JPH10189744A - 半導体集積回路装置の配置方法 - Google Patents

半導体集積回路装置の配置方法

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JPH10189744A JP8345046A JP34504696A JPH10189744A JP H10189744 A JPH10189744 A JP H10189744A JP 8345046 A JP8345046 A JP 8345046A JP 34504696 A JP34504696 A JP 34504696A JP H10189744 A JPH10189744 A JP H10189744A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】複数のブロックを混載した半導体集積回路装置
の配置方法において、インターフェイス部の配置を行う
ことなく1チップの回路全体の配置が可能な配置方法を
提供する。 【解決手段】アナログ部でレイアウト設計したデジタル
部と接続するインターフェイス部の配置情報(インター
フェイス名及び配置座標)をデジタル部の配置情報に変
換し、デジタル部のレイアウト設計時に使用する。1チ
ップ全体のインターフェイス設計を行う時に、前記のイ
ンターフェイス情報を持たせたデジタル部若しくはアナ
ログ部とすることで、レイアウト合成するだけでインタ
ーフェイス部を接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体集積回路の半
導体基板上への配置方法に関し、特に、アナログ部とデ
ジタル部とを混載した半導体集積回路装置の配置方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】アナログ部とデジタル部とを混載した半
導体集積回路を半導体基板上に配置する際に、半導体集
積回路装置のデバイス特性や用途が異なることから、そ
の回路設計およびレイアウト設計のそれぞれは別々に設
計される。また、半導体集積回路装置の設計時において
は、階層設計が取り入れられ、両者の接続(インターフ
ェイス設計)はトップ階層で行われる。アナログ部とデ
ジタル部とを混載した半導体集積回路装置の設計手順
を、図5のフローチャートおよび図6を参照して説明す
る。
【0003】まず、第1ステップとしてアナログ部とデ
ジタル部の回路設計を行う(ステップS51)。次に、
第2ステップとして第1ステップで設計したアナログ部
とデジタル部のインターフェイス設計のトップ階層で行
う(ステップS52)。さらに、アナログ部の接続情報
を使用してアナログ部61のレイアウト設計を行い、デ
ジタル部の接続情報を使用してデジタル部62のレイア
ウト設計を行う(ステップS53)。第5ステップとし
てアナログ部61とデジタル部62のレイアウトデータ
を使用してそれぞれのハードマクロ(63,64)を作
成する(ステップS55)。そして、作成したアナログ
部とデジタル部のハードマクロ(63,64)をレイア
ウト設計装置に登録し(S56)、最後に第7ステップ
として、ステップS52で作成したトップ階層65の接
続情報とステップS55で登録したアナログ部とデジタ
ル部のハードマクロを使用して、アナログ部とデジタル
部のインターフェイス設計を行う(ステップS56)。
【0004】以上の通り、配置設計を行うことによって
異なる設計ルールが混載する半導体集積回路の設計が可
能となるが、アナログ部とデジタル部のハードマクロを
作成する必要があり、トップ階層でアナログ部とデジタ
ル部のインターフェイス設計を行うことから、インター
フェイスのためのレイアウト領域(図6の部分図(C)
参照)が必要であり、アナログ部とデジタル部の接続保
証をするための接続検証が必要となる。
【0005】これらの技術は、例えば、特開平6−26
8064号公報に開示されている(図7および図8参
照)。アナログ部とデジタル部のハードマクロ作成を容
易化するため、予めアナログ部とデジタル部の雛型ハー
ドマクロ(87,88)を用意しておき、アナログ部8
1とデジタル部82を配置後、インターフェイス用の端
子配置情報を雛型ハードマクロ(87,88)の端子配
置情報(83,84)と置き換えることによって、それ
ぞれのハードマクロを作成するという手法を取ってい
る。しかも、インターフェイスのためのレイアウト領域
85が必要であり、アナログ部81とデジタル部82の
接続保証をするための接続検証が必要となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た配置方法の第1の問題点は、BiーCMOSプロセス
を使用したアナデジ混載LSIの場合、アナログ部とデ
ジタル部の接続に関し、この接続保証のための接続検証
に十分な時間が必要という問題である。
【0007】その理由は、BiーCMOSプロセスを使
用したアナデジ混載LSIのアナログ部とデジタル部
は、デバイス特性や用途が異なることから両者の設計ル
