JPH10182928A - ポリアセタール樹脂組成物およびその製造方法 - Google Patents

ポリアセタール樹脂組成物およびその製造方法

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JPH10182928A
JPH10182928A JP30534797A JP30534797A JPH10182928A JP H10182928 A JPH10182928 A JP H10182928A JP 30534797 A JP30534797 A JP 30534797A JP 30534797 A JP30534797 A JP 30534797A JP H10182928 A JPH10182928 A JP H10182928A
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早人 栗田
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竜也 山田
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリアセタール樹脂の安定性を改善する。 【解決手段】 ポリアセタール樹脂100重量部に対し
てグリオキシジウレイド化合物0.01〜10重量部程
度を添加する。グリオキシジウレイド化合物には、グリ
オキシジウレイド又はその誘導体(金属塩など)が含ま
れる。ポリアセタール樹脂には酸化防止剤を添加しても
よい。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、加工時のホルムア
ルデヒド発生量が著しく抑制され、加工性に優れたポリ
アセタール樹脂組成物及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリアセタール樹脂は、機械的性質、耐
疲労性、耐摩擦・摩耗性、耐薬品性及び成形性に優れて
いるため、自動車部品、電気・電子機器部品、その他の
精密機械部品、建材・配管部材、生活・化粧用部品、医
用部品などの分野において広く利用されている。しかし
ながら、用途の拡大、多様化に伴い、その品質に対する
要求はより高度化する傾向を示している。ポリアセター
ル樹脂に要求される特性として、押出又は成形工程など
の加工工程における機械的強度が低下しないこと、金型
への付着物(モールドデポジット)が発生しないこと、
長期加熱条件下(ヒートエージング)における機械的物
性が低下しないこと、成形品のシルバーストリークやボ
イドなどの成形不良が生じないことなどが挙げられる。
これらの現象の重要因子の1つに加熱時のポリマーの分
解が挙げられる。
【0003】ポリアセタール樹脂は、その化学構造から
本質的に、加熱酸化雰囲気下、酸性やアルカリ性条件下
では容易に分解されやすい。化学的に活性な末端を安定
化するため、ホモポリマーについては、重合体の末端を
アセチル化などによりエステル化する方法、コポリマー
については、重合時にトリオキサンと環状エーテル、環
状ホルマールなどの隣接炭素結合を有するモノマーとを
共重合した後、不安定な末端部分を分解除去して不活性
な安定末端とする方法などが知られている。しかしなが
ら、加熱時にはポリマーの主鎖部分での解裂分解も起こ
り、その防止には、上記処理のみでは対処できず、実用
的には酸化防止剤及びその他の安定剤の添加が必須とさ
れている。
【0004】しかし、これら安定剤を配合しても、ポリ
アセタール樹脂の分解を完全に抑制することは困難であ
り、実際には組成物を調製するための押出や成形工程で
の溶融加工の際、押出機や成形機のシリンダー内で熱や
酸素の作用を受け、主鎖の分解や充分に安定化されてい
ない末端からホルムアルデヒドが発生し、押出成形加工
時に作業環境を悪化させる。また、長時間にわたり成形
を行なうと、金型に微粉状物、タール状物が付着し(モ
ールドデポジット)、作業効率を低下させるとともに、
成形品の表面状態を低下させる最大要因の1つとなって
いる。さらに、ポリマー分解により機械的強度の低下、
樹脂の変色が生じる。このような点から、ポリアセター
ル樹脂については、より効果的な安定化処方を求めて多
大な努力が続けられている。
【0005】ポリアセタール樹脂に添加される酸化防止
