JPS5813216B2 - 酸素吸脱着剤 - Google Patents

酸素吸脱着剤

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JPS5813216B2
JPS5813216B2 JP54125628A JP12562879A JPS5813216B2 JP S5813216 B2 JPS5813216 B2 JP S5813216B2 JP 54125628 A JP54125628 A JP 54125628A JP 12562879 A JP12562879 A JP 12562879A JP S5813216 B2 JPS5813216 B2 JP S5813216B2
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dmf
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  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は酸素吸脱着剤に係り、特に立体障害性近位塩
基型高分子鉄ポルフイリン錯体を有効成分とする酸素吸
脱着剤に関する。
一般に、式 (ここで、R1は水素原子、ビニル基またはエチル基)
で示される鉄ポルフイリン錯体のカルボキシル基のうち
の一つと1−(3−アミノブロピル)イミダゾールとを
反応させてアミド結合によりイミダゾール基を環側鎖に
導入した錯体を近位塩基型鉄ポルフイリン錯体と称し、
式 (ここで、R1は式(I)の場合と同じ、およびRうち
、Rがエチル基のときはC.K.ChangおよびT.
G.Traylorによる合成例が知られている( P
roc.Nat.Acad.Sci.USA, 70巻
、2647頁、1973)。
式(I)で示される鉄ポルフイリン錯体は中心鉄がFe
(■)のとき活性であり、適当な軸塩基(イミダゾール
、ピリジン等)の存在下に、酸素分子を軸配位座に吸着
する能力を有する。
しかしながら、イミダゾールやピリジン等を軸配位子と
して加えた場合、その軸配位子は二つの軸配位座に配位
し、例えば、 (ただし、−一はポルフイリン環平面を 側方向から見た状態を示す。
以下同じ)のような6配位構造を取り、中心Fe■が空
配位座を持たないため酸素親和性に乏しい。
さらに、C.E.Castoroら(J.Am.Che
m.Soc.998032( 1977))によれば、
このような6配位構造を取ると、 のような副反応が起って中心鉄がFe(lll)へ酸化
され、活性を失う。
一方、式(II)で示されるような近位塩基型錯体では
例えば、 のような安定5配位構造を取りやすく、空配位の第6座
で酸素を効率よく吸着できるとされている。
しかしながら、実際には溶媒中において、(Solは溶
媒分子)のような混合6配位構造を取りやすく、この傾
向はSolがH2Oやジメチルホルムアミド(DMF)
、テトラヒドロフラン(THF)、ジオキサンおよび
ジメチルスルホキシド(DMSO)のとき特に顕著であ
り、これらの溶媒中での酸素化がむつかしく、また空気
中の湿気により活性が著しく減じられる。
この発明は安定な5配位構造のみを取る立体障害性近位
塩基型鉄ポルフィリン錯体を高分子に結合してなる高分
子錯体を有効成分としてなるガス吸着剤を提供すること
を目的とする。
すなわち、この発明の酸素吸脱着剤は、一般式(ここで
、Aは−{N(H)a}基を主鎖または側鎖に結合して
なる単量体単位、aは0または1、各R1は水素原子、
ビニル基またはエチル基、およびR2は水素原子または
メチル基)で示される錯体部単位を40モル%以下の割
合で含んでなり、上記鉄ポルフイリン錯体部を除く高分
子連鎖が5000以上の数平均分子量を有する立体障害
性近位塩基型高分子鉄ポルフィリン錯体を有効成分とす
るものである。
上記(A)式からわかるように、この発明の高分子鉄ポ
ルフイリン錯体において、立体障害を示すメチル基がイ
ミダゾール環の4位にメチル基が導入されている。
この4位にメチル基とポルフイリン環との立体障害によ
