JPH10182669A - シラトラン誘導体およびその製造方法 - Google Patents

シラトラン誘導体およびその製造方法

Info

Publication number
JPH10182669A
JPH10182669A JP35613896A JP35613896A JPH10182669A JP H10182669 A JPH10182669 A JP H10182669A JP 35613896 A JP35613896 A JP 35613896A JP 35613896 A JP35613896 A JP 35613896A JP H10182669 A JPH10182669 A JP H10182669A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
alkyl
same
general formula
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP35613896A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4148544B2 (ja
Inventor
Makoto Yoshitake
誠 吉武
Hidekatsu Hatanaka
秀克 畑中
Yoshimi Fukutani
芳美 福谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DuPont Toray Specialty Materials KK
Original Assignee
Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Toray Silicone Co Ltd filed Critical Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
Priority to JP35613896A priority Critical patent/JP4148544B2/ja
Publication of JPH10182669A publication Critical patent/JPH10182669A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4148544B2 publication Critical patent/JP4148544B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 一分子中に1〜2個のアルコキシシリル基を
有する新規シラトラン誘導体、およびこれを効率的製造
方法を提供する。 【解決手段】 一般式: {R1は同じか異なる水素もしくはC1〜10のアルキ
ル基、R2は水素、C1〜10のアルキル基又は−R4
Si(OR5)x6 (3-x)(R4は二価有機基、R5はC1〜
10のアルキル基、R6は置換か非置換の一価炭化水素
基、xは1〜3の整数である。)の一種以上の同じか異
なる基であり、但しR2の一方以上はアルコキシシリル
基含有有機基であり、R3は置換か非置換の一価炭化水
素基、C1〜10のアルコキシ基、グリシドキシアルキ
ル基、オキシラニルアルキル基、アシロキシアルキル基
或いはアミノアルキル基の一種以上の基である。}のシ
ラトラン誘導体、およびアミン化合物とエポキシ基含有
アルコキシシラン化合物、必要に応じて他のアルコキシ
シラン化合物とを反応させるその製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なシラトラン
誘導体、およびその製造方法に関し、詳しくは、一分子
中に1個または2個のアルコキシシリル基を有する新規
なシラトラン誘導体、およびこのようなシラトラン誘導
体を効率よく製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】シラトランは、一般式:
【化6】 で表され、上式中のRがメチル基、フェニル基、メトキ
シ基、エトキシ基である化合物が知られている。また、
このシラトランを製造する方法としては、オルガノトリ
ヒドロシランとトリエタノールアミンとを反応させる方
法(特開昭53−31689号公報参照)、トリアルコ
キシシランとトリエタノールアミンとを反応させる方法
(米国特許明細書第2953545号、および特開昭6
1−69781号公報参照)が知られている。
【0003】しかし、一分子中に1個または2個のアル
コキシシリル基を有するシラトラン誘導体は知られてお
らず、シランカップリング剤や接着促進剤として切望さ
れている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らはこのよう
な新規なシラトラン誘導体について鋭意研究した結果、
本発明に到達した。すなわち、本発明の目的は、一分子
中に1個または2個のアルコキシシリル基を有する新規
なシラトラン誘導体、およびこのような新規なシラトラ
ン誘導体を効率よく製造する方法を提供することにあ
る。
【0005】
【問題を解決するための手段】本発明のシラトラン誘導
体は、一般式:
【化7】 {式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、R2は水素原
子、炭素原子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR5)x6 (3-x) (式中、R4は二価有機基であり、R5は炭素原子数1〜
10のアルキル基であり、R6は置換もしくは非置換の
一価炭化水素基であり、xは1、2、または3であ
る。)で表されるアルコキシシリル基含有有機基からな
る群から選択される少なくとも一種の同じかまたは異な
る基であり、但し、R2の少なくとも一方はこのアルコ
キシシリル基含有有機基であり、R3は置換もしくは非
置換の一価炭化水素基、炭素原子数1〜10のアルコキ
