JPH10180269A - 水処理方法及び装置 - Google Patents
水処理方法及び装置Info
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- JPH10180269A JPH10180269A JP8354940A JP35494096A JPH10180269A JP H10180269 A JPH10180269 A JP H10180269A JP 8354940 A JP8354940 A JP 8354940A JP 35494096 A JP35494096 A JP 35494096A JP H10180269 A JPH10180269 A JP H10180269A
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Landscapes
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】設備が大型化せずしかもランニングコストをあ
まりかけずに、被処理水を所望値以下にまで処理できる
水処理方法及び装置を提供する。 【解決手段】紫外線ランプ２が配置された槽１内に界面
活性剤を主として含有する被処理水を過酸化水素と共に
導入し、紫外線及び過酸化水素により被処理水を分解処
理し、分解反応の進行と共に変化する被処理水のｐＨを
測定監視することにより、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以
下にまで分解処理された処理終了時点を決定する。
まりかけずに、被処理水を所望値以下にまで処理できる
水処理方法及び装置を提供する。 【解決手段】紫外線ランプ２が配置された槽１内に界面
活性剤を主として含有する被処理水を過酸化水素と共に
導入し、紫外線及び過酸化水素により被処理水を分解処
理し、分解反応の進行と共に変化する被処理水のｐＨを
測定監視することにより、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以
下にまで分解処理された処理終了時点を決定する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は水処理方法及び装
置、殊に半導体の洗浄排水等を処理するための水処理方
法及び装置に関する。
置、殊に半導体の洗浄排水等を処理するための水処理方
法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体の洗浄には、純水や超純水に界面
活性剤等を添加してなる洗浄水が使用され、使用後の洗
浄水は、ＢＯＤ（生物化学的酸素要求量）やＣＯＤ（化
学的酸素要求量）等の値が排出規制値以下になるまで処
理された後、外部に排出される。従来このような処理に
は活性汚泥法等の生物処理が行なわれていた。
活性剤等を添加してなる洗浄水が使用され、使用後の洗
浄水は、ＢＯＤ（生物化学的酸素要求量）やＣＯＤ（化
学的酸素要求量）等の値が排出規制値以下になるまで処
理された後、外部に排出される。従来このような処理に
は活性汚泥法等の生物処理が行なわれていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら界面活性
剤は生物難分解性で生物処理はあまり有効ではなく、ま
た処理に時間がかかった。さらに生物処理は設備が大型
となり、維持管理も難しく、高いランニングコストがか
かった。
剤は生物難分解性で生物処理はあまり有効ではなく、ま
た処理に時間がかかった。さらに生物処理は設備が大型
となり、維持管理も難しく、高いランニングコストがか
かった。
【０００４】本発明は、設備が大型化せずしかもランニ
ングコストをあまりかけずに、被処理水を所望値以下に
まで処理できる水処理方法及び装置を提供することを目
的としている。
ングコストをあまりかけずに、被処理水を所望値以下に
まで処理できる水処理方法及び装置を提供することを目
的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の水処理方法は、
紫外線ランプが配置された槽内に界面活性剤を主として
含有する被処理水を過酸化水素と共に導入し、紫外線及
び過酸化水素により被処理水を分解処理し、分解反応の
進行と共に変化する被処理水のｐＨを測定監視すること
により、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以下にまで分解処理
