JPH07270765A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH07270765A JPH07270765A JP6062753A JP6275394A JPH07270765A JP H07270765 A JPH07270765 A JP H07270765A JP 6062753 A JP6062753 A JP 6062753A JP 6275394 A JP6275394 A JP 6275394A JP H07270765 A JPH07270765 A JP H07270765A
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- JP
- Japan
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- liquid crystal
- display device
- crystal display
- substrate
- glass substrate
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
- G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
- G02F1/133512—Light shielding layers, e.g. black matrix
Abstract
(57)【要約】
【目的】カラーフィルタ層と偏光層の間隔が飛躍的に短
縮することにより視野角依存性が少く、高画質表示が可
能が大画面液晶表示装置を容易に提供する。 【構造】少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス
基板であり、偏光層、カラーフィルタ、画素電極が基板
から順に積層されていることを特徴とするものであり、
または別法として、少なくとも一方の基板が透明性を有
するガラス基板であり、その上に偏光層、画素電極、カ
ラーフィルタが基板内側に、順に積層されていることを
特徴とするものである。
縮することにより視野角依存性が少く、高画質表示が可
能が大画面液晶表示装置を容易に提供する。 【構造】少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス
基板であり、偏光層、カラーフィルタ、画素電極が基板
から順に積層されていることを特徴とするものであり、
または別法として、少なくとも一方の基板が透明性を有
するガラス基板であり、その上に偏光層、画素電極、カ
ラーフィルタが基板内側に、順に積層されていることを
特徴とするものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、コンピュータ端末、テ
レビ、車載ナビゲーションシステム等に使用される液晶
表示装置に関するものである。
レビ、車載ナビゲーションシステム等に使用される液晶
表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、表示装置はパーソナルコンピュー
タ、携帯用情報端末、携帯テレビ用表示装置として省ス
ペース性、携帯性が要求され、従来のＣＲＴに代わり液
晶表示装置は平面型表示装置として急速に普及しつつあ
る。
タ、携帯用情報端末、携帯テレビ用表示装置として省ス
ペース性、携帯性が要求され、従来のＣＲＴに代わり液
晶表示装置は平面型表示装置として急速に普及しつつあ
る。
【０００３】液晶表示装置は、本来非発光型デバイスで
あるため表示を行うには、バックライト等の外部光源が
必要であり、カラー表示を行うためにはカラーフィルタ
方式によるものが一般的である。従来の液晶表示装置に
ついて図３に基づき説明する。図３は、従来の液晶表示
装置の断面図である。図３に示すように、ガラス基板
（１１ａ）上には、画素電極（１９）及び配向膜（１
３）が形成され、配向膜（１３）は液晶を配向させるた
めラビング等の配向処理が施されている。一方、対向側
のガラス基板（１１）上には、赤（１０Ｒ），緑（１０
Ｇ），青（１０Ｂ）の色パターンからなるカラーフィル
タ（１０）が設置され、さらに各色パターン間には、画
像のシャープさを増すためブラックマトリックス（１
２）が必要に応じ配置される。さらに、その上に対向電
極（１６）及び配向膜（１４）があり、同様に配向処理
がされる。
あるため表示を行うには、バックライト等の外部光源が
必要であり、カラー表示を行うためにはカラーフィルタ
方式によるものが一般的である。従来の液晶表示装置に
ついて図３に基づき説明する。図３は、従来の液晶表示
装置の断面図である。図３に示すように、ガラス基板
（１１ａ）上には、画素電極（１９）及び配向膜（１
３）が形成され、配向膜（１３）は液晶を配向させるた
めラビング等の配向処理が施されている。一方、対向側
のガラス基板（１１）上には、赤（１０Ｒ），緑（１０
Ｇ），青（１０Ｂ）の色パターンからなるカラーフィル
タ（１０）が設置され、さらに各色パターン間には、画
像のシャープさを増すためブラックマトリックス（１
２）が必要に応じ配置される。さらに、その上に対向電