シ基、グリシドキシアルキル基、オキシラニルアルキル
基、アシロキシアルキル基、およびアミノアルキル基か
らなる群から選択される少なくとも一種の基である。}
で表されるシラトラン誘導体に関する。
【0006】また、本発明のシラトラン誘導体の製造方
法は、一般式: NHy(CR1 2CR1 2OH)(3-y) (式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、yは1または2
である。)で表されるアミン化合物と一般式:
【化8】 (式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、R4は二価有機
基であり、R7は炭素原子数1〜10のアルキル基であ
る。)で表されるエポキシ基含有トリアルコキシシラン
化合物とを反応させてなる、一般式:
【化9】 {式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、R8は水素原
子、炭素原子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR10)3 (式中、R4は二価有機基であり、R10は炭素原子数1
〜10のアルキル基である。)で表されるトリアルコキ
シシリル基含有有機基からなる群から選択される少なく
とも一種の同じかまたは異なる基であり、但し、R8
少なくとも一方はこのトリアルコキシシリル基含有有機
基であり、R9はグリシドキシアルキル基、およびオキ
シラニルアルキル基からなる群から選択される少なくと
も一種の基である。}で表されるシラトラン誘導体の製
造方法に関する。
【0007】また、本発明の他のシラトラン誘導体の製
造方法は、一般式: NHy(CR1 2CR1 2OH)(3-y) (式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、yは1または2
である。)で表されるアミン化合物と一般式:
【化10】 (式中、 R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、R4は二価有機
基であり、R6は置換もしくは非置換の一価炭化水素基
であり、R7は炭素原子数1〜10のアルキル基であ
り、xは1、2、または3である。)で表されるエポキ
シ基含有アルコキシシラン化合物と一般式: R11Si(OR12)3 (式中、R11は置換もしくは非置換の一価炭化水素基、
炭素原子数1〜10のアルコキシ基、アシロキシアルキ
ル基、およびアミノアルキル基からなる群から選択され
る少なくとも一種の基であり、R12は炭素原子数1〜1
0のアルキル基である。)で表されるアルコキシシラン
化合物とを反応させてなる、一般式:
【化11】 {式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、R13は水素原
子、炭素原子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR15)x6 (3-x) (式中、R4は二価有機基であり、R6は置換もしくは非
置換の一価炭化水素基であり、R15は炭素原子数1〜1
0のアルキル基であり、xは1、2、または3であ
る。)で表されるアルコキシシリル基含有有機基からな
る群から選択される少なくとも一種の同じかまたは異な
る基であり、但し、R13の少なくとも一方はこのアルコ
キシシリル基含有有機基であり、R14は置換もしくは非
置換の一価炭化水素基、炭素原子数1〜10のアルコキ
シ基、グリシドキシアルキル基、オキシラニルアルキル
基、アシロキシアルキル基、およびアミノアルキル基か
らなる群から選択される少なくとも一種の基である。}
で表されるシラトラン誘導体の製造方法に関する。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明のシラトラン誘導体を詳細
に説明する。本発明のシラトラン誘導体は、一般式:
【化12】 で表される。上式中のR1は同じかまたは異なる水素原
子もしくは炭素原子数1〜10のアルキル基であり、R
1のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル基、イソブ
チル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が例示さ
れる。このR1としては、水素原子、メチル基であるこ
とが好ましい。また、上式中のR2は水素原子、炭素原
子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR5)x6 (3-x) で表されるアルコキシシリル基含有有機基からなる群か
ら選択される少なくとも一種の同じかまたは異なる基で
あり、但し、R2の少なくとも一方はこのアルコキシシ
リル基含有有機基であることが必要である。R2のアル
キル基としては、前記R1のアルキル基と同様の基が例
示される。また、R2のアルコキシシリル基含有有機基
において、式中のR4は二価有機基であり、メチレン
基、エチレン基、メチルメチレン基、プロピレン基、メ
チルエチレン基、ブチレン基、ヘキシレン基、1−メチ
ルペンチレン基、1,4−ジメチルブチレン基等のアル
キレン基;メチレンオキシプロピレン基、メチレンオキ
シペンチレン基等のアルキレンオキシアルキレン基が例
示され、特に、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、メチレンオキシプロピレン基、メチレンオキシペン
チレン基であることが好ましい。また、式中のR5は炭
素原子数1〜10のアルキル基であり、前記R1のアル
キル基と同様の基が例示され、好ましくは、メチル基、
エチル基である。また、式中のR6は置換もしくは非置
換の一価炭化水素基であり、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ペンチル基、イソプロピル基、イソ
ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等のア
ルキル基;フェニル基、トリル基、キシリル基、ナフチ
ル基等のアリール基;ビニル基、アリル基、ブテニル
基、ペンテニル基、ヘキセニル基等のアルケニル基;ベ
ンジル基、フェネチル基等のアラルキル基;クロロメチ
ル基、3−クロロプロピル基、3,3,3−トリフルオ
ロプロピル基、ノナフルオロブチルエチル基等のハロゲ
ン化アルキル基が例示され、好ましくは、メチル基であ
る。また、式中のxは1、2、または3であり、好まし
くは、3である。このようなR2のアルコキシシリル基
含有有機基としては、次のような基が例示される。 −(CH2)2Si(OCH3)3 −(CH2)2Si(OCH3)2CH3 −(CH2)3Si(OC25)3 −(CH2)3Si(OC25)(CH3)2 −CH2O(CH2)3Si(OCH3)3 −CH2O(CH2)3Si(OC25)3 −CH2O(CH2)3Si(OCH3)2CH3 −CH2O(CH2)3Si(OC25)2CH3 −CH2OCH2Si(OCH3)3 −CH2OCH2Si(OCH3)(CH3)2 また、上式中のR3は置換もしくは非置換の一価炭化水
素基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、グリシドキ
シアルキル基、オキシラニルアルキル基、アシロキシア
ルキル基、ハロアルキル基、およびアミノアルキル基か
らなる群から選択される少なくとも一種の基であり、R
3の一価炭化水素基としては、前記R6と同様の基が例示
され、R3のアルコキシ基としては、メトキシ基、エト
キシ基、プロポキシ基が例示され、R3のグリシドキシ
アルキル基としては、3−グリシドキシプロピル基が例
示され、R3のオキシラニルアルキル基としては、4−
オキシラニルブチル基、8−オキシラニルオクチル基が
例示され、R3のアシロキシアルキル基としては、アセ
トキシプロピル基、3−メタクリロキシプロピル基が例
示され、R3のアミノアルキル基としては、3−アミノ
プロピル基、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプ
ロピル基が例示される。
【0009】本発明のシラトラン誘導体としては、次の
ような化合物が例示される。
【化13】
【化14】
【化15】
【化16】
【化17】
【化18】 このような本発明のシラトラン誘導体は、一分子中に1
個または2個のアルコキシシリル基を有しているので、
シランカップリング剤、接着促進剤として有用である。
【0010】次に、本発明のシラトラン誘導体の製造方
法を詳細に説明する。前者のシラトラン誘導体の製造方
法は、一般式: NHy(CR1 2CR1 2OH)(3-y) で表されるアミン化合物と一般式:
【化19】 で表されるエポキシ基含有トリアルコキシシラン化合物
とを反応させてなることを特徴とする。この反応は、ア
ミン化合物によるエポキシ基含有トリアルコキシシラン
中のエポキシ基の開環反応、この開環反応により生成し
た水酸基とこのアミン化合物の水酸基と別のエポキシ基
含有トリアルコキシシラン中のケイ素原子結合アルコキ
シ基とのアルコキシ基交換反応による環化反応からなる
と推定される。
【0011】このアミン化合物は、本発明のシラトラン
誘導体の骨格を形成するための原料である。上式中のR
1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭素原子数1
〜10のアルキル基であり、R1のアルキル基として
は、前記と同様のアルキル基が例示される。また、上式
中のyは1または2である。このようなアミン化合物と
しては、2−ヒドロキシエチルアミン、2,2’−ジヒ
ドロキシジエチルアミン、2−ヒドロキシ−2−メチル
−エチルアミンが例示される。
【0012】また、このエポキシ基含有トリアルコキシ
シラン化合物は、本発明のシラトラン誘導体の骨格を形
成するための原料であり、また、本発明のシラトラン誘
導体の一分子中に1個または2個のトリアルコキシシリ
ル基を導入するための原料である。上式中のR1は同じ
かまたは異なる水素原子もしくは炭素原子数1〜10の
アルキル基であり、R1のアルキル基としては前記と同
様のアルキル基が例示される。また、上式中のR4は二
価有機基であり、前記と同様の基が例示される。また、
上式中のR7は炭素原子数1〜10のアルキル基であ
り、前記R1のアルキル基と同様の基が例示される。こ
のようなエポキシ基含有トリアルコキシシラン化合物と
しては、4−オキシラニルブチルトリメトキシシラン、
8−オキシラニルオクチルトリメトキシシラン、3−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシド
キシプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシメチル
トリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシ
シランが例示される。
【0013】本発明の製造方法では、このアミン化合物
に対するエポキシ基含有トリアルコキシシラン化合物の
添加量は限定されないが、副生物の生成を抑え、シラト
ラン誘導体を収率良く得るためには、このアミン化合物
1モルに対して、このアミン化合物中のyが1である場
合には、このエポキシ基含有トリアルコキシシラン化合
物は1.5〜10モルの範囲内であることが好ましく、
さらには、2〜5モルの範囲内であることが好ましく、
また、このアミン化合物中のyが2である場合には、こ
のエポキシ基含有トリアルコキシシラン化合物は2.5
〜20モルの範囲内であることが好ましく、さらには、
3〜10モルの範囲内であることが好ましい。これは、
この製造方法において、このエポキシ基含有トリアルコ
