JPH10152419A

JPH10152419A - 毛髪化粧料

Info

Publication number: JPH10152419A
Application number: JP31246796A
Authority: JP
Inventors: Masahiko Sakai; 雅彦坂井; Hisami Sugino; 久実杉野; Yuji Hirano; 祐司平野
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1996-11-22
Filing date: 1996-11-22
Publication date: 1998-06-09

Abstract

(57)【要約】【解決手段】融点が０〜５０℃のアミド化合物を含有
する毛髪化粧料。【効果】毛髪にしなやかさを与えるとともに感触を改
善することができ、また枝毛防止効果も得られる。特に
感触としては、パサつかず、指通りが良く、きしまず、
まとまり易く、毛髪はつやがあり、脂っぽくなく好まし
い油性感で自然な感触が得られ、健康的でみずみずし
く、若々しい印象の毛髪を与える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、毛髪にしなやかさ
を与え、感触を改善することができる毛髪化粧料に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】毛髪に関する一般的な悩みとして、パサ
ツキの増大等の感触の悪化や、毛髪の脆弱化など、数多
くの変化が認識されている。これらの毛髪の物性の変化
は、毛髪が機械的又は化学的処理を日常的に長期にわた
って受けたことが原因と考えられ、これらに対応すべ
く、例えばパサツキの増大等の感触の悪化には油剤など
が用いられてきた。

【０００３】しかしながら、パサツキを抑えるために添
加する油剤は脂っぽい感触や、重い感じを与えたり、す
べりが改善されてもきしみが感じられるなどの問題があ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、毛髪のパサツキを抑えてしっかりまとめ、感触を改
善することができる毛髪化粧料を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる実情において、本
発明者らは鋭意研究を行った結果、特定のアミド化合物
を用いれば、毛髪をしなやかにしてしっかりまとめ、毛
髪の感触を改善することができる毛髪化粧料が得られる
ことを見出し、本発明を完成した。

【０００６】すなわち、本発明は、融点が０〜５０℃の
アミド化合物を含有する毛髪化粧料を提供するものであ
る。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明で用いられるアミド化合物
は、融点が０〜５０℃、好ましくは１０〜４０℃のもの
である。この範囲外のものでは、組成物中に安定に配合
することが困難である。なお、本発明において、融点
は、ＪＩＳ−Ｋ７１２１−１９８７−９−９．１（２）
に従って測定した補外融点開始温度で示した。

【０００８】このようなアミド化合物としては、例えば
イソステアリン酸アミド、イソパルミチン酸アミド、イ
ソミリスチン酸アミド等の酸アミドや、次の一般式
（１）〜（３）

【０００９】

【化４】

【００１０】（式中、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって
炭素数１〜４０のヒドロキシル化されていてもよい炭化
水素基を示し、Ｒ³は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐
鎖のアルキレン基又は単結合を示し、Ｒ⁴は水素原子、
炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又
は２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただ
し、Ｒ³が単結合のときはＲ⁴は水素原子である。）

【００１１】

【化５】

【００１２】（式中、Ｒ¹及びＲ²は前記と同じ意味を
示し、Ｒ^3aは炭素数３〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアル
キレン基を示し、Ｒ^4aは炭素数１〜１２の直鎖又は分岐
鎖のアルコキシ基を示す。）

【００１３】

【化６】

【００１４】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同じ
意味を示し、Ｒ^4bは水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若
しくは分岐鎖のアルコキシ基又は２，３−エポキシプロ
ピルオキシ基を示す。ただし、Ｒ³が単結合のときＲ^4b
は水素原子である。）で表わされるアミド誘導体などが
挙げられる。

【００１５】これらのうち、アミド誘導体（１）におい
て、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって炭素数１〜４０の
直鎖又は分岐鎖の飽和又は不飽和のヒドロキシル化され
ていてもよい炭化水素基を示す。Ｒ¹及びＲ²として
は、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘ
キシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデ
シル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデ
シル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノ
ナデシル、ヘンエイコシル、ドコシル、ノナコシル、ト
リアコンチル、イソステアリル、イソヘプタデシル、２
−エチルヘキシル、１−エチルヘプチル、８−ヘプタデ
シル、８−ヘプタデセニル、８，１１−ヘプタデカジエ
ニル、２−ヘプチルウンデシル、９−オクタデセニル、
１−ヒドロキシノニル、１−ヒドロキシペンタデシル、
２−ヒドロキシペンタデシル、１５−ヒドロキシペンタ
デシル、１１−ヒドロキシヘプタデシル及び１１−ヒド
ロキシ−８−ヘプタデセニル等が挙げられる。

【００１６】Ｒ¹としては炭素数８〜２６の直鎖又は分
岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、例えばオ
クチル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシ
ル、オクタデシル、ドコシル、トリアコンチル、イソス
テアリル、２−エチルヘキシル、２−ヘプチルウンデシ
ル及び９−オクタデセニル等が挙げられる。Ｒ¹として
特に好ましい炭化水素基は炭素数１２〜２２の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基であり、例えばドデシル、テトラデ
シル、ヘキサデシル、オクタデシル、ドコシル及びメチ
ル分岐イソステアリル基等が挙げられる。

【００１７】Ｒ²としては炭素数９〜２５の直鎖又は分
岐鎖のアルキル又はアルケニル基が好ましく、例えばノ
ニル、ウンデシル、トリデシル、ペンタデシル、ヘプタ
デシル、ヘンエイコシル、ノナコシル、イソヘプタデシ
ル、１−エチルヘプチル、８−ヘプタデシル、８−ヘプ
タデセニル、８，１１−ヘプタデカジエニル、１−ヒド
ロキシノニル、１−ヒドロキシペンタデシル、２−ヒド
ロキシペンタデシル、１５−ヒドロキシペンタデシル、
１１−ヒドロキシヘプタデシル及び１１−ヒドロキシ−
８−ヘプタデセニル等が挙げられる。Ｒ²として特に好
ましい炭化水素基は炭素数１１〜２１の直鎖又は分岐鎖
のアルキル基であり、例えばウンデシル、トリデシル、
ペンタデシル、ヘプタデシル、ヘンエイコシル及びメチ
ル分岐イソヘプタデシル基等が挙げられる。