極（１６）及び配向膜（１４）があり、同様に配向処理
がされる。
【０００４】液晶表示装置として構成するために、図に
示すように、これら電極が形成されたガラス基板（１
１，１１ａ）を互いに電極側が向かい合うように対向さ
せ、この間に液晶（１５）を封入する。この際に使用さ
れる液晶は、通常ＴＮ（Twisted Nematic)液晶やＳＴＮ
(Super Twisted Nematic) 液晶であり、それぞれのモー
ドに応じ、９０°〜２７０°の範囲で液晶分子がねじれ
て配向するように設定され配向制御される。ここで、こ
の状態の液晶表示装置を液晶パネルと便宜的に言うこと
にする。
示すように、これら電極が形成されたガラス基板（１
１，１１ａ）を互いに電極側が向かい合うように対向さ
せ、この間に液晶（１５）を封入する。この際に使用さ
れる液晶は、通常ＴＮ（Twisted Nematic)液晶やＳＴＮ
(Super Twisted Nematic) 液晶であり、それぞれのモー
ドに応じ、９０°〜２７０°の範囲で液晶分子がねじれ
て配向するように設定され配向制御される。ここで、こ
の状態の液晶表示装置を液晶パネルと便宜的に言うこと
にする。
【０００５】このような液晶装置で表示を行うために
は、液晶の電気光学特性による光シャッター効果を利用
する。つまり、一般的には液晶パネルの両外側に、偏光
板（１７，１７ａ）を設置し、電界による液晶の旋光性
の変化によりシャッター効果を発現させる。
は、液晶の電気光学特性による光シャッター効果を利用
する。つまり、一般的には液晶パネルの両外側に、偏光
板（１７，１７ａ）を設置し、電界による液晶の旋光性
の変化によりシャッター効果を発現させる。
【０００６】近年、液晶表示装置の性能の飛躍的向上及
び応用分野の拡大に伴い、テレビ画像表示等のフルカラ
ー表示に代表される高画質表示性能が要求されると共
に、液晶表示装置の大画面化の要求が高まっている。
び応用分野の拡大に伴い、テレビ画像表示等のフルカラ
ー表示に代表される高画質表示性能が要求されると共
に、液晶表示装置の大画面化の要求が高まっている。
【０００７】従来の液晶表示装置において、カラーフィ
ルタと偏光板はガラス基板を間に挟む形で設置されてい
る。一方、ガラス基板の厚みは通常１．１ｍｍであり、
さらに薄板化が図られたとしても、製造装置並びにハン
ドリングの点で制約を受けるため、０．７ｍｍが限界と
言われている。従って、カラーフィルタと偏光板の距離
を近づけることが不可能であるため、正面から見れば鮮
明な表示が得られるものの、斜めから見ると表示の鮮明
さが失われる視野角依存性という欠点が避けられず、液
晶表示装置の表示画質向上及び画面サイズ大形化の要請
に対して大きな問題点になっている。
ルタと偏光板はガラス基板を間に挟む形で設置されてい
る。一方、ガラス基板の厚みは通常１．１ｍｍであり、
さらに薄板化が図られたとしても、製造装置並びにハン
ドリングの点で制約を受けるため、０．７ｍｍが限界と
言われている。従って、カラーフィルタと偏光板の距離
を近づけることが不可能であるため、正面から見れば鮮
明な表示が得られるものの、斜めから見ると表示の鮮明
さが失われる視野角依存性という欠点が避けられず、液
晶表示装置の表示画質向上及び画面サイズ大形化の要請
に対して大きな問題点になっている。
【０００８】本発明は、このような従来の液晶表示装置
の問題点を解決するために、鋭意検討の結果生み出され
たものであり、具体的には視野角依存性が少ないため、
高画質表示が可能で大画面表示に適した液晶表示装置を
提供することを目的としたものである。
の問題点を解決するために、鋭意検討の結果生み出され
たものであり、具体的には視野角依存性が少ないため、
高画質表示が可能で大画面表示に適した液晶表示装置を
提供することを目的としたものである。
【０００９】
【課題を解決する手段】前記課題を解決するために本発
明が提供する手段は、請求項１によれば、１対の画素電
極が形成された透明基板間に液晶を挟持し、液晶層の両
側に偏向層を設置し、画素電極に印加する電圧で液晶の
電気光学特性を変化させ、表示を行う液晶表示装置にお
いて、少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス基
板であり、偏光層、カラーフィルタ、画素電極が基板内
側に、順に積層されていることを特徴とするものであ
る。
明が提供する手段は、請求項１によれば、１対の画素電
極が形成された透明基板間に液晶を挟持し、液晶層の両
側に偏向層を設置し、画素電極に印加する電圧で液晶の
電気光学特性を変化させ、表示を行う液晶表示装置にお
いて、少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス基
板であり、偏光層、カラーフィルタ、画素電極が基板内
側に、順に積層されていることを特徴とするものであ
る。
【００１０】また、請求項２によれば、少なくとも一方
の基板が透明性を有するガラス基板であり、その上に偏
光層、画素電極、カラーフィルタが基板内側に、順に積
層されていることを特徴とするものである。
の基板が透明性を有するガラス基板であり、その上に偏