キシシラン化合物をアミン化合物に対して反応の化学量
論前後ないしは過剰量用いることが推奨されることを意
味している。一般に、反応が遅くならない範囲内で過剰
量のエポキシ基含有トリアルコキシシラン化合物を用い
ると、副生物の生成が抑えられるが、過剰量のエポキシ
基含有トリアルコキシシラン化合物が残存してしまう。
この未反応として残ったエポキシ基含有トリアルコキシ
シラン化合物は、必要に応じて、反応後に蒸留等により
シラトラン誘導体から分離して回収することができる。
【0014】このようにして得られるシラトラン誘導体
は、一般式:
【化20】 で表される。上式中のR1は同じかまたは異なる水素原
子もしくは炭素原子数1〜10のアルキル基であり、R
1のアルキル基としては前記と同様のアルキル基が例示
される。また、上式中のR8は水素原子、炭素原子数1
〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR10)3 で表されるトリアルコキシシリル基含有有機基からなる
群から選択される少なくとも一種の同じかまたは異なる
基であり、但し、R8の少なくとも一方はこのトリアル
コキシシリル基含有有機基である。R8のアルキル基と
しては、前記R1のアルキル基と同様の基が例示され
る。また、R8のトリアルコキシシリル基含有有機基に
おいて、式中のR4は二価有機基であり、前記と同様の
基が例示される。また、式中のR10は炭素原子数1〜1
0のアルキル基であり、前記R1のアルキル基と同様の
基が例示される。この製造方法においては、原料のエポ
キシ基含有トリアルコキシシラン中のR7と、得られる
シラトラン化合物中のR10は同じである場合もあるが、
このシラトラン誘導体を生成する反応中にケイ素原子結
合アルコキシ基のアルコキシ基交換反応を生じるため
に、必ずしも同じとならない場合があり、また、R10
アルキル基は数種のアルキル基からなる場合がある。こ
のようなR8のトリアルコキシシリル基含有有機基とし
ては次のような基が例示される。 −(CH2)2Si(OCH3)3 −(CH2)3Si(OC25)3 −CH2O(CH2)3Si(OCH3)3 −CH2O(CH2)3Si(OC25)3 −CH2OCH2Si(OCH3)3 また、上式中のR9はグリシドキシアルキル基、および
オキシラニルアルキル基からなる群から選択される少な
くとも一種の基であり、R9のグリシドキシアルキル基
としては、グリシドキシメチル基、3−グリシドキシプ
ロピル基が例示され、R9のオキシラニルアルキル基と
しては、4−オキシラニルブチル基、8−オキシラニル
オクチル基が例示される。
【0015】続いて、後者のシラトラン誘導体の製造方
法を詳細に説明する。後者の製造方法は、一般式: NHy(CR1 2CR1 2OH)(3-y) で表されるアミン化合物と一般式:
【化21】 で表されるエポキシ基含有アルコキシシラン化合物と一
般式: R11Si(OR12)3 で表されるアルコキシシラン化合物を反応させることを
特徴とする。この反応は、アミン化合物のエポキシ基含
有アルコキシシラン化合物中のエポキシ基の開環反応、
この開環反応により生成した水酸基とアミン化合物中の
水酸基とアルコキシシラン化合物中のケイ素原子結合ア
ルコキシ基とのアルコキシ基交換反応による環化反応か
らなると推定される。
【0016】このアミン化合物は、本発明のシラトラン
誘導体の骨格を形成するための原料である。上式中のR
1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭素原子数1
〜10のアルキル基であり、R1のアルキル基として
は、前記と同様のアルキル基が例示される。また、上式
中のyは1または2である。このようなアミン化合物と
しては、前記と同様の化合物が例示される。
【0017】また、このエポキシ基含有アルコキシシラ
ン化合物は、本発明のシラトラン誘導体の一分子中に1
個または2個のアルコキシシリル基を導入するための原
料である。上式中のR1は同じかまたは個となる水素原
子もしくは炭素原子数1〜10のアルキル基であり、R
1のアルキル基としては、前記と同様のアルキル基が例
示される。また、上式中のR4は二価有機基であり、前
記と同様の基が例示される。また、上式中のR6は置換
もしくは非置換の一価炭化水素基であり、前記と同様の
基が例示される。また、上式中のR7は炭素原子数1〜
10のアルキル基であり、前記と同様の基が例示され
る。また、上式中のxは1、2、または3であり、好ま
しくは、3である。このようなエポキシ基含有アルコキ
シシラン化合物としては、4−オキシラニルブチルトリ
メトキシシラン、4−オキシラニルブチルメチルジメト
キシシラン、8−オキシラニルオクチルトリメトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−グ
リシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリ
シドキシプロピルメチルジエトキシシラン、グリシドキ
シメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルメチ
ルジメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシ
シランが例示される。
【0018】また、このアルコキシシラン化合物は、本
発明のシラトラン誘導体の骨格を形成するための原料で
ある。上式中のR11は置換もしくは非置換の一価炭化水
素基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、アシロキシ
アルキル基、ハロアルキル基、およびアミノアルキル基
からなる群から選択される少なくとも一種の基であり、
11の一価炭化水素基としては、前記R3の一価炭化水
素基と同様の基が例示され、R11のアルコキシ基として
は、前記R3のアルコキシ基と同様の基が例示され、R