剤としては、立体障害を有するフェノール化合物(ヒン
ダードフェノール)、立体障害を有するアミン化合物
(ヒンダードアミン)が知られており、その他の安定剤
として、尿素誘導体、メラミン誘導体、アミジン化合
物、アルカリ金属水酸化物やアルカリ土類金属水酸化
物、有機又は無機酸塩などが使用されている。また、通
常、酸化防止剤は他の安定化剤と組み合わせて用いられ
る。しかし、このような添加剤を用いても、ポリアセタ
ール樹脂に対して高い安定性を付与することは困難であ
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ポリアセタール樹脂の安定性、特に成形加工時の溶
融安定性を改善できる樹脂組成物およびその製造方法を
提供することにある。本発明の他の目的は、少量の添加
でホルムアルデヒドの生成を著しく抑制でき、作業環境
を改善できるポリアセタール樹脂組成物およびその製造
方法を提供することにある。本発明のさらに他の目的
は、ホルムアルデヒドの生成を抑制して、金型への分解
物などの付着を抑制できるとともに成形品の品質を向上
し、成形性を改善できるポリアセタール樹脂組成物およ
びその製造方法を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成するため、ポリアセタール樹脂の安定剤に関し
て一連の尿素誘導体の探索検討を行なった結果、特定の
化学構造を有するグリオキシジウレイド化合物がポリア
セタール樹脂の安定剤、特に加工時の安定剤として顕著
な効果を有することを見いだし、本発明を完成するに至
った。すなわち、本発明のポリアセタール樹脂組成物
は、ポリアセタール樹脂とグリオキシジウレイド化合物
とで構成されている。前記グリオキシジウレイド化合物
には、グリオキシジウレイド、グリオキシジウレイドの
金属塩などが含まれる。グリオキシジウレイド化合物の
使用量は、例えば、ポリアセタール樹脂100重量部に
対して0.01〜10重量部程度である。前記組成物
は、さらに、酸化防止剤を含んでいてもよい。
【0008】本発明の方法では、ポリアセタール樹脂と
グリオキシジウレイド化合物とを混合することにより、
加工安定性が改善されたポリアセタール樹脂組成物を製
造する。
【0009】なお、本明細書において、「グリオキシジ
ウレイド化合物」とは、グリオキシジウレイドに限ら
ず、グリオキシジウレイドから誘導される誘導体も含む
意味に用いる。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の樹脂組成物は、ポリアセ
タール樹脂とグリオキシジウレイド化合物とで構成され
ている。ポリアセタール樹脂とは、オキシメチレン基
(−CH2 O−)を主たる構成単位とする高分子化合物
であり、ポリアセタールホモポリマー(例えば、米国デ
ュポン社製,商品名「デルリン」、旭化成(株)製、商
品名「テナック4010」など)、オキシメチレン基以
外に他のコモノマー単位を含有するポリアセタールコポ
リマー(例えば、ポリプラスチックス(株)製,商品名
「ジュラコン」など)が含まれる。コポリマーにおい
て、コモノマー単位には、炭素数2〜6程度(好ましく
は炭素数2〜4程度)のオキシアルキレン単位(例え
ば、オキシエチレン基(−CH2 CH2 O−)、オキシ
プロピレン基、オキシテトラメチレン基など)が含まれ
る。コモノマー単位の含有量は、少量、例えば、ポリア
セタール樹脂全体に対して、0.01〜20モル%、好
ましくは0.03〜10モル%(例えば、0.05〜5
モル%)、さらに好ましくは0.1〜5モル%程度の範
囲から選択できる。
【0011】ポリアセタールコポリマーは、二成分で構
成されたコポリマー、三成分で構成されたターポリマー
などであってもよい。ポリアセタールコポリマーは、ラ
ンダムコポリマーの他、ブロックコポリマー、グラフト
コポリマーなどであってもよい。また、ポリアセタール
樹脂は、線状のみならず分岐構造であってもよく、架橋
構造を有していてもよい。さらに、ポリアセタール樹脂
の末端は、例えば、酢酸、プロピオン酸などのカルボン
酸とのエステル化などにより安定化してもよい。ポリア
セタールの重合度、分岐度や架橋度も特に制限はなく、
溶融成形可能であればよい。
【0012】前記ポリアセタール樹脂は、例えば、ホル