【００１８】Ｒ³は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖
のアルキレン基又は単結合を示し、アルキレン基として
は例えばメチレン、エチレン、トリメチレン、テトラメ
チレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、１−メチル
エチレン、１−メチルトリメチレン、２−メチルトリメ
チレン、１，１−ジメチルエチレン、１−エチルエチレ
ン、１−メチルテトラメチレン、２−エチルトリメチレ
ン等が挙げられる。Ｒ ³としては炭素数１〜６の直鎖の
アルキレン基が好ましく、このうちメチレン、エチレン
及びトリメチレンが特に好ましい。

【００１９】Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若
しくは分岐鎖のアルコキシ基又は２，３−ジヒドロキシ
プロピルオキシ基を示し、アルコキシ基としては例えば
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ヘキシル
オキシ、オクチルオキシ、デシルオキシ、１−メチルエ
トキシ及び２−エチルヘキシルオキシ等が挙げられる。
Ｒ⁴としては水素原子、炭素数１〜８のアルコキシ基及
び２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ基が好ましく、
このうち水素原子、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
ブトキシ、１−メチルエトキシ、２−エチルヘキシルオ
キシ及び２，３−ジヒドロキシプロピルオキシ基が特に
好ましい。

【００２０】アミド誘導体（１）としては、特に一般式
中のＲ¹、Ｒ²、Ｒ³及びＲ⁴がそれぞれ上述の特に好
ましい範囲の基である場合を組合せた化合物が好まし
い。

【００２１】また、アミド誘導体（２）において、Ｒ¹
及びＲ²は上記と同様の意味を示し、同様の基が好まし
い。また、Ｒ^3aとしてはアミド誘導体（１）のＲ³にお
いて例示したアルキレン基からメチレン及びエチレンを
除いた基が挙げられる。Ｒ^3aとしては炭素数３〜６の直
鎖のアルキレン基が好ましく、このうちトリメチレンが
特に好ましい。Ｒ^4aのアルコキシ基としては、アミド誘
導体（１）のＲ⁴と同様の基が挙げられ、同様の基が好
ましい。

【００２２】また、アミド誘導体（３）において、
Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は上記と同様の意味を示し、Ｒ^4bは
水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖のアル
コキシ基又は２，３−エポキシプロピルオキシ基を示
す。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³として具体的には、アミド誘導
体（１）と同様の基が挙げられ、同様の基が好ましい。
Ｒ^4bの炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキ
シ基としては、アミド誘導体（１）のＲ⁴と同様の基が
挙げられ、水素原子、Ｒ⁴と同様のアルコキシ基及び
２，３−エポキシプロピルオキシ基が好ましい。

【００２３】これらのアミド誘導体（１）〜（３）のう
ち、特に、一般式（１）で表わされるものが好ましい。

【００２４】アミド誘導体（１）は、例えば次の製造法
１又は製造法２によって得ることができる。

【００２５】

【化７】

【００２６】

【化８】

【００２７】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同様
の意味を示し、Ｒ^4fは水素原子又は炭素数１〜１２の直
鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基を示す。ただし、Ｒ³
が単結合のときはＲ^4fは水素原子である。Ｒ⁶、Ｒ⁸、
Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖の飽和若
しくは不飽和の炭化水素基を示すが、好ましくは炭素数
１〜５の直鎖又は分岐鎖のアルキル基で、特に好ましく
はメチル基である。Ｒ⁹は水素原子、アルカリ金属原子
又はCOR⁸基を示し、Ｒ⁷及びＲ¹²はハロゲン原子、メシ
レート基、トシレート基等の脱離基を示す。Ｒ⁷として
は、入手の容易さ等の点から塩素原子及び臭素原子、特
に塩素原子が好ましく、Ｒ¹²としては、入手の容易さ等
の点からメシレート基及びトシレート基が好ましい。）

【００２８】

【化９】

【００２９】

【化１０】

【００３０】（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁶〜Ｒ¹²は上記と
同様の意味を示し、Ｒ^3gは炭素数１〜６の直鎖又は分岐
鎖のアルキレン基を示す。）

【００３１】製造法１及び製造法２の各工程の反応条件
は次のとおりである。

【００３２】工程１）グリシジルエーテル（７）とアミ
ン（８Ｆ）又は（８Ｇ）を、無溶媒で、あるいは水又は
メタノール、エタノール、イソプロパノール等の低級ア
ルコール、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレン
グリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキ
サン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶
媒、あるいはこれらの任意の混合溶媒中等において、室
温〜１５０℃で反応させることにより、アミノアルコー
ル誘導体（４Ｆ）又は（４Ｇ）を製造することができ
る。

【００３３】工程２）アミノアルコール誘導体（４Ｆ）
又は（４Ｇ）に、脂肪酸エステル（９）好ましくは脂肪
酸メチルエステル、脂肪酸エチルエステル等の脂肪酸低
級アルキルエステルを、水酸化カリウム、水酸化ナトリ
ウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化カルシウム等の
アルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ
金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸
塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコ
ラート等の塩基性触媒の存在下、常圧〜０．０１mmHgの
減圧下に室温〜１５０℃で反応させることにより、アミ
ド誘導体（２Ｆ）又は（２Ｇ）を製造することができ
る。この際、塩基性触媒の使用量はアミノアルコール誘
導体（４Ｆ）又は（４Ｇ）に対して０．０１〜０．２当
量が好ましく、また反応により生じるアルコールを系外
に除去しながら行うと、反応が速く進行するので好まし
い。

【００３４】工程３）アミド誘導体（２Ｆ）又は（２
Ｇ）はまた、アミノアルコール誘導体（４Ｆ）又は（４
Ｇ）に脂肪酸クロライド（１０）を、無溶媒であるいは
クロロホルム、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、
ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテル等の
エーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれらの任意の混合
溶媒中等において、ピリジン、トリエチルアミン等の第
三級アミン等の塩基の存在下又は無存在下、室温〜１０
０℃で反応させてアミド−エステル誘導体（１１Ｆ）又
は（１１Ｇ）に変換後、

【００３５】工程４）そのエステル基を、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコラート等の塩基性条件下等で、選択的
に加水分解することによっても製造することができる。

【００３６】工程５）アミド誘導体（２Ｆ）又は（２
Ｇ）に１〜２０当量のエポキシド（１２）、好ましくは
エピクロルヒドリンを、無溶媒であるいは水又はテトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、
トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれ
らの任意の混合溶媒中等において、１〜１０当量の水酸
化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化
物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、
炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム
等のアルカリ土類金属炭酸塩の存在下、室温〜１５０℃
で反応させることによりアミド誘導体（３Ｆ）又は（３
Ｇ）を製造することができる。この際、テトラブチルア
ンモニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムクロ
ライド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロライ
ド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、ビステ
トラオキシエチレンステアリルメチルアンモニウムクロ
ライド等の第四級アンモニウム塩やラウリルジメチルカ
ルボキシアンモニウムベタイン等のベタイン等の相間移
動触媒の存在下で反応を行うことが収率の面等で好まし
い。