光層、画素電極、カラーフィルタが基板内側に、順に積
層されていることを特徴とするものである。
【００１１】以下に本発明を図に基づき詳細に説明す
る。図１は、本発明の一実施例における液晶表示装置の
構成を示す断面図である。ガラス基板（１１）上に、偏
光層（１８）が形成されている。この偏光層（１８）の
形成方法は、ガラス基板（１１）を直接ラビング装置等
の公知の手段でラビング処理を行い、ガラス表面に細か
い溝を付与するか、或いはガラス基板（１１）上に、ボ
リビニルアルコール、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリ塩化ビニル等の高分子膜を
塗布しラビング処理を行う。ここでラビング処理とは、
ラビング装置等の公知の手段により高分子膜をラビング
布で一方向に擦り、高分子表面に微細な溝を形成する処
理法である。この時、ラビング方向は偏向軸の方向を規
定するため、その後、封入する液晶の配向方向と所定の
角度を持つように行う。
る。図１は、本発明の一実施例における液晶表示装置の
構成を示す断面図である。ガラス基板（１１）上に、偏
光層（１８）が形成されている。この偏光層（１８）の
形成方法は、ガラス基板（１１）を直接ラビング装置等
の公知の手段でラビング処理を行い、ガラス表面に細か
い溝を付与するか、或いはガラス基板（１１）上に、ボ
リビニルアルコール、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリ塩化ビニル等の高分子膜を
塗布しラビング処理を行う。ここでラビング処理とは、
ラビング装置等の公知の手段により高分子膜をラビング
布で一方向に擦り、高分子表面に微細な溝を形成する処
理法である。この時、ラビング方向は偏向軸の方向を規
定するため、その後、封入する液晶の配向方向と所定の
角度を持つように行う。
【００１２】次に、このラビングされた高分子膜を、ヨ
ウ化カリウム又はヨウ素とヨウ化カリウムを混合した水
溶液、又は、適当なジスアゾ、トリスアゾ、ジアニシジ
ン系等の２色性染料を分散した水溶液を塗布、或いは浸
すことにより偏光層（１８）を形成する。さらに必要に
応じて適宜偏光層（１８）上に、アクリル樹脂、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂等の有機高分子、二酸化珪素、ア
ルミナ、窒化珪素等からなる無機材料による保護膜を形
成する。
ウ化カリウム又はヨウ素とヨウ化カリウムを混合した水
溶液、又は、適当なジスアゾ、トリスアゾ、ジアニシジ
ン系等の２色性染料を分散した水溶液を塗布、或いは浸
すことにより偏光層（１８）を形成する。さらに必要に
応じて適宜偏光層（１８）上に、アクリル樹脂、ウレタ
ン樹脂、エポキシ樹脂等の有機高分子、二酸化珪素、ア
ルミナ、窒化珪素等からなる無機材料による保護膜を形
成する。
【００１３】次に、赤（１０Ｒ），緑（１０Ｇ），青
（１０Ｂ）の各色パターンからなるカラーフィルタ（１
０）が設置される。この時のカラーフィルタの材質は、
ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ＰＶ
Ａ樹脂等の高分子化合物にそれぞれ赤，緑，青の顔料を
分散したものやカゼイン等の天然タンパク基材を染色し
たものであり、これらを印刷法、フォトエッチング法、
フォトポリマー法、電着法、電子写真法等の公知の手段
を適宜使用して画素のパターンに形成する。また、一般
的には、カラーフィルタ（１０）の膜厚は０．５〜２μ
ｍの範囲である。また、各画素間には必要に応じブラッ
クマトリクス（１２）をＣｒ等の金属薄膜のエッチング
やフォトブラックで形成する。
（１０Ｂ）の各色パターンからなるカラーフィルタ（１
０）が設置される。この時のカラーフィルタの材質は、
ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ＰＶ
Ａ樹脂等の高分子化合物にそれぞれ赤，緑，青の顔料を
分散したものやカゼイン等の天然タンパク基材を染色し
たものであり、これらを印刷法、フォトエッチング法、
フォトポリマー法、電着法、電子写真法等の公知の手段
を適宜使用して画素のパターンに形成する。また、一般
的には、カラーフィルタ（１０）の膜厚は０．５〜２μ
ｍの範囲である。また、各画素間には必要に応じブラッ
クマトリクス（１２）をＣｒ等の金属薄膜のエッチング
やフォトブラックで形成する。
【００１４】次に、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide) 、酸化
錫等の透明導電性を有する薄膜をスパッタ法等の公知の
手段により成膜し、必要に応じフォトエッチング、リフ
トオフ法等を用いて画素電極（１６）を形成する。
錫等の透明導電性を有する薄膜をスパッタ法等の公知の
手段により成膜し、必要に応じフォトエッチング、リフ
トオフ法等を用いて画素電極（１６）を形成する。
【００１５】さらに、この基板上に液晶配向用のポリイ
ミドからなる配向膜（１４）を塗布し、前述したラビン
グ法により配向処理を行う。この際に配向方向は、使用
する液晶の表示モードと下部に形成された偏光層（１
８）の偏光方向を勘案し決定する。