り、模式 で示すようにイミダゾールがポルフイリン環の真下から
ではなく斜めから配位するようになり、その結果第6座
の軸配位子場が弱くなって溶媒分子が配位できないよう
になる。
この斜め配位によりイミダゾール基自体の配位能も減少
する傾向にあるが、メチル基の−■効果が配位性窒素上
の電子密度を増加させるために補償される。
また、5位にもメチル基がある場合すなわち R3がメ
チル基の場合にはイミダゾール基自体の配位能がさらに
増大し、酸素錯体を形成する能力はより優れたものとな
る。
こうして、式Aで示される立体障害性近位塩基型錯体で
は安定5配位構造が形成されるのである。
もつとも、前記式(■)におけるRが である場合の錯体 も一種の立体障害性近位塩基型の錯体といえるが、メチ
ル基がイミダゾール環の2位に位置しているため、立体
障害が強すぎる結果、その錯体は5配位構造と当該イミ
ダゾール基の配位していない4配位構造との混合体とな
る。
この4配位錯体は極めて速やかに酸素によって酸化され
るので酸素吸着性が非常に劣ったものとなる。
また、置換位置がイミダゾール環の4位であっても、メ
チル基よりも嵩高い基であったり、また+I効果を有す
る基であっては不都合である。
前記式(I)で示される錯体はジメチルホルムアミド(
DMF)、ジメチルアセトアミド、DMSO,N−メチ
ルピロリドンおよび低級脂肪族アルコールのみに溶解す
るが、この発明で用いる高分子鉄ポルフイリン錯体はそ
の溶解性を当該高分子の溶解性によって制御できる。
既述のように、式(A)で示される錯体部単位の割合は
全高分子連鎖構成単位の40モル楚以下(0モル%を越
える)である。
その理由は、立体障害性近位塩基型鉄ポルフイリン鎖体
は次式 (ここで、Fe−BおよびFe は立体障害近位塩
基Bが中心鉄に配位した状態および解離した状態をそれ
ぞれ示す)で示される二重化酸化機構があり、高分子中
の錯体部導入率が40モル係を越えると同一高分子連鎖
上の錯体同志が衝突しやすく、上記二重化酸化によって
活性を失い易くなるからである。
また、この意味から、錯体部を導入する前の出発高分子
の分子量が低いと、同一高分子連鎖上の錯体同志ではな
く高分子錯体そのもの同志が衝突しやすくなり、やはり
二量化酸化が進行するので、その分子量は数平均分子量
(Mn)にして5000以上、好ましくは20000以
上のものを用いることが必要である。
この発明で用いられる式(A)で示される錯体部単位を
有する高分子錯体の製造方法の一例を示すと、まず式(
I)で示されるポルフイリン錯体のモノメチルエステル
を得、これと 後、エステル部分を塩基で加水分解しその生成物のカル
ボキシル基を連鎖主鎖または側鎖に一級または二級アミ
ン基を有する高分子と反応させる。
今、上記アミン基を有する高分子をPoly−NH2で
代表させてこの反応を式で表わすと、一例として次のよ
うに示される。
上記反応(I)では、鉄ポルフイリン錯体と等量のメタ
ノールとをDMF中で硫酸を触媒として反応させる。
この反応混合物を大量の水に注下、沈でんさせ、沈でん
物をろ集、乾燥後CHCl3/CH30H(50/l)
を用いてシリカゲル100メッシュカラムで展開してま
ずジメチルエステル体を流出させる。
次に、CHCl3/CH30H(30/1)で展開する
とモノメチルエステル体が得られる。
溶媒を留去して粉末とし、これを反応(■)に用いる。
反応(■)では、反応(I)で得たモノメチルエステル
体をDMFの溶液とし、0〜5℃で等量のエチルクロロ
ホルメートおよびトリエチルアミンを滴下して1時間攪
拌する。
ついで、0〜5℃で等量のイミダゾール誘導体を滴下し
、0〜5℃で1時間攪拌し、室温で終夜放置する。
その後、溶媒を留去し、シリカゲル100メッシュカラ
ムを用いてCHCl3/CH30H(4/l)で展開す
ると、第1留分に目的のモノアミドモノエステル体が得
られる。
溶媒を留去して得た粉末を最小量のDMFに溶解し、同
容量の1N−KOH水溶液を加えて1時間攪拌し、水で
希釈後HC7を加えpHを5とし、沈でん物をろ集、乾
燥して目的のモノアミド体を得る。
