JPH10170958A - カラー液晶表示装置 - Google Patents
カラー液晶表示装置Info
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- JPH10170958A JPH10170958A JP8334006A JP33400696A JPH10170958A JP H10170958 A JPH10170958 A JP H10170958A JP 8334006 A JP8334006 A JP 8334006A JP 33400696 A JP33400696 A JP 33400696A JP H10170958 A JPH10170958 A JP H10170958A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】IPS方式等の液晶表示装置のカラーフィルタ
基板として十分な遮光性を実現するOD値をもつと共
に、高い比抵抗のBMを有せしめる。 【解決手段】一対の基板の一方に2種類以上のカラーフ
ィルタ5の間に介在させたブラックマトリクス4aと、他
方の基板に形成された電極群10と、一対の基板間に挟持
された誘電異方性を有する液晶組成物質層11と、一対の
基板の対向面に形成されて液晶組成物質の分子配列を所
定の方向に配列させるための配向制御層9a,9b および電
極群に駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備し、
電極群が配向制御層および前記液晶組成物質層の界面に
対して、主として平行な電界を印加するごとく配置され
た配列構造を有し、表示領域外周のブラックマトリクス
4bの光学濃度OD値が3.0 以上、好ましくは3.5 以上、
比抵抗が108 Ω・cm以上とした。
基板として十分な遮光性を実現するOD値をもつと共
に、高い比抵抗のBMを有せしめる。 【解決手段】一対の基板の一方に2種類以上のカラーフ
ィルタ5の間に介在させたブラックマトリクス4aと、他
方の基板に形成された電極群10と、一対の基板間に挟持
された誘電異方性を有する液晶組成物質層11と、一対の
基板の対向面に形成されて液晶組成物質の分子配列を所
定の方向に配列させるための配向制御層9a,9b および電
極群に駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備し、
電極群が配向制御層および前記液晶組成物質層の界面に
対して、主として平行な電界を印加するごとく配置され
た配列構造を有し、表示領域外周のブラックマトリクス
4bの光学濃度OD値が3.0 以上、好ましくは3.5 以上、
比抵抗が108 Ω・cm以上とした。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特にブラックマトリクスの比抵抗が問題となるIP
S(In−Plane Switching Mod
e)方式TFT−LCDなどに好適なカラーフィルタ基
板を有する液晶表示装置に関する。
り、特にブラックマトリクスの比抵抗が問題となるIP
S(In−Plane Switching Mod
e)方式TFT−LCDなどに好適なカラーフィルタ基
板を有する液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】各種の情報機器のフラットパネルディス
プレイとして液晶表示装置が広く使用されている。液晶
表示装置は、画素の選択方式の違いによりアクティブ・
マトリクス方式と単純マトリクス方式とに大別される。
プレイとして液晶表示装置が広く使用されている。液晶
表示装置は、画素の選択方式の違いによりアクティブ・
マトリクス方式と単純マトリクス方式とに大別される。
【0003】上記何れの方式においても、この種の液晶
表示装置は、少なくとも一方が透明な、かつ一方または
双方に画素選択用の電極あるいは電極とスイッチング素
子を形成してなり、一対の基板の間に誘電異方性を有す
る液晶組成物質層を挟持して上記電極あるいは電極とス
イッチング素子を選択することで所要の画素を点灯させ
て画像表示を行う。また、上記基板の表示領域の液晶組
成物質層との界面にはラビング処理した液晶配向制御層
(配向膜)が形成され、液晶組成物質層を構成する分子
を所定の方向に配向させている。
表示装置は、少なくとも一方が透明な、かつ一方または
双方に画素選択用の電極あるいは電極とスイッチング素
子を形成してなり、一対の基板の間に誘電異方性を有す
る液晶組成物質層を挟持して上記電極あるいは電極とス
イッチング素子を選択することで所要の画素を点灯させ
て画像表示を行う。また、上記基板の表示領域の液晶組
成物質層との界面にはラビング処理した液晶配向制御層
(配向膜)が形成され、液晶組成物質層を構成する分子
を所定の方向に配向させている。
【0004】多色のカラー表示を行う所謂カラー液晶表
示装置では、上記一対の基板の透明な基板に複数(一般
には3種類:3原色)のカラーフィルタを所定の相互配
置関係で形成し上記カラーフィルタの透過光または反射
光を制御してカラー表示を得るようにしている。
示装置では、上記一対の基板の透明な基板に複数(一般
には3種類:3原色)のカラーフィルタを所定の相互配
置関係で形成し上記カラーフィルタの透過光または反射
光を制御してカラー表示を得るようにしている。
【0005】カラーフィルタ基板は、透明基板上に各色
の着色層とこの着色層の境界部分に遮光層(所謂、ブラ
ックマトリクス、以下単にBMとも記す)が形成されて
いる。
の着色層とこの着色層の境界部分に遮光層(所謂、ブラ
ックマトリクス、以下単にBMとも記す)が形成されて
いる。
【0006】アクティブ・マトリクス方式のカラー液晶
表示装置では、スイッチング素子として薄膜トランジス
タ(TFT)を用いたものが多く、このTFTを用いた
カラー液晶表示装置では、光リーク電流を抑制する必要
がある。また、アクティブ・マトリクス方式の液晶表示
装置はコントラストが高いため、ラビング処理がなされ
ていない部分、すなわち表示領域の外周はラビング処理
されていない部分があり、この部分からの光漏れが発生
する。この光漏れを防止するために、表示領域を囲む額