ミドからなる配向膜（１４）を塗布し、前述したラビン
グ法により配向処理を行う。この際に配向方向は、使用
する液晶の表示モードと下部に形成された偏光層（１
８）の偏光方向を勘案し決定する。
【００１６】一方、対向基板としてガラス、プラスチッ
クフィルム等からなる透明基板（１１ａ）上に、前記し
た透明導電性薄膜をパターニングして画素電極（１９）
を形成し、その上にポリイミドからなる配向膜（１３）
を塗布し、同様にラビング等の手段により配向処理を施
す。
クフィルム等からなる透明基板（１１ａ）上に、前記し
た透明導電性薄膜をパターニングして画素電極（１９）
を形成し、その上にポリイミドからなる配向膜（１３）
を塗布し、同様にラビング等の手段により配向処理を施
す。
【００１７】次に、これらの透明基板（１１，１１ａ）
を互いに画素電極（１６，１９）が向き合う所定の間隔
（一般に２〜１５μｍ）を保持するように組み合わせ、
この間に液晶（１５）を封入する。この際に封入する液
晶としては、ネマチック液晶が一般的であるがこれに限
定されるものではない。
を互いに画素電極（１６，１９）が向き合う所定の間隔
（一般に２〜１５μｍ）を保持するように組み合わせ、
この間に液晶（１５）を封入する。この際に封入する液
晶としては、ネマチック液晶が一般的であるがこれに限
定されるものではない。
【００１８】最後に、この液晶パネルにおいて、透明基
板（１１ａ）の外側に偏光板（１７）を組み合わせ液晶
表示装置を完成する。
板（１１ａ）の外側に偏光板（１７）を組み合わせ液晶
表示装置を完成する。
【００１９】請求項２による液晶表示装置に関して、図
２に基づき詳細に説明をする。ガラス基板（１１）上
に、偏光層（１８）が形成されている。偏光層（１８）
の形成方法は、ガラス基板（１１）を直接ラビング装置
等の公知の手段でラビング処理を行い、ガラス表面に細
かい溝を付与するか、或いはガラス基板（１１）上にボ
リビニルアルコール、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリ塩化ビニル等の高分子膜を
塗布しラビング処理を行う。ここでラビング処理とは、
ラビング装置等の公知の手段により高分子膜をラビング
布で一方向に擦り、高分子表面に微細な溝を形成する処
理法である。この時、ラビング方向は偏向軸の方向を規
定するため、その後封入する液晶の配向方向と所定の角
度を持つように行う。
２に基づき詳細に説明をする。ガラス基板（１１）上
に、偏光層（１８）が形成されている。偏光層（１８）
の形成方法は、ガラス基板（１１）を直接ラビング装置
等の公知の手段でラビング処理を行い、ガラス表面に細
かい溝を付与するか、或いはガラス基板（１１）上にボ
リビニルアルコール、ポリイミド、ポリエーテルイミ
ド、ポリアミドイミド、ポリ塩化ビニル等の高分子膜を
塗布しラビング処理を行う。ここでラビング処理とは、
ラビング装置等の公知の手段により高分子膜をラビング
布で一方向に擦り、高分子表面に微細な溝を形成する処
理法である。この時、ラビング方向は偏向軸の方向を規
定するため、その後封入する液晶の配向方向と所定の角
度を持つように行う。
【００２０】次に、このラビングされた高分子膜を、ヨ
ウ化カリウム又はヨウ素とヨウ化カリウムを混合した水
溶液、または、適当なジスアゾ、トリスアゾ、ジアニシ
ジン系等の２色性染料を分散した水溶液を塗布、或いは
浸すことにより偏光層（１８）を形成する。さらに必要
に応じて適宜偏光層（１８）上に、アクリル樹脂、ウレ
タン樹脂、エポキシ樹脂等の有機高分子、二酸化珪素、
アルミナ、窒化珪素等からなる無機材料による保護膜を
形成する。
ウ化カリウム又はヨウ素とヨウ化カリウムを混合した水
溶液、または、適当なジスアゾ、トリスアゾ、ジアニシ
ジン系等の２色性染料を分散した水溶液を塗布、或いは
浸すことにより偏光層（１８）を形成する。さらに必要
に応じて適宜偏光層（１８）上に、アクリル樹脂、ウレ
タン樹脂、エポキシ樹脂等の有機高分子、二酸化珪素、
アルミナ、窒化珪素等からなる無機材料による保護膜を
形成する。
【００２１】次に、ガラス基板（１１）上の偏光層（１
８）に積層するように、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide) 、
酸化錫等の透明導電性を有する薄膜をスパッタ法等の公
知の手段により成膜し、必要に応じフォトエッチング、
リフトオフ法等を用いて画素電極（１６）を形成する。
８）に積層するように、ＩＴＯ（Indium-Tin-Oxide) 、
酸化錫等の透明導電性を有する薄膜をスパッタ法等の公
知の手段により成膜し、必要に応じフォトエッチング、
リフトオフ法等を用いて画素電極（１６）を形成する。
【００２２】さらにこの上に、赤（１０Ｒ），緑（１０
Ｇ），青（１０Ｂ）からなるカラーフィルタ（１０）が
設置される。この時のカラーフィルタの材質は、ポリイ
ミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ＰＶＡ樹脂
等の高分子化合物にそれぞれＲ，Ｇ，Ｂの顔料を分散し
たものを印刷法、フォトエッチング法、フォトポリマー