反応(■)では、反応(■)で得たモノアミド体をDM
Fに溶解し、0〜5℃で等量のエチルクロロホルメート
およびトリエチルアミンを滴下して1時間攪拌する。
ついで、アミン基単位にして1/5当量のPoly−N
H2を0〜5℃で加え、1時間攪拌後、室温で終夜放置
する。
溶媒を留去し、用いたPoly−NH2の種類に応じて
不溶性の高分子錯体が得られた場合は充分にメタノール
で洗浄し、易溶性の高分子錯体が得られた場合はカラム
精製(高分子の性質により、用いるカラムが異なる)し
て目的の立体障害性近位塩基型高分子鉄ポルフイリン錯
体が得られる。
上記反応に用いる高分子は、既述のように、連鎖主鎖ま
たは側鎖に一級または二級アミ7基を有するもので、一
般式 (ここで、Aは一級または二級アミン基 −{N(H)a}を主鎖または側鎖に結合してなる単H 量体単位、aは0または1、Bは共重合性単量体単位、
lおよびmは各単位のモル楚を示し、l+m=100%
、g>0およびm≧0)で示すことができる。
このような高分子の例を以下列挙する。なお、錯体部単
位を40モル係以下とするには(1)上記高分子中のl
が40モル楚以下のものを用い、大過剰の錯体と反応さ
せる、あるいは(2)上記高分子中のlが40モル楚以
上のときは〔全アミノ基モル数)×5×(1−(l−4
0/l)量に相当する錯体を反応させることにより制御
できる。
なお、〔錯体〕/〔エチルクロロホルメート〕/〔脱塩
酸剤(トリエチルアミンなど)〕は1/1/1であるこ
とが好ましくその他の条件は前述した通りである。
なお、中心鉄の還元は適当な還元剤を用いておこなえば
よい。
こうして得られる高分子錯体はそのまま不定形固体とし
て、あるいは粉末や膜状物として、さらにはDMF,D
MSO,ジメチルアセトアミド、THF、CHCl3、
CH2Cl2、ClCH2CH2Cl、CCl4、ベン
ゼン、トルエン、ジオキサン、CH3CNまたはN−メ
チルピロリドンで膨潤されたゲル状物として、さらには
これらの溶媒の溶液として酸素吸脱着能を有する。
この酸素吸脱着剤は(1)気体からの微量酸素の除去、
(2)触媒的酸化反応の助触媒、および(3)燃料電池
の触媒として有用である。
以下、実施例に沿って説明するが、それに先立ち立体障
害性近位塩基錯体およびこれを結合してなる高分子錯体
の合成例を記す。
合成例 1 (A) 鉄(■)ブロトポルフイリン■・Cl(Fe
(■)Hと略す)6.52gを100mlのDMFに溶
解し、メタノール0. 3 2 gおよび硫酸3mlを
加え約100℃に加温した後、1時間反応させた。
適当に減圧濃縮した後、純水中に滴下し、沈澱物をろ集
して乾燥した(収量約6g)。
このものをφ20cm×60cmのシリカゲル(100
メッシュ)カラムを用いて、まずCHCl3/CH3O
H(50/1)で流出させてFe(■)H−ジメチルエ
ステルを得る。
次にCHCl3/CH3OH(30/1)で流出させて
目的のFe(■)H−モノメチルエステルを3.3g得
た。
これをDMF50mlに溶解し、0℃でエチルクロロホ
ルメート0.54gおよびトリエチルアミン0.5gを
滴下して1時間攪拌した。
ついでl−(3−アミノプロピル)一4−メチルイミダ
ゾール0.7gを0℃で滴下し、1時間攪拌したのち室
温で終夜放置した。
涙過後、溶媒を減圧留去し、φ15cm×60cmのシ
リカゲル(100メッシュ)カラムを用いてCHCl3
/CH30H(4/l)で展開して最初の少量不純物を
流出させた後に目的の下記構造物1.2gを得た。
これを最少量のDMFに溶解し、同容量のIN−KOH
水溶液を加え、1時間攪拌した。
その後、水で適当に希釈し、HClをpH5になるまで
加えて生成する沈澱をろ集、乾燥して、上記構造式中エ
ステル部が加水分解されて −COOH型となった目的物(BFe(III)Hと略
す1.1gを得た。
BFe(III)H 元素分析(計算値)C59.83N12.21H5.4
0%(実測値)C59.88N12.25H5.36%
NMRスペクトル(d6−DMSO中、NaCN添加環
−CH315.38,14.75,11.94,10.