【００３７】工程６）アミド誘導体（３Ｆ）又は（３
Ｇ）を、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカ
リ金属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金
属水酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭
酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩等の塩基性条
件下又は硫酸、塩酸等の鉱酸、三フッ化ホウ素、四塩化
スズ等のルイス酸、酢酸、テトラデカン酸、ヘキサデカ
ン酸等のカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスル
ホン酸等の酸性条件下、あるいは塩基−酸混合条件下
で、室温〜３００℃で水和することにより、アミド誘導
体（１Ｆ）又は（１Ｇ）を製造することができる。

【００３８】工程７）アミド誘導体（１Ｆ）又は（１
Ｇ）はまた、アミド誘導体（３Ｆ）又は（３Ｇ）にカル
ボン酸誘導体（１３）、好ましくは酢酸等の低級脂肪
酸、酢酸ナトリウム等の低級脂肪酸アルカリ金属塩、無
水酢酸等の低級脂肪酸無水物を単独あるいは組合せて、
トリエチルアミン等の第三級アミン等の塩基性触媒の存
在下又は無存在下で、反応させて、エステル−アミド誘
導体（１４Ｆ）又は（１４Ｇ）に変換後、

【００３９】工程８）そのエステル基を、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸
化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、炭酸カリ
ウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カルシウム等のアル
カリ土類金属炭酸塩、ナトリウムメトキシド、ナトリウ
ムエトキシド、カリウム−ｔｅｒｔ−ブトキシド等のア
ルカリ金属アルコラート等の塩基性条件下等で、選択的
に加水分解することによっても製造することができる。

【００４０】工程９）アミド誘導体（１Ｆ）又は（１
Ｇ）はまた、アミド誘導体（３Ｆ）又は（３Ｇ）にカル
ボニル化合物（１５）、好ましくはアセトン、メチルエ
チルケトン等の低級脂肪族ケトンを、硫酸、塩酸、リン
酸等の鉱酸、酢酸等のカルボン酸、三フッ化ホウ素、四
塩化スズ等のルイス酸等の酸触媒の存在下に反応させ
て、１，３−ジオキソラン−アミド誘導体（１６Ｆ）又
は（１６Ｇ）に変換後、

【００４１】工程１０）硫酸、塩酸、リン酸等の鉱酸、
酢酸等のカルボン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等のスル
ホン酸等の酸性条件下等で脱ケタール化することによっ
ても製造することができる。

【００４２】工程１１）１，３−ジオキソラン−アミド
誘導体（１６Ｆ）又は（１６Ｇ）はまた、アミド誘導体
（２Ｆ）又は（２Ｇ）にグリセロール誘導体（１７）
を、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等のアルカリ金
属水酸化物、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水
酸化物、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸カ
ルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、水素化ナトリウ
ム等のアルカリ金属水素化物等の塩基の存在下で、無溶
媒であるいはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、エチレングリコールジメチルエー
テル等のエーテル系溶媒、ヘキサン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、あるいはこれらの任
意の混合溶媒中等において、反応させることによっても
製造することができる。

【００４３】このようにして得られるアミド誘導体
（１）は、公知の方法により精製することができる。本
発明においては、アミド誘導体（１）を純度１００％に
精製した精製物でも、特に精製を行わずに中間体や反応
副生成物を含んだ純度７０〜１００％の混合物でも、効
果、性能に優れ、かつ安全性にも問題がなく使用するこ
とができる。また、アミド誘導体（１）には水和物に代
表される溶媒和物も含まれる。

【００４４】製造法１によって得られるアミド誘導体
（１）としては、例えば次のものが挙げられる。

【００４５】

【化１１】

【００４６】

【化１２】

【００４７】製造法２によって得られるアミド誘導体
（１）としては、例えば次のものが挙げられる。

【００４８】

【化１３】

【００４９】アミド化合物としては、特に総炭素数３０
以上のＮ−置換アミド化合物が好ましい。また、アミド
化合物は、結合水を１重量％以上、特に５重量％以上保
持できるものがより好ましい。ここで結合水の含有率
は、まず、室温で試料に水を添加し、均一相を維持でき
る最大添加量を測定して結合水量とし、次に試料の総重
量に対する結合水の総重量を百分率で示した値とし、次
式に従って求めることができる。

【００５０】

【数１】

【００５１】これらのアミド化合物は、１種又は２種以
上を組合せて用いることができ、全組成中に０．００１
〜５０重量％配合するのが好ましく、特に０．０１〜４
０重量％、更に０．１〜２０重量％配合すると、べたつ
きがなく、かつ毛髪にしなやかさを付与でき、より好ま
しい。

【００５２】本発明の毛髪化粧料には、更に油剤を配合
することができ、感触をより向上させ、また感触を調整
することができ、好ましい。かかる油剤としては、通常
の化粧料等に用いられるものであれば特に制限されず、
例えば炭化水素類、ロウ類、動植物油脂、高級アルコー
ル、高級脂肪酸、アミドアミン類、グリセリン類、エス
テル類、エーテル類、シリコーン類等が挙げられる。

【００５３】具体的には、炭化水素類としては、例えば
流動パラフィン、スクワレン、ワセリン、固形パラフィ
ン等が挙げられ、ロウ類としては、例えばミツロウ、鯨
ロウ、ラノリン、カルナウバロウ等が挙げられ、動植物
油脂としては、例えばヒマシ油、カカオ油、ミンク油、
アボガド油、オリーブ、マカデミアナッツ油等が挙げら
れる。

【００５４】高級アルコールとしては、例えばセチルア
ルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコー
ル、アラキンアルコール、ベヘニルアルコール、カラナ
ービルアルコール、ヘキサデシルアルコール、ラウリル
アルコール、イソステアリルアルコール、２−オクチル
ドデカノール等の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアル
ケニル基を有する高級アルコール類が挙げられる。