法、電着法、電子写真法等を公知の手段を適宜使用して
画素のパターンに形成する。また、各画素間にはブラッ
クマトリクスを必要に応じてフォトブラックや印刷法に
より形成する。
Ｇ），青（１０Ｂ）からなるカラーフィルタ（１０）が
設置される。この時のカラーフィルタの材質は、ポリイ
ミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアミド樹脂、ＰＶＡ樹脂
等の高分子化合物にそれぞれＲ，Ｇ，Ｂの顔料を分散し
たものを印刷法、フォトエッチング法、フォトポリマー
法、電着法、電子写真法等を公知の手段を適宜使用して
画素のパターンに形成する。また、各画素間にはブラッ
クマトリクスを必要に応じてフォトブラックや印刷法に
より形成する。
【００２３】次に、この基板上に液晶配向用のポリイミ
ドからなる配向膜（１４）を塗布して、前述したラビン
グ法により配向処理を行う。この際の配向方向は、使用
する液晶の表示モードと、下部に形成された偏光層（１
８）の偏光方向を勘案し決定する。
ドからなる配向膜（１４）を塗布して、前述したラビン
グ法により配向処理を行う。この際の配向方向は、使用
する液晶の表示モードと、下部に形成された偏光層（１
８）の偏光方向を勘案し決定する。
【００２４】一方、対向基板としてガラス、プラスチッ
クフィルム等からなる透明基板（１１ａ）上に、前記し
た透明導電性薄膜をパターニングして画素電極（１９）
を形成し、その上にポリイミドからなる配向膜（１３）
を塗布し、同様にラビング等により配向処理を施す。
クフィルム等からなる透明基板（１１ａ）上に、前記し
た透明導電性薄膜をパターニングして画素電極（１９）
を形成し、その上にポリイミドからなる配向膜（１３）
を塗布し、同様にラビング等により配向処理を施す。
【００２５】次に、これらの透明基板（１１，１１ａ）
を互いに画素電極（１６，１９）が向き合う所定の間隔
（一般に２〜１５μｍ）を保持するように組み合わせ、
この間に液晶（１５）を封入する。この際封入する液晶
をしては、ネマチック液晶が一般的であるがこれに限定
されるものではない。
を互いに画素電極（１６，１９）が向き合う所定の間隔
（一般に２〜１５μｍ）を保持するように組み合わせ、
この間に液晶（１５）を封入する。この際封入する液晶
をしては、ネマチック液晶が一般的であるがこれに限定
されるものではない。
【００２６】最後に、この液晶パネルにおいて、透明基
板（１１ａ）の外側に偏光板（１７）を組み合わせ液晶
表示装置を完成する。
板（１１ａ）の外側に偏光板（１７）を組み合わせ液晶
表示装置を完成する。
【００２７】
【作用】本発明による液晶表示装置によれば、少なくと
も一方の基板が透明性を有するガラス基板であり、偏光
層、カラーフィルタ、画素電極が基板内側に、順に積層
されていることを特徴とするものであり、または別法と
して、少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス基
板であり、その上に偏光層、画素電極、カラーフィルタ
が基板内側に、順に積層されていることを特徴とするも
のであり、カラーフィルタ層と偏光層の間隔が飛躍的に
短縮されるため、視野角依存性が少く、高画質表示が可
能な大画面液晶表示装置を容易に提供することが出来
る。
も一方の基板が透明性を有するガラス基板であり、偏光
層、カラーフィルタ、画素電極が基板内側に、順に積層
されていることを特徴とするものであり、または別法と
して、少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス基
板であり、その上に偏光層、画素電極、カラーフィルタ
が基板内側に、順に積層されていることを特徴とするも
のであり、カラーフィルタ層と偏光層の間隔が飛躍的に
短縮されるため、視野角依存性が少く、高画質表示が可
能な大画面液晶表示装置を容易に提供することが出来
る。
【００２８】
【実施例】本発明の実施例を図１に基づきさらに詳細に
説明する。
説明する。
【００２９】＜実施例１＞低アルカリガラス（コーニン
グ社製７０５９ガラス）からなるガラス基板（１１）を
ラビング装置を用いて一方向にラビングを行い、ガラス
基板（１１）上に細かい溝を形成した。次に、スピンコ
ータを用いて、２色性色素を０．２ｗｔ％の割合で添加
した水溶液を塗布した後に、保護膜としてアクリル樹脂
をオーバーコートし偏光層（１８）を形成した。この際
使用した２色性色素は、C.I.DirectにおいてBlue 202,O
renge 39,Red 81 をそれぞれ７０，１０，２０％の割合
で配合したものであった。
グ社製７０５９ガラス）からなるガラス基板（１１）を
ラビング装置を用いて一方向にラビングを行い、ガラス
基板（１１）上に細かい溝を形成した。次に、スピンコ
ータを用いて、２色性色素を０．２ｗｔ％の割合で添加
した水溶液を塗布した後に、保護膜としてアクリル樹脂
をオーバーコートし偏光層（１８）を形成した。この際
使用した２色性色素は、C.I.DirectにおいてBlue 202,O
renge 39,Red 81 をそれぞれ７０，１０，２０％の割合
で配合したものであった。
【００３０】次に、スパッタ法により低反射層として酸
