JPH10160539A - 流体を制御または測定する機器と他の機器との接続機構 - Google Patents

流体を制御または測定する機器と他の機器との接続機構

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JPH10160539A
JPH10160539A JP8339034A JP33903496A JPH10160539A JP H10160539 A JPH10160539 A JP H10160539A JP 8339034 A JP8339034 A JP 8339034A JP 33903496 A JP33903496 A JP 33903496A JP H10160539 A JPH10160539 A JP H10160539A
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 一次側、二次側のどちらにおいても高度の熟
練を要することなく、かつ、信頼性を損なうことなく接
続でき、更に、メンテナンス性に優れた流体を制御また
は測定する機器と他の機器との接続機構を提供するこ
と。 【解決手段】 流体を制御または測定する機器1の一次
側および二次側にそれぞれ設けた上フランジ5,5’お
よび他の機器の側に設けた下フランジ12,12’の中
央に、前記上、下フランジ5,5’、12,12’にそ
れぞれ設けられた流体の流通孔m,nからの流体漏れ止
め用のリング状シール部材20を介装し、前記上下一対
のフランジ5,12、5’,12’の前記中央を一本の
ボルト15で上方向から締付けることにより、前記流体
を制御または測定する機器1を前記他の機器へそれぞれ
接続する一方、前記一本のボルト15を上方向へ取り外
すことにより、一次側および二次側においてそれぞれ前
記両機器間の接続を解除することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、ガスや液体など
流体を制御または測定する機器と他の機器との接続機構
に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば半導体の製造に用いられる各種の
ガスを半導体製造装置に供給する集積型ガスユニットで
は、これらガスの供給流路を構成する各ガスコンポーネ
ントに、ガス流量を制御するマスフローコントローラ
(以下、MFCという)がそれぞれ設けられている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、MFCの一
次側(および二次側)を、継手および配管を介して他の
機器(および更に他の機器)に接続していたから、各ガ
スコンポーネントが横方向に長くなってガスユニットの
占有面積が大きくなる不都合があった。これを解消する
ために、一次側および二次側のそれぞれにおいて、MF
Cと他の機器同士を接続するための上下一対のフランジ
を設け、両フランジ間の中央位置にシール部材を一次側
および二次側のそれぞれにおいて介装し、二本または四
本のボルトを上方向から両フランジの前記中央位置の周
辺に取り付けることにより、MFCを他の機器(および
更に他の機器)へ接続していたけれども、一次側および
二次側のどちらも複数本のボルトを用いているから、各
々のボルトの取り付けの際の締付けトルクにバラツキが
あり、そのため、一次側および二次側に捩じれや歪みに
起因するガスリークが発生するのを防止するのに、高度
の熟練を必要とする。また、ボルトの取り付け時間が長
くかかる等メンテナンス性が悪く、顧客サイドにおいて
は交換作業が困難であった。
【0004】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、一次側、二次側のどちらにおい
ても高度の熟練を要することなく、かつ、信頼性を損な
うことなく接続でき、更に、メンテナンス性に優れた流
体を制御または測定する機器と他の機器との接続機構を
提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の流体を制御または測定する機器と他の機
器との接続機構は、流体を制御または測定する機器の一
次側および二次側にそれぞれ設けた上フランジおよび他
の機器の側に設けた下フランジの中央に、前記上、下フ
