLOに
よる傾向を示す。
ング、LOを増大させるにつれて増大するが、その傾向
は非線状である。表3及び4は、2つの異なる脱着圧
(それぞれ30kPa及び60kPa)におけるLOに
よる傾向を示す。
【0069】表3 高い(吸着)圧力 105kPa 低い(脱着)圧力 30kPa 並流ブローダウン圧力 37.5kPa 吸着温度 300K 脱着熱 83.7kJ/モル 嵩密度 330kg/m3 吸着剤密度 1490kg/m3
【0070】原料中の酸素の分圧 22.0kPa
【表3】 Phの値は、LOの各々のレベルについて最適に近くな
るように選んだ。
るように選んだ。
【0071】表4 高い(吸着)圧力 105kPa 低い(脱着)圧力 60kPa 並流ブローダウン圧力 64.5kPa 吸着温度 300K 脱着熱 83.7kJ/モル 嵩密度 330kg/m3 吸着剤密度 1490kg/m3
【0072】原料中の酸素の分圧 22.0kPa
【表4】
【0073】Phの値は、LOの各々のレベルについて
最適に近くなるように選んだ。
最適に近くなるように選んだ。
【0074】性能は、LOを増大させるにつれて、初め
は急速であるが、LOの値が大きくなるにつれてずっと
ゆっくりと向上する。各々の表について、MO値は、初
めの工程において、他の3つの工程を組み合わせた場合
よりも一層増大する。0.75〜3.0の範囲のLOに
ついて、MOの増大は小さい。PPOの増大は、LOの
範囲全体にわたって続くが、LOへの比は低下する。各
々のLOの増大について、PPO値対LO値の比はずっ
と小さくなる;そのことは、吸着部位当りの一次生成物
酸素の量が、LOが増大するにつれて鋭く減少すること
を意味する。酸素選択性吸着剤の原価は、LOの値にほ
ぼ比例するようである。
は急速であるが、LOの値が大きくなるにつれてずっと
ゆっくりと向上する。各々の表について、MO値は、初
めの工程において、他の3つの工程を組み合わせた場合
よりも一層増大する。0.75〜3.0の範囲のLOに
ついて、MOの増大は小さい。PPOの増大は、LOの
範囲全体にわたって続くが、LOへの比は低下する。各
々のLOの増大について、PPO値対LO値の比はずっ
と小さくなる;そのことは、吸着部位当りの一次生成物
酸素の量が、LOが増大するにつれて鋭く減少すること
を意味する。酸素選択性吸着剤の原価は、LOの値にほ
ぼ比例するようである。
【0075】LOについての好適な範囲は、約0.1〜
3.0モル/kgの間にある。一層好適な範囲は、約
0.3〜1.5モル/kgの間にある。
3.0モル/kgの間にある。一層好適な範囲は、約
0.3〜1.5モル/kgの間にある。
【0076】予期される通りに、性能は、嵩密度、BD
ENを増大させるにつれて増大するが、その傾向は予期
されない程に非線状である。表5は、選定した脱着圧に
おけるBDENによる傾向を示す。
ENを増大させるにつれて増大するが、その傾向は予期
されない程に非線状である。表5は、選定した脱着圧に
おけるBDENによる傾向を示す。
【0077】表5 高い(吸着)圧力 105kPa 低い(脱着)圧力 30kPa 並流ブローダウン圧力 37.5kPa 吸着温度 300K 脱着熱 83.7kJ/モル 最大ローディング、LO 1.5モル/kg 吸着剤密度 1490kg/m3
【0078】原料中の酸素の分圧 22.0kPa
【表5】
【0079】Phの値は、LOの各々のレベルについて
最適に近くなるように選んだ。
最適に近くなるように選んだ。
【0080】性能は、BDENを増大させるにつれて、
初めは急速であるが、BDENの値が大きくなるにつれ
て一層ゆっくりと向上する。非線状性は、LO程に大き
いものではないが、明瞭である。各々の表について、M
O値は、初めの工程において、他の3つの工程を組み合
わせた場合よりも一層増大する。PPOの増大は、BD
ENの範囲全体にわたって続くが、BDENへの比は低
下する。各々のBDENの増大について、PPO値対B
DEN値の比はずっと小さくなる;そのことは、吸着部
位当りの一次生成物酸素の量が、BDENが増大するに
つれて鋭く減少することを意味する。酸素選択性吸着剤
の原価は、BDENの値にほぼ比例するようである。
初めは急速であるが、BDENの値が大きくなるにつれ
て一層ゆっくりと向上する。非線状性は、LO程に大き
いものではないが、明瞭である。各々の表について、M
O値は、初めの工程において、他の3つの工程を組み合
わせた場合よりも一層増大する。PPOの増大は、BD
ENの範囲全体にわたって続くが、BDENへの比は低
下する。各々のBDENの増大について、PPO値対B
DEN値の比はずっと小さくなる;そのことは、吸着部
位当りの一次生成物酸素の量が、BDENが増大するに
つれて鋭く減少することを意味する。酸素選択性吸着剤
の原価は、BDENの値にほぼ比例するようである。
【0081】BDENについての好適な範囲は、約11
0kg/m3 を超えてあり、一層好適な範囲は、約33
0kg/m3 を超えてある。
0kg/m3 を超えてあり、一層好適な範囲は、約33