縁部を設けている。BMは、TFT−LCDの画素部の
TFTへの光入射を防止し、バックライト光を遮光して
コントラストを確保する等の表示品質を向上できる効果
を持つ。
表示装置では、スイッチング素子として薄膜トランジス
タ(TFT)を用いたものが多く、このTFTを用いた
カラー液晶表示装置では、光リーク電流を抑制する必要
がある。また、アクティブ・マトリクス方式の液晶表示
装置はコントラストが高いため、ラビング処理がなされ
ていない部分、すなわち表示領域の外周はラビング処理
されていない部分があり、この部分からの光漏れが発生
する。この光漏れを防止するために、表示領域を囲む額
縁部を設けている。BMは、TFT−LCDの画素部の
TFTへの光入射を防止し、バックライト光を遮光して
コントラストを確保する等の表示品質を向上できる効果
を持つ。
【0007】上記BMとしては、クロム薄膜をフォトエ
ッチングしてレリーフ形成した金属BM、親水性樹脂レ
リーフを染色したもの、黒色顔料を分散した感光液を用
いてレリーフ形成したもの、黒色電着塗料を電着して形
成したもの、あるいは印刷によりレリーフ形成したもの
など、種々の種類は知られている。
ッチングしてレリーフ形成した金属BM、親水性樹脂レ
リーフを染色したもの、黒色顔料を分散した感光液を用
いてレリーフ形成したもの、黒色電着塗料を電着して形
成したもの、あるいは印刷によりレリーフ形成したもの
など、種々の種類は知られている。
【0008】なお、このようなBMはカラー液晶表示装
置に限らず、モノクロの液晶表示装置にも適用される。
置に限らず、モノクロの液晶表示装置にも適用される。
【0009】一方、液晶表示装置の視野角特性を改善す
るために、基板に対して主として平行な電界を発生さ
せ、液晶組成物層を構成する液晶分子を基板に対して略
々平行に駆動させる方式(IPS方式、または横電界方
式とも称する)が提案されている。
るために、基板に対して主として平行な電界を発生さ
せ、液晶組成物層を構成する液晶分子を基板に対して略
々平行に駆動させる方式(IPS方式、または横電界方
式とも称する)が提案されている。
【0010】図8はIPS方式液晶表示装置のカラーフ
ィルタ基板を説明する模式図であって、(a)は平面
図、(b)は画素部(表示領域)の拡大図である。
ィルタ基板を説明する模式図であって、(a)は平面
図、(b)は画素部(表示領域)の拡大図である。
【0011】同図において、1はカラーフィルタ基板、
2は額縁部(表示領域の外周部)、3は表示領域、4a
は表示領域のBM、5(5R,5G,5B)はカラーフ
ィルタ(赤、緑、青)である。
2は額縁部(表示領域の外周部)、3は表示領域、4a
は表示領域のBM、5(5R,5G,5B)はカラーフ
ィルタ(赤、緑、青)である。
【0012】図示したように、3色のカラーフィルタ5
R,5G,5BのそれぞれはBM4aで区画され、コン
トラストを向上させている。
R,5G,5BのそれぞれはBM4aで区画され、コン
トラストを向上させている。
【0013】図9はIPS方式液晶表示装置の構造例を
説明する要部断面図であって、6aは上透明基板、6b
は下透明基板、7aはフィルタの保護膜、7bは電極の
保護膜、8aは上偏光板、8bは下偏光板、9aは上配
向膜(液晶組成制御層)、9bは下配向膜、10(10
a,10b)は電極、11aは配向された液晶組成層、
11bは非配向の液晶組成層、12はシール材、図1と
同一符号は同一部分に対応する。
説明する要部断面図であって、6aは上透明基板、6b
は下透明基板、7aはフィルタの保護膜、7bは電極の
保護膜、8aは上偏光板、8bは下偏光板、9aは上配
向膜(液晶組成制御層)、9bは下配向膜、10(10
a,10b)は電極、11aは配向された液晶組成層、
11bは非配向の液晶組成層、12はシール材、図1と
同一符号は同一部分に対応する。
【0014】この液晶表示装置はカラーフィルタ5を形
成したカラーフィルタ基板と、画素選択用のスイッチン
グ素子TFTを駆動する電極10を形成したTFT基板
の間に液晶組成物層11を挟持し、周辺をシール材12
で封止してなる。
成したカラーフィルタ基板と、画素選択用のスイッチン
グ素子TFTを駆動する電極10を形成したTFT基板
の間に液晶組成物層11を挟持し、周辺をシール材12
で封止してなる。
【0015】液晶組成物層11は各基板に形成した上下
配向膜9aと9bでの表示領域3の分子方向が所定の向
きに配向されている(11a)。しかし、額縁部2は非
配向の状態になっている(11b)。
配向膜9aと9bでの表示領域3の分子方向が所定の向
きに配向されている(11a)。しかし、額縁部2は非
配向の状態になっている(11b)。
【0016】図10はカラーフィルタ基板の額縁部近傍
の構造例を説明する拡大断面図であって、図9と同一符
号は同一部分に対応する。
の構造例を説明する拡大断面図であって、図9と同一符
号は同一部分に対応する。
【0017】表示領域を構成する各カラーフィルタ5
R,5G,5Bの境界は顔料分散レジストからなるBM
4aで区画され、額縁部にはBM4aと同一材料のBM
4Bが形成されている。
R,5G,5Bの境界は顔料分散レジストからなるBM
4aで区画され、額縁部にはBM4aと同一材料のBM
4Bが形成されている。
【0018】このIPS方式のカラー液晶表示装置にお
けるカラーフィルタは、横電界成分の乱れを防ぐために
高抵抗の材料で構成することが要求される。
けるカラーフィルタは、横電界成分の乱れを防ぐために
高抵抗の材料で構成することが要求される。
【0019】この方式のカラー液晶表示装置は、本願出
願人の出願に係る特願平7−147720号、特願平7
−191994号の明細書に記載されているように、カ
ラーフィルタの構成材料は比抵抗が108 Ω・cm以上
の特性をもつ必要がある。
願人の出願に係る特願平7−147720号、特願平7
−191994号の明細書に記載されているように、カ
ラーフィルタの構成材料は比抵抗が108 Ω・cm以上
の特性をもつ必要がある。
【0020】したがって、従来から使用されてきたクロ
ム等の金属薄膜からなるBMは、その導電性のために有
効な横電界成分を低下させるので好ましくない。
ム等の金属薄膜からなるBMは、その導電性のために有