ランジにそれぞれ設けた流体の流通孔からの流体漏れ止
め用のリング状シール部材を介装し、前記上下一対のフ
ランジの前記中央を一本のボルトで上方向から締付ける
ことにより、前記流体を制御または測定する機器を前記
他の機器へそれぞれ接続する一方、前記一本のボルトを
上方向へ取り外すことにより、一次側および二次側にお
いてそれぞれ前記両機器間の接続を解除することを特徴
とする。
【0006】また、別の観点から、この発明の流体を制
御または測定する機器と他の機器との接続機構は、流体
を制御または測定する機器の本体の側面に突出状態で固
着された上フランジと、他の機器側に設けられた下フラ
ンジと、両フランジ間に介装される流体漏れ止め用のリ
ング状シール部材と、中央を貫通する1個のボルト孔が
形成されたスペーサと、前記ボルト孔に螺着する一本の
ボルトとを備え、前記下フランジの中央に上向きに開口
した凹入部が形成され、この凹入部内の上位には前記ス
ペーサが嵌め込まれ、更に、前記凹入部内の底面には、
前記下フランジの内部に形成された流路を通過した流体
の流通孔がこの周囲を前記シール部材でシールされた状
態で設けられる一方、前記上フランジの中央に前記凹入
部内の下位に嵌め込み可能な凸部が形成され、更に、こ
の凸部の下面中央には、前記下フランジとの位置決め時
において、前記流通孔に連通する流通孔が設けられ、し
かも、前記凸部の上面を直接的または間接的に押圧する
まで前記一本のボルトを前記ボルト孔に螺着し、このボ
ルト孔の直下に前記両流通孔が位置する状態で前記上フ
ランジと下フランジを位置決めすることを特徴とする。
【0007】
【作用】一次側および二次側それぞれにおいて流体漏れ
止め用のリング状シール部材が介装される上下一対のフ
ランジの中央位置を、一本のボルトで上方向から締付け
るので、高度の熟練を要することなく流体漏れを防止で
き、かつ、一次側および二次側における機器間の接続
が、それぞれ一本のボルトによる短時間の取り付け・取
り外し操作で行える。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、この発明の詳細を、図を参
照しながら説明する。図1〜図5は、この発明の一つの
実施の形態を示すもので、図1〜図5において、1はマ
スフローコントローラ(以下、MFCという)で、その
本体2内部にガスGの流量測定を行うセンサ部3とガス
Gの流量制御を行う流量制御部4とを備えている。
【0009】この実施形態の一次側(ガス入口側)にお
ける接続機構は以下のように構成されている。
【0010】すなわち、5は上フランジで、本体2の一
方側面2aに突出状態で四本のボルト6で固着されてい
る。そして、上フランジ5は、ボルト孔6aが形成され
た支持部7とこの支持部7の中央から突出した凸部8を
有する。更に、凸部8の下面8aは平坦面に形成されて
おり、この下面8aの中央には流入孔mが穿設されてい
る。また、9は、凸部8の上面8bに設けたピンで、こ
のピンは流入孔mが位置する中心線C(図5参照)上よ
り他の機器の側に変位した位置に設けられている。ま
た、10は、凸部8に形成された左右一対の段差部で、
11は、流入孔mから流入したガスGの流路で、90°
に折れ曲がっている。
【0011】なお、二次側(ガス出口側)の上フランジ
5’(図1,図2参照)も一次側の前記上フランジ5と
同様の構成になっている。
【0012】12は下フランジで、前記他の機器(図示
せず)に、例えば、一次側継手Aおよび空気圧力弁を介
して接続される。この下フランジ12と二次側(ガス出
口側)の下フランジ12’は、所定の距離Lを有するよ
う予め固定設置されている。この実施形態では、両フラ
ンジ12,12’は分離設置されているが、両フランジ
12,12’を所定の長さLを有する接続体を介して接
続したものを固定設置してもよい。
【0013】13は、中央を貫通する1個のボルト孔1
4が形成されたスペーサで、15は、そのボルト孔14
に螺着するボルトである。
【0014】また、16はリテーナで、下面部分16a
が凸部8の上面部分17に嵌合するよう正面視門型の形
状を有する。そして、このリテーナ16の上面16bに
おける中央位置には浅い凹所18が形成されている。更
に、下面部分16aには、凸部8のピン9が嵌入可能な
ように、対応位置にピン溝19が形成されている。