0kg/m3 を超えてある。
【0082】吸着及び脱着速度を高く保ちかつ吸着剤生
産性を高く保つには、約2mmよりも小さい粒径を用い
るのが好適であり、粒径を1mmよりも小さく保つのが
一層好適である。同じ理由で、プロセスについての全サ
イクル時間を約60秒よりも短く、一層好ましくは約3
0秒よりも短く保つのが好適である。
産性を高く保つには、約2mmよりも小さい粒径を用い
るのが好適であり、粒径を1mmよりも小さく保つのが
一層好適である。同じ理由で、プロセスについての全サ
イクル時間を約60秒よりも短く、一層好ましくは約3
0秒よりも短く保つのが好適である。
【0083】吸着圧80〜約210kPaの範囲で作動
させるのが好適である。吸着圧90〜約130kPaの
範囲で作動させるのが一層好適である。脱着圧は、吸着
圧の約0.9〜約0.2倍にするのが好適であり;脱着
圧は、吸着圧の約0.7〜約0.3倍にするのが一層好
適である。
させるのが好適である。吸着圧90〜約130kPaの
範囲で作動させるのが一層好適である。脱着圧は、吸着
圧の約0.9〜約0.2倍にするのが好適であり;脱着
圧は、吸着圧の約0.7〜約0.3倍にするのが一層好
適である。
【0084】脱着パージ供給から及び床再加圧流れから
エネルギーを回収するために、エキスパンダーを使用す
ることができる。随意に、エネルギー回収率の増進を図
るために、再生セクションを吸着剤床に加入することが
できる。
エネルギーを回収するために、エキスパンダーを使用す
ることができる。随意に、エネルギー回収率の増進を図
るために、再生セクションを吸着剤床に加入することが
できる。
【0085】発明に関して用いることができるO2 選択
性吸着剤の更なる2つの例は、下記である: B)Co(3,5−diBut salDAP) C)Co{3,5−diBut sal/(ETO)(C
o2 Et)Hmal−DAP}
性吸着剤の更なる2つの例は、下記である: B)Co(3,5−diBut salDAP) C)Co{3,5−diBut sal/(ETO)(C
o2 Et)Hmal−DAP}
【0086】遷移元素複合体B及びCは、分子内配位用
に適した4つのドナー部位及び余儀なく分子間に働かさ
れる1つのドナー部位を有するビス(シッフ塩基)キレ
ート化リガンドのジアニオンから誘導されるコバルト
(II)複合体を表わす。B及びCの組成の範囲の具体
例は、本願と同時継続しかつ本願と同じ出願人に譲渡さ
れた米国特許出願第 号に載せており、同特許出
願の教示を本明細書中に援用する。
に適した4つのドナー部位及び余儀なく分子間に働かさ
れる1つのドナー部位を有するビス(シッフ塩基)キレ
ート化リガンドのジアニオンから誘導されるコバルト
(II)複合体を表わす。B及びCの組成の範囲の具体
例は、本願と同時継続しかつ本願と同じ出願人に譲渡さ
れた米国特許出願第 号に載せており、同特許出
願の教示を本明細書中に援用する。
【0087】Co(3,5−diBut salDAP)
と略記する複合体Bは、正式には3,4−ジアミノピリ
ジン(DAP)と2当量の3,5−ジ−t−ブチルサリ
チルアルデヒド(3,5−diBut sal)とのシッ
フ塩基縮合から誘導されるキレート化リガンドのジアニ
オンのコバルト(II)形態である。
と略記する複合体Bは、正式には3,4−ジアミノピリ
ジン(DAP)と2当量の3,5−ジ−t−ブチルサリ
チルアルデヒド(3,5−diBut sal)とのシッ
フ塩基縮合から誘導されるキレート化リガンドのジアニ
オンのコバルト(II)形態である。
【0088】Co{3,5−diBut sal/(ET
O)(Co2 Et)Hmal−DAP}と略記する複合
体Cは、正式にはエトキシメチレンジエチルマロネート
と3,4−ジアミノピリジンとを1:1縮合させ、次い
で残留する第一級アミン基と3,5−ジ−t−ブチルサ
リチルアルデヒドとをシッフ塩基縮合させることをによ
って造るキレート化リガンドのジアニオンのコバルト
(II)複合体である。
O)(Co2 Et)Hmal−DAP}と略記する複合
体Cは、正式にはエトキシメチレンジエチルマロネート
と3,4−ジアミノピリジンとを1:1縮合させ、次い
で残留する第一級アミン基と3,5−ジ−t−ブチルサ
リチルアルデヒドとをシッフ塩基縮合させることをによ
って造るキレート化リガンドのジアニオンのコバルト
(II)複合体である。
【0089】先の記述は、単に発明を例示するに過ぎな
いことを理解すべきである。当業者ならば、種々の別法
及び変更を発明から逸脱しないで工夫することができ
る。よって、本発明は、特許請求の範囲内に入るそのよ
うな別法、変更及び変化をすべて包含する意図である。
いことを理解すべきである。当業者ならば、種々の別法
及び変更を発明から逸脱しないで工夫することができ
る。よって、本発明は、特許請求の範囲内に入るそのよ
うな別法、変更及び変化をすべて包含する意図である。
【図1】例の吸着剤について吸着された量の圧力に対す
るプロットである。
るプロットである。