ールが異なり、回路設計およびレイアウト設計のそれぞ
れは別々に設計され、両者の接続を行なう必要があるた
めである。
【0008】第2の問題点は、CADツールを使用した
配置方法を適用した場合、しにくいという問題がある。
アナデジ混載のアナログ部とデジタル部のそれぞれは、
デバイス特性や用途が異なることから配置設計のルール
が異なり、CADツール適用の際の設定条件等が複雑に
なるためである。
【0009】第3の問題点は、アナデジ混載LSIのチ
ップ占有面積を高くすることが難しいという問題であ
る。その理由は、従来技術の特開平6−268064号
公報に開示される手法では、アナログ部とデジタル部の
ハードマクロ化し、配置配線設計を行うことも可能であ
るが、両者を接続するためだけに使用する配線領域を考
慮した1チップ設計が必要となるためである。
【0010】したがって、本発明の目的は、上記問題点
に鑑み、アナデジ混載のLSIのように異る設計ルール
を有するLSIの配置設計が容易に行える半導体集積回
路装置の配置方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体集積回路
の配置方法は、複数のブロックから構成される半導体集
積回路装置を半導体基板上に配置する配置方法におい
て、前記半導体集積回路の接続情報を機能単位の複数の
機能ブロックに分離する分離ステップと、前記機能ブロ
ックに接続点を設ける接続点設定ステップと、前記接続
点に前記機能ブロック間の各々のインターフェイスパッ
ドマクロを生成するとともに接続するマクロ生成ステッ
プと、前記インターフェイスパッドマクロの各々のイン
スタンス名を前記マクロ生成ステップにて接続されてい
るブロック間のインタンス名と同一名にする同一名化ス
テップと、前記複数のブロック毎に配置を行い前記イン
ターフェイスパッドマクロを配置する第1のマクロ配置
ステップと、前記インターフェイスパッドマクロの配置
情報を抽出する抽出ステップと、前記抽出インターフェ
イスパッドマクロの配置情報を前記複数の機能ブロック
に読み込み前記インターフェイスパッドマクロを配置す
る第2のマクロ配置ステップと、前記複数の機能ブロッ
クの各々が有するマクロを配置した後前記機能ブロック
を合成するステップとを有する構成である。
【0012】また本発明の半導体集積回路装置の配置方
法の前記分離ステップは、前記複数の各々のブロック内
のマクロをマクロ命名規則に従って分離する構成とする
こともできる。またさらに、本発明の第2の分離ステッ
プを有する半導体集積回路装置の配置方法の前記マクロ
生成ステップは、分離したネットに同一インタンス名を
付けたインターフェイスパッドマクロを生成する第2の
マクロ生成ステップを有する構成である。
【0013】さらに、本発明の半導体集積回路装置の配
置方法は、1ブロックのインターフェイスパッドマクロ
を配置した後、配置した前記インターフェイスパッドマ
クロの配置座標をそのブロックと同一インタンス名を付
けたインターフェイスパッドマクロを持つ他のブロック
のインターフェイスパッドマクロの配置情報とする構成
である。
【0014】さらに、本発明の半導体集積回路の配置方
法は前記複数のインターフェイスパッドマクロを用途別
に異る配置座標を作成する配置座標作成ステップと、前
記用途別に異なる配置座標を前記用途単位に座標変換を
行う座標変換ステップとを有する構成である。
【0015】すなわち、本発明の半導体集積回路の配置
方法では、アナログ部でレイアウトしたデジタル部と接
続するインターフェイス部の配置情報(インターフェイ
ス名と配置座標)をデジタル部の配置情報に変換し、デ
ジタル部のレイアウト設計で使用する。このことによ
り、レイアウト設計者は、アナログ部とデジタル部を別
々にレイアウトした後、レイアウトを合成することによ
って、インターフェイス部を接続することができる。
【0016】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一実施の形態につ
いて図面を参照して詳細に説明する。
【0017】本発明の半導体集積回路装置の配置方法を
適用して配置を実施するための最良の形態の配置装置を
表す図2を参照すると、この配置装置の形態はアナログ
部回路設計部21と、デジタル部回路設計部23と、ト
ップ階層回路設計部22とを有し、これらを処理する接
続情報の合成/分離部24を有し、さらにアナログ部レ
イアウト部25と、デジタル部レイアウト部27と、ア
ナログ部レイアウト部25のデータを抽出しデジタルデ
ータに変換するインターフェイスの配置情報抽出とデー
タ変換部26と、ファイル合成部28とで構成され、接
続情報格納領域(11,15)、インターフェィス配置
情報格納領域19、レイアウト情報格納領域16、1チ
ップレイアウト情報格納領域18およびマクロ命名規則
格納領域14のそれぞれを備える。
【0018】接続情報の合成/分離部24では、各部で
回路設計された接続情報の合成とマクロ命名規則格納領