【００５５】高級脂肪酸としては、例えばステアリン
酸、ミリスチン酸、ベヘニン酸、イソステアリン酸、１
８−メチルエイコサン酸、ヤシ油脂肪酸等が挙げられ、
アミドアミン類としては、例えば直鎖又は分岐鎖のアル
キル基又はアルケニル基を有する長鎖アミドアミン等が
挙げられ、グリセリン類としては、例えばプロピレング
リコール、グリセリン等が挙げられる。

【００５６】エステル類としては、例えばミリスチン酸
イソプロピル、ラウリン酸イソプロピル、パルミチン酸
イソプロピル、ラウリン酸ヘキシル、乳酸セチル、モノ
ステアリン酸プロピレングリコール、オレイン酸オレイ
ル、２−エチルヘキサン酸ヘキサデシル、ミリスチン酸
オクチルドデシル、トリメチルヘキサニルトリメチルヘ
キサノエート、イソノナン酸イソノニル、イソノナン酸
トリデシル等の高級脂肪酸エステル；１２−イソステア
リン酸コレステリルエステル、マカデミアナッツ脂肪酸
コレステリルエステル等の高級脂肪酸／コレステロール
エステル；オレイン酸モノグリセリド、パルミチン酸モ
ノグリセリド、ベヘニン酸モノグリセリド、イソステア
リン酸モノグリセリド等の高級脂肪酸／グリセリンエス
テルなどが挙げられる。

【００５７】エーテル類としては、例えばイソステアリ
ルグリセリルエーテル、ポリオキシエチレンプロピレン
ブチルエーテル、イソステアリルコレステリルエーテル
等が挙げられる。

【００５８】シリコーン類としては、例えば（ａ）〜
（ｈ）で表わされるものが挙げられる。（ａ）一般式（２１）〜（２４）で表わされるポリエー
テル変性シリコーン。

【００５９】

【化１４】

【００６０】（式中、Ｒ²¹は水素原子又は炭素数１〜１
０の炭化水素基を示し、ａは１５以上の数、ｂは１以上
の数、ｃは１〜６の数、ｄは１〜３００の数、ｅは０〜
３００の数、ｆは０〜６の数、ｇは２〜５００の数を示
す）

【００６１】式中、Ｒ²¹で示される炭化水素基として
は、炭素数１〜８の直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素基が
好ましく、特にメチル基が好ましい。ａとしては２０〜
５００が好ましく、ｂは１〜１００が好ましく、ｃは２
〜４が好ましく、ｄは２〜５０が好ましく、ｅは０〜５
０が好ましく、ｆは２〜４が好ましく、ｇは２〜５０が
好ましい。なお、式中のａが１５未満の場合には、優れ
た仕上がり感が得られず、好ましくない。これらのポリ
エーテル変性シリコーンとしては、市販品を好適に使用
することができ、好ましいものとしては、例えばＳＨ３
７７２Ｃ、ＳＨ３７７３Ｃ、ＳＨ３７７５Ｃ（以上、東
レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ＫＦ３５２
Ａ、ＫＦ３５３Ａ、ＫＦ６１５Ａ、ＫＦ９４５Ａ（以
上、信越化学社製）、シルウェットＬ−７００１、Ｌ−
７００２、Ｌ−７６０２（以上、日本ユニカー社製）な
どを挙げることができる。

【００６２】（ｂ）一般式（２５）で表わされるジメチ
ルポリシロキサン、メチルフェニルポリシロキサン又は
ジフェニルポリシロキサン。

【００６３】

【化１５】

【００６４】（式中、Ｒ²²は同一又は異なって、メチル
基、フェニル基又は-OSi(CH₃)₃を示し、ｈは３以上の数
を示す）式中、Ｒ²²としてはメチル基が好ましく、ｈは５０〜３
０００が好ましい。これらのポリシロキサンのうち、特
にジメチルポリシロキサンが好ましく、例えばＳＨ２０
０シリーズ（粘度１００cs以上）、ＢＹ１１−００４
（以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、Ｋ
Ｆ９６シリーズ（粘度１００cs以上）、ＫＦ９６Ｈシリ
ーズ、Ｘ−２１−７５０１Ｇ（以上、信越化学社製）な
どの市販品を好適に使用することができる。

【００６５】（ｃ）一般式（２６）で表わされる長鎖ア
ルキル変性シリコーン。

【００６６】

【化１６】

【００６７】（式中、Ｒ²³は炭素数１０〜５０の炭化水
素基を示し、ｉは０〜１０００の数、ｊは１〜１０００
の数を示す）式中、Ｒ²³で示される炭化水素基としては、炭素数１５
〜４０の直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素基が好ましく、
ｉは１０〜５００が好ましく、ｊは１０〜５００が好ま
しい。

【００６８】（ｄ）一般式（２７）で表わされるアルコ
キシ変性シリコーン。

【００６９】

【化１７】

【００７０】（式中、Ｒ²⁴は炭素数１０〜３０の炭化水
素基を示し、ｋは３〜１００の数、ｌは１〜５０の数を
示す）式中、Ｒ²⁴で示される炭化水素基としては、炭素数１２
〜２０の直鎖又は分岐鎖の飽和炭化水素基が好ましく、
特にセチル基、ステアリル基が好ましい。また、ｋは５
〜５０が好ましく、ｌは２〜２０が好ましい。

【００７１】（ｅ）一般式（２８）で表わされるアミノ
変性シリコーン。

【００７２】

【化１８】

【００７３】〔式中、Ｒ²⁵は同一又は異なって、水素原
子、ヒドロキシル基、メチル基又はメトキシ基を示し、
Ｒ²⁶は-(CH₂)_o-(OC₂H₄)_p-(OC₃H₆)_q-(NHC₂H₄)N(R²⁷)₂又
は-(CH₂)_o-(OC₂H₄)_p-(OC₃H₆)_q-(NHC₂H₄)N⁺(R²⁷)₃・Z
^-（Ｒ²⁷は同一又は異なって、水素原子子、炭素数１〜
６の炭化水素基を示し、Ｚはハロゲンイオン又は有機ア
ニオンを示し、ｏは１〜６の数、ｐ及びｑは０〜６の数
を示す）を示し、ｍは３〜３００の数、ｎは１〜５０の
数を示す〕

【００７４】式中、Ｒ²⁵としては、ヒドロキシル基、メ
チル基が好ましく、Ｒ²⁶としては-(CH₂)₃-NHC₂H₄NH₂が
好ましく、ｍは３〜３００が好ましく、ｎは１〜２０が
好ましい。