効な横電界成分を低下させるので好ましくない。
【0021】BMとしてカーボン顔料系の顔料分散型樹
脂(レジスト)を使用した場合は、一般にカーボン顔料
の比抵抗は10-4〜100 Ω・cmと小さいが、固形分
に対するカーボン顔料の含有比率を制限して比抵抗を1
08 Ω・cm以上とすることができる。
脂(レジスト)を使用した場合は、一般にカーボン顔料
の比抵抗は10-4〜100 Ω・cmと小さいが、固形分
に対するカーボン顔料の含有比率を制限して比抵抗を1
08 Ω・cm以上とすることができる。
【0022】また、カーボン顔料より比抵抗の大きい無
機顔料を使用した顔料分散型レジストを使用して比抵抗
を108 Ω・cm以上を満足させることもできる。しか
し、BMとして顔料分散型レジストを使用する場合、光
遮光性の指標である光学濃度(Optical Den
city,略してOD値)が低くなるという問題があ
る。OD値を高くするためにカーボンまたは無機顔料の
濃度を増加すると、比抵抗が低下するからである。
機顔料を使用した顔料分散型レジストを使用して比抵抗
を108 Ω・cm以上を満足させることもできる。しか
し、BMとして顔料分散型レジストを使用する場合、光
遮光性の指標である光学濃度(Optical Den
city,略してOD値)が低くなるという問題があ
る。OD値を高くするためにカーボンまたは無機顔料の
濃度を増加すると、比抵抗が低下するからである。
【0023】
【発明が解決しようとする課題】所謂モニター用途のデ
ィスプレイでは、輝度を稼ぐためにノート型パーソナル
コンピユータ向けディスプレイよりも強力なバックライ
トが使用される。したがって、額縁から漏れる光の強度
はより一層強くなるので、BMはより高い遮光性が要求
される。
ィスプレイでは、輝度を稼ぐためにノート型パーソナル
コンピユータ向けディスプレイよりも強力なバックライ
トが使用される。したがって、額縁から漏れる光の強度
はより一層強くなるので、BMはより高い遮光性が要求
される。
【0024】一般的なカラー液晶表示装置(以下、カラ
ー液晶パネル、あるいは単にパネルとも言う)の画素部
の透過率は、偏光板やカラーフィルタの透過率、および
開口率から約5%である。その場合、コントラストが1
00以上のパネルでは、黒輝度は0.05%以下とな
る。画素部と同等の黒輝度を額縁部で得るためには、B
Mと偏光板で同程度遮光する必要がある。例えば、額縁
部まで片方の偏光板を延長している場合は、この1枚の
偏光板の透過率を約45%とすると、BMのOD値の仕
様としては3.0以上必要である。
ー液晶パネル、あるいは単にパネルとも言う)の画素部
の透過率は、偏光板やカラーフィルタの透過率、および
開口率から約5%である。その場合、コントラストが1
00以上のパネルでは、黒輝度は0.05%以下とな
る。画素部と同等の黒輝度を額縁部で得るためには、B
Mと偏光板で同程度遮光する必要がある。例えば、額縁
部まで片方の偏光板を延長している場合は、この1枚の
偏光板の透過率を約45%とすると、BMのOD値の仕
様としては3.0以上必要である。
【0025】一方、前記したIPS方式やその他、画素
部のBM材料の比抵抗として108Ω・cm以上を必要
とするものにおいては、BM材料として金属薄膜は使用
不可である。また、黒色染料や顔料の中で抵抗が高い材
料を分散した感光性レジストを用いる方法では、十分な
遮光性が得られない。高抵抗で1μm当たりのOD値が
1.7程度と遮光性が低いBM材料の膜厚を2μm近く
まで上げることによりOD値を稼ぎ、上記仕様を満たす
ことができるが、その場合、カラーフィルタ基板の画素
−BM間の段差が大きくなるため、保護膜での平坦化が
困難となる。
部のBM材料の比抵抗として108Ω・cm以上を必要
とするものにおいては、BM材料として金属薄膜は使用
不可である。また、黒色染料や顔料の中で抵抗が高い材
料を分散した感光性レジストを用いる方法では、十分な
遮光性が得られない。高抵抗で1μm当たりのOD値が
1.7程度と遮光性が低いBM材料の膜厚を2μm近く
まで上げることによりOD値を稼ぎ、上記仕様を満たす
ことができるが、その場合、カラーフィルタ基板の画素
−BM間の段差が大きくなるため、保護膜での平坦化が
困難となる。
【0026】また一方、表示領域は、通常2枚の偏光板
を備え、ゲート電極、ゲート配線等が遮光性金属からな
るため、コントラスト100以上を満たすMBのOD値
は2.0以上、好ましくは2.5以上を満足する必要が
ある。しかしながら、表示領域の外周部で、特に液晶配
向制御層の外側領域では、表示領域よりもBMの透過光
強度が大きくなる。そのため、表示領域の外周部が明る
くなり、表示に著しい違和感を与える。
を備え、ゲート電極、ゲート配線等が遮光性金属からな
るため、コントラスト100以上を満たすMBのOD値
は2.0以上、好ましくは2.5以上を満足する必要が
ある。しかしながら、表示領域の外周部で、特に液晶配
向制御層の外側領域では、表示領域よりもBMの透過光
強度が大きくなる。そのため、表示領域の外周部が明る
くなり、表示に著しい違和感を与える。
【0027】この現象は、液晶配向制御層の外側領域で
は液晶分子の配向がランダムであるため、液晶表示装置
の光入射面と光出射面に貼られた偏光板による遮光効果
が低いために起こる。
は液晶分子の配向がランダムであるため、液晶表示装置
の光入射面と光出射面に貼られた偏光板による遮光効果
が低いために起こる。
【0028】本発明は、上記の事情に鑑みてなされたも
のであり、特にIPS方式の液晶表示装置のカラーフィ
ルタ基板として十分な遮光性を実現するOD値をもつと
共に、高い比抵抗のBMを有するカラー液晶表示装置を
提供することを目的とする。なお、本発明は、上記IP
S方式液晶表示装置に限るものではなく、他の方式の液
晶表示装置にも適用できるものである。
のであり、特にIPS方式の液晶表示装置のカラーフィ
ルタ基板として十分な遮光性を実現するOD値をもつと
共に、高い比抵抗のBMを有するカラー液晶表示装置を
提供することを目的とする。なお、本発明は、上記IP
S方式液晶表示装置に限るものではなく、他の方式の液
晶表示装置にも適用できるものである。
【0029】