ムアルデヒド、パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒ
ドなどのアルデヒド類、トリオキサン、エチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、1,3−ジオキソランな
どの環状エーテルや環状ホルマールを重合することによ
り製造できる。
【0013】本発明の特色は、特定の尿素誘導体である
グリオキシジウレイド化合物を添加することにより、ポ
リアセタール樹脂の加工安定性を著しく向上させ、ホル
ムアルデヒドの発生を著しく抑制する点にある。前記グ
リオキシジウレイド化合物を用いると、従来の安定剤を
はるかに凌駕する安定化効果が発現し、加工性に優れた
ポリアセタール樹脂組成物を得ることができる。
【0014】グリオキシジウレイド化合物には、グリオ
キシジウレイド(すなわち、アラントイン)、およびグ
リオキシジウレイド誘導体が含まれ、グリオキシジウレ
イド誘導体については成書「DICTIONARY OF ORGANIC CO
MPOUNDS Vol.1, p60 (1965 EYRE & SPOTTISWOODE-PUBL
ISHERS-LTD)」を参照できる。グリオキシジウレイド誘
導体には、例えば、アルキル基,シクロアルキル基,ア
リール基などの各種の置換基が置換した置換グリオキシ
ジウレイド誘導体(例えば、1−メチル体、3−メチル
体、3−エチル体、5−メチル体、1,3−ジメチル
体、1,6−ジメチル体、1,8−ジメチル体、3,8
−ジメチル体、1,3,6−トリメチル体、1,3,8
−トリメチル体などのモノ,ジまたはトリ−C1-4 アル
キル置換体、5−フェニル体などのアリール置換体な
ど)、グリオキシジウレイドと金属との塩[Li,N
a,Kなどのアルカリ金属塩(周期表1A族金属塩),
Mg,Ca,Sr,Baなどのアルカリ土類金属塩(周
期表2A族金属塩),Cu,Agなどの周期表1B族金
属との塩,Znなどの周期表2B族金属との塩,Al,
Ga,Inなどの周期表3B族金属との塩,Sn,Pb
などの周期表4B族金属との塩,Fe,Co,Ni,P
d,Ptなどの周期表8族金属との塩など]、グリオキ
シジウレイドと窒素含有化合物(アミノ基又はイミノ基
含有化合物など)との反応生成物[例えば、2−ピロリ
ドン−5−カルボン酸塩との化合物(塩,分子化合物
(錯体)など)、塩基性アミノ酸(アルギニン、リジ
ン、オルニチンなど)との化合物(塩,分子化合物(錯
体)など)、グリオキシジウレイドとイミダゾール化合
物との化合物(塩,分子化合物(錯体)など]が挙げら
れる。グリオキシジウレイドと2−ピロリドン−5−カ
ルボン酸塩との化合物については、特開昭51−364
53号公報を参照でき、グリオキシジウレイドと塩基性
アミノ酸との反応生成物については、特開昭52−10
2412号公報、特開昭52−25771号公報、特開
昭52−25772号公報、特開昭52−31072号
公報、特開昭51−19771号公報などを参照でき
る。グリオキシジウレイドとイミダゾール化合物との化
合物については、特開昭57−118569号公報など
を参照できる。グリオキシジウレイド及びその誘導体の
立体構造は特に制限されず、d体,l体及びdl体のい
ずれであってもよい。これらのグリオキシジウレイド及
びその誘導体は単独で又は二種以上組み合わせて使用で
きる。
【0015】好ましいグリオキシジウレイド化合物に
は、グリオキシジウレイド、グリオキシジウレイドの金
属塩[アルカリ金属塩,アルカリ土類金属塩,周期表1
B族金属塩,周期表2B族金属塩,周期表3B族金属
塩,周期表4B族金属塩,周期表8族金属塩など、特に
2〜4価程度の多価金属塩]、グリオキシジウレイドと
アミノ基又はイミノ基含有化合物との反応生成物などが
含まれる。グリオキシジウレイドの金属塩の具体例とし
ては、アラントインジヒドロキシアルミニウム、アラン
トインクロロヒドロキシアルミニウム(川研ファインケ
ミカル(株)製など)などが例示でき、アミノ基又はイ
ミノ基含有化合物との反応生成物としては、アラントイ
ンソジウム−dlピロリドンカルボキシレート(川研フ
ァインケミカル(株)製など)などが例示できる。
【0016】グリオキシジウレイド化合物の添加量は、
例えば、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.