【００７５】（ｆ）一般式（２９）又は（３０）で表わ
されるブンテ塩変性シリコーン。

【００７６】

【化１９】

【００７７】（式中、Ｘはアルカリ金属、アルカリ土類
金属、アンモニア、アミン又は第４級アンモニウム塩を
示し、ｒは１〜６の数、ｓ及びｔは１〜２０の数を示
し、かつｓ／ｔ＞１である）式中、Ｘとしては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属、第４級アンモニウム塩が好ましく、ｒは２〜４が
好ましく、ｓ及びｔは５〜２０が好ましい。

【００７８】（ｇ）一般式（３１）で表わされるシリコ
ーン樹脂。

【００７９】

【化２０】

【００８０】（式中、Ｒ²⁸は同一又は異なって、メチル
基又はフェニル基を示し、ｕ及びｖは１０〜１００の数
を示し、かつｕ／ｖ＝０．１〜１０である）式中、Ｒ²⁸としてはメチル基が好ましく、ｕ及びｖは１
０〜５０が好ましい。

【００８１】（ｈ）オキサゾリン変性シリコーンエラス
トマー。例えばオルガノポリシロキサンセグメントの末
端又は側鎖のケイ素原子の少なくとも１個に、ヘテロ原
子を含むアルキレン基を介して、下記一般式

【００８２】

【化２１】

【００８３】〔式中、Ｒ²⁹は水素原子、炭素数１〜２２
のアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示し、ｗ
は２又は３の数を示す。〕で表わされる繰り返し単位か
らなるポリ（Ｎ−アシルアルキレンイミン）が結合して
なるオルガノポリシロキサンであって、オルガノポリシ
ロキサンセグメントと該ポリ（Ｎ−アシルアルキレンイ
ミン）の重量比が９８／２〜４０／６０であり、重量平
均分子量が５０，０００〜５００，０００のものが挙げ
られる。

【００８４】これらの油剤のうち、特に炭化水素類、エ
ステル類、シリコーン類が好ましく、更に流動パラフィ
ン、スクワレン、ミリスチン酸イソプロピル、ミリスチ
ン酸オクチルドデシルが好ましい。

【００８５】また、油剤は１種又は２種以上を組合せて
用いることができ、全組成中に０．００１〜５０重量％
配合するのが好ましく、特に０．０１〜４０重量％、更
に０．１〜２０重量％配合するのが好ましい。

【００８６】本発明の毛髪化粧料には、更にポリマーを
配合することができ、少量の使用でハリコシ感を付与し
たり、油剤の効果を高めることができ、また、安定性を
高めることもできるので好ましい。かかるポリマーとし
ては、通常の化粧料等に用いられるものであれば特に制
限されず、例えばノニオンポリマー、両性ポリマー、ア
ニオンポリマー、カチオンポリマー、天然多糖類及びそ
の誘導体等のいずれをも使用することができる。

【００８７】具体的には、ノニオンポリマーとしては、
例えばポリビニルアルコール；ポリビニルピロリドン
〔ルビスコールＫ１２，Ｋ３０（以上、ＢＡＳＦ社
製）、ＰＶＰＫ１５，Ｋ３０（以上、ＧＡＦ社製）
等〕、ポリビニルピロリドン／酢酸ビニル共重合体〔ル
ビスコールＶＡ２８，ＶＡ７３（以上、ＢＡＳＦ社
製）、ＰＶＰ／ＶＡＥ−７３５，Ｓ−６３０（以上、Ｇ
ＡＦ社製）等〕、ポリビニルピロリドン／酢酸ビニル／
プロピオン酸ビニル三元共重合体〔ルビスコールＶＡ
Ｐ３４３（ＢＡＳＦ社製）等〕、ポリビニルピロリドン
／アルキルアミノアクリレート共重合体〔ルビフレック
ス（ＢＡＳＦ社製）、コポリマー８４５，９３７，９５
８（以上、ＧＡＦ社製）等〕、ポリビニルピロリドン／
アクリレート／（メタ）アクリル酸共重合体〔ルビフレ
ックスＶＢＭ３５（ＢＡＳＦ社製）等〕、ポリビニル
ピロリドン／アルキルアミノアクリレート／ビニルカプ
ロラクタム共重合体〔コポリマーＶＣ−７１３（ＧＡ
Ｆ社製）等〕等のポリビニルピロリドン系ポリマー；ポ
リエチレングリコール２０００００００〔ポリオックス
ＷＳＲＮ−６０Ｋ（ユニオンカーバイド社製）等〕
の高重合ポリエチレングリコールなどが挙げられる。

【００８８】両性ポリマーとしては、例えばジアルキル
アミノエチル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル
酸アルキルエステル共重合体〔ユカフォーマーＭ−７
５，ＳＭ（以上、三菱油化社製）等〕、アクリル酸ヒド
ロキシプロピル／メタクリル酸ブチルアミノエチル／ア
クリル酸オクチルアミド共重合体〔アンフォマー２８
−４９１０（ナショナル・スターチ社製）等〕等の両性
アクリル系ポリマーなどが挙げられる。

【００８９】アニオンポリマーとしては、例えば（メ
タ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステル共重合体
〔プラサイズＬ５３Ｐ（互応化学社製）、ダイヤホール
ド（三菱油化社製）等〕、アクリル酸／アクリル酸アル
キルエステル／アルキルアクリルアミド共重合体〔ウル
トラホールド８（ＢＡＳＦ社製）、アンフォマーＶ−４
２（ナショナル・スターチ社製）等〕、エチルアクリレ
ート／メチルメタクリレート／メタクリル酸／アクリル
酸共重合体〔アマホールドＤＲ−２５（ユニオンカーバ
イド社製）等〕等の酸性アクリル酸系ポリマー；メチル
ビニルエーテル／無水マレイン酸アルキルハーフエステ
ル共重合体〔ガントレッツＥＳ−２２５，ＥＳ−４２
５，ＥＳ−３３５，ＳＰ−２１５（以上、ＧＡＦ社製）
等〕等の酢酸ビニルエーテル系ポリマー；アクリルアミ
ド・アクリルエステル系四元共重合体〔特開平２−１８
０９１１号公報に記載のもの等〕等の塩基性アクリル系
ポリマー；ジエチレングリコール・シクロヘキサジメタ
ノール・イソフタル酸・スルホイソフタル酸縮合物〔Ｅ
ａｓｔｍａｎＡＱ−３８Ｓ，ＡＱ−５５Ｓ（以上、イー
ストマンケミカルプロダクツ社製）等〕等の水分散性ポ
リエステル樹脂；酢酸ビニル／クロトン酸共重合体〔レ
ジン２８−１３１０（ナショナル・スターチ社製）、ル
ビセットＣＡ６６（ＢＡＳＦ社製）等〕、酢酸ビニル／
クロトン酸／ネオデカン酸ビニル共重合体〔レジン２８
−２９３０（ナショナル・スターチ社製）等〕、酢酸ビ
ニル／クロトン酸／プロピオン酸ビニル共重合体〔ルビ
セットＣＡＰ（ＢＡＳＦ社製）等〕等の酸性ポリ酢酸ビ
ニル系ポリマーなどが挙げられる。