【0015】なお、二次側(ガス出口側)のスペーサ1
3’およびリテーナ16’(図2参照)もスペーサ13
およびリテーナ16と同様の構成になっている。
【0016】20は、両フランジ5,12間に介装され
る流体漏れ止め用のリング状シール部材である。
【0017】次に、下フランジ12について詳細に説明
する。下フランジ12の中央には、上向きに開口した凹
入部21が形成されている。この凹入部21内の上位に
左右一対のコ字型形状部分22が形成され、このコ字型
形状部分22にスペーサ13が、ボルト孔14の軸線を
流入孔mが位置する中心線C上に一致させた状態で、嵌
め込まれる。
【0018】また、凹入部21内の底面22には、下フ
ランジ12の内部に形成された流路23を通過したガス
Gの流出孔nが流出孔nの周囲をシール部材20でシー
ルされた状態で穿設されている。この流出孔nは中心線
C上に位置する。すなわち、24は、凹入部21内の底
面22に形成された円周溝で、この円周溝24の中央に
前記流出孔nが穿設されている。更に、この円周溝24
内に前記シール部材20が嵌入載置される。そして、前
記他の機器から流入したガスGは、90°に折れ曲がっ
た流路23を通過して流出孔nに至る。
【0019】一方、凹入部21内の下位は、凸部8の下
面8a中央に穿設した流入孔mと凹入部21内の底面2
2に穿設した流出孔nが円周溝24内に位置するシール
部材20を介在させた状態で、上フランジ5の凸部8が
嵌め込み可能なように、凹形状に形成されている。
【0020】なお、二次側(ガス出口側)の下フランジ
12’(図1,図2参照)も下フランジ12と同様の構
成になっている。
【0021】而して、上フランジ5の中央に形成された
凸部8を、下フランジ12の中央に形成した凹入部21
内の下位に嵌め込むことで、凸部8の下面8a中央に穿
設した流入孔mと凹入部21内の底面22に穿設した流
出孔nとが、シール部材20を介在させた状態で、連通
する。
【0022】続いて、リテーナ16を凸部8の上面部分
17に嵌合する。この際、ピン9がピン溝19に嵌入す
るので、リテーナ16を確実に位置決めできる。
【0023】そして、ボルト孔14が形成されたスペー
サ13を、凹入部21内の上位に嵌め込むことで、ボル
ト孔14が流入孔mおよび流出孔nの直上に位置する。
すなわち、ボルト孔14の軸線、流入孔mおよび流出孔
nが中心線C上に位置する。
【0024】その後、上方向から一本のボルト15をボ
ルト孔14に螺着し、更に、リテーナ16の上面16b
の凹所18を押圧する位置まで一本のボルト15を締付
けることで、ボルト15の先端がリテーナ16の凹所1
8に当接し、リテーナ16を介してボルト15による押
圧力が凸部8に確実に伝達され、これにより、流出孔n
および流入孔m間からのガス漏れを、流出孔nの周囲に
位置するシール部材20で防止できるとともに、ボルト
15の先端が凸部8の上面8bに当たらないので、凸部
8にボルト15による傷が付くのを防止できる。
【0025】このように、両フランジ5,12の中央を
一本のボルト15で上方向から締付けるので、締付け手
順、締付け方法による差が無くなるため、短時間で両フ
ランジ5,12を位置決めでき、信頼性も向上できる。
また、顧客サイドでのメンテナンスも容易に行える。二
次側においても同様にできる。
【0026】図6は、前記一本のボルト15で凸部5の
上面8cを押圧するように構成したこの発明の他の実施
形態を示す。上記実施形態と異なる点は、リテーナ16
を不要にした点である。なお、図6において、図1〜図
5で用いた符号と同一のものは、同一または相当物を示
す。
【0027】図6において、凸部5の上面8cにおける
中央位置には、上方向から締付け時にボルト15の先端
が当接する浅い凹所30が形成されている。
【0028】而して、上フランジ5の中央に形成された
凸部8を、下フランジ12の中央に形成した凹入部21
内の下位に嵌め込むことで、凸部8の下面8a中央に穿
設した流入孔mと凹入部21内の底面22に穿設した流
出孔nとが、シール部材20を介在させた状態で、連通
する。
【0029】続いて、ボルト孔14が形成されたスペー
サ13を、凹入部21内の上位に嵌め込むことで、ボル
ト孔14が流入孔mおよび流出孔nの直上に位置する。
【0030】その後、上方向から一本のボルト15をボ