【課題を解決するための手段】光学濃度OD値はBMの
膜厚に比例するため、本発明では、顔料分散型レジスト
の膜厚を約1.0μmから最大で液晶組成物層の厚さ約
4μmの範囲内とすることで、比抵抗とOD値とを両立
させたことを特徴とする。
膜厚に比例するため、本発明では、顔料分散型レジスト
の膜厚を約1.0μmから最大で液晶組成物層の厚さ約
4μmの範囲内とすることで、比抵抗とOD値とを両立
させたことを特徴とする。
【0030】すなわち、単位膜厚当たりの光学濃度OD
値は比較的低いが、抵抗値の高い顔料分散型レジストを
仕様して膜厚を厚くすることで、または額縁部(表示領
域外周部)のBM層を多層構造としたり、もしくは額縁
部と表示領域(画素部)とで仕様するBM材料を変えた
構造や異なる材料の多層構造とすることで比抵抗とOD
値とを両立させたことを特徴とする。
値は比較的低いが、抵抗値の高い顔料分散型レジストを
仕様して膜厚を厚くすることで、または額縁部(表示領
域外周部)のBM層を多層構造としたり、もしくは額縁
部と表示領域(画素部)とで仕様するBM材料を変えた
構造や異なる材料の多層構造とすることで比抵抗とOD
値とを両立させたことを特徴とする。
【0031】すなわち、請求項1に記載の第1の発明
は、少なくとも一方が透明な一対の基板の一方に形成さ
れたカラー表示のための色の異なる少なくとも2種類以
上のカラーフィルタと、各カラーフィルタの間に介在さ
せたブラックマトリクスと、前記一対の基板の他方に形
成された電極群と、前記一対の基板間に挟持された誘電
異方性を有する液晶組成物質層と、前記一対の基板の対
向面に形成されて前記液晶組成物質の分子配列を所定の
方向に配列させるための配向制御層と、前記一対の基板
の少なくとも一方に積層された偏光板、および前記電極
群に駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備したカ
ラー液晶表示装置において、前記電極群が前記配向制御
層および前記液晶組成物質層の界面に対して、主として
平行な電界を印加するごとく配置された配列構造を有
し、表示領域外周のブラックマトリクスの光学濃度OD
値が3.0以上、好ましくは3.5以上で、比抵抗値が
108 Ω・cm以上であることを特徴とする。
は、少なくとも一方が透明な一対の基板の一方に形成さ
れたカラー表示のための色の異なる少なくとも2種類以
上のカラーフィルタと、各カラーフィルタの間に介在さ
せたブラックマトリクスと、前記一対の基板の他方に形
成された電極群と、前記一対の基板間に挟持された誘電
異方性を有する液晶組成物質層と、前記一対の基板の対
向面に形成されて前記液晶組成物質の分子配列を所定の
方向に配列させるための配向制御層と、前記一対の基板
の少なくとも一方に積層された偏光板、および前記電極
群に駆動電圧を印加するための駆動手段とを具備したカ
ラー液晶表示装置において、前記電極群が前記配向制御
層および前記液晶組成物質層の界面に対して、主として
平行な電界を印加するごとく配置された配列構造を有
し、表示領域外周のブラックマトリクスの光学濃度OD
値が3.0以上、好ましくは3.5以上で、比抵抗値が
108 Ω・cm以上であることを特徴とする。
【0032】上記構成としたことにより、額縁である表
示領域外周の光漏れが防止され、高品質の画像表示を得
ることができる。
示領域外周の光漏れが防止され、高品質の画像表示を得
ることができる。
【0033】また、請求項2に記載の第2の発明は、第
1の発明における前記基板の表示領域内のブラックマト
リクスは、比抵抗値が108 Ω・cm以上でかつ光学濃
度OD値が2.0以上、好ましくは2.5以上であるこ
とを特徴とする。
1の発明における前記基板の表示領域内のブラックマト
リクスは、比抵抗値が108 Ω・cm以上でかつ光学濃
度OD値が2.0以上、好ましくは2.5以上であるこ
とを特徴とする。
【0034】上記構成としたことにより、額縁である表
示領域外周の光漏れが防止されると共に、表示領域にお
けるブラックマトリクス(BM)の抵抗値を高くして液
晶駆動電界の乱れを防止して高品質の画像表示を得るこ
とができる。
示領域外周の光漏れが防止されると共に、表示領域にお
けるブラックマトリクス(BM)の抵抗値を高くして液
晶駆動電界の乱れを防止して高品質の画像表示を得るこ
とができる。
【0035】さらに、請求項3に記載の第3の発明は、
第1の発明における前記表示領域の外周での前記ブラッ
クマトリクスの膜厚が前記表示領域より厚いことを特徴
とする。
第1の発明における前記表示領域の外周での前記ブラッ
クマトリクスの膜厚が前記表示領域より厚いことを特徴
とする。
【0036】上記構成としたことにより、額縁である表
示領域外周の光漏れが防止され、高品質の画像表示を得
ることができる。
示領域外周の光漏れが防止され、高品質の画像表示を得
ることができる。
【0037】さらに、請求項4に記載の第4の発明は、
第1の発明における前記ブラックマトリクスは顔料分散
型樹脂であることを特徴とする。
第1の発明における前記ブラックマトリクスは顔料分散
型樹脂であることを特徴とする。
【0038】さらに、請求項5に記載の第5の発明は、
第1の発明における前記ブラックマトリクスの前記表示
領域が顔料分散型樹脂であり、前記表示領域の外周が顔
料分散型樹脂と金属膜の積層構造であることを特徴とす
る。
第1の発明における前記ブラックマトリクスの前記表示
領域が顔料分散型樹脂であり、前記表示領域の外周が顔
料分散型樹脂と金属膜の積層構造であることを特徴とす
る。
【0039】そして、請求項6に記載の第6の発明は、
第1の発明における前記ブラックマトリクスの前記表示
領域が顔料分散型樹脂であり、前記表示領域の外周が顔
料分散型樹脂と前記表示領域のカラーフィルタを形成す
る赤、緑または青の顔料分散型樹脂の少なくとも1つの
層との積層構造であることを特徴とする。
第1の発明における前記ブラックマトリクスの前記表示
領域が顔料分散型樹脂であり、前記表示領域の外周が顔
料分散型樹脂と前記表示領域のカラーフィルタを形成す
る赤、緑または青の顔料分散型樹脂の少なくとも1つの
層との積層構造であることを特徴とする。
【0040】上記第4、第5および第6の発明の構成に