01〜10重量部、好ましくは0.03〜5重量部程度
であり、0.05〜2.5重量部であってもホルムアル
デヒドの生成を顕著に抑制できる。グリオキシジウレイ
ド化合物の添加量が0.01重量部未満であるとホルム
アルデヒド発生量を有効に低減するのが困難であり、1
0重量部を越えると成形性や色相が低下したり、ブリー
ド現象が生じやすくなる。
【0017】前記グリオキシジウレイド化合物は単独で
あってもポリアセタール樹脂に対して顕著な安定性を付
与できるが、酸化防止剤、含窒素化合物などと組み合わ
せて使用してもよい。
【0018】酸化防止剤には、例えば、フェノール系
(ヒンダードフェノール類など)、アミン系、リン系、
イオウ系、ヒドロキノン系、キノリン系酸化防止剤など
が含まれる。
【0019】フェノール系酸化防止剤には、ヒンダード
フェノール類、例えば、2,2′−メチレンビス(4−
メチル−6−t−ブチルフェノール)、4,4′−メチ
レンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,
4′−ブチリデンビス(3−メチル−6−t−ブチルフ
ェノール)、2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
ベンゼン、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]、ペンタエリスリトールテトラキス
[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェ
ニル)プロピオネート]、トリエチレングリコール−ビ
ス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]、n−オクタデシル−3
−(4′,5′−ジ−t−ブチルフェノール)プロピオ
ネート、n−オクタデシル−3−(4′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−t−ブチルフェノール)プロピオネー
ト、ステアリル−2−(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェノール)プロピオネート、ジステアリル
−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジルホ
スホネート、2−t−ブチル−6−(3−t−ブチル−
5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフ
ェニルアクリレート、N,N′−ヘキサメチレンビス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシ
ンナマミド)、3,9−ビス{2−[3−(3−t−ブ
チル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェニル)プロピオ
ニルオキシ]−1,1−ジメチルエチル}−2,4,
8,10−テトラオキサスピロ[5,5]ウンデカン、
4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、1,1,3−トリス(2−メチル−4−ヒド
ロキシ−5−t−ブチルフェノール)ブタンなどが含ま
れる。
【0020】アミン系酸化防止剤には、ヒンダードアミ
ン類、例えば、4−メトキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン、4−ベンゾイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン、4−フェノキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)オ
ギサレート、ビス−(2,2,6,6−テトラメチル−
4−ピペリジル)マロネート、ビス−(2,2,6,6
−テトラメチル−4−ピペリジル)アジペート、ビス−
(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリジル)セ
バケート、ビス−(1,,2,2,6,6−ペンタメチ
ル−4−ピペリジル)セバケート、ビス(2,2,6,
6−テトラメチル−4−ピペリジル)テレフタレート、
1,2−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピ
ペリジルオキシ)エタン、フェニル−1−ナフチルアミ
ン、フェニル−2−ナフチルアミン、N,N′−ジフェ
ニル−1,4−フェニレンジアミン、N−フェニル−
N′−シクロヘキシル−1,4−フェニレンジアミンな
どが含まれる。
【0021】リン系酸化防止剤には、例えば、トリイソ
デシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリ
スノニルフェニルホスファイト、ジフェニルイソデシル
ホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、
2,2−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェニ
ル)オクチルホスファイト、4,4′−ブチリデンビス
(3−メチル−6−t−ブチルフェニル)ジトリデシル
ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニ
ル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチル−4−メチ
ルフェニル)ホスファイト、トリス(2,4−ジ−t−
アミルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−ブチ
ルフェニル)ホスファイト、トリス(2−t−フェニル
フェニル)ホスファイト、トリス[2−(1,1−ジメ
チルプロピル)−フェニル]ホスファイト、トリス
[2,4−(1,1−ジメチルプロピル)−フェニル]
ホスファイト、トリス(2−シクロヘキシルフェニル)
ホスファイト、トリス(2−t−ブチル−4−フェニル
フェニル)ホスファイトなどが含まれる。
【0022】ヒドロキノン系酸化防止剤には、例えば、
2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノンなどが含まれ、キ
ノリン系酸化防止剤には、例えば、6−エトキシ−2,
2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリンなどが
含まれ,イオウ系酸化防止剤には、例えば、ジラウリル
チオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネ
ートなどが含まれる。
【0023】これらの酸化防止剤は一種又は二種以上併
用することができる。好ましい酸化防止剤には、フェノ
ール系酸化防止剤(特に、ヒンダードフェノール類)な
どが含まれる。ヒンダードフェノール類の中でも、特
に、例えば、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)
プロピオネート]などのC2-10アルキレンジオール−ビ
ス[3−(3,5−ジ−分岐C3-6 アルキル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート];例えば、トリエ
チレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−
メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]な
どのジ又はトリオキシC2-4 アルキレンジオール−ビス
[3−(3,5−ジ−分岐C3-6 アルキル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート];例えば、グリセリン
トリス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオネート]などのC3-8 アルキレン
トリオール−ビス[3−(3,5−ジ−分岐C3-6 アル
キル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート];例
えば、ペンタエリスリトールテトラキス[3−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオ
ネート]などのC4-8 アルキレンテトラオールテトラキ
ス[3−(3,5−ジ−分岐C3-6 アルキル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート]などが好ましい。
【0024】これらの酸化防止剤は単独で又は二種以上
使用できる。酸化防止剤の含有量は、例えば、ポリアセ
タール樹脂100重量部に対して、0.01〜5重量
部、好ましくは0.05〜2.5重量部、特に0.1〜
1重量部程度の範囲から選択できる。
【0025】含窒素化合物には、例えば、窒素含有樹脂
(ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエステルアミド
など)、第2級又は第3級アミン類(芳香族アミンな
ど)、ヒドラジン類(ヒドラジン、ヒドラゾンやヒドラ
ジドなどのヒドラジン誘導体)、ウラシル又はその誘導
体、シトシン又はその誘導体、グアニジン又はその誘導
体、尿素類(尿素,チオ尿素またはその誘導体)、ベン
ゾグアナミン類、ポリアミノトリアゾール類(メラミン
又はその誘導体)、ポリアミノチオエーテルなどが含ま
れる。これらの含窒素化合物は単独で又は二種以上使用
でき、含窒素化合物の使用量は、例えば、ポリアセター
ル樹脂100重量部に対して、0.01〜5重量部、好
ましくは0.05〜2.5重量部(特に0.1〜1重量
部)程度の範囲から選択できる。前記酸化防止剤と含窒
素化合物はそれぞれ組み合わせて使用してもよい。
【0026】さらに、グリオキシジウレイド化合物(A
)と、酸化防止剤及び/又は含窒素化合物(B )との
割合(重量比)は、例えば、前者(A )/後者(B )=
0.1〜10、好ましくは0.2〜10、さらに好まし
くは0.5〜7(特に1〜7)程度の範囲から選択でき
る。特にグリオキシジウレイド化合物の割合が多くなる
と、ホルムアルデヒドの生成量を大きく改善できる。そ
のため、好ましい両者の割合(重量比)は、前者(A )
/後者(B )=1.0〜10、好ましくは1.2〜1
0、さらに好ましくは1.5〜5、特に1.7〜5(例
えば、2〜5)程度である。このような割合の成分(A
)および(B )の総量は、通常、ポリアセタール樹脂
100重量部に対して0.1〜5重量部、好ましくは
0.2〜3重量部、さらに好ましくは0.5〜2重量部
(特に0.5〜1.5重量部)程度である。
【0027】本発明の樹脂組成物には、必要に応じて各