化クロム薄膜を２０ｎｍ成膜した後に、クロム薄膜を１
００ｎｍの膜厚で積層した。次に、フォトエッチング法
によりブラックマトリクスのパターンを形成した。
化クロム薄膜を２０ｎｍ成膜した後に、クロム薄膜を１
００ｎｍの膜厚で積層した。次に、フォトエッチング法
によりブラックマトリクスのパターンを形成した。
【００３１】次に、アクリル樹脂を主体とするフォトポ
リマーに赤の顔料を分散したカラーペーストをスピンコ
ータにより塗布、乾燥した後に、フォトマスクを用いて
露光現像を行い赤のカラーフィルタ（１０Ｒ）を形成し
た。同様なプロセスをくり返し緑（１０Ｇ），青（１０
Ｂ）の各色カラーフィルタ層により、カラーフィルタ層
（１０）を完成した。
リマーに赤の顔料を分散したカラーペーストをスピンコ
ータにより塗布、乾燥した後に、フォトマスクを用いて
露光現像を行い赤のカラーフィルタ（１０Ｒ）を形成し
た。同様なプロセスをくり返し緑（１０Ｇ），青（１０
Ｂ）の各色カラーフィルタ層により、カラーフィルタ層
（１０）を完成した。
【００３２】この基板上にスパッタ装置を用い透明電極
としてＩＴＯ膜を成膜する。この際に、ＩＴＯ膜を所定
の画素電極パターンにするため、成膜する部分以外を金
属薄板からなるステンシルマスクで覆い、成膜を行い画
素電極（１６）を形成した。この際のＩＴＯ膜厚は、１
００ｎｍであり、この膜のシート抵抗値は約３０Ω／□
であった。さらに、この基板上に配向材としてポリイミ
ド膜（商品名ＬＱＴ−１２０、日本合成ゴム（株）製）
を膜厚約９０ｎｍに塗布した後に、ラビング装置を用い
て、ラビングを行い配向処理を行い配向膜（１４）を形
成する。この際の配向処理方向は、偏光層の偏光軸に平
行の方向に設定した。
としてＩＴＯ膜を成膜する。この際に、ＩＴＯ膜を所定
の画素電極パターンにするため、成膜する部分以外を金
属薄板からなるステンシルマスクで覆い、成膜を行い画
素電極（１６）を形成した。この際のＩＴＯ膜厚は、１
００ｎｍであり、この膜のシート抵抗値は約３０Ω／□
であった。さらに、この基板上に配向材としてポリイミ
ド膜（商品名ＬＱＴ−１２０、日本合成ゴム（株）製）
を膜厚約９０ｎｍに塗布した後に、ラビング装置を用い
て、ラビングを行い配向処理を行い配向膜（１４）を形
成する。この際の配向処理方向は、偏光層の偏光軸に平
行の方向に設定した。
【００３３】対向基板は、同様に低アルカリガラス基板
からなる透明基板（１１ａ）上に半導体プロセスによ
り、アモルファスＳｉを半導体に用いたＴＦＴと、それ
に接続された画素電極（１９）からなるアクティブマト
リクス素子基板を作製した。この際の画素数は、３００
×２４０画素であり、表示エリアは対角約６ｃｍであっ
た。
からなる透明基板（１１ａ）上に半導体プロセスによ
り、アモルファスＳｉを半導体に用いたＴＦＴと、それ
に接続された画素電極（１９）からなるアクティブマト
リクス素子基板を作製した。この際の画素数は、３００
×２４０画素であり、表示エリアは対角約６ｃｍであっ
た。
【００３４】さらにこの基板に配向材としてポリイミド
を塗布し、ラビング処理を行い配向膜（１３）を形成す
る。この際使用する材料は、先に記したものと同じであ
る。また、この時のラビング方向は、カラーフィルタ側
基板の配向方向と９０°の角度になるように行った。
を塗布し、ラビング処理を行い配向膜（１３）を形成す
る。この際使用する材料は、先に記したものと同じであ
る。また、この時のラビング方向は、カラーフィルタ側
基板の配向方向と９０°の角度になるように行った。
【００３５】次に、これらの基板を一定の間隔（セルギ
ャップと言う）になるようにスペーサを散布し、周辺部
をエポキシ樹脂系のシール材（商品名ストラクトボン
ド、三井東圧化学（株）製）を用いて接着し、液晶セル
を作製した。なお、この際に基板間の間隔は約５μｍに
設定した。
ャップと言う）になるようにスペーサを散布し、周辺部
をエポキシ樹脂系のシール材（商品名ストラクトボン
ド、三井東圧化学（株）製）を用いて接着し、液晶セル
を作製した。なお、この際に基板間の間隔は約５μｍに
設定した。
【００３６】次に、この液晶セルにネマチック液晶（１
５）（商品名ＺＬＩ−４７９２、メルクジャパン製）を
封入後、封入口を封止材により封止して液晶パネルを作
製した。
５）（商品名ＺＬＩ−４７９２、メルクジャパン製）を
封入後、封入口を封止材により封止して液晶パネルを作
製した。
【００３７】最後に、この液晶パネルの外側対向基板側
に偏光板（１７）を偏光軸が液晶パネル内部の偏光層の
配向軸に対し９０°の角度をなすように貼り付け、ノー
マリホワイトモードになるようにして液晶表示装置を完
成した。
に偏光板（１７）を偏光軸が液晶パネル内部の偏光層の
配向軸に対し９０°の角度をなすように貼り付け、ノー
マリホワイトモードになるようにして液晶表示装置を完
成した。
【００３８】＜実施例２＞本発明の他の実施例における
液晶表示装置を図２に基づき詳細に説明する。シリカコ
ートアルカリガラスからなるガラス基板（１１）に、ポ
リビニルアルコール樹脂（富士薬品（株）製）をスピン
コータにより塗布し乾燥した。この際、ポリビニルアル
コール樹脂の膜厚は約１μｍであった。次に、市販のラ