【図2】発明の方法を実施するためのVPSA系の略ダ
イヤグラムである。
イヤグラムである。
【図3】発明のプロセスの2床実施を略例示する。
16 圧縮機 32 真空ポンプ
Claims (3)
- 【請求項1】 好適なガスとそれ程好適ではないガスと
の供給混合物から好適なガスで冨化されたガスを混合物
を抜き出す際に、平衡基準で該好適なガスについて選択
吸着優先を示す吸着剤床を使用する真空/圧力スイング
吸着(VPSA)方法であって、下記の工程を含む方
法: a)供給ガス混合物をほぼ一定の高い吸着圧で吸着剤床
の供給端に通して、吸着剤床に供給ガス混合物から好適
なガスを吸着させ、ボイドガスを吸着剤床の第二の端部
から出させ、そのボイドガスの一部を後にパージ及び生
成物加圧工程の間に使用するために高圧サージタンクに
供給し; b)プロセス降圧工程の間に、ガスを吸着剤床の一端又
は両端から出させることによって吸着剤床を降圧し、ガ
スの内のいくらかは吸着剤床の別の端を出て、これを貧
酸素還流ガスとして使用するために低圧サージタンクに
供給し、次いで吸着剤床の供給端から出るガスの内のい
くらを酸素冨化生成物ガスとして使用し又は再圧縮して
後のプロセス工程の間に1つ又はそれ以上の吸着剤床の
供給端に供給する供給ガスへの補足として循環させ; c)プロセス脱着工程の間に、低圧サージタンクからの
貧酸素還流ガスを吸着剤床の別の端に流して吸着された
好適なガスの内のいくらをパージし、好適なガス冨化生
成物ガスをほぼ一定な又は下降している低い圧力の吸着
剤床の供給端から出させ;及び d)プロセス再加圧工程の間に、ガスを吸着剤床の一端
又は両端に入れさせることによって吸着剤床を再加圧
し、その場合、好適なガスの貧な還流ガスを高圧サージ
タンクから吸着剤床の第二端に供給しかついくらかの供
給ガス混合物を吸着剤床の供給端に供給する。 - 【請求項2】 好適なガスとそれ程好適ではないガスと
の供給混合物から好適なガスを抜き出す際に、平衡基準
で該好適なガスについて選択吸着優先を示す吸着床を使
用する真空/圧力スイング吸着(VPSA)方法であっ
て、下記の工程を含む方法: a)該吸着床を該供給混合物の流れによって中圧から高
圧に加圧して該吸着床に該好適なガスを吸着させかつ該
加圧の間に該床からのボイドガスを第一貯蔵タンクに供
給し; b)該床から該ボイドガスのそれ以上の流れを抜き出し
て第二貯蔵タンクの中に貯蔵し、その間に該吸着床を低
い圧力にもたらし; c)該第二貯蔵タンクから該ボイドガスの供給を該吸着
床にもたらしながら、ほぼ該低い圧力で該吸着床から該
好適なガスを脱着させ、脱着された該好適なガスは生成
物生産となり;及び d)該第一貯蔵タンクから該ボイドガスを供給して該吸
着床を加圧してほぼ該中間圧力にし、工程a〜dを繰り
返す。 - 【請求項3】 前記好適なガスが酸素冨化生成物であ
り、前記吸着床が、下記:BzIm/Co(Tpiv P
P)/SP−SiO2 ;Co(3,5−diBut sa
lDAP);及びCo{3,5−diBut sal/
(ETO)(Co2Et)Hmal−DAP}を含む群
から選ぶ酸素選択性吸着剤で構成する請求項1又は2の
VPSA方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US783081 | 1997-01-15 | ||
US08/783,081 US5871565A (en) | 1997-01-15 | 1997-01-15 | Vacuum/pressure swing adsorption (VPSA) for production of an oxygen enriched gas |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10202040A true JPH10202040A (ja) | 1998-08-04 |
Family
ID=25128106
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10014771A Pending JPH10202040A (ja) | 1997-01-15 | 1998-01-12 | 酸素冨化ガスを製造する真空/圧力スイング吸着(vpsa)方法 |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5871565A (ja) |
EP (1) | EP0853966A1 (ja) |
JP (1) | JPH10202040A (ja) |
KR (1) | KR100326500B1 (ja) |
CN (1) | CN1200949A (ja) |
BR (1) | BR9800285A (ja) |
CA (1) | CA2226696C (ja) |
ID (1) | ID19497A (ja) |