11のアシロキシアルキル基としては、前記R3のアシロ
キシアルキル基と同様の基が例示され、R11のアミノア
ルキル基としては、前記R3のアミノアルキル基と同様
の基が例示される。また、上式中のR12は炭素原子数1
〜10のアルキル基であり、前記R1のアルキル基と同
様の基が例示される。このようなアルコキシシラン化合
物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシ
ラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキ
シシラン、フェニルトリメトキシシラン、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリ
フロロプロピルトリメトキシシラン、ノナフルオロブチ
ルエチルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルト
リメトキシシランが例示される。
【0019】本発明の製造方法では、このアミン化合物
に対するエポキシ基含有アルコキシシランとアルコキシ
ラン化合物の添加量は限定されないが、シラトラン誘導
体を収率良く得るためには、このアミン化合物1モルに
対して、このアミン化合物中のyが1である場合には、
このエポキシ基含有アルコキシシラン化合物は0.5〜
10モルの範囲内であることが好ましく、さらには、
0.8〜5モルの範囲内であることが好ましく、また、
このアミン化合物中のyが2である場合には、このエポ
キシ基含有アルコキシシラン化合物は1.5〜20モル
の範囲内であることが好ましく、さらには、1.8〜1
0モルの範囲内であることが好ましく、特には、ほぼ2
モルとなる量であることが好ましい。また、このアルコ
キシシラン化合物の添加量は、アミン化合物1モルに対
して、0.5〜50モルの範囲内であることが好まし
く、さらには、1〜20モルの範囲内であることが好ま
しい。これは、この製造方法において、このアルコキシ
シラン化合物をアミン化合物に対して反応の化学量論前
後ないしは過剰量用いることが推奨されることを意味し
ている。一般に、反応が遅くならない範囲内で過剰量の
アルコキシシラン化合物を用いると、副生物の生成を抑
えられるが、過剰のアルコキシシラン化合物が残存して
しまう。この未反応として残ったアルコキシシラン化合
物は、必要に応じて、反応後に蒸留等によりシラトラン
誘導体から分離して回収することができる。
【0020】このようにして得られるシラトラン誘導体
は、一般式:
【化22】 で表される。上式中のR1は同じかまたは異なる水素原
子もしくは炭素原子数1〜10のアルキル基であり、R
1のアルキル基としては前記と同様のアルキル基が例示
される。また、上式中のR13は水素原子、炭素原子数1
〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR15)x6 (3-x) で表されるアルコキシシリル基含有有機基からなる群か
ら選択される少なくとも一種の同じかまたは異なる基で
あり、但し、R13の少なくとも一方はこのアルコキシシ
リル基含有有機基である。R13のアルキル基としては、
前記R1のアルキル基と同様の基が例示される。また、
13のアルコキシシリル基含有有機基において、式中の
4は二価有機基であり、前記と同様の基が例示され
る。また、式中のR6は置換もしくは非置換の一価炭化
水素基であり、前記と同様の基が例示される。また、式
中のR15は炭素原子数1〜10のアルキル基であり、前
記R1のアルキル基と同様の基が例示される。この製造
方法においては、原料のエポキシ基含有アルコキシシラ
ン中のR7と、得られるシラトラン誘導体中のR15は同
じである場合もあるが、このシラトラン誘導体を生成す
る反応中にケイ素原子結合アルコキシ基のアルコキシ基
交換反応を生じるために、必ずしも同じとならない場合
があり、また、R15のアルキル基が数種のアルキル基か
らなる場合もある。また、式中のxは1、2、または3
であり、好ましくは、3である。このようなR13のアル
コキシシリル基含有有機基としては、前記R2のアルコ
キシシリル基含有有機基と同様の基が例示される。ま
た、上式中のR14は置換もしくは非置換の一価炭化水素
基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、グリシドキシ
アルキル基、オキシラニルアルキル基、アシロキシアル
キル基、およびアミノアルキル基からなる群から選択さ
れる少なくとも一種の基であり、このようなR14として
は、前記R3と同様の基が例示される。
【0021】本発明の製造方法において、この反応は常
温もしくは加熱下で進行するが、この反応時間を短縮す
るためには、100℃以下で加熱することが好ましい。
また、本発明の製造方法において、有機溶媒の使用は任
意であり、使用できる有機溶媒としては、ヘキサン、ヘ
プタン、オクタン等の脂肪族炭化水素;トルエン、キシ
レン等の芳香族炭化水素;メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール;アセトン、メチルイソ
ブチルケトン等のケトン;ジエチルエーテル、テトラヒ
ドロフラン等のエーテル;酢酸エチル、酢酸イソアミル
等のエステル;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセト
アミド等のアミド化合物が例示され、特に、メタノー
ル、エタノール等のアルコールを用いると、この反応時
間を短縮でき、さらに目的のシラトラン誘導体を収率良
く得ることができる。本発明の製造方法において、アル
コールを添加する場合には、この反応中にケイ素原子結
合アルコキシ基のアルコキシ基交換反応を生じるため
に、このアルコールは原料のエポキシ基含有トリアルコ
キシシラン化合物、またはエポキシ基含有アルコキシシ
ラン化合物とアルコキシシラン化合物中のケイ素原子結