された処理終了時点を決定することを特徴とする。
紫外線ランプが配置された槽内に界面活性剤を主として
含有する被処理水を過酸化水素と共に導入し、紫外線及
び過酸化水素により被処理水を分解処理し、分解反応の
進行と共に変化する被処理水のｐＨを測定監視すること
により、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以下にまで分解処理
された処理終了時点を決定することを特徴とする。
【０００６】また、本発明の水処理方法は、紫外線ラン
プが配置された槽内に界面活性剤及びアミンを主として
含有する被処理水を過酸化水素と共に導入し、紫外線及
び過酸化水素により被処理水を分解処理し、分解反応の
進行と共に変化する被処理水のｐＨを測定監視すること
により、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以下にまで低下し、
且つアンモニア態窒素が所望値以上に増加する前の処理
終了時点を決定することを特徴とする。
プが配置された槽内に界面活性剤及びアミンを主として
含有する被処理水を過酸化水素と共に導入し、紫外線及
び過酸化水素により被処理水を分解処理し、分解反応の
進行と共に変化する被処理水のｐＨを測定監視すること
により、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以下にまで低下し、
且つアンモニア態窒素が所望値以上に増加する前の処理
終了時点を決定することを特徴とする。
【０００７】さらに本発明の水処理装置は、被処理水が
導入される槽内に紫外線ランプが配置され、該槽には槽
内に過酸化水素を添加するための供給管と、槽内の液を
循環させる循環装置と、紫外線及び過酸化水素による被
処理水の分解反応の進行と共に変化する被処理水のｐＨ
を測定監視するｐＨ計と、残留過酸化水素の量を測定す
るＯＲＰ計とが配置されていることを特徴とする。
導入される槽内に紫外線ランプが配置され、該槽には槽
内に過酸化水素を添加するための供給管と、槽内の液を
循環させる循環装置と、紫外線及び過酸化水素による被
処理水の分解反応の進行と共に変化する被処理水のｐＨ
を測定監視するｐＨ計と、残留過酸化水素の量を測定す
るＯＲＰ計とが配置されていることを特徴とする。
【０００８】また、本発明の水処理装置は、内部に紫外
線ランプが配置され被処理水が導入される複数の槽から
なり、該槽内に過酸化水素を添加するための供給管と、
紫外線及び過酸化水素による被処理水の分解反応の進行
と共に変化する被処理水のｐＨを測定監視するため上記
槽内に配置されたｐＨ計とを具備する処理槽と、処理槽
で処理された処理水中の残留過酸化水素の量を測定する
ＯＲＰ計を具備し、その測定値に基づき中和剤を添加し
て残留過酸化水素を中和する中和槽とを有する、連続式
に被処理水を処理することを特徴とする。
線ランプが配置され被処理水が導入される複数の槽から
なり、該槽内に過酸化水素を添加するための供給管と、
紫外線及び過酸化水素による被処理水の分解反応の進行
と共に変化する被処理水のｐＨを測定監視するため上記
槽内に配置されたｐＨ計とを具備する処理槽と、処理槽
で処理された処理水中の残留過酸化水素の量を測定する
ＯＲＰ計を具備し、その測定値に基づき中和剤を添加し
て残留過酸化水素を中和する中和槽とを有する、連続式
に被処理水を処理することを特徴とする。
【０００９】なお、紫外線ランプの近傍に二酸化チタン
等の光触媒を担持したネット状部材等の光触媒担持体を
配置して、紫外線及び過酸化水素による分解と共に、紫
外線と光触媒とによる光化学処理を併用するようにして
もよい。
等の光触媒を担持したネット状部材等の光触媒担持体を
配置して、紫外線及び過酸化水素による分解と共に、紫
外線と光触媒とによる光化学処理を併用するようにして
もよい。
【００１０】
【発明の実施の形態】図１はバッチ式の処理方法及び装
置を示すもので、槽１内に複数の紫外線ランプ２が配置
され、各紫外線ランプ２は透光性の防水ジャケット３内
に収納されている。被処理水は入口４から槽１内に導入
され、処理済の処理水は出口５から排出される。槽１の
外部側面には循環用の管６が配置され、該管６の途中に
ポンプ７が設置されている。槽１には供給管８を介して
過酸化水素が添加される。また管６にはｐＨ計９と、Ｏ
ＲＰ（酸化還元電位）計１０とが配置されている。なお
ｐＨ計９と、ＯＲＰ計１０は、ここ以外の箇所に設置し
てもよい。さらに槽１には被処理水の温度を管理するた
めの温度計や、紫外線ランプからの熱により被処理水の