64(12H);α−CH,5.64,5.24(4H
);β一CH2−0.25,−0.44(4H);ビニ
ルーH10.57,−2.11−2.79(3H);イ
ミダゾール環−H7.53,7.03(2H);イミダ
ゾールーCH32.14(3H);アミドN−H7.2
0(1H)ppm(B) (A)において、l−(3
−アミノブロビル)−4−メチルイミダゾールの代りに
、1−(3−アミノブロピル)−4.5−ジメチルイミ
ダゾールを0.75g用いた他は全く囚と同様にして下
記構造物(B’Fe(■)Hと略す)1.3gを得た。
B’Fe(■)H 元素分析(計算値)C60.28N12.00H5.5
5%(実測値)C60.21N12.06H5.49%
NMRスペクトル(d6−DMSO中、NaCN添加内
部標準TMS) 環−CH315.22,14.61,11.83,10
.59(12H);α一CH25.64,5.24(4
H);β−CH2−0.07 ,−0.47(4H);
ビニルーH10.36,−2.08〜−2.77(3H
);イミダゾール環−H7.10(1H);イミダゾー
ルーCH32.08,1.97(6H);アミドN−H
7.39(LH)pI)In(C) (A)において
Fe(■)Hの代りにデュテロヘミン(佐藤薬学■製)
6.4gを用いた他は囚と同様にして下記構造物(BF
e(■)Dと略す)を1.1gBFe(Ill)D 元素分析(計算値)C57.58N13.06H5.2
3%(実測値)C57.52N13.08H5.25%
NMRスペクトル(d6−DMSO中、NaCN添加内
部標準TMS) 環一CH315.10,14.46,11.57,10
.32(12H);α−CH25.61,5.13(4
H);β一CH2−0.12,−0.51(4H);イ
ミダゾール−H7.51,7.00(2H);イミダゾ
ールーCH32.15(3H);アミドN−H7.22
(1H)ppm(D)(B)においてFe(■)Hの代
りにデュテロヘミン6.4gを用いた他は(B)と同様
にして下記構造物(B’Fe(III)Dと略す)を1
.1g得た。
B’Fe(■)D 元素分析(計算値)C58.09N12.82H5.4
0%(実測値)C58.09N 12.82H5.36
%NMRスペクトル(d6−DMSO中、NaCN添加
、内部標準TMS) 環−−CH315.11,14.48,11.59,1
0.34(12H);α−CH25.64,5.15(
4H);β一CH2−0.12,−0.53(4H);
イミダゾールーH7.12(IH);イミダゾールーC
H32.10,1.99(6H);アミドN−H7.4
1(1H)ppm(E) (A)においてFe(II
DHの代りにメゾヘミン(佐藤薬学株製)6.6.9を
用いた他は囚と同様にして下記構造物(BFe(■)H
と略す)1.21gを得た。
BFe(■)M 元素分析(計算値)C59.53N12.15H5.8
7%(実施値)C59.50N12.18H5.90%
NMRスペクトル(d6−DMSO中、NaCN添加内
部標準TMS) 環一CH315.90,15.02,11.97,10
.86(12H);α−CH25.88,5.47(4
H);β−CH2・−0.06,−0.46(4H);
イミダゾール−H7.58,7.24(2H);イミダ
ゾールーCH32.21(3H);アミドN−H7.3
1(IH)ppm(F)(B)においてFe(■)Hの
代りにメゾヘミン6,6gを用いた他は(B)と同様に
して下記構造物(B’Fe(■)Mと略す)1、26g
を得た。
B’Fe(■)M 元素分析(計算値)C59.98N11.94H6.0
2%(測定値)C60.02N11.90H6.08%
NMRスペクトル(d 6−DMSO中、NaCN添加
、内部標準TMS) 環−CH315.86,14.97,11.91,10
.80(12H);α一CH25.82,5.41(4
H);β−CH2−0.02,−0.44(4H);イ
ミダゾールーH7.04(1H);イミダゾール−CH
32.10,1.96(2H);アミドN−H7.38
(1H)PIN合成例 2〜7 (A 市販のスチレン10.5g、p−アミノメチルス
チレン4.1g、α,α′−アゾビスイソブチロニトリ