域14に記述されたルールにもとづいてアナログ部とデ
ジタル部の接続情報への分離とを行う。分離する際に、
分離するアナログ部とデジタル部の接続点にインターフ
ェイスパッドマクロを生成し、インターフェイスパッド
マクロには同じインスタンス名をつける。分離された接
続情報を用いてそれぞれのレイアウト設計を行う。
【0019】図1は、本実施の形態の配置手法のステッ
プをフローチャートで示したものである。以下、図1を
参照して本発明の実施の形態を説明する。
【0020】まず、ステップS1からステップS9まで
の各ステップの概略を順次説明し、その後主要なステッ
プであるステップS3およびステップS5について詳細
な説明を記述する。
【0021】本発明の実施の形態は、半導体集積回路装
置のアナログ部とデジタル部の回路設計を別々に行う
(ステップS1)。
【0022】次に、アナログ部とデジタル部のシンボル
を作成し、そのシンボルの各端子を接続することによっ
てアナログ部とデジタル部とのインターフェイス設計を
行う。ここがトップ階層設計であり、トップ階層を中心
にアナログ部とデジタル部の接続情報を合成する(ステ
ップS2)。
【0023】次に、合成した接続情報をマクロ命名規則
14に従ってアナログ部とデジタル部とに分離する(ス
テップS3)。さらに、分離されたアナログ部の接続情
報を使用して、レイアウト設計を行う(ステップS
4)。
【0024】次に、アナログ部で配置したインターフェ
イスパッドの配置情報をデジタル部用インターフェイス
パッドの配置情報に変換する(ステップS5)。ステッ
プS5で作成したインターフェイスパッドの配置情報を
入力し、デジタル部のインターフェイスパッドマクロを
自動的に配置する(ステップS6)。デジタル部のその
他の部分についても配置し配線する(ステップS7)。
【0025】トップ階層にてインターフェイス部のレイ
アウトをすることなく、アナログ部とデジタル部のレイ
アウト設計から出力されたレイアウトを合成する事によ
り1チップのアナデジ混載レイアウトが完成する(ステ
ップS8)。以上、図1のフローチャートで示されてい
る各ステップについて概略を説明した。
【0026】次にステップS3について詳細に説明をす
る。
【0027】図3参照すると、ステップS3は、ステッ
プS2で合成した接続情報をマクロ命名規則14に従っ
てアナログ部とデジタル部とに分離することを特徴とす
る。この時、分離するネットには、アナログ部31とデ
ジタル部32の両方にインターフェイスパッド35を自
動生成し、接続する。さらに、生成したインターフェイ
スパッドのインタンス名は同じとする。
【0028】アナデジ混載マクロを分離した場合(ステ
ップS3)に生成するインターフェイスパッドマクロと
インターフェイスバッファを介して接続するような通常
のアナログ素子33とデジタル素子34の接続部に生成
するインターフェイスパッドマクロでは種類が異なる。
このような種類判定もマクロ命名規則14に従って行
う。
【0029】次に、ステップS5について詳細な説明を
する。図4を参照すると、ステップS5では、ステップ
S4で配置したアナログ部のインターフェイスパッド3
5の配置情報をデジタル部用インターフェイスパッドの
配置情報に変換する(ステップS5)。この時、アナデ
ジ混載マクロ用インターフェイスパッドマクロとその他
の部分のインターフェイスパッドマクロとでは配置情報
のフォーマットが異なる。
【0030】その他の部分のインターフェイスパッド
は、他の外部パッドがI/Oバッファを介して内部セル
と接続するように、インターフェイスバッファを介して
アナログ部と接続するこから、インターフェイスバッフ
ァをI/Oバッファと同様に配置したいことから配置情
報をI/Oバッファと同じフォーマットに変換する。ア
ナデジ混載マクロ用インターフェイスパッドは、インタ
ーフェイスバッファを必要としないことから、通常の内
部セルの配置情報のフォーマットに変換する。
【0031】
【発明の効果】以上のとおり、本発明による第1の効果
は、製品開発TAT短縮、設計品質の向上である。
【0032】その理由は、アナログ部とデジタル部をそ
れぞれの設計ルールにあった環境で設計でき、インター
フェイス部のレイアウト設計をすることなく1チップの
半導体集積回路装置の設計が可能となるためである。
【0033】第2の効果は、チップ面積の縮小、高集積
化が図られる。その理由は、アナログ部とデジタル部
は、それぞれのレイアウトに閉じられ、それぞれのレイ
アウト後、レイアウトを合成することによって1チップ
の半導体集積回路装置のレイアウトととなる。即ち、ア
ナログ部とデジタル部とを接続するための配線領域を必
要としないためである。
【0034】更に、アナログ部とデジタル部の配線を行
なわずに両者を接続することから、インターフェイス部
の接続検証を必要としないためである。以上より、短T
ATで、インターフェイス接続にミスのない高品質な設
計が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による半導体集積回路装置の配置方法を
