JPH10199707A - チップ型サーミスタの製造方法 - Google Patents

チップ型サーミスタの製造方法

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Publication number
JPH10199707A
JPH10199707A JP3545697A JP3545697A JPH10199707A JP H10199707 A JPH10199707 A JP H10199707A JP 3545697 A JP3545697 A JP 3545697A JP 3545697 A JP3545697 A JP 3545697A JP H10199707 A JPH10199707 A JP H10199707A
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JP
Japan
Prior art keywords
thermistor
plating layer
prism
prismatic
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP3545697A
Other languages
English (en)
Inventor
Terumi Kudo
照美 工藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Chichibu Onoda Cement Corp
Original Assignee
Chichibu Onoda Cement Corp
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Publication date
Application filed by Chichibu Onoda Cement Corp filed Critical Chichibu Onoda Cement Corp
Priority to JP3545697A priority Critical patent/JPH10199707A/ja
Publication of JPH10199707A publication Critical patent/JPH10199707A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程が簡略で、さらには、サーミスタの
小型化に対応できるチップ型サーミスタの製造方法を提
供する。 【解決手段】 上下面に銀電極が焼き付けられたサーミ
スタ焼結体からなる素板を角柱状素体に切断し、これに
樹脂レジスト層を形成後、電気メッキによりニッケルメ
ッキ層および半田メッキ層を形成させる。得られた角柱
状サーミスタ素体を所望のチップ型に切断してチップ型
サーミスタを製造する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、チップ型サーミス
タの製造方法に関するものである。さらに詳しくは、サ
ーミスタ焼結体に銀電極、ニッケルメッキ層および半田
メッキ層を形成させたチップ型サーミスタの製造方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、チップ型サーミスタの製造方法と
しては、例えば、特開平5−175017号公報に開示
されているように、サーミスタ素体の表面全体にガラス
コーティングを施した後、電極形成部のガラス層を除去
し、露出したサーミスタ素体に物理的気相成長法により
電極を形成する製造方法が提案されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の製造方
法では、工程が複雑であるため大量生産には不向きであ
り、さらには、回り込みの電極部分の厚みとガラス層の
厚みが一定でなく段差があるため、集積回路にチップ型
サーミスタを設置するときに正確な位置決めがでず、チ
ップ型サーミスタの小型化に対応できないという問題点
があった。
【0004】したがって、本発明の目的は、製造工程が
簡略で、さらには、サーミスタの小型化に対応できるチ
ップ型サーミスタの製造方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述した本発明の目的
は、上下面に銀電極が焼き付けられたサーミスタ焼結体
からなる素板を角柱状素体に切断する工程と、前記角柱
状サーミスタ素体の銀電極が形成されていない両面に樹
脂レジスト層を形成する工程と、前記樹脂レジスト層を
形成した角柱状サーミスタ素体に電気メッキによりニッ
ケルメッキ層および半田メッキ層を形成させる工程と、
前記ニッケルメッキ層および半田メッキ層を形成させた
角柱状サーミスタ素体を所望のチップ型サーミスタが得
られるように切断する工程とを具備することを特徴とす
るチップ型サーミスタの製造方法によって達成される。
【0006】
【発明の実施の形態】本発明では、銀電極をサーミスタ
素体の両端面にのみ焼き付けた。その理由は、銀電極を
回り込み電極とすると、回り込みの部分が厚くなり、回
り込み電極と樹脂レジスト層との境目に段差を生じ、寸
法と外観不良の原因となるからである。
【0007】また、本発明では、製造の最終工程で回り
込み電極を形成させた角柱状サーミスタ素体を所望のチ
ップ型サーミスタが得られるように切断した。その理由
は、初期にチップ型に切断するよりも工程が短縮され大
量生産に適するからである。
【0008】以下、具体的な実施例により、さらに詳し
く本発明を説明する。
【0009】
【実施例】図1〜図4は、本発明に係るチップ型サーミ
スタの製造方法を説明するために示した模式図である。
図1は、上下面に銀電極1が焼き付けられたチタン酸バ
リウム系サーミスタ焼結体2からなる素板を角柱状に切
断することによって得られる角柱状サーミスタ素体の斜
視図である。
【0010】次に、図2は、前記角柱状サーミスタ素体
の銀電極1が形成されていない両面に樹脂レジスト層3
を形成した角柱状サーミスタ素体の斜視図である。
【0011】図3は、図2の樹脂レジスト層3を形成し
た角柱状サーミスタ素体に電気メッキによりニッケルメ
ッキ層4(図示せず)を形成した上から半田メッキ層5
を形成させた角柱状サーミスタ素体の斜視図である。
【0012】図4は、図3のニッケルメッキ層4および
半田メッキ層5を形成させた角柱状サーミスタ素体から
所望のチップ型サーミスタが得られるように図1のチタ
ン酸バリウム系サーミスタ素板を角柱状に切断した方向
とは直角の方向に切断して得られるチップ型サーミスタ
の斜視図(a)とチップ型サーミスタの断面を示した断
面図の拡大図(b)である。
【0013】以上のようにして得られたチップ型サーミ
スタは、製造工程が複雑でなく、さらに樹脂レジスト層
と電極およびメッキ層との境目に段差がなくなり、寸法
および外観不良となるものはなかった。したがって、サ
ーミスタの小型化に対応できるチップ型サーミスタが簡
略に得られた。
【0014】
【発明の効果】製造工程が簡略で、さらには、サーミス
タの小型化に対応できるチップ型サーミスタの製造方法
が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】角柱状サーミスタ素体の斜視図である。
【図2】樹脂レジスト層を形成した角柱状サーミスタ素
体の斜視図である。
【図3】メッキ層を形成させた角柱状サーミスタ素体の
斜視図である。
【図4】チップ型サーミスタの斜視図と断面図である。
【符号の説明】 1 銀電極 2 チタン酸バリウム系サーミスタ焼結体 3 樹脂レジスト層 4 ニッケルメッキ層 5 半田メッキ層

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 上下面に銀電極が焼き付けられたサーミ
    スタ焼結体からなる素板を角柱状素体に切断する工程
    と、前記角柱状サーミスタ素体の銀電極が形成されてい
    ない両面に樹脂レジスト層を形成する工程と、前記樹脂
    レジスト層を形成した角柱状サーミスタ素体に電気メッ
    キによりニッケルメッキ層および半田メッキ層を形成さ
    せる工程と、前記ニッケルメッキ層および半田メッキ層
    を形成させた角柱状サーミスタ素体を所望のチップ型サ
    ーミスタが得られるように切断する工程とを具備するこ
    とを特徴とするチップ型サーミスタの製造方法。
JP3545697A 1997-01-13 1997-01-13 チップ型サーミスタの製造方法 Pending JPH10199707A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7887713B2 (en) 2003-01-24 2011-02-15 Epcos Ag Method for producing an electronic component

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7887713B2 (en) 2003-01-24 2011-02-15 Epcos Ag Method for producing an electronic component

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