合アルコキシ基と同じ炭素原子数のものを用いることが
好ましい。また、本発明の製造方法においてアルコール
を添加する場合には、このアルコールの還流温度で反応
を行うことにより、反応を著しく短縮することができ、
さらに、得られるシラトラン誘導体の収率を向上させる
ことができる。
【0022】
【実施例】本発明のシラトラン誘導体およびその製造方
法を実施例により詳細に説明する。
【0023】[実施例1]撹拌装置、温度計、および還
流冷却管を備えた500mlの4つ口フラスコに、2,
2’−ジヒドロキシジエチルアミン31.5g(0.3
モル)、テトラメトキシシラン91.3g(0.6モ
ル)、および3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン70.9g(0.3モル)を投入して、この系を5
0℃で100時間加熱攪拌した。次に、得られた反応混
合物全量をなす型フラスコに移して、ロータリーエバポ
レーターにより低沸点成分を留去することにより微黄色
透明液体117.9gを得た。この透明液体を29Si−
核磁気共鳴分析および13C−核磁気共鳴分析したとこ
ろ、式:
【化23】 で表されるシラトラン誘導体が生成しており、この含有
量が少なくとも90重量%に達していることが確認され
た。
【0024】[実施例2]撹拌装置、温度計、および還
流冷却管を備えた500mlの4つ口フラスコに、2−
ヒドロキシエチルアミン12.2g(0.2モル)、テ
トラエトキシシラン125.0g(0.6モル)、3−
グリシドキシプロピルトリエトキシシラン111.4g
(0.4モル)、およびエタノール30gを投入して、
この系を50℃で100時間加熱攪拌した。次に、得ら
れた反応混合物全量をなす型フラスコに移して、ロータ
リーエバポレーターにより低沸点成分を留去することに
より微黄色透明液体136.5gを得た。この透明液体
29Si−核磁気共鳴分析および13C−核磁気共鳴分析
したところ、式:
【化24】 で表されるシラトラン誘導体が生成しており、この含有
量が少なくとも90重量%に達していることが確認され
た。
【0025】[実施例3]撹拌装置、温度計、および還
流冷却管を備えた500mlの4つ口フラスコに、2−
ヒドロキシエチルアミン12.2g(0.2モル)、メ
チルトリメトキシシラン81.7g(0.6モル)、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン94.5g
(0.4モル)、およびメタノール32.0gを投入し
て、この系をメタノールの還流温度で8時間加熱攪拌し
た。次に、得られた反応混合物全量をなす型フラスコに
移して、ロータリーエバポレーターにより低沸点成分を
留去することにより微黄色透明液体131.7gを得
た。この透明液体を29Si−核磁気共鳴分析および13
−核磁気共鳴分析したところ、式:
【化25】 で表されるシラトラン誘導体が生成しており、この含有
量が少なくとも80%に達していることが確認された。
【0026】[実施例4]撹拌装置、温度計、および還
流冷却管を備えた300mlの4つ口フラスコに、2−
ヒドロキシエチルアミン12.2g(0.2モル)、3
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン141.8
g(0.6モル)、およびメタノール32.0gを投入
して、この系をメタノールの還流温度で12時間加熱攪
拌した。次に、得られた反応混合物全量をなす型フラス
コに移して、ロータリーエバポレーターにより低沸点成
分を留去することにより微黄色透明液体133.5gを
得た。この透明液体を29Si−核磁気共鳴分析および13
C−核磁気共鳴分析したところ、式:
【化26】 で表されるシラトラン誘導体が生成しており、この含有
量が少なくとも95%に達していることが確認された。
【0027】
【発明の効果】本発明のシラトラン誘導体は、一分子中
に1個または2個のアルコキシシリル基を有する新規な
化合物であり、本発明の製造方法は、このような新規な
シラトラン誘導体を効率よく製造できるという特徴があ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 実施例1で調製したシラトラン誘導体の29
i−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図2】 実施例1で調製したシラトラン誘導体の13
−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図3】 実施例2で調製したシラトラン誘導体の29
i−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図4】 実施例2で調製したシラトラン誘導体の13
−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図5】 実施例3で調製したシラトラン誘導体の29
i−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図6】 実施例3で調製したシラトラン誘導体の13
−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図7】 実施例4で調製したシラトラン誘導体の29
i−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
【図8】 実施例4で調製したシラトラン誘導体の13
−核磁気共鳴分析によるスペクトルチャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福谷 芳美 千葉県市原市千種海岸2番2 東レ・ダウ コーニング・シリコーン株式会社研究開発 本部内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式: 【化1】 {式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、R2は水素原