種添加剤、例えば、染料及び顔料を含む着色剤、離型
剤、核剤、帯電防止剤、難燃剤、界面活性剤、各種ポリ
マー、充填剤などを1種又は2種以上組み合わせて添加
してもよい。
【0028】本発明のポリアセタール樹脂組成物は、粉
粒状混合物や溶融混合物であってもよく、ポリアセター
ル樹脂と、グリオキシジウレイド化合物と、必要により
他の添加剤とを慣用の方法で混合することにより調製で
きる。例えば、各成分を混合して、一軸又は二軸の押
出機により混練して押出してペレットを調製した後、成
形する方法、一旦組成の異なるペレット(マスターバ
ッチ)を調製し、そのペレットを所定量混合(希釈)し
て成形に供し、所定の組成の成形品を得る方法、ポリ
アセタール樹脂のペレットにグリオキシジウレイド化合
物を散布などにより付着させた後、成形し、所定の組成
の成形品を得る方法などが採用できる。また、成形品に
用いられる組成物の調製において、基体であるポリアセ
タール樹脂の粉粒体(例えば、ポリアセタール樹脂の一
部又は全部を粉砕した粉粒体)と他の成分(グリオキシ
ジウレイド化合物など)を混合して溶融混練すると、添
加物の分散を向上させるのに有利である。本発明の樹脂
組成物は、成型加工(特に溶融成型加工)工程におい
て、ポリアセタール樹脂の酸化又は熱分解などによるホ
ルムアルデヒドの生成を顕著に抑制でき、作業環境を改
善できる。また、金型への分解物などの付着(モールド
デポジット)、成形品からの分解物の浸出を顕著に抑制
し、ヒートエージング性を大幅に改善でき、成形加工時
の諸問題を改善できる。そのため、本発明の樹脂組成物
は、慣用の成形方法、例えば、射出成形、押出成形、圧
縮成形、ブロー成形、真空成形、発泡成形、回転成形な
どの方法で、種々の成形品を成形するのに有用である。
【0029】
【発明の効果】本発明のポリアセタール樹脂組成物は、
グリオキシジウレイド化合物を含んでいるので、ポリア
セタール樹脂の安定性(特に成形加工時の溶融安定性)
を改善できる。また、少量の添加でホルムアルデヒドの
生成を著しく抑制でき、作業環境を大きく改善できる。
さらには、金型への分解物の付着(モールドデポジッ
ト)や成形品からの分解物の浸出を抑制でき、成形品の
品質や成形性を向上できる。
【0030】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。なお、実施例及び比較例において、溶
融体からのホルムアルデヒドの発生量、成形性や成形環
境の臭気、及びヒートエージング性について、以下のよ
うにして評価した。
【0031】[溶融体からのホルムアルデヒド発生量]
5gのペレットを正確に秤取し、金属製容器中に200
℃で5分間保持した後、容器内の雰囲気を蒸留水中に吸
収させる。この水溶液のホルムアルデヒド量をJIS
K0102,29(ホルムアルデヒドの項)に従って定
量し、ペレットから発生するホルムアルデヒドガス量
(ppm )として計算した。
【0032】[成形性(金型付着物の定量)と成形時の
環境臭気]射出成形機を用いて、下記の条件で、試料ポ
リアセタール樹脂組成物を特定形状の成形品を連続成形
(24時間)し、連続成形時の成形機周辺のホルムアル
デヒド臭気と、24時間後の金型付着物の量を下記のよ
うに評価した。
【0033】(成形条件)射出成形機:東芝 IS30
EPN[東芝機械(株)製]シリンダー温度:200
℃射出圧力:750kg/cm2 射出時間:4秒冷却時
間:3秒金型温度:30℃(連続成形時の成形機周辺の
ホルムアルデヒド臭気の評価)A:ほとんどホルムアル
デヒド臭が無いB:少しホルムアルデヒド臭がするC:
相当ホルムアルデヒド臭がし、喉、目が刺激されるD:
ホルムアルデヒド臭が非常に激しく、その場にいられな
い(連続成形時の金型付着物の評価)A:極僅かな付着
物が認められるB:付着物の量が少量であるC:付着物
の量が多いものの、金型の全面には付着していないD:
付着物が多く、金型の全面に付着している[ヒートエー
ジング性(成形品表面への滲出物の評価)]成形品を、
温度70℃,相対湿度80%RHの環境下で3日間放置
し、更に、温度120℃で一昼夜放置した後、成形品の
表面を観察し、滲出物の有無と程度を目視観察して下記
の4段階で評価した。A:滲出物が全く無いB:滲出物
が部分的に認められるC:滲出物が全面にうっすらと認
められるD:滲出物が全面に多量に浸出している実施例
1〜7及び比較例1〜7ポリアセタール樹脂に、酸化防
止剤とグリオキシジウレイド化合物を表1に示す割合で
混合した後、二軸押出機により溶融混合し、ペレット状
の組成物を調製した。次いで、このペレットを用いて、
射出成形機により特定形状の成形品を連続成形(24時
間)し、上記評価を行なった。結果を表1に示す。な
お、比較のため、グリオキシジウレイド化合物未添加の
例、ポリアセタール樹脂に通常の安定剤を添加した例に
ついて、上記と同様にして評価した。
【0034】実施例および比較例で使用したポリアセタ
ール樹脂、酸化防止剤、グリオキシジウレイド化合物、
及びその他の安定剤は以下の通りである。1.ポリアセ
タール樹脂(a):ポリアセタール樹脂コポリマー(ポ
リプラスチックス(株)製、「ジュラコン」)(b):
ポリアセタール樹脂ホモポリマー(旭化成(株)製、
「テナック4010」)2.酸化防止剤(c):ペンタ
エリスリトールテトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]3.