【００９０】カチオンポリマーとしては、例えば（第４
級化）（メタ）アクリル酸ビニルピロリドン／アミノア
ルコール共重合体〔ガフカット７３４，７５５（以上、
ＧＡＦ社製）、コポリマー８４５（ＧＡＦ社製）等〕；
カチオン性セルロース誘導体〔セルコートＬ−２０
０，Ｈ−１００，Ｈ−６０（以上、ナショナル・スター
チ社製）、クウォタリーソフトポリマーＬＭ−２００
（ユニオンカーバイド社製）、ポリマーＪＲ−４００，
ＪＲ−１２５，ＪＲ３０Ｍ（以上、ユニオンカーバイド
社製）、ジャガーＣ−１３（セラニーズ社製）等〕；塩
化ジメチルジアリルアンモニウム重合体、〔マーコート
１００（メルク社製）等〕、塩化ジメチルジアリルアン
モニウム／アクリルアミド共重合体〔マーコート５５０
（メルク社製）等〕の塩化ジメチルジアリルアンモニウ
ム誘導体などが挙げられる。

【００９１】天然多糖類及びその誘導体としては、例え
ばカルボキシセルロースナトリウム塩等のセルロースガ
ム、セチルヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシエ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、結晶性セルロース、カルボキシ
メチルセルロース／塩、ニトロセルロース、ステアジモ
ニウムヒドロキシセルロース、ステアジモニウムヒドロ
キシプロピルオキシエチルセルロース、ノンオキシニル
エチルセルロース等のセルロース類；ヒドロキシプロピ
ルキトサン〔キトフィルマー（一丸ファルコス社製）
等〕、カルボキシメチルキチン、カルボキシメチルキト
サン、キトサンと一価酸又は二価酸との塩〔キトサン・
ピロリドンカルボン酸塩、キトサン・乳酸塩、キトサン
・グリコール酸塩、キトサン・アジピン酸塩、キトサン
・コハク酸塩等〕等のキチン・キトサン誘導体；カラギ
ーナン；アラビアゴム、アカシアガム、アミロース、コ
ーンスターチ（アミロペクチン等）、デキストリン、カ
ラヤガム、ペクチン、スクレロチンガム、トラガカンス
ガム、キサンタンガム、ローカストビーンガム、グアー
ガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ヒアルロン酸ナ
トリウム、アルギニン、アルギニン酸塩〔テキサミン５
５８，テキサミン７７８（以上、ヘンケル社製）等〕、
可溶性デンプン、ジアルデヒドデンプン、デンプン、デ
ンプンリン酸エステル、タラガム、アカシアガム、アラ
ビノガラクタン、タマリンド、ファーセラン、ガラクタ
ン、マンナン、プルラン等が挙げられる。

【００９２】これらのポリマーのうち、特にポリエチレ
ングリコール２０００００００、ジアルキルアミノエチ
ル（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸アルキル
エステル共重合体、ヒドロキシプロピルキトサンが好ま
しい。

【００９３】また、ポリマーは１種又は２種以上を組合
せて用いることができ、全組成中に０．００１〜２０重
量％配合するのが好ましく、特に０．０１〜１０重量
％、更に０．１〜５重量％配合するのが好ましい。

【００９４】本発明の毛髪化粧料には、更に浸透促進剤
を配合することができ、しなやかさをより付与すること
ができるので好ましい。かかる浸透促進剤としては、通
常の化粧料等に用いられるものであれば特に制限され
ず、例えば次の一般式（３２）又は（３３）

【００９５】

【化２２】

【００９６】

【化２３】

【００９７】〔式中、Ｒ³³は炭素数１〜１８の直鎖又は
分岐鎖のアルキル基を示す。〕で表わされる有機溶剤等
が挙げられる。

【００９８】かかる有機溶剤の具体例としては、エタノ
ール、イソプロパノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタ
ノール、イソブタノール、エチレングリコール、プロピ
レングリコール、１，３−ブタンジオール、ベンジルア
ルコール、シンナミルアルコール、フェネチルアルコー
ル、ｐ−アニシルアルコール、ｐ−メチルベンジルアル
コール、フェノキシエタノール、２−ベンジルオキシエ
タノール、メチルカルビトール、エチルカルビトール、
プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、トリエチ
レングリコールモノエチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノブチルエーテル、グリセリン；更にＮ−メチ
ルピロリドン、Ｎ−ヘキシルピロリドン、Ｎ−オクチル
ピロリドン、Ｎ−ラウリルピロリドン等のピロリドン誘
導体などが挙げられる。

【００９９】これらのうち、特にイソプロパノール、ｎ
−プロパノール、ベンジルアルコール、２−ベンジルオ
キシエタノール、ピロリドン誘導体が好ましい。

【０１００】また、浸透促進剤は１種又は２種以上を組
合せて用いることができ、全組成中に０．００１〜２０
重量％配合するのが好ましく、特に０．０１〜１０重量
％、更に０．１〜５重量％配合するのが好ましい。

【０１０１】本発明の毛髪化粧料には、前記成分のほ
か、通常の化粧料等に配合される成分、例えば界面活性
剤、抗フケ剤、殺菌剤、ビタミン類等の薬効剤；パラベ
ン類等の防腐剤；染料及び顔料等の着色剤；紫外線吸収
剤、植物抽出物、収れん剤、アミノ酸、蛋白質、蛋白質
加水分解物、血行促進剤、保湿剤、育毛剤、養毛剤、一
重項酸素消去剤、抗酸化剤、香料、色素などを、本発明
の効果を損なわない範囲において、適宜配合することが
でき、通常の方法に従って製造することができる。