    子、炭素原子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR5)x6 (3-x) (式中、R4は二価有機基であり、R5は炭素原子数1〜
    10のアルキル基であり、R6は置換もしくは非置換の
    一価炭化水素基であり、xは1、2、または3であ
    る。)で表されるアルコキシシリル基含有有機基からな
    る群から選択される少なくとも一種の同じかまたは異な
    る基であり、但し、R2の少なくとも一方はこのアルコ
    キシシリル基含有有機基であり、R3は置換もしくは非
    置換の一価炭化水素基、炭素原子数1〜10のアルコキ
    シ基、グリシドキシアルキル基、オキシラニルアルキル
    基、アシロキシアルキル基、およびアミノアルキル基か
    らなる群から選択される少なくとも一種の基である。}
    で表されるシラトラン誘導体。
  2. 【請求項2】 一般式: NHy(CR1 2CR1 2OH)(3-y) (式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、yは1または2
    である。)で表されるアミン化合物と一般式: 【化2】 (式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、R4は二価有機
    基であり、R7は炭素原子数1〜10のアルキル基であ
    る。)で表されるエポキシ基含有トリアルコキシシラン
    化合物とを反応させてなる、一般式: 【化3】 {式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、R8は水素原
    子、炭素原子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR10)3 (式中、R4は二価有機基であり、R10は炭素原子数1
    〜10のアルキル基である。)で表されるトリアルコキ
    シシリル基含有有機基からなる群から選択される少なく
    とも一種の同じかまたは異なる基であり、但し、R8
    少なくとも一方はこのトリアルコキシシリル基含有有機
    基であり、R9はグリシドキシアルキル基、およびオキ
    シラニルアルキル基からなる群から選択される少なくと
    も一種の基である。}で表されるシラトラン誘導体の製
    造方法。
  3. 【請求項3】 一般式: NHy(CR1 2CR1 2OH)(3-y) (式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、yは1または2
    である。)で表されるアミン化合物と一般式: 【化4】 (式中、 R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、R4は二価有機
    基であり、R6は置換もしくは非置換の一価炭化水素基
    であり、R7は炭素原子数1〜10のアルキル基であ
    り、xは1、2、または3である。)で表されるエポキ
    シ基含有アルコキシシラン化合物と一般式: R11Si(OR12)3 (式中、R11は置換もしくは非置換の一価炭化水素基、
    炭素原子数1〜10のアルコキシ基、アシロキシアルキ
    ル基、およびアミノアルキル基からなる群から選択され
    る少なくとも一種の基であり、R12は炭素原子数1〜1
    0のアルキル基である。)で表されるアルコキシシラン
    化合物とを反応させてなる、一般式: 【化5】 {式中、R1は同じかまたは異なる水素原子もしくは炭
    素原子数1〜10のアルキル基であり、R13は水素原
    子、炭素原子数1〜10のアルキル基、および一般式: −R4−Si(OR15)x6 (3-x) (式中、R4は二価有機基であり、R6は置換もしくは非
    置換の一価炭化水素基であり、R15は炭素原子数1〜1
    0のアルキル基であり、xは1、2、または3であ
    る。)で表されるアルコキシシリル基含有有機基からな
    る群から選択される少なくとも一種の同じかまたは異な
    る基であり、但し、R13の少なくとも一方はこのアルコ
    キシシリル基含有有機基であり、R14は置換もしくは非
    置換の一価炭化水素基、炭素原子数1〜10のアルコキ
    シ基、グリシドキシアルキル基、オキシラニルアルキル
    基、アシロキシアルキル基、およびアミノアルキル基か
    らなる群から選択される少なくとも一種の基である。}
    で表されるシラトラン誘導体の製造方法。
  4. 【請求項4】 アルコールの存在下で反応を行うことを
    特徴とする、請求項2または3記載のシラトラン誘導体
    の製造方法。
JP35613896A 1996-12-25 1996-12-25 シラトラン誘導体およびその製造方法 Expired - Lifetime JP4148544B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35613896A JP4148544B2 (ja) 1996-12-25 1996-12-25 シラトラン誘導体およびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35613896A JP4148544B2 (ja) 1996-12-25 1996-12-25 シラトラン誘導体およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH10182669A true JPH10182669A (ja) 1998-07-07
JP4148544B2 JP4148544B2 (ja) 2008-09-10