より、額縁である表示領域外周の光漏れが防止されると
共に、表示領域におけるブラックマトリクス(BM)の
抵抗値を高くして液晶駆動電界の乱れを防止して高品質
の画像表示を得ることができる。
より、額縁である表示領域外周の光漏れが防止されると
共に、表示領域におけるブラックマトリクス(BM)の
抵抗値を高くして液晶駆動電界の乱れを防止して高品質
の画像表示を得ることができる。
【0041】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につ
き、実施例を参照して詳細に説明する。
き、実施例を参照して詳細に説明する。
【0042】なお、カラーフィルタ基板を構成する透明
基板としては、石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダ
ライムガラスなどのガラス材、あるいは透明樹脂板を用
いることができる。なお、以下の実施例では、光学濃度
OD値として、光波長380〜780nmの範囲で OD値=Log10(100/Y) と定義する。YはCIE色度座標のC光源を使用した時
の視感透過率(%)であり、光学濃度の測定には、
(株)日立製作所製「U−3210スペクトロフォトメ
ータ」(商品名)を使用した。なお、光波長範囲は、使
用するバックライト光、あるいは外光の範囲とも定義で
きる。
基板としては、石英ガラス、無アルカリガラス、ソーダ
ライムガラスなどのガラス材、あるいは透明樹脂板を用
いることができる。なお、以下の実施例では、光学濃度
OD値として、光波長380〜780nmの範囲で OD値=Log10(100/Y) と定義する。YはCIE色度座標のC光源を使用した時
の視感透過率(%)であり、光学濃度の測定には、
(株)日立製作所製「U−3210スペクトロフォトメ
ータ」(商品名)を使用した。なお、光波長範囲は、使
用するバックライト光、あるいは外光の範囲とも定義で
きる。
【0043】〔実施例1〕図1は本発明によるカラー液
晶表示装置の第1実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図9と同一符号は同一部分に対応する。
晶表示装置の第1実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図9と同一符号は同一部分に対応する。
【0044】この実施例は、表示領域のBMを顔料分散
型レジストを用いて形成し、額縁部分のBMはアルミニ
ウム層で構成したものである。その他の構成は前記図9
で説明したとおりであるので、省略する。
型レジストを用いて形成し、額縁部分のBMはアルミニ
ウム層で構成したものである。その他の構成は前記図9
で説明したとおりであるので、省略する。
【0045】以下、この実施例のBMの形成方法を説明
する。
する。
【0046】透明基板6a,6bは旭ガラス(株)の商
品名「AN−635」を使用し、高抵抗タイプの顔料分
散型BMレジスト(富士ハント(株)の商品名「富士ハ
ントCK−5001」:比抵抗1013Ω・cm、1μm
あたりのOD値1.4が好適)をスピンコートあるいは
ロールコートにより膜厚1.45μmとなるように形成
する。レジストのコート後、80〜90°Cにて10〜
20分のプリベークを行い、フォトマスクを介して露光
し、現像してクリーンオーブンまたはホットプレートで
約180〜200°Cで30〜60分間の焼成を施し、
表示領域のBM4aを形成する。
品名「AN−635」を使用し、高抵抗タイプの顔料分
散型BMレジスト(富士ハント(株)の商品名「富士ハ
ントCK−5001」:比抵抗1013Ω・cm、1μm
あたりのOD値1.4が好適)をスピンコートあるいは
ロールコートにより膜厚1.45μmとなるように形成
する。レジストのコート後、80〜90°Cにて10〜
20分のプリベークを行い、フォトマスクを介して露光
し、現像してクリーンオーブンまたはホットプレートで
約180〜200°Cで30〜60分間の焼成を施し、
表示領域のBM4aを形成する。
【0047】そして、額縁部分を遮光するBM4cとし
て、アルミニウム層をマスクスパッタリングで厚さ0.
15μmに形成した。その後、3色のカラーフィルタ5
を既知の方法で形成する。
て、アルミニウム層をマスクスパッタリングで厚さ0.
15μmに形成した。その後、3色のカラーフィルタ5
を既知の方法で形成する。
【0048】額縁部分に形成するBM4cは表示領域の
BM程精度が要求されないので、このようなマスクスパ
ッタリング法を用いることができる。また、この額縁部
分を遮光するBMは、光を遮断する機能があればクロム
などアルミニウム以外の金属等を使用できる。
BM程精度が要求されないので、このようなマスクスパ
ッタリング法を用いることができる。また、この額縁部
分を遮光するBMは、光を遮断する機能があればクロム
などアルミニウム以外の金属等を使用できる。
【0049】なお、この額縁部分のBMは表示領域のB
M4aの形成に先立って形成することもでき、表示領域
のBM形成後に3色のカラーフィルタ5を形成し、その
後に額縁部分のBMを形成してもよい。
M4aの形成に先立って形成することもでき、表示領域
のBM形成後に3色のカラーフィルタ5を形成し、その
後に額縁部分のBMを形成してもよい。
【0050】ただし、保護膜7aの上に金属膜を形成し
た際には、電触による輝度低下が発生するおそれがある
ので、なるべくは保護膜7aより下層に形成した方が好
ましい。
た際には、電触による輝度低下が発生するおそれがある
ので、なるべくは保護膜7aより下層に形成した方が好
ましい。
【0051】この実施例によれば、表示領域のBMの比
抵抗は目標値108 Ω・cmに対して1014Ω・cmで
あり、OD値は2.0、額縁部分(OD値の目標値3.
0以上)はアルミニウム層が光不透過であることから完
全な遮光性を有し、額縁である表示領域外周の光漏れが
完全に抑制されると共に、表示領域におけるブラックマ
トリクス(BM)の抵抗値が高く、液晶駆動電界の乱れ
が防止されて高品質の画像表示を得ることができる。
抵抗は目標値108 Ω・cmに対して1014Ω・cmで
あり、OD値は2.0、額縁部分(OD値の目標値3.