ル0.64gにベンゼンを加えて50mlとし、脱気、
封管して60℃にて6時間振とうしながら重合した。
開封後溶液を大量のエーテル中に投じ、沈澱をろ集、乾
燥して下記構造の共重合体(PSAと略)8.2gを得
た。
PSA 元素分析(計算値)C87.58N4.21H8.31
%(測定値)C87.54N4.22H8.30%VP
O法による分子量測定から、数平均重合度(Mn)は3
7000であった。
(B) 合成例I(A)〜(F)で得たBFe(■)
H,B’Fe(■)HBFe(HOD,B’Fe(l[
DD,BFe(I(■MおよびB’Fe((■Mそれぞ
れ1.0gをDMF20mlに溶解し、0℃でそれぞれ
0.1 4gのエチルクロロホルメートおよび0.13
5gのトリエチルアミンを加え、1時間攪拌した。
これらに、それぞれ1.5gのPSAを0℃で加え、2
時間攪拌し、次に常温で終夜反応させた。
溶媒を減圧留去し、それぞれφ10.Ocm×25cI
rLのシリカゲル(100メッシュ)カラムを用いてベ
ンゼンで展開、流出部を減圧濃縮して大量のエーテルに
投じ、沈澱をろ集、乾燥した。
得られた粉末はPSAのアミン基と合成例1(A)〜(
F)で得た錯体の−COOH基が縮合してアミド結合し
た該当の立体障害近位塩基型高分子ポルフイリン錯体で
あった。
収量はそれぞれ1、3g、1.2g,1,22g,1.
24gおよび1.26gであった。
DM中での紫外可視吸収スペクトルのBFe((■H
,B’Fe(■H ,BFe(■ ,B’Fe(■)D
,BFe(I[I)M.B’Fe(III)Mの吸光
度を標準として、対応する高分子錯体の吸光度よりアミ
ド結合生成率(以下アミド結合率と略記、高分子中のア
ミン単位への錯体導入率に相当する)を求めたところ、
いずれも99.5%以上と計算され、PSAのアミ7基
は錯体の−COOH基と全て反応したと結論された。
以上により得た高分子錯体はベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロホルム、ジクロルエタン、ジクロルメタン
、THF,DMF,DMSOに可溶で黄褐色を呈する。
アルコール類、水には不溶テある。
合成例 8 p−アミンメチルスチレン2.0gおよびアゾビスイソ
ブチロニトリル0.08gにベンゼンを加えて10ml
とし、常法に従い60℃で3時間ラジカル重合した。
開封後大量のエーテルに投じて沈澱を涙集、乾燥して該
当高分子1.2gを得た。
VOPによる分子量測定ではMn=34000であった
合成例1(A)で得たBFe(■)H 0.2gを3
0mlのDMFに溶解し、0℃で0.14gのエチルク
ロロホルメートおよび0.135gのトリエチルアミン
を加え、1時間攪拌した。
ついで、上記高分子0.1gを0℃で加え、3時間攪拌
、室温で1日反応させた。
減圧乾固したのちφ5.Ocm×25cmのシリカゲ゛
ル(100メッシュ)カラムを用い、THFで展開し、
流出物を減圧濃縮して大量のエーテルに投じ、沈澱をろ
集、乾燥して該当高分子のアミノ基と錯体の−COOH
基が縮合してアミド結合した高分子錯体0.082gを
得た。
合成例2〜7と同様の手法でアミド結合率を求めたとこ
ろ■7,8%と計算された。
この高分子錯体はDMF,THF,DMSOに可溶であ
り、石油エーテル、エーテル、水に不溶他の有機溶媒に
は難溶であった。
合成例 9 p−アミンメチルスチレンの代りにp−アミノスチレン
2.0gを、BFe(■)Hの代りに合成例l(B)で
得たB’Fe(■)H0.2gを用いた他は全て合成例
8と同様に処理し、同様にアミド結合率を求め、アミド
結合率16.6%の該当高分子錯体0.65gを得た。
なお、p−アミノスチレンより誘導された高分子のMn
はVPO法により38000と求められた。
合成例 10 スチレン10.5g、p−アミノスチレン4gおよびα
,l−アゾビスイソブチロニトリル0.64yにベンゼ
ンを加えて50mlとし、常法に従い60℃で4時間ラ
ジカル結合した。
開封後、溶液を大量のエーテルに投じ、沈澱をろ集、乾
燥して下記構造の共重合体(PSAmと略す)8.1g
を得た。
PSAm 元素分析(計算値) C 87.35 N 5.05
H 7.60%(測定値) C 87.36 N 5.