温度が上がりすぎたときに冷却するための冷却装置を配
置してもよい。
置を示すもので、槽１内に複数の紫外線ランプ２が配置
され、各紫外線ランプ２は透光性の防水ジャケット３内
に収納されている。被処理水は入口４から槽１内に導入
され、処理済の処理水は出口５から排出される。槽１の
外部側面には循環用の管６が配置され、該管６の途中に
ポンプ７が設置されている。槽１には供給管８を介して
過酸化水素が添加される。また管６にはｐＨ計９と、Ｏ
ＲＰ（酸化還元電位）計１０とが配置されている。なお
ｐＨ計９と、ＯＲＰ計１０は、ここ以外の箇所に設置し
てもよい。さらに槽１には被処理水の温度を管理するた
めの温度計や、紫外線ランプからの熱により被処理水の
温度が上がりすぎたときに冷却するための冷却装置を配
置してもよい。
【００１１】入口４から槽１内に、例えば半導体の洗浄
に使用された界面活性剤を主として含有する純水乃至超
純水からなる被処理水が導入される。被処理水中の界面
活性剤及び洗浄により半導体から離脱した汚染物質（有
機物）は紫外線及び過酸化水素により分解されて、有機
酸となりさらにＣＯ2 とＨ2 Ｏにまで分解される。なお
被処理水はポンプ７により循環用の管６を介して循環せ
しめられる。なお被処理水には界面活性剤が含まれてい
るため曝気攪拌すると発泡し好ましくないので循環方式
が採用されている。
に使用された界面活性剤を主として含有する純水乃至超
純水からなる被処理水が導入される。被処理水中の界面
活性剤及び洗浄により半導体から離脱した汚染物質（有
機物）は紫外線及び過酸化水素により分解されて、有機
酸となりさらにＣＯ2 とＨ2 Ｏにまで分解される。なお
被処理水はポンプ７により循環用の管６を介して循環せ
しめられる。なお被処理水には界面活性剤が含まれてい
るため曝気攪拌すると発泡し好ましくないので循環方式
が採用されている。
【００１２】処理の前半では分解が進み有機酸が増える
にしたがって被処理水は酸性になりｐＨは下がり、処理
がさらに進み処理の後半となると、ＣＯ2 とＨ2 Ｏにま
で分解され、被処理水中のＴＯＣ（全有機態炭素）が少
なくなると共に、被処理水のｐＨは上がりだす。したが
ってこのｐＨの上昇をｐＨ計で検知して処理の終了時点
とする。
にしたがって被処理水は酸性になりｐＨは下がり、処理
がさらに進み処理の後半となると、ＣＯ2 とＨ2 Ｏにま
で分解され、被処理水中のＴＯＣ（全有機態炭素）が少
なくなると共に、被処理水のｐＨは上がりだす。したが
ってこのｐＨの上昇をｐＨ計で検知して処理の終了時点
とする。
【００１３】なお処理が終った処理水（処理済水）を槽
１から排出して槽内を空にして長時間おくと、ジャケッ
ト３の表面に付着した汚染物質が乾燥して ジャケット
の光透過率を低下させることがある。そこでバッチ式の
処理では例えば１日の処理が終っても翌日の処理が始ま
るまで処理水を槽１内に留めて置いた方がよい。しかし
ながら処理水中には残留過酸化水素が含有されているこ
とがあるため、処理水を長時間槽内に滞在させると槽内
の腐食を促進させるおそれがある。したがってＯＲＰ計
１０で処理水の酸化還元電位を測定することにより残留
過酸化水素の量を決定して亜硫酸ナトリウム等の中和剤
を添加口１１から槽１内に導入して処理水を中和してお
く。
１から排出して槽内を空にして長時間おくと、ジャケッ
ト３の表面に付着した汚染物質が乾燥して ジャケット
の光透過率を低下させることがある。そこでバッチ式の
処理では例えば１日の処理が終っても翌日の処理が始ま
るまで処理水を槽１内に留めて置いた方がよい。しかし
ながら処理水中には残留過酸化水素が含有されているこ
とがあるため、処理水を長時間槽内に滞在させると槽内
の腐食を促進させるおそれがある。したがってＯＲＰ計
１０で処理水の酸化還元電位を測定することにより残留
過酸化水素の量を決定して亜硫酸ナトリウム等の中和剤
を添加口１１から槽１内に導入して処理水を中和してお
く。
【００１４】翌日の処理は、弁１２を開いて槽１内の処
理水を排出してから、新たな被処理水を槽１内に導入し
て、開始する。
理水を排出してから、新たな被処理水を槽１内に導入し
て、開始する。
【００１５】図２は、連続バッチ式の処理方法及び装置
を示すもので、処理槽２０と、中和槽２１とを具備し、
処理槽２０は２０ａ〜２０ｅの複数の槽からなり、各槽
内にはジャケットに収納された紫外線ランプ２２が配置
されている。
を示すもので、処理槽２０と、中和槽２１とを具備し、
処理槽２０は２０ａ〜２０ｅの複数の槽からなり、各槽