【０１０２】本発明の毛髪化粧料は、毛髪に適用される
化粧料のすべてを指し、この中には例えばプレシャンプ
ー剤、シャンプー、ヘアリンス、ヘアコンディショナ
ー、ヘアトリートメント、セットローション、ブロース
タイリングローション、ヘアスプレー、泡状スタイリン
グ剤、ジェル状スタイリング剤、ヘアリキッド、ヘアト
ニック、ヘアクリーム、育毛剤、養毛剤、パーマネント
ウェーブ第１剤、パーマネントウェーブ第２剤、永久染
毛剤、一時染毛剤等が含まれる。また、剤型としてもそ
の用途に応じて水溶液、エタノール溶液、エマルジョ
ン、サスペンジョン、ゲル、液晶、固型、エアゾール等
の各種形態とすることができる。

【０１０３】

【発明の効果】本発明の毛髪化粧料は、毛髪をしなやか
にしてしっかりまとめ、感触を改善することができ、ま
た枝毛防止効果も得られる。特に感触としては、パサつ
かず、すべり、指通りが良く、きしまず、まとまり易
く、毛髪はつやがあり、脂っぽくなく好ましい油性感で
自然な感触が得られ、健康的でみずみずしく、若々しい
印象の毛髪を与える。また、本発明の毛髪化粧料を毛髪
にくり返し適用することにより、当該成分を毛髪へ浸透
させ、毛髪を改質させる効果がより高められる。

【０１０４】

【実施例】次に実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。な
お、製造例１〜１０においては、アミド誘導体（１）を
前記製造法１に従って製造した。

【０１０５】製造例１攪拌装置、滴下ロート、窒素導入管及び蒸留装置を備え
た２リットル５口フラスコに、３−メトキシプロピルア
ミン７４３．２ｇ（８．３４mol）及びエタノール１５
０mlを仕込み、窒素雰囲気下で８０℃に加熱攪拌しつ
つ、これにヘキサデシルグリシジルエーテル１６５．９
ｇ（０．５６mol）を３時間かけて滴下した。滴下終了
後、更に８０℃で１２時間攪拌した後、エタノール及び
過剰の３−メトキシプロピルアミンを減圧下に加熱留去
し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製
することにより、アミノアルコール誘導体（４ａ）１９
６．５ｇ（収率９１％対ヘキサデシルグリシジルエーテ
ル）を得た（工程１）。

【０１０６】

【化２４】

【０１０７】攪拌装置、滴下ロート、窒素導入管及び蒸
留装置を備えた１リットル５口フラスコに、溶融した上
記（工程１）で得た化合物（４ａ）６１．３ｇ（１５
８．１mmol）及びナトリウムメトキシド２８％メタノー
ル溶液１．５３ｇ（７．９１mmol）を仕込み、窒素雰囲
気下６０℃で３０分間攪拌した。次に、同条件下でこれ
にテトラデカン酸メチル３８．３ｇ（１５８．１mmol）
を１時間かけて滴下した。滴下終了後、更に減圧下（８
０〜１０Torr）６０℃で５時間攪拌し、反応を完結させ
た。反応混合物を冷却後、シリカゲルカラムクロマトグ
ラフィーで精製することにより、アミド誘導体（２ａ）
８８．７ｇ（収率９４％）を得た（工程２）。

【０１０８】

【化２５】

【０１０９】攪拌装置、窒素導入管及び蒸留装置を備え
た１リットル５口フラスコに、上記（工程２）で得た化
合物（２ａ）９４．５ｇ（１５８．０mmol）、テトラブ
チルアンモニウムブロマイド１．５３ｇ（４．７４mmo
l）、エピクロルヒドリン３２．２ｇ（３４７．６mmo
l）、水酸化ナトリウム１２．６ｇ（３１５．０mmol）
及びトルエン６６mlを仕込み、窒素雰囲気下４５℃で１
０時間攪拌した。得られた反応混合物を７０℃にて水で
３回洗浄後、トルエン及び過剰のエピクロルヒドリンを
減圧下に加熱留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製することにより、アミド誘導体（３
ａ）９４．９ｇ（収率９２％）を得た（工程５）。

【０１１０】

【化２６】

【０１１１】攪拌装置を備えた１００ミリリットルオー
トクレーブに、上記（工程５）で得た化合物（３ａ）７
１．３ｇ（１０９．０mmol）、水１１．７８ｇ（６５
４．１mmol）、水酸化ナトリウム０．０８７ｇ（２．１
８mmol）及びテトラデカン酸０．８７ｇ（４．３６mmo
l）を仕込み、密閉系にて１６０℃で６時間攪拌した。
反応混合物を冷却後、８０℃にて２％食塩水で２回洗浄
した後、シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製す
ることにより、目的とするアミド誘導体（１ａ）６８．
３ｇ（収率９３％）を得た（工程６）。

【０１１２】

【化２７】

【０１１３】攪拌装置、窒素導入管及び蒸留装置を備え
た５００ミリリットル４口フラスコに、上記（工程５）
で得た化合物（３ａ）３１．０ｇ（４７．４mmol）、水
１１．９ｇ（６６３．７mmol）、酢酸ナトリウム１３．
６ｇ（１６５．９mmol）及び酢酸１０４．９ｇ（１７４
６．８mmol）を仕込み、窒素雰囲気下７０℃で１９時間
攪拌した。過剰の酢酸を減圧下加熱留去し、エステル−
アミド誘導体（１４ａ−１）、（１４ａ−２）及び（１
４ａ−３）を含む混合物を得た（工程７）。

【０１１４】

【化２８】

【０１１５】次に、これらのエステル−アミド誘導体を
含む混合物をフラスコから取り出すことなく、これに４
８％水酸化ナトリウム水溶液５９．３ｇ（７１１．２mm
ol）、水１８ｇ及びブタノール２００mlを加え、８０℃
で３時間攪拌した。ブタノールを減圧下に加熱留去し、
残渣をトルエン２５０mlに希釈後、７０℃にて水で２回
洗浄した。トルエンを減圧下に加熱留去し、残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製することによ
り、目的とするアミド誘導体（１ａ）２２．３ｇ（収率
７０％）を得た（工程８）。