04 H 7.60%VPOによる分子量測定からMn
=44000であった。
合成例1(C)で得たBFe(■)D 1.O gを3
0mlのDMFに溶解し、この後は上記高分子1.5g
を用いた以外は合成例1(J)と同様にして該当する高
分子錯体を得た。
アミド結合率は合成例2〜7と類似の方法で求め、99
.8%であった。
合成例 lI N−ビニルピロリドン7.5g、p−アミノメチルスチ
レン2g、α,α′−アゾビスイソブチロニトリル0.
32.9にメタノールを加えて30mlとし、常法に従
い60℃にて4時間ラジカル重合した。
開封後、溶液を大量のエーテルに投じて生ずる沈澱をろ
集、乾燥して下記構造の高分子(PPAと略す)4.8
gを得た。
PPA 元素分析(計算値) C 79.05 N 11.87
H 8.23%(測定値) C 79.03 N 1
1.85 H 8.21%VPOによりMn = 2
7 0 0 0であった。
次に合成例1 (D)で得たB’Fe(■)D 1.O
gを用いた他は合成例2〜7と同様にPPAを反応させ
、カラム流出溶媒にDMFを用いた以外は合成例2〜7
と同様にして該当する高分子錯体1.2gを得た。
アミド結合率は合成例2〜7と同様に求め99.7%で
あった。
この高分子錯体は水、メタノール、DMF、DMSOに
可溶で一般の有機溶媒に不溶である。
合成例 12 p−アミンメチルスチレンの代りにp−アミノスチレン
1.85.9を用いた他は合成例11と同様にラジカル
重合し、該当する下記構造の高分子(PPAmと略す)
4.2gを得た。
■POよりMn = 3 7 0 0 0であッタ。
PPAm 元素分析(計算値) C 70.55 N 12.32
H 7.84%(測定値) C 70.57 N 1
2.3L H 7.80%次に合成例1(E)で得たB
Fe(■)M 1.0gを用いた他は合成例2〜7と同
様にPPAmと反応させ、カラム流出溶媒にDMFを用
いた以外は合成例2〜7と同様にして該当する高分子錯
体1.1gを得た。
アミド結合率は合成例2〜7と同様に求め99.9%で
あった。
この高分子錯体は水、メタノール、DMF、DMSOに
可溶で一般の有機溶媒に不溶である。
合成例 13 2−オキサゾリンの開環重合および加水分解によって得
た直鎖状ポリエチレンイミン(Mn一14000)0.