内にはジャケットに収納された紫外線ランプ２２が配置
されている。
【００１６】被処理水は入口２３から過酸化水素と共に
槽２０ａに導入され、矢印のように仕切壁２４と邪魔板
２５の間を通って次の槽に送られ、最後の槽２０ｅの出
口２６から排出されるときは所望値以下にまでに処理さ
れている。なお最後の槽２０ｅにはｐＨ計２７が配置さ
れｐＨを監視している。
槽２０ａに導入され、矢印のように仕切壁２４と邪魔板
２５の間を通って次の槽に送られ、最後の槽２０ｅの出
口２６から排出されるときは所望値以下にまでに処理さ
れている。なお最後の槽２０ｅにはｐＨ計２７が配置さ
れｐＨを監視している。
【００１７】処理槽２０を出た処理水は、次にＯＲＰ計
２８が配置された中和槽２１に導入され、亜硫酸ナトリ
ウム等の中和剤が添加されて中和された後、排出口２９
から排出される。
２８が配置された中和槽２１に導入され、亜硫酸ナトリ
ウム等の中和剤が添加されて中和された後、排出口２９
から排出される。
【００１８】
【実施例】図１の装置を用いて、原水として非イオン界
面活性剤を純水に添加して濃度２００ｐｐｍとしてなる
溶液２．１ｍ3 と、有機アルカリ剤としてアルカノ−ル
アミンが含有されている非イオン界面活性剤を純水に添
加して濃度５０００ｐｐｍとしてなる溶液１．１ｍ3
と、純水１．１ｍ3 とを混合したものをバッチ式処理に
て処理した。
面活性剤を純水に添加して濃度２００ｐｐｍとしてなる
溶液２．１ｍ3 と、有機アルカリ剤としてアルカノ−ル
アミンが含有されている非イオン界面活性剤を純水に添
加して濃度５０００ｐｐｍとしてなる溶液１．１ｍ3
と、純水１．１ｍ3 とを混合したものをバッチ式処理に
て処理した。
【００１９】原水のｐＨは１０．４、ＣＯＤは１３００
ｍｇ／リットル、ＢＯＤは１６６ｍｇ／リットル、アン
モニア態窒素０．２ｍｇ／リットル、ＴＯＣは３５０ｍ
ｇ／リットルである。なお、排出基準値（所望値）はｐ
Ｈは６〜９、ＣＯＤは１８０ｍｇ／リットル、ＢＯＤは
８０ｍｇ／リットル、アンモニア態窒素２０ｍｇ／リッ
トルとする。
ｍｇ／リットル、ＢＯＤは１６６ｍｇ／リットル、アン
モニア態窒素０．２ｍｇ／リットル、ＴＯＣは３５０ｍ
ｇ／リットルである。なお、排出基準値（所望値）はｐ
Ｈは６〜９、ＣＯＤは１８０ｍｇ／リットル、ＢＯＤは
８０ｍｇ／リットル、アンモニア態窒素２０ｍｇ／リッ
トルとする。
【００２０】容積５ｍ3 の槽の内部には、それぞれジャ
ケットに収納された６５Ｗの紫外線ランプ２００本が均
等に配置され、ここに上記原水を３５重量％の過酸化水
素溶液４２リットルと共に導入し、１５時間、被処理水
（原水）を循環（６５回／時間）させながら処理した。
なお被処理水の温度は２５℃〜４０℃となるようにし
た。
ケットに収納された６５Ｗの紫外線ランプ２００本が均
等に配置され、ここに上記原水を３５重量％の過酸化水
素溶液４２リットルと共に導入し、１５時間、被処理水
（原水）を循環（６５回／時間）させながら処理した。
なお被処理水の温度は２５℃〜４０℃となるようにし
た。
【００２１】処理が進み処理が終了に近づきＴＯＣが８
０ｍｇ／リットル〜２０ｍｇ／リットルにまで減少した
状態でのｐＨ、ＣＯＤ、ＢＯＤ及びアンモニア態窒素の
変化を図３に示す。ＴＯＣが８０ｍｇ／リットル〜２０
ｍｇ／リットルの範囲ではＣＯＤ及びＢＯＤはＴＯＣの
減少に比例して減少し、アンモニア態窒素はＴＯＣの減
少と共に増加している。
０ｍｇ／リットル〜２０ｍｇ／リットルにまで減少した
状態でのｐＨ、ＣＯＤ、ＢＯＤ及びアンモニア態窒素の
変化を図３に示す。ＴＯＣが８０ｍｇ／リットル〜２０
ｍｇ／リットルの範囲ではＣＯＤ及びＢＯＤはＴＯＣの
減少に比例して減少し、アンモニア態窒素はＴＯＣの減
少と共に増加している。
【００２２】図３では表示されていない処理の前半で
は、ｐＨは被処理水の分解が進み有機酸が増えるにした
がって酸性になりｐＨは一旦下がり、処理がさらに進み
ＣＯ2とＨ2 Ｏにまで分解される処理の後半になると被
処理水のｐＨは上昇する。図３は処理の後半の最終段階
での状態を示すもので、ＴＯＣが８０ｍｇ／リットル〜
２０ｍｇ／リットルの間ではＴＯＣが減少するに従いｐ
Ｈは５から７．５へと上昇している。
は、ｐＨは被処理水の分解が進み有機酸が増えるにした
がって酸性になりｐＨは一旦下がり、処理がさらに進み
ＣＯ2とＨ2 Ｏにまで分解される処理の後半になると被
処理水のｐＨは上昇する。図３は処理の後半の最終段階
での状態を示すもので、ＴＯＣが８０ｍｇ／リットル〜
２０ｍｇ／リットルの間ではＴＯＣが減少するに従いｐ