ビング装置によりこの表面のラビング処理を行った。こ
の際使用したラビング布は、ナイロン製で毛先の長さは
１ｍｍのものを使用した。
液晶表示装置を図２に基づき詳細に説明する。シリカコ
ートアルカリガラスからなるガラス基板（１１）に、ポ
リビニルアルコール樹脂（富士薬品（株）製）をスピン
コータにより塗布し乾燥した。この際、ポリビニルアル
コール樹脂の膜厚は約１μｍであった。次に、市販のラ
ビング装置によりこの表面のラビング処理を行った。こ
の際使用したラビング布は、ナイロン製で毛先の長さは
１ｍｍのものを使用した。
【００３９】次に、この基板をヨウ化カリウム水溶液
（ヨウ素０．４重量％、ヨウ化カリウム８重量％）に浸
漬して偏光性を付与し、更にこの上にアクリル樹脂を１
μｍを膜厚にスピンコート法により塗布し偏向層（１
８）を形成した。
（ヨウ素０．４重量％、ヨウ化カリウム８重量％）に浸
漬して偏光性を付与し、更にこの上にアクリル樹脂を１
μｍを膜厚にスピンコート法により塗布し偏向層（１
８）を形成した。
【００４０】次に、ＩＴＯ膜をスパッタ法により２００
ｎｍの膜厚で成膜を行った。この時のシート抵抗値は、
１０Ω／□であった。次に、フォトエッチング法により
ＩＴＯ膜をパターン化し画素電極（１６）を成した。
ｎｍの膜厚で成膜を行った。この時のシート抵抗値は、
１０Ω／□であった。次に、フォトエッチング法により
ＩＴＯ膜をパターン化し画素電極（１６）を成した。
【００４１】次に、まずアクリル樹脂を主体とするフォ
トポリマーに黒の顔料を分散したカラーペーストをスピ
ンコータにより塗布、乾燥した後、フォトマスクを用い
て露光現像を行いブラックマトリクスを形成した後、同
様に感光性カラーペーストを用いて赤（１０Ｒ），緑
（１０Ｇ），青（１０Ｂ）の各色カラーフィルタ層によ
り、カラーフィルタ層（１０）を完成した。
トポリマーに黒の顔料を分散したカラーペーストをスピ
ンコータにより塗布、乾燥した後、フォトマスクを用い
て露光現像を行いブラックマトリクスを形成した後、同
様に感光性カラーペーストを用いて赤（１０Ｒ），緑
（１０Ｇ），青（１０Ｂ）の各色カラーフィルタ層によ
り、カラーフィルタ層（１０）を完成した。
【００４２】さらに、この基板上に配向材としてポリイ
ミド膜（商品名ＨＬ−１１１０、日立化成工業（株）
製）を膜厚約１００ｎｍに塗布した後に、ラビング装置
を用いて、ラビングを行い配向膜（１４）を形成する。
この際の配向処理方向は、偏光層の偏光軸に平行の方向
に設定した。
ミド膜（商品名ＨＬ−１１１０、日立化成工業（株）
製）を膜厚約１００ｎｍに塗布した後に、ラビング装置
を用いて、ラビングを行い配向膜（１４）を形成する。
この際の配向処理方向は、偏光層の偏光軸に平行の方向
に設定した。
【００４３】次に対向基板として、シリカコートアルカ
リガラスからなるガラス基板（１１ａ）上にスパッタ装
置を用いて、ＩＴＯ膜を成膜し同様にフォトエッチング
法を用いて、画素電極（１９）を作製した。
リガラスからなるガラス基板（１１ａ）上にスパッタ装
置を用いて、ＩＴＯ膜を成膜し同様にフォトエッチング
法を用いて、画素電極（１９）を作製した。
【００４４】さらにこの基板に配向材としてポリイミド
を塗布し、ラビング処理を行い配向膜（１３）を形成す
る。この際使用する材料は、先に記したものと同じであ
る。また、この際のラビング方向は、カラーフィルタ側
基板の配向方向と９０°の角度になるように行った。
を塗布し、ラビング処理を行い配向膜（１３）を形成す
る。この際使用する材料は、先に記したものと同じであ
る。また、この際のラビング方向は、カラーフィルタ側
基板の配向方向と９０°の角度になるように行った。
【００４５】次に、これらの基板を一定の間隔（セルギ
ャップと言う）になる様にスペーサを散布し、周辺部を
エポキシ樹脂系のシール材（商品名ストラクトボンド、
三井東圧化学（株）製）を用いて接着し、液晶セルを作
製した。なお、この際の基板間の間隔は約７μｍに設定
した。
ャップと言う）になる様にスペーサを散布し、周辺部を
エポキシ樹脂系のシール材（商品名ストラクトボンド、
三井東圧化学（株）製）を用いて接着し、液晶セルを作
製した。なお、この際の基板間の間隔は約７μｍに設定
した。
【００４６】次に、この液晶セルにネマチック液晶（１
５）（商品名ＺＬＩ−１１３２、メルクジャパン製）を
封入後、封入口を封止材により封止して液晶パネルを作
製した。
５）（商品名ＺＬＩ−１１３２、メルクジャパン製）を
封入後、封入口を封止材により封止して液晶パネルを作
製した。
【００４７】最後に、この液晶パネルの外側対向基板側
に偏光板（１７）を偏光軸が液晶パネル内部の偏光層の
配向軸に対し平行になるように貼り付け、ノーマリブラ
ックモードになるようにして液晶表示装置を完成した。
に偏光板（１７）を偏光軸が液晶パネル内部の偏光層の
配向軸に対し平行になるように貼り付け、ノーマリブラ
ックモードになるようにして液晶表示装置を完成した。
【００４８】
【発明の効果】本発明の液晶表示装置によれば、少なく
とも一方の基板が透明性を有するガラス基板であり、偏
光層、カラーフィルタ、画素電極が基板内側に、順に積
層されていることを特徴とするものであり、又は別法と