示すフローチャートである。
【図2】本発明による半導体集積回路装置の配置方法を
適用する配置装置のブロック構成図である。
【図3】本発明によるステップS3のトップ階層の接続
情報ファイルをマクロ命名規則に従ってアナログ部とデ
ジタル部の接続情報ファイルに分離するフローチャート
である。
【図4】本発明によるステップS5のアナログ部で配置
したインターフェイスパッドマクロを抽出/変換し、ス
テップS6のデジタル部に読み込むフローを表した図で
ある。
【図5】従来例による半導体集積回路装置の配置方法を
示すフローチャートである。
【図6】従来例による半導体集積回路装置の平面配置の
概念図である。
【図7】特開平6−268064号公報で開示された半
導体集積回路装置の配置方法を示すフローチャートであ
る。
【図8】特開平6−268064号公報で開示された半
導体集積回路装置の平面配置の概念図である。
【符号の説明】
11 デジタル部接続情報格納領域 12 インターフェイスパッドマクロ配置情報格納領
域 13,51,71 デジタル部レイアウト格納領域 14 マクロ命令規則格納領域 15 アナログ部接続情報格納領域 16,55,75 アナログ部レイアウト格納領域 17,57,77 半導体集積回路装置レイアウト格
納領域 18 1チップレイアウト情報格納領域 19 インターフェイス配置情報格納領域 21 アナログ部回路設計部 22 トップ階層回路設計部 23 デジタル部回路設計部 24 接続情報の合成/分離部 25 アナログ部レイアウト部 26 インターフェースの配置情報抽出とデータ変換
部 27 デジタル部レイアウト部 28 ファイル合成部 31 アナログ合成情報 32 デジタル回路情報 33 アナログ素子 34 デジタル素子 35 インターフェイスパッドマクロ 61,81 アナログ部レイアウト 62,82 デジタル部レイアウト 63,83 アナログ部ハートマクロ 64,84 デジタル部ハードマクロ 65,85 トップ階層配線領域 66,86 配線 87 アナログ部雛型ハードマクロ 88 デジタル部雛型ハードマクロ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のブロックから構成される半導体集
    積回路装置を半導体基板上に配置する配置方法におい
    て、前記半導体集積回路の接続情報を機能単位の複数の
    機能ブロックに分離する分離ステップと、前記機能ブロ
    ックに接続点を設ける接続点設定ステップと、前記接続
    点に前記機能ブロック間の各々のインターフェイスパッ
    ドマクロを生成するとともに接続するマクロ生成ステッ
    プと、前記インターフェイスパッドマクロの各々のイン
    スタンス名を前記マクロ生成ステップにて接続されてい
    るブロック間のインタンス名と同一名にする同一名化ス
    テップと、前記複数のブロック毎に配置を行い前記イン
    ターフェイスパッドマクロを配置する第1のマクロ配置
    ステップと、前記インターフェイスパッドマクロの配置
    情報を抽出する抽出ステップと、前記抽出インターフェ
    イスパッドマクロの配置情報を前記複数の機能ブロック
    に読み込み前記インターフェイスパッドマクロを配置す
    る第2のマクロ配置ステップと、前記複数の機能ブロッ
    クの各々が有するマクロを配置した後前記機能ブロック
    を合成するステップとを有することを特徴とする半導体
    集積回路装置の配置方法。
  2. 【請求項2】 前記分離ステップは、前記複数の各々の
    ブロック内のマクロをマクロ命名規則に従って分離する
    第2の分離ステップを有することを特徴とする請求項1
    記載の半導体集積回路装置の配置方法。
  3. 【請求項3】 前記マクロ生成ステップは、分離したネ
    ットに同一インタンス名を付けたインターフェイスパッ
    ドマクロを生成する第2のマクロ生成ステップを有する
    ことを特徴とする請求項1または2記載の半導体集積回
    路装置の配置方法。
  4. 【請求項4】 1ブロックのインターフェイスパッドマ
    クロを配置した後、配置した前記インターフェイスパッ
    ドマクロの配置座標をそのブロックと同一インタンス名
    を付けたインターフェイスパッドマクロを持つ他のブロ
    ックのインターフェイスパッドマクロの配置情報とする
    ことを特徴とする請求項1,2または3記載の半導体集
    積回路の配置方法。
  5. 【請求項5】 前記複数のインターフェイスパッドマク
    ロを用途別に異る配置座標を作成する配置座標作成ステ
    ップと、前記用途別に異なる配置座標を前記用途単位に
    座標変換を行う座標変換ステップとを有することを特徴
    とする請求項1乃至4記載の半導体集積回路の配置方
    法。
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