0以上)はアルミニウム層が光不透過であることから完
全な遮光性を有し、額縁である表示領域外周の光漏れが
完全に抑制されると共に、表示領域におけるブラックマ
トリクス(BM)の抵抗値が高く、液晶駆動電界の乱れ
が防止されて高品質の画像表示を得ることができる。
【0052】〔実施例2〕図2は本発明によるカラー液
晶表示装置の第2実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
晶表示装置の第2実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
【0053】この実施例は、表示領域のBMを顔料分散
型レジストを用いて形成し、額縁部分のBMはアルミニ
ウム層で構成した点で実施例1と同様であるが、表示領
域に形成するBMを額縁部分まで広げて4bとし、この
上にアルミニウム層4cをマスクスパッタリングで厚さ
0.15μmに形成した点で異なる。
型レジストを用いて形成し、額縁部分のBMはアルミニ
ウム層で構成した点で実施例1と同様であるが、表示領
域に形成するBMを額縁部分まで広げて4bとし、この
上にアルミニウム層4cをマスクスパッタリングで厚さ
0.15μmに形成した点で異なる。
【0054】この実施例によれば、第1実施例が、その
額縁部分にレジストでなるBM4bとアルミニウム層の
境界で光漏れの可能性があるのに対して、アルミニウム
層の下層に形成されたBM4bが表示領域と連続してい
るため、上記のような光漏れは生じない。
額縁部分にレジストでなるBM4bとアルミニウム層の
境界で光漏れの可能性があるのに対して、アルミニウム
層の下層に形成されたBM4bが表示領域と連続してい
るため、上記のような光漏れは生じない。
【0055】〔実施例3〕図3は本発明によるカラー液
晶表示装置の第3実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
晶表示装置の第3実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
【0056】この実施例は、表示領域のBMを顔料分散
型レジストを用いて形成し、額縁部分のBMは第2実施
例と同様に表示領域から延長して形成され、アルミニウ
ム層4dをTFT基板側に形成したものである。
型レジストを用いて形成し、額縁部分のBMは第2実施
例と同様に表示領域から延長して形成され、アルミニウ
ム層4dをTFT基板側に形成したものである。
【0057】この実施例によっても上記第3実施例と同
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
【0058】〔実施例4〕図4は本発明によるカラー液
晶表示装置の第4実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
晶表示装置の第4実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
【0059】この実施例では、1μm膜厚当たりOD値
が2.0で比抵抗が108 Ω・cm以上の特性を持つ有
機顔料濃度が高くカーボン顔料比率が低い黒色顔料分散
型レジストを使用する。
が2.0で比抵抗が108 Ω・cm以上の特性を持つ有
機顔料濃度が高くカーボン顔料比率が低い黒色顔料分散
型レジストを使用する。
【0060】まず、透明基板上に上記黒色顔料分散型レ
ジストを塗布し、マスク露光、現像、ベーキング工程で
膜厚が1.25ないし1.5μm(OD値が2.5〜
3.0)のBM4aと4b1を表示領域と額縁部分に形
成する。
ジストを塗布し、マスク露光、現像、ベーキング工程で
膜厚が1.25ないし1.5μm(OD値が2.5〜
3.0)のBM4aと4b1を表示領域と額縁部分に形
成する。
【0061】この上にさらに上記黒色顔料分散型レジス
トを塗布し、表示領域をマスクし、その外側のみをパタ
ーン露光し、現像、べーキング工程を経て額縁部分4b
1に上層に第2のBM4b2を積層して額縁部分のBM
4bを形成する。
トを塗布し、表示領域をマスクし、その外側のみをパタ
ーン露光し、現像、べーキング工程を経て額縁部分4b
1に上層に第2のBM4b2を積層して額縁部分のBM
4bを形成する。
【0062】積層したBM4bの膜厚を1.75μm以
上とすればこの部分のOD値は3.5以上となる。各1
回で形成する膜厚は1.5μm以下であるので、現像工
程でのレジストの剥離は発生しない。
上とすればこの部分のOD値は3.5以上となる。各1
回で形成する膜厚は1.5μm以下であるので、現像工
程でのレジストの剥離は発生しない。
【0063】また、表示領域内の膜厚は1.25〜1.
5μmであるので、平坦性の悪化を招くこともない。
5μmであるので、平坦性の悪化を招くこともない。
【0064】以上の工程により表示領域の外周部(額縁
部分)のみBMの膜厚を厚くしてOD値を高くする。
部分)のみBMの膜厚を厚くしてOD値を高くする。
【0065】その後、カラーレジストの塗布、パターニ
ング露光(マスク露光9、現像、べーキング工程を繰り
返して赤フィルタ(5R)、緑フィルタ(5G)、青フ
ィルタ(5B)を形成する。この上に保護膜材料を塗布
し、露光し、べーキング工程を経て保護膜7aを形成す
る。
ング露光(マスク露光9、現像、べーキング工程を繰り
返して赤フィルタ(5R)、緑フィルタ(5G)、青フ
ィルタ(5B)を形成する。この上に保護膜材料を塗布
し、露光し、べーキング工程を経て保護膜7aを形成す
る。
【0066】この実施例によっても上記第3実施例と同
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
【0067】〔実施例5〕図5は本発明によるカラー液
晶表示装置の第5実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
晶表示装置の第5実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
【0068】この実施例では、1μm膜厚当たりOD値