Families Citing this family (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2764205B1 (fr) * | 1997-06-09 | 1999-07-16 | Air Liquide | Dispositif et procede psa de separation d'un melange gazeux |
US5961694A (en) * | 1997-06-09 | 1999-10-05 | L'air Liquide, Societe Anonyme Pour L'etude Et L'exploitation Des Procedes Georges Claude | Apparatus and process for the separation of gas mixtures by pressure swing adsorption |
FR2776941B1 (fr) * | 1998-04-07 | 2000-05-05 | Air Liquide | Procede et unite de production d'oxygene par adsorption avec cycle court |
US5997611A (en) * | 1998-07-24 | 1999-12-07 | The Boc Group, Inc. | Single vessel gas adsorption system and process |
US6083299A (en) * | 1999-01-21 | 2000-07-04 | The Boc Group, Inc. | High pressure purge pressure swing adsorption process |
US6245127B1 (en) * | 1999-05-27 | 2001-06-12 | Praxair Technology, Inc. | Pressure swing adsorption process and apparatus |
US6436171B1 (en) | 1999-07-22 | 2002-08-20 | The Boc Group, Inc. | Oxygen-selective adsorbents |
US6749405B2 (en) * | 2000-06-16 | 2004-06-15 | Stuart Bassine | Reversible pivoting vane rotary compressor for a valve-free oxygen concentrator |
US6425938B1 (en) * | 2000-11-01 | 2002-07-30 | Air Products And Chemicals, Inc. | Single bed pressure swing adsorption process |
US6500235B2 (en) * | 2000-12-29 | 2002-12-31 | Praxair Technology, Inc. | Pressure swing adsorption process for high recovery of high purity gas |
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WO2004007056A1 (ja) * | 2002-07-15 | 2004-01-22 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | 酸素ガス分離方法 |
US20050061001A1 (en) * | 2003-01-29 | 2005-03-24 | Maston Valerie A. | Streamlined methane gas generation system |
US7114932B1 (en) * | 2004-01-22 | 2006-10-03 | Stuart Bassine | Valve-free oxygen concentrator featuring reversible compressors |
US7329304B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-02-12 | Respironics Oxytec, Inc. | Portable oxygen concentrator |
US7368005B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-05-06 | Respironics Oxytec, Inc. | Portable oxygen concentrator |
US7402193B2 (en) * | 2005-04-05 | 2008-07-22 | Respironics Oxytec, Inc. | Portable oxygen concentrator |
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