して、少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス基
板であり、その上に偏光層、画素電極、カラーフィルタ
が基板内側に、順に積層されているため、カラーフィル
タ層と偏光層の間隔が無視できる程に短縮されるため視
野角依存性が少く、高画質表示が可能となる。
とも一方の基板が透明性を有するガラス基板であり、偏
光層、カラーフィルタ、画素電極が基板内側に、順に積
層されていることを特徴とするものであり、又は別法と
して、少なくとも一方の基板が透明性を有するガラス基
板であり、その上に偏光層、画素電極、カラーフィルタ
が基板内側に、順に積層されているため、カラーフィル
タ層と偏光層の間隔が無視できる程に短縮されるため視
野角依存性が少く、高画質表示が可能となる。
【００４９】したがって、高画質表示が可能な大画面液
晶表示装置を容易に提供することが出来る。
晶表示装置を容易に提供することが出来る。
【図１】本発明の一実施例による液晶表示装置の構成を
示す断面図である。
示す断面図である。
【図２】本発明の他の実施例による液晶表示装置の構成
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】従来の液晶表示装置の一例を示す断面図であ
る。
る。
１０ …カラーフィルタ １０Ｒ・赤カラーフィルタ層 １０Ｇ・緑カラーフィルタ層 １０Ｂ・青カラーフィルタ層 １１，１１ａ…ガラス基板 １２ …ブラックマトリックス １３，１４ …配向膜 １５ …液晶 １６，１９…画素電極 １７，１７ａ…偏光板 １８ …偏光層
Claims (2)
- 【請求項１】１対の画素電極が形成された透明基板間に
液晶を挟持し、液晶層の両側に偏光層を設置し、画素電
極に印加する電圧で液晶の電気光学特性を変化させ、表
示を行う液晶表示装置において、少なくとも一方の基板
が透明性を有するガラス基板であり、偏光層、カラーフ
ィルタ、画素電極が基板内側に、順に積層されているこ
とを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項２】１対の画素電極が形成された透明基板間に
液晶を挟持し、液晶層の両側に偏光層を設置し、画素電
極に印加する電圧で液晶の電気光学特性を変化させ、表
示を行う液晶表示装置において、少なくとも一方の基板
が透明性を有するガラス基板であり、その上に偏光層、
画素電極、カラーフィルタが基板内側に、順に積層され
ていることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6062753A JPH07270765A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6062753A JPH07270765A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07270765A true JPH07270765A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=13209486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6062753A Pending JPH07270765A (ja) | 1994-03-31 | 1994-03-31 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07270765A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100710744B1 (ko) * | 2006-02-16 | 2007-04-23 | 주식회사 에이스 디지텍 | 박형 반투과 광학소자의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 박형 반투과 광학소자 |
| CN114019713A (zh) * | 2021-06-16 | 2022-02-08 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 发光组件、显示屏及发光组件制作方法 |
-
1994
- 1994-03-31 JP JP6062753A patent/JPH07270765A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100710744B1 (ko) * | 2006-02-16 | 2007-04-23 | 주식회사 에이스 디지텍 | 박형 반투과 광학소자의 제조방법 및 그 방법에 의해 제조된 박형 반투과 광학소자 |
| CN114019713A (zh) * | 2021-06-16 | 2022-02-08 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 发光组件、显示屏及发光组件制作方法 |
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