が2.0で比抵抗が108 Ω・cm以上の特性を持つ有
機顔料濃度が高くカーボン顔料比率が低い黒色顔料分散
型レジストを使用する。
が2.0で比抵抗が108 Ω・cm以上の特性を持つ有
機顔料濃度が高くカーボン顔料比率が低い黒色顔料分散
型レジストを使用する。
【0069】まず、透明基板上に上記黒色顔料分散型レ
ジストを塗布し、マスク露光、現像、ベーキング工程で
膜厚が1.5μm(OD値が3.0)の表示領域と額縁
部分とにBM4aおよび4b1を形成する。
ジストを塗布し、マスク露光、現像、ベーキング工程で
膜厚が1.5μm(OD値が3.0)の表示領域と額縁
部分とにBM4aおよび4b1を形成する。
【0070】次に、レジスト塗布、マスク露光、現像、
ベーキング工程を3回繰り返して赤フィルタ(5R)、
緑フィルタ(5G)、青フィルタ(5B)を形成する。
このとき、赤フィルタ(5R)、緑フィルタ(5G)、
青フィルタ(5B)を形成する。
ベーキング工程を3回繰り返して赤フィルタ(5R)、
緑フィルタ(5G)、青フィルタ(5B)を形成する。
このとき、赤フィルタ(5R)、緑フィルタ(5G)、
青フィルタ(5B)を形成する。
【0071】このカラーフィルタを形成する際、その少
なくとも1色(この実施例では赤フィルタ5R)を額縁
部分に形成されているBM4b上に積層するようにパタ
ーニングする。すなわち、露光マスクの開口を額縁部分
にも形成することでBM4b上に赤フィルタ5Rを積層
形成できる。この積層構造により、額縁部分のOD値を
大きくすることができる。
なくとも1色(この実施例では赤フィルタ5R)を額縁
部分に形成されているBM4b上に積層するようにパタ
ーニングする。すなわち、露光マスクの開口を額縁部分
にも形成することでBM4b上に赤フィルタ5Rを積層
形成できる。この積層構造により、額縁部分のOD値を
大きくすることができる。
【0072】図6は額縁部分のBMに赤、緑、青の何れ
かのフィルタを積層した場合の光波長に対する吸光度を
説明するグラフ図である。
かのフィルタを積層した場合の光波長に対する吸光度を
説明するグラフ図である。
【0073】なお、吸光度はLog10(100/T)で
あり、Tは透過率(%)で示す。また、表1にそのY値
およびOD値を示す。
あり、Tは透過率(%)で示す。また、表1にそのY値
およびOD値を示す。
【0074】ここで、Y値と透過率Tは、式1に示した
関係をもつ。
関係をもつ。
【0075】
【数1】
【0076】
【表1】
【0077】表1に示すように、黒色顔料分散型レジス
トによるBMである黒(Black)と赤(Red)、
または黒(Black)と青(Blue)を積層した場
合のOD値が3.5以上を満足する。額縁部分に2色以
上のカラーレジストを塗布して積層すれば、さらにOD
値を向上させることができる。
トによるBMである黒(Black)と赤(Red)、
または黒(Black)と青(Blue)を積層した場
合のOD値が3.5以上を満足する。額縁部分に2色以
上のカラーレジストを塗布して積層すれば、さらにOD
値を向上させることができる。
【0078】なお、黒(Black)と緑(Gree
n)を積層した場合は、他の2色の積層に比べてOD値
が低くなる。これは、図6に示したように、緑(Gre
en)の吸光度が人間の視感度が高い光波長500〜6
00nmで低いためである。
n)を積層した場合は、他の2色の積層に比べてOD値
が低くなる。これは、図6に示したように、緑(Gre
en)の吸光度が人間の視感度が高い光波長500〜6
00nmで低いためである。
【0079】黒色顔料分散型レジストの顔料比率におい
て、赤、青の比率を高めれば、黒色顔料分散型レジスト
の光波長500〜600nmの吸光度が高くなり、黒と
緑のレジストの積層でOD値3.5以上も可能である。
て、赤、青の比率を高めれば、黒色顔料分散型レジスト
の光波長500〜600nmの吸光度が高くなり、黒と
緑のレジストの積層でOD値3.5以上も可能である。
【0080】図5に戻り、上記BMの形成後、フィルタ
の保護膜材料を塗布し、ベーキング処理して保護膜7a
を形成する。以下、図示しないTFT基板と組合せ、液
晶組成物を封入してカラー液晶表示装置を完成させる。
の保護膜材料を塗布し、ベーキング処理して保護膜7a
を形成する。以下、図示しないTFT基板と組合せ、液
晶組成物を封入してカラー液晶表示装置を完成させる。
【0081】この実施例によっても、上記各実施例と同
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
【0082】〔実施例6〕図7は本発明によるカラー液
晶表示装置の第7実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
晶表示装置の第7実施例の構成を説明する要部断面図で
あって、図1と同一符号は同一部分に対応する。
【0083】この実施例では、表示領域の外周部すなわ
ち額縁部分にクロム層4dを有し、その上層に黒色顔料
分散型レジストからなる遮光層4bを積層してなる。
ち額縁部分にクロム層4dを有し、その上層に黒色顔料
分散型レジストからなる遮光層4bを積層してなる。
【0084】黒色顔料分散型レジストは、1μm膜厚当
たりOD値が2.0で比抵抗が108 Ω・cm以上の特
性を持つ有機顔料濃度が高くカーボン顔料比率が低い黒
色顔料分散型レジストを使用する。
たりOD値が2.0で比抵抗が108 Ω・cm以上の特
性を持つ有機顔料濃度が高くカーボン顔料比率が低い黒
色顔料分散型レジストを使用する。
【0085】まず、透明基板6a上の額縁部分にクロム
層4dをマスクスパッタリング等で成膜する。その後、
このクロム層4dと表示領域に上記黒色顔料分散型レジ
ストを塗布し、パターン露光、現像、べーキング工程を
経て膜厚1.25〜1.5μm(OD値が2.5〜3.
0)のBM4bを形成する。
層4dをマスクスパッタリング等で成膜する。その後、
このクロム層4dと表示領域に上記黒色顔料分散型レジ
ストを塗布し、パターン露光、現像、べーキング工程を
経て膜厚1.25〜1.5μm(OD値が2.5〜3.