グリオキシジウレイド化合物(d):グリオキシジウレ
イド(e):アラントインジヒドロキシアルミニウム
(川研ファインケミカル(株)製)4.その他の安定剤
(f):エチレン尿素(g):メラミン(h):ヒダン
トイン(i):5,5,−ジメチルヒダントイン
【0035】
【表1】 表より明らかなように、比較例に比べて、実施例の樹脂
組成物は、ホルムアルデヒドの発生量が極めて小さく、
金型への付着物や成形品からの滲出物の量が極めて少な
い。そのため、作業環境を大きく改善できるとともに、
成形性を向上できる。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ポリアセタール樹脂とグリオキシジウレ
    イド化合物とを含むポリアセタール樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 グリオキシジウレイド化合物がグリオキ
    シジウレイドである請求項1記載のポリアセタール樹脂
    組成物。
  3. 【請求項3】 グリオキシジウレイド化合物が、グリオ
    キシジウレイドと金属との塩である請求項1記載のポリ
    アセタール樹脂組成物。
  4. 【請求項4】 グリオキシジウレイド化合物が、グリオ
    キシジウレイドと、アルカリ金属,アルカリ土類金属,
    周期表1B族金属,周期表2B族金属,周期表3B族金
    属,周期表4B族金属,周期表8族金属から選択された
    少なくとも一種の金属との塩である請求項1記載のポリ
    アセタール樹脂組成物。
  5. 【請求項5】 グリオキシジウレイド化合物が、アラン
    トインジヒドロキシアルミニウムである請求項1記載の
    ポリアセタール樹脂組成物。
  6. 【請求項6】 グリオキシジウレイド化合物の使用量
    が、ポリアセタール樹脂100重量部に対して0.01
    〜10重量部である請求項1記載のポリアセタール樹脂
    組成物。
  7. 【請求項7】 さらに、酸化防止剤を含む請求項1記載
    のポリアセタール樹脂組成物。
  8. 【請求項8】 グリオキシジウレイド化合物と酸化防止
    剤との割合(重量比)が、前者/後者=1.0〜10で
    ある、請求項7記載のポリアセタール樹脂組成物。
  9. 【請求項9】 ポリアセタール樹脂とグリオキシジウレ
    イド化合物とを混合するポリアセタール樹脂組成物の製
    造方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008001557A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Polyplastics Co., Ltd. Composition de résine polyacétalique
WO2008038745A1 (fr) 2006-09-26 2008-04-03 Polyplastics Co., Ltd. Composition de résine de polyacétal
WO2008078572A1 (ja) 2006-12-25 2008-07-03 Polyplastics Co., Ltd. ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品
WO2009081517A1 (ja) 2007-12-26 2009-07-02 Polyplastics Co., Ltd. ポリアセタール樹脂組成物
WO2010026759A1 (ja) 2008-09-03 2010-03-11 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリアセタール樹脂組成物、樹脂成形品、ポリアセタール樹脂原料組成物の改質方法及び改質剤
US8921471B2 (en) 2009-08-07 2014-12-30 Ticona Llc Low formaldehyde emission polyacetal composition
US8975313B2 (en) 2011-09-29 2015-03-10 Ticona Llc Polymer composition for producing articles having a metallic appearance

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008001557A1 (fr) 2006-06-30 2008-01-03 Polyplastics Co., Ltd. Composition de résine polyacétalique
US7893140B2 (en) 2006-06-30 2011-02-22 Polyplastics Co., Ltd. Polyacetal resin composition
WO2008038745A1 (fr) 2006-09-26 2008-04-03 Polyplastics Co., Ltd. Composition de résine de polyacétal
WO2008078572A1 (ja) 2006-12-25 2008-07-03 Polyplastics Co., Ltd. ポリアセタール樹脂組成物及びその成形品
WO2009081517A1 (ja) 2007-12-26 2009-07-02 Polyplastics Co., Ltd. ポリアセタール樹脂組成物
US8633264B2 (en) 2007-12-26 2014-01-21 Polyplastics Co., Ltd. Polyacetal resin composition
WO2010026759A1 (ja) 2008-09-03 2010-03-11 三菱エンジニアリングプラスチックス株式会社 ポリアセタール樹脂組成物、樹脂成形品、ポリアセタール樹脂原料組成物の改質方法及び改質剤
US8846788B2 (en) 2008-09-03 2014-09-30 Mitsubishi Engineering-Plastics Corporation Polyacetal resin composition, resin molded article, and method and agent for improving polyacetal resin raw material composition
US8921471B2 (en) 2009-08-07 2014-12-30 Ticona Llc Low formaldehyde emission polyacetal composition
US8975313B2 (en) 2011-09-29 2015-03-10 Ticona Llc Polymer composition for producing articles having a metallic appearance

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