Ｈは５から７．５へと上昇している。
【００２３】したがって、ＣＯＤ及びＢＯＤが共に所望
値に達するのはＴＯＣが６０ｍｇ／リットルになった時
点、すなわちｐＨが５．８ぐらいになった時点で、この
時点で処理を停止すればよいことがわかる。
値に達するのはＴＯＣが６０ｍｇ／リットルになった時
点、すなわちｐＨが５．８ぐらいになった時点で、この
時点で処理を停止すればよいことがわかる。
【００２４】また、原水中に有機態アミンが含有され、
処理の過程でアンモニア態窒素が生成する場合には、さ
らに処理が進みＴＯＣが４０ｍｇ／リットル以下になる
とアンモニア態窒素が増加して所望値である２０ｍｇ／
リットルを越えてしまうので、ＴＯＣが６０ｍｇ／リッ
トル〜４０ｍｇ／リットルの間の、ｐＨが５．８〜６．
７ぐらいの間で、処理を停止すればよいことがわかる。
処理の過程でアンモニア態窒素が生成する場合には、さ
らに処理が進みＴＯＣが４０ｍｇ／リットル以下になる
とアンモニア態窒素が増加して所望値である２０ｍｇ／
リットルを越えてしまうので、ＴＯＣが６０ｍｇ／リッ
トル〜４０ｍｇ／リットルの間の、ｐＨが５．８〜６．
７ぐらいの間で、処理を停止すればよいことがわかる。
【００２５】
【発明の効果】本発明の方法及び装置によれば、被処理
水のｐＨの変化を監視することにより、ＣＯＤ及びＢＯ
Ｄが所望値まで低下し、且つまたアンモニア態窒素が所
望値以上に上昇する前の処理を停止すべき時点を容易に
知ることができる。なお仮に処理時間を予め設定して、
時間で管理するようにしても、紫外線ランプ（寿命約１
２０００時間）の新品のときと寿命末期とでは紫外線量
が異なり、またジャケットの汚れや処理温度によりＣＯ
Ｄ及びＢＯＤが所望値に達する時間は異なるから、処理
時間のみで管理しても所望値に達した正確な処理終了時
点を決めることはできない。これに対してｐＨで管理す
れば、種々の条件が異なっても、簡単且つ正確に所望値
に達したことを知ることができる。
水のｐＨの変化を監視することにより、ＣＯＤ及びＢＯ
Ｄが所望値まで低下し、且つまたアンモニア態窒素が所
望値以上に上昇する前の処理を停止すべき時点を容易に
知ることができる。なお仮に処理時間を予め設定して、
時間で管理するようにしても、紫外線ランプ（寿命約１
２０００時間）の新品のときと寿命末期とでは紫外線量
が異なり、またジャケットの汚れや処理温度によりＣＯ
Ｄ及びＢＯＤが所望値に達する時間は異なるから、処理
時間のみで管理しても所望値に達した正確な処理終了時
点を決めることはできない。これに対してｐＨで管理す
れば、種々の条件が異なっても、簡単且つ正確に所望値
に達したことを知ることができる。
【００２６】また、紫外線と過酸化水素若しくは光触媒
により処理するので、設備が大型化せずしかも維持管理
が容易なので低ランニングコストで処理できる。
により処理するので、設備が大型化せずしかも維持管理
が容易なので低ランニングコストで処理できる。
【図１】バッチ式の処理方法及び装置を示す図。
【図２】連続バッチ式の処理方法及び装置を示す図。
【図３】ＴＯＣに対するｐＨ、ＣＯＤ、ＢＯＤ及びアン
モニア態窒素の変化を示すグラフ。
モニア態窒素の変化を示すグラフ。
１ 槽 ２ 紫外線ランプ ３ ジャケット ４ 入口 ５ 出口 ６ 循環用の管 ７ ポンプ ８ 供給管 ９ ｐＨ計 １０ ＯＲＰ計 １１ 添加口 １２ 弁 ２０ 処理槽 ２０ａ〜２０ｅ 槽 ２１ 中和槽 ２２ 紫外線ランプ ２３ 入口 ２４ 仕切壁 ２５ 邪魔板 ２６ 出口 ２７ ｐＨ計 ２８ ＯＲＰ計 ２９ 排出口
Claims (6)
- 【請求項１】紫外線ランプが配置された槽内に界面活性
剤を主として含有する被処理水を過酸化水素と共に導入
し、紫外線及び過酸化水素により被処理水を分解処理
し、分解反応の進行と共に変化する被処理水のｐＨを測
定監視することにより、ＢＯＤ及びＣＯＤが所望値以下
にまで分解処理された処理終了時点を決定することを特
徴とする水処理方法。 - 【請求項２】紫外線ランプが配置された槽内に界面活性
剤及びアミンを主として含有する被処理水を過酸化水素
と共に導入し、紫外線及び過酸化水素により被処理水を
分解処理し、分解反応の進行と共に変化する被処理水の
ｐＨを測定監視することにより、ＢＯＤ及びＣＯＤが所
望値以下にまで低下し、且つアンモニア態窒素が所望値
以上に増加する前の処理終了時点を決定することを特徴
とする水処理方法。 - 【請求項３】槽内に紫外線ランプと共に光触媒が配置さ
れている請求項１又は２に記載の水処理方法。 - 【請求項４】被処理水が導入される槽内に紫外線ランプ