ルト孔14に螺着し、更に、上フランジ5の上面8cを
直接的に押圧する位置まで一本のボルト15を締付ける
ことで、高度の熟練を要することなくガス漏れを確実に
防止できる。
【0031】また、一本のボルト15の取り付け・取り
外しにより簡単に上方向よりメンテナンスを行える。
【0032】なお、上記各実施形態では、ガスを制御ま
たは測定する装置としてマスフローコントローラを採用
したものを示したが、流体の流量を測定するマスフロー
メータ、あるいは、流体の流量を制御しその圧力を調整
する圧力コントローラなどを採用してもよい。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、一次側および二次側それぞれにおいて流体漏れ止め
用のリング状シール部材が介装される上下一対のフラン
ジの中央位置を、一本のボルトで上方向から締付けるよ
うに構成したので、高度の熟練を要することなく、か
つ、信頼性を損なうことなく流体を制御または測定する
機器と他の機器とを接続でき、更に、一次側および二次
側における前記接続が、それぞれ一本のボルトによる短
時間の取り付け・取り外し操作で行えるので、メンテナ
ンス性に優れた接続機構を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一つの実施の形態を示す全体分解斜
視図である。
【図2】上記実施形態における一次側および二次側を示
す構成説明図である。
【図3】上記実施形態における一次側から見た構成説明
図である。
【図4】上記実施形態における一次側を示す要部透過斜
視図である。
【図5】上記実施形態における動作説明図である。
【図6】この発明の他の実施の形態を示す全体分解斜視
図である。
【符号の説明】
1…マスフローコントローラ、2…本体、5,5’…上
フランジ、8…凸部、11,23…流路、12,12’
…下フランジ、13…スペーサ、14…ボルト孔、15
…ボルト、20…リング状シール部材、21…凹入部、
m…流入孔、n…流出孔、G…ガス。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 流体を制御または測定する機器の一次側
    および二次側にそれぞれ設けた上フランジおよび他の機
    器の側に設けた下フランジの中央に、前記上、下フラン
    ジにそれぞれ設けた流体の流通孔からの流体漏れ止め用
    のリング状シール部材を介装し、前記上下一対のフラン
    ジの前記中央を一本のボルトで上方向から締付けること
    により、前記流体を制御または測定する機器を前記他の
    機器へそれぞれ接続する一方、前記一本のボルトを上方
    向へ取り外すことにより、一次側および二次側において
    それぞれ前記両機器間の接続を解除することを特徴とす
    る流体を制御または測定する機器と他の機器との接続機
    構。
  2. 【請求項2】 流体を制御または測定する機器の本体の
    側面に突出状態で固着された上フランジと、他の機器側
    に設けられた下フランジと、両フランジ間に介装される
    流体漏れ止め用のリング状シール部材と、中央を貫通す
    る1個のボルト孔が形成されたスペーサと、前記ボルト
    孔に螺着する一本のボルトとを備え、前記下フランジの
    中央に上向きに開口した凹入部が形成され、この凹入部
    内の上位には前記スペーサが嵌め込まれ、更に、前記凹
    入部内の底面には、前記下フランジの内部に形成された
    流路を通過した流体の流通孔がこの周囲を前記シール部
    材でシールされた状態で設けられる一方、前記上フラン
    ジの中央に前記凹入部内の下位に嵌め込み可能な凸部が
    形成され、更に、この凸部の下面中央には、前記下フラ
    ンジとの位置決め時において、前記流通孔に連通する流
    通孔が設けられ、しかも、前記凸部の上面を直接的また
    は間接的に押圧するまで前記一本のボルトを前記ボルト
    孔に螺着し、このボルト孔の直下に前記両流通孔が位置
    する状態で前記上フランジと下フランジを位置決めする
    ことを特徴とする流体を制御または測定する機器と他の
    機器との接続機構。
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