0)のBM4bを形成する。
【0086】したがって、上記黒色顔料分散型レジスト
のBMは表示領域に形成されると共に上記クロム層4d
の上層に積層される。これにより、額縁部分のBMの層
厚が厚くなり、OD値が高くなる。
のBMは表示領域に形成されると共に上記クロム層4d
の上層に積層される。これにより、額縁部分のBMの層
厚が厚くなり、OD値が高くなる。
【0087】次に、カラーフィルタ用のレジストを塗布
し、パターン露光現像、ベーキング工程を3回繰り返し
て赤フィルタ5R、緑フィルタ5G、青フィルタ5Bを
形成する。
し、パターン露光現像、ベーキング工程を3回繰り返し
て赤フィルタ5R、緑フィルタ5G、青フィルタ5Bを
形成する。
【0088】その後、保護膜材料を塗布し、露光、現
像、ベーキング工程を施し、保護膜7aを形成する。以
下、図示しないTFT基板と組合せ、液晶組成物を封入
してカラー液晶表示装置を完成させる。
像、ベーキング工程を施し、保護膜7aを形成する。以
下、図示しないTFT基板と組合せ、液晶組成物を封入
してカラー液晶表示装置を完成させる。
【0089】この実施例によっても、上記各実施例と同
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
様に表示領域のBMの比抵抗を大きくし、かつ額縁部分
の光漏れは生じないカラー液晶表示装置を得ることがで
きる。
【0090】なお、最初に形成する金属膜としては、上
記クロム以外にアルミニウム、タリウム、その化合物、
等が使用でき、また金属膜に代えてCrO2 等の低反射
酸化物も使用可能である。
記クロム以外にアルミニウム、タリウム、その化合物、
等が使用でき、また金属膜に代えてCrO2 等の低反射
酸化物も使用可能である。
【0091】このように、上記した各実施例によれば、
液晶表示装置のカラーフィルタ基板として十分な遮光性
を実現するOD値をもつと共に、高い比抵抗のBMを有
するカラー液晶表示装置を提供することができる。
液晶表示装置のカラーフィルタ基板として十分な遮光性
を実現するOD値をもつと共に、高い比抵抗のBMを有
するカラー液晶表示装置を提供することができる。
【0092】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
特にIPS方式のカラー液晶表示装置における表示領域
内の横電界へ及ぼす影響が少なく、かつ表示領域の外周
部(額縁)での透過光強度を表示領域内の最小透過光強
度より少なくでき、表示品質に優れたカラー液晶表示装
置を提供することができる。
特にIPS方式のカラー液晶表示装置における表示領域
内の横電界へ及ぼす影響が少なく、かつ表示領域の外周
部(額縁)での透過光強度を表示領域内の最小透過光強
度より少なくでき、表示品質に優れたカラー液晶表示装
置を提供することができる。
【図1】本発明によるカラー液晶表示装置の第1実施例
の構成を説明する要部断面図である。
の構成を説明する要部断面図である。
【図2】本発明によるカラー液晶表示装置の第2実施例
の構成を説明する要部断面図である。
の構成を説明する要部断面図である。
【図3】本発明によるカラー液晶表示装置の第3実施例
の構成を説明する要部断面図である。
の構成を説明する要部断面図である。
【図4】本発明によるカラー液晶表示装置の第4実施例
の構成を説明する要部断面図である。
の構成を説明する要部断面図である。
【図5】本発明によるカラー液晶表示装置の第5実施例
の構成を説明する要部断面図である。
の構成を説明する要部断面図である。
【図6】額縁部分のBMに赤、緑、青の何れかのフィル
タを積層した場合の光波長に対する吸光度を説明するグ
ラフ図である。
タを積層した場合の光波長に対する吸光度を説明するグ
ラフ図である。
【図7】本発明によるカラー液晶表示装置の第7実施例
の構成を説明する要部断面図である。
の構成を説明する要部断面図である。
【図8】IPS方式液晶表示装置のカラーフィルタ基板
を説明する模式図である。
を説明する模式図である。
【図9】IPS方式液晶表示装置の構造例を説明する要
部断面図である。
部断面図である。
【図10】カラーフィルタ基板の額縁部近傍の構造例を
説明する拡大断面図である。
説明する拡大断面図である。
1 カラーフィルタ基板 2 額縁部(表示領域の外周部) 3 表示領域 4a 表示領域のBM 5(5R,5G,5B) カラーフィルタ(赤、緑、
青) 6a 上透明基板 6b 下透明基板 7a フィルタの保護膜 7b 電極の保護膜 8a 上偏光板 8b 下偏光板 9a 上配向膜(液晶組成制御層) 9b 下配向膜 10(10a,10b) 電極 11a 配向された液晶組成層 11b 非配向の液晶組成層 12 シール材。
青) 6a 上透明基板 6b 下透明基板 7a フィルタの保護膜 7b 電極の保護膜 8a 上偏光板 8b 下偏光板 9a 上配向膜(液晶組成制御層) 9b 下配向膜 10(10a,10b) 電極 11a 配向された液晶組成層 11b 非配向の液晶組成層 12 シール材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 芦沢 啓一郎 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内 (72)発明者 小川 和宏 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所電子デバイス事業部内
Claims (6)
- 【請求項1】少なくとも一方が透明な一対の基板の一方
に形成されたカラー表示のための色の異なる少なくとも
2種類以上のカラーフィルタと、各カラーフィルタの間
に介在させたブラックマトリクスと、前記一対の基板の
他方に形成された電極群と、前記一対の基板間に挟持さ
れた誘電異方性を有する液晶組成物質層と、前記一対の
基板の対向面に形成されて前記液晶組成物質の分子配列
を所定の方向に配列させるための配向制御層と、前記一
対の基板の少なくとも一方に積層された偏光板、および
前記電極群に駆動電圧を印加するための駆動手段とを具
備したカラー液晶表示装置において、 前記電極群が前記配向制御層および前記液晶組成物質層
の界面に対して、主として平行な電界を印加するごとく
配置された配列構造を有し、 表示領域外周のブラックマトリクスの光学濃度OD値が
3.0以上、好ましくは3.5以上で、比抵抗値が10
8 Ω・cm以上であることを特徴とするカラー液晶表示
装置。 - 【請求項2】前記基板の表示領域内のブラックマトリク
スは、比抵抗値が108 Ω・cm以上でかつ光学濃度O
D値が2.0以上、好ましくは2.5以上であることを
特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示装置。 - 【請求項3】前記表示領域の外周での前記ブラックマト
リクスの膜厚が前記表示領域より厚いことを特徴とする
請求項1記載のカラー液晶表示装置。 - 【請求項4】前記ブラックマトリクスは顔料分散型樹脂
であることを特徴とする請求項1記載のカラー液晶表示
装置。 - 【請求項5】前記ブラックマトリクスの前記表示領域が
顔料分散型樹脂であり、前記表示領域の外周が顔料分散
型樹脂と金属膜の積層構造であることを特徴とする請求
項1記載のカラー液晶表示装置。 - 【請求項6】前記ブラックマトリクスの前記表示領域が
顔料分散型樹脂であり、前記表示領域の外周が顔料分散
型樹脂と前記表示領域のカラーフィルタを形成する赤、
緑または青の顔料分散型樹脂の少なくとも1つの層との
積層構造であることを特徴とする請求項1記載のカラー
液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8334006A JPH10170958A (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | カラー液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP8334006A JPH10170958A (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | カラー液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH10170958A true JPH10170958A (ja) | 1998-06-26 |
Family
ID=18272450
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP8334006A Pending JPH10170958A (ja) | 1996-12-13 | 1996-12-13 | カラー液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH10170958A (ja) |
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- 1996-12-13 JP JP8334006A patent/JPH10170958A/ja active Pending
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