4gを、合成例1(F)で得たB’Fe (■)M 0
. 2gのDMF 30ml溶液に0℃で0. 14g
のエチルクロロホルメートおよび0.135gのトリメ
チルアミンを滴下して1時間攪拌した溶液に加え、0℃
で3時間さらに室温で1日反応させた。
溶媒留去後φ5cm×50cmのセファデツクスLH−
20カラムを用いてメタノールで流出させ、第一成分を
採取し、減圧濃縮したのち大量のエーテルに投じ、沈澱
をろ集、乾燥して該当する高分子錯体0.32gを得た
合成例2〜7と同様にしてアミド結合率を求めたところ
8.6%であった。
この高分子錯体は、水、DMF,DMSO、メタノール
に可溶、その他の有機溶媒に不溶であった。
合成例 l4 市販のポリエピクロルヒドリン(Mn=15000)1
.0gを50mlのメチルアミンに溶解、耐圧反応管中
にて約50℃に加温、半日反応させた。
メチルアミン塩酸塩の沈澱を枦去し、減圧乾固してベン
ゼンで充分洗浄し、下記構造の高分子(EPAと略す)
0.7gを得た。
EPA 元素分析(計算値) C 55.15 N 16.08
H 10.41%(測定値) C 55.12 N
16.10 H 10.36%EPA0.4gを用いた
他は合成例2〜7と同様にしてB’Fe (■)M O
. 2 gと反応させ、同様の精製法により該当する高
分子錯体0.31gを得た。
合成例2〜7と同様にしてアミド結合率を求めたところ
10.4%であった。
この高分子錯体は、アルコール類、DMF,DMSO、
上易溶、水に部分可溶、その他の有機溶媒に不溶であっ
た。
合成例 15 市販のデキストラン−4 0 (Mn=40000)3
.24gをDMSO 100mlに溶解し、0℃にてエ
チルクロロホルメート2.18gおよびトリエチルアミ
ン2.02gを滴下し、0℃で1時間、さらに室温で終
夜反応させ、過剰のエーテルを加えて生じる沈澱をろ集
し、エーテルで充分洗浄したのち乾燥して下記構造の高
分子3.1gを得た。
元素分析(上記構造の計算値) C 44.50 H
5.78%(測定値) C 44.51 H
5.78%このもの全量を50mlのDMSOに溶解
し、0°Cにてエチレンジアミン3mlを加えて0℃で
2時間、室温で終夜反応させて過剰のエーテルを加えて
生じる沈澱をろ集、エーテルで充分洗浄したのち乾燥し
て下記構造の高分子(Dex−NH2と略記す)3.0
gを得た。
DeX−NH2 元素分析(上記構造を仮定したときの計算値)C 44
.20 N 3.12 H 6.29%(測定値) C
44.15 N 3.11 H 6.33%合成例1
(B)で得たB’Fe(■)H 1.0gをDMSO5
0mlに溶解し、0℃でエチルクロロホルメート0.1
4gおよびトリエチルアミン0.135gを加えて1時
間攪拌した。
ついで、上記Dex−NH21.Ogを加えて0℃で2
時間、さらに室温で1日反応させ、過剰のエーテルを加
えて生じる沈澱を炉集した。
これをセファデツクスLH−20カラムφ5cm×50
cmを用い、DMSOにて展開して第一成分を採取し、
これに過剰のエーテルを加えて生じる沈澱をろ集、乾燥
して該当する高分子錯体を得た。
DMSO溶液でのB’Fe(■)Hの紫外可視吸収スペ
クトルの吸光度を対照としてこの高分子錯体の吸光度ア
ミド結合率を決定し、99.6%以上であることがわか
った。
合成例 16 市販のホスファゼンポリマ−(Mn=8500)2.0
gをメチルアミンlOOmlに溶解、耐圧反応管中で約
100℃に加温、6時間反応させ、メチルアミン塩酸塩
を涙去した後、減圧乾固してエーテルで充分洗浄、乾燥
して下記構造の高分子(PN−NH2と略記する)1.