Family

ID=18447531

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35613896A Expired - Lifetime JP4148544B2 (ja) 1996-12-25 1996-12-25 シラトラン誘導体およびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4148544B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0908462A3 (en) * 1997-10-13 1999-11-03 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silatrane derivative and curable silicone composition containing same
EP1002834A1 (en) * 1998-10-30 2000-05-24 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silicone rubber composition for composite molding
EP1045002A1 (en) * 1999-03-16 2000-10-18 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Silicone rubber composition
EP0982358A3 (en) * 1998-08-28 2001-04-25 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silicone water-based emulsion composition
EP1108746A1 (en) * 1999-12-13 2001-06-20 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silicone rubber composition
JP2002097273A (ja) * 2000-09-26 2002-04-02 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd オルガノポリシロキサン、およびその製造方法
US7094306B2 (en) 2001-12-18 2006-08-22 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Photocurable organic polymer composition

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0908462A3 (en) * 1997-10-13 1999-11-03 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silatrane derivative and curable silicone composition containing same
EP0982358A3 (en) * 1998-08-28 2001-04-25 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silicone water-based emulsion composition
EP1002834A1 (en) * 1998-10-30 2000-05-24 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silicone rubber composition for composite molding
EP1045002A1 (en) * 1999-03-16 2000-10-18 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Silicone rubber composition
EP1108746A1 (en) * 1999-12-13 2001-06-20 Dow Corning Toray Silicone Company, Ltd. Silicone rubber composition
US6284861B1 (en) 1999-12-13 2001-09-04 Dow Corning Toray Silicone, Ltd. Silicone rubber composition
JP2002097273A (ja) * 2000-09-26 2002-04-02 Dow Corning Toray Silicone Co Ltd オルガノポリシロキサン、およびその製造方法
US7094306B2 (en) 2001-12-18 2006-08-22 Dow Corning Toray Silicone Co., Ltd. Photocurable organic polymer composition

Also Published As

Publication number Publication date
JP4148544B2 (ja) 2008-09-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3831481B2 (ja) カルバシラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物
JPH0532677A (ja) 有機ケイ素化合物及びその製造方法
US7053233B2 (en) Silane compound having at least two protected functional groups and method for preparing the same
EP0908462B1 (en) Silatrane derivative and curable silicone composition containing same
JP4148544B2 (ja) シラトラン誘導体およびその製造方法
JP4187843B2 (ja) シラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物
JPS61205287A (ja) アミノ基含有有機ケイ素化合物の製造法
JPH08311078A (ja) オキサゾリジンシリルエーテル化合物の製造方法
JP3924055B2 (ja) シラトラン誘導体およびその製造方法
US5239099A (en) Azasilacycloalkyl functional alkoxysilanes and azasilacycloalkyl functional tetramethyldisiloxanes
EP1149837A2 (en) Organosilicon compounds
JP3859851B2 (ja) 接着促進剤および硬化性シリコーン組成物
JPH09165393A (ja) 有機けい素化合物及びその製造方法
JPH08231724A (ja) 有機ケイ素化合物およびその製造方法
JPH10330386A (ja) 有機シリル基及びカルバメート結合含有アルコキシシラン化合物
JP2002020392A (ja) N−アルケニルアザシラシクロペンタン、およびその製造方法
US11312734B2 (en) Nitrogen-containing cyclic organoxysilane compound and method for producing the same
JP2002097273A (ja) オルガノポリシロキサン、およびその製造方法
JP2001354678A (ja) 有機ケイ素化合物、およびその製造方法
JP2004231560A (ja) アルコキシシランの製造方法
JP3555647B2 (ja) 3−モルホリノプロピルシラン類の製造方法
JP2002012597A (ja) 有機ケイ素化合物
JP3193740B2 (ja) 有機ケイ素化合物及びその製造方法
JP3029691B2 (ja) オルガノシクロシロキサンおよびその製造方法
JPH085903B2 (ja) エポキシ基含有アルコキシシロキサン及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080610

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080624

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110704

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120704

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130704

Year of fee payment: 5

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term