が配置され、該槽には槽内に過酸化水素を添加するため
の供給管と、槽内の液を循環させる循環装置と、紫外線
及び過酸化水素による被処理水の分解反応の進行と共に
変化する被処理水のｐＨを測定監視するｐＨ計と、残留
過酸化水素の量を測定するＯＲＰ計とが配置されている
ことを特徴とする水処理装置。 - 【請求項５】内部に紫外線ランプが配置され被処理水が
導入される複数の槽からなり、該槽内に過酸化水素を添
加するための供給管と、紫外線及び過酸化水素による被
処理水の分解反応の進行と共に変化する被処理水のｐＨ
を測定監視するため上記槽内に配置されたｐＨ計とを具
備する処理槽と、処理槽で処理された処理水中の残留過
酸化水素の量を測定するＯＲＰ計を具備し、その測定値
に基づき中和剤を添加して残留過酸化水素を中和する中
和槽とを有する、連続式に被処理水を処理することを特
徴とする水処理装置。 - 【請求項６】槽内に紫外線ランプと共に光触媒が配置さ
れている請求項４又は５に記載の水処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8354940A JPH10180269A (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 水処理方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8354940A JPH10180269A (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 水処理方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10180269A true JPH10180269A (ja) | 1998-07-07 |
Family
ID=18440927
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8354940A Pending JPH10180269A (ja) | 1996-12-20 | 1996-12-20 | 水処理方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10180269A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002304971A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Harison Toshiba Lighting Corp | 高圧放電ランプおよび紫外線照射装置 |
| WO2011125427A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 宇部興産株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| KR20210097437A (ko) * | 2020-01-30 | 2021-08-09 | 한국건설기술연구원 | 난분해성 유기물질 처리용 순환식 자외선 고도처리장치 및 방법 |
-
1996
- 1996-12-20 JP JP8354940A patent/JPH10180269A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002304971A (ja) * | 2001-04-06 | 2002-10-18 | Harison Toshiba Lighting Corp | 高圧放電ランプおよび紫外線照射装置 |
| WO2011125427A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-13 | 宇部興産株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| JPWO2011125427A1 (ja) * | 2010-03-31 | 2013-07-08 | 宇部興産株式会社 | 排水処理装置および排水処理方法 |
| KR20210097437A (ko) * | 2020-01-30 | 2021-08-09 | 한국건설기술연구원 | 난분해성 유기물질 처리용 순환식 자외선 고도처리장치 및 방법 |
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