4gを得た。
PN−NH2 元素分析(計算値) C 22.86 N 39.99
H 7.67%(測定値) C 22.80 N 3
9.98 H 7.74%合成例1(A)で得たBFe
(■)H 1.0gを30mlのDMFに溶解し、0
℃でエチルクロロホルメート0.14gおよびトリエチ
ルアミン0.135gを加えて1時間反応、PN−NH
20. 3 gを加えてO℃で2時間、室温で終夜反応
したのち減圧濃縮、大量のエーテル中に投じて生じる沈
澱をろ集した。
これをセファデツクスLH−20φ5. O crrL
× 50儂のカラムを用いてDMFで展開して第一成分
を採取し減圧濃縮後、大量のエーテル中に投じて生じる
沈澱を炉集、乾燥して該当の高分子錯体o.iBを得た
合成例2〜7と同様にアミド結合率を求めたところ30
.4%であった。
この高分子錯体はDMF,DMSO、メタノールに可溶
、水THFに部分可溶、その他の有機溶媒には不溶であ
った。
実施例 1〜15 合成例2〜14及び16の高分子錯体をDMFに、合成
例15の高分子錯体をDMSOに、錯体単位濃度1×1
0−5mol/lとなるよう溶解し、嫌気下にCr(■
) (アセチルアセトン)2を各々少量加えて中心鉄を
Fe(■)に還元した。
これらの溶液を嫌気状態で紫外可視分光光度計のセルに
入れ、空気導入前後のスペクトル変化をO℃または20
℃で測定して表1の結果を得た。
表1から、嫌気状態(Fe(II)状態)では550〜
560nmに単一の極大吸収を持つ5配位錯体に基くス
ペクトルが、空気下では酸素錯体形成による530〜5
40560〜570nmに分裂した2つの極大吸収を持
つスペクトルが観測された。
また、一例として添付の図に実施例3の高分子錯体につ
いてのスペクトル変化を示した。
この図からわかるようにこれらの高分子錯体溶液は可逆
的に02を吸脱着した。
なお、図中、曲線aは中心鉄がFe(II)の状態のス
ペクトル、曲線bは15分間空気下に放置後、脱気した
ときのスペクトル、曲線Cは15分間空気下に放置した
ときのスペクトル、そして曲線dは中心鉄がFe(II
Dの状態のスペクトルである。
実施例 16〜27 合成例3の高分子錯体について、溶媒として表2に示す
ものを用いた他は実施例1〜15と同様にして表2に示
す結果を得た。
実施例 28 実施例20に記載の高分子錯体溶液50mlをガラス板
上に嫌気下でキャストして厚さ約0.1mmの膜を得た
これを紫外可視分光光度計にて、空気接触前後のスペク
トル変化を調べたところ、嫌気下で433,559nm
、空気接触後5分で414,544,575nmに極大
吸収を有するスペクトルを示し、空気接触後10時間を
経た膜を脱気すると元の嫌気下におけるスペクトルと一
致した。
実施例 29 実施例1〜15に記載と同様の手法で得た合成例3の高
分子錯体のFe (II)錯体単位濃度1×10−2m
ol/lDMF溶液50mlを嫌気下に減圧濃縮し、約
10mlに体積を減じて殆んど流動しないゲル化物を得
た。
このもの全てについてワールブルグ検圧計を用いて酸素
吸収量を測定し、25℃で約11mlの酸素を吸収する
ことが確認された。
実施例 30 合成例3の高分子Fe(■)錯体を実施例29と同様の
手法で嫌気下に減圧留去、乾固し、このもの全てについ
て実施例29と同様に酸素吸収量を測定し、ほぼ当量に
相当する約11mlであることを確認した。
【図面の簡単な説明】
添付の図面はこの発明に従う一例の酸素吸脱着剤の酸素
吸脱着状態を示すスペクトル線図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 (ここで、Aは−{N(H)a}基を主鎖または側鎖に
    結合してなる単量体単位、aは0または1、各R1は水
    素原子、ビニル基またはエチル基、およびR2は水素原
    子またはメチル基)で示される単位を40モル%以下の
    割合で含んでなり、上記鉄ポリフイリン錯体部を除く高
    分子連鎖か5000以上の数平均分子量を有するの立体
    障害性近位塩基型高分子鉄ポリフイリン錯体を有効成分
    とする酸素吸脱着剤。 2 不定形固体、粉末または膜の形態にある特許請求の
    範囲第1項記載の酸素吸脱着剤。 3 ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
    メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、クロロホル
    ム、メチレンクロリド、エチレンクロリド、四塩化炭素
    、ベンゼン、トルエン、ジオキサン、シアン化メチルま
    たはN−メチルピロリドンで膨潤されたゲルの形態にあ
    る特許請求の範囲第1項記載の酸素吸脱着剤。 4 ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
    メチルアセトアミド、テトラヒドロフラン、クロロホル
    ム、メチレンクロリド、エチレンクロリド、四塩化炭素
    、ベンゼン、トルエン、ジオキサン、シアン化メチル、
    またはN−メチルピロリドンに溶解した溶液の形態にあ
    る特許請求の範囲第1項記載の酸素吸脱着剤。
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