【０１１６】製造例２攪拌装置、滴下ロート、窒素導入管及び蒸留装置を備え
た１０リットル５口フラスコに、３−メトキシプロピル
アミン４６８０ｇ（５２．５mol）及びエタノール９０
０ｇを仕込み、窒素雰囲気下で８０℃に加熱攪拌しつ
つ、これにヘキサデシルグリシジルエーテル１０４５ｇ
（３．５０mol）を３時間かけて滴下した。滴下終了
後、更に８０℃で１時間攪拌した後、エタノール及び過
剰の３−メトキシプロピルアミンを減圧下に加熱留去
し、アミノアルコール誘導体（４ａ）を主成分とする生
成物を得た（工程１）。

【０１１７】上記（工程１）で得た、１０リットル５口
フラスコ中の化合物（２ａ）を主成分とする生成物に、
水酸化カリウム９．８２ｇ（０．１７５mol）を加え、
窒素吹き込み下、減圧下（６０〜１０Torr）８０℃で生
成してくる水を留去しながら３時間攪拌した。次に、同
条件下で攪拌しながら、これにテトラデカン酸メチル８
８２．３ｇ（３．６４mol）を３時間かけて滴下した。
この際、生成してくるメタノールを留去した。滴下終了
後、更に窒素吹き込み下、減圧下（６０〜１０Torr）６
０〜４５℃で生成してくるメタノールを留去しながら１
０時間攪拌して反応を完結させ、アミド誘導体（２ａ）
を主成分とする生成物を得た（工程２）。

【０１１８】上記（工程２）で得た、１０リットル５口
フラスコ中の化合物（２ａ）を主成分とする生成物に、
テトラブチルアンモニウムブロマイド３３．９ｇ（０．
１０５mol）、エピクロルヒドリン７１２．５ｇ（７．
７０mol）及びトルエン２１００ｇを加え、窒素吹き込
み下、減圧下（１５０〜５０Torr）４５℃で攪拌しなが
ら４８％水酸化ナトリウム水溶液１７５０．０ｇ（２
１．０mol）を２時間かけて滴下した。滴下終了後、更
に同条件下で１０時間攪拌して反応を完結させた。反応
混合物を、７０℃にて水で４回洗浄後、トルエン及び過
剰のエピクロルヒドリンを減圧下に加熱留去し、アミド
誘導体（３ａ）を主成分とする生成物を得た（工程
５）。

【０１１９】上記（工程５）で得た、１０リットル５口
フラスコ中の化合物（３ａ）を主成分とする生成物に、
水３７８．２ｇ（２１．０mol）、４８％水酸化ナトリ
ウム水溶液５．８３ｇ（０．０７０mol）及びテトラデ
カン酸３２．０ｇ（０．１４mol）を加え窒素雰囲気
下、１００℃で２．５日間攪拌した。反応混合物を８０
℃にて２％食塩水で３回洗浄した後、減圧下に加熱脱水
し、目的とする化合物（１ａ）を主成分とする生成物２
２６１．５ｇを得た（工程６）。この生成物は、化合物
（１ａ）を７０％含有しており、他に下記式で示す中間
体及び反応副生成物等が含有されていた。

【０１２０】

【化２９】

【０１２１】

【化３０】

【０１２２】製造例３製造例１の工程２において、テトラデカン酸メチルの代
わりにヘキサデカン酸メチルを用いた以外は、製造例１
の工程１及び２と同様に反応を行い、アミド誘導体（２
ｂ）を得た（工程１及び２）。

【０１２３】

【化３１】

【０１２４】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに上記（工程２）で得た化合物（２ｂ）を
用いた以外は、製造例１の工程５と同様に反応を行い、
アミド誘導体（３ｂ）を得た（工程５）。

【０１２５】

【化３２】

【０１２６】製造例１の工程６において、化合物（３
ａ）の代わりに上記（工程５）で得た化合物（３ｂ）
を、更にテトラデカン酸の代わりにヘキサデカン酸を用
いた以外は、製造例１の工程６と同様に反応を行い、目
的とするアミド誘導体（１ｂ）を得た（工程６）。

【０１２７】

【化３３】

【０１２８】攪拌装置及び窒素導入管を備えた５００ミ
リリットル４口フラスコに、上記（工程５）で得た化合
物（３ｂ）３４．１ｇ（５０．０mmol）、無水酢酸２
５．５ｇ（２５０．０mmol）及びトリエチルアミン２
５．３ｇ（２５０．０mmol）を仕込み、窒素雰囲気下１
００℃で１０時間攪拌した。反応混合物を加熱下、減圧
濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィーで精製することにより、エステル−アミド誘導体
（１４ｂ）３４．９ｇ（収率８９％）を得た（工程
７）。

【０１２９】

【化３４】

【０１３０】攪拌装置及び窒素導入管を備えた２００ミ
リリットル４口フラスコに、上記（工程７）で得た化合
物（１４ｂ）３３．９ｇ（４３．２mmol）、ナトリウム
メトキシド２８％メタノール溶液０．４２ｇ（２．１６
mmol）及びメタノール２００mlを仕込み、窒素雰囲気
下、室温で３．５時間攪拌した。反応混合物を加熱下、
減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマト
グラフィーで精製することにより、目的とするアミド誘
導体（１ｂ）１６．０ｇ（収率５３％）を得た（工程
８）。

【０１３１】攪拌装置及び窒素導入管を備えた３リット
ル４口フラスコに、上記（工程２）で得た化合物（２
ｂ）４５．２ｇ（７２．０mmol）、水素化ナトリウム
２．８６ｇ（１１９．２mmol）及びトルエン８００mlを
仕込み、窒素雰囲気下５５℃で３０分間攪拌した。次
に、これに１，２−イソプロピリデンジオキシ−３−ト
シルオキシプロパン３４．８ｇ（１２１．５mmol）を加
え、１００℃で１８時間攪拌した。反応混合物を、氷冷
下、２−プロパノール２０mlを加えて未反応の水素化ナ
トリウムを不活性化した後、加熱下、減圧濃縮した。得
られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、１，３−ジオキソラン−アミド誘導
体（１６ｂ）５１．０ｇ（収率９６％）を得た（工程１
１）。

【０１３２】

【化３５】

【０１３３】攪拌装置及び窒素導入管を備えた２リット
ル４口フラスコに、上記（工程１１）で得た化合物（１
６ｂ）５１．０ｇ（６８．９mmol）、トシル酸−一水和
物０．５０ｇ（２．６３mmol）及びメタノール５００ml
を仕込み、窒素雰囲気下室温で１２時間攪拌した。反応
混合物を加熱下、減圧濃縮し、得られた残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製することにより、目
的とするアミド誘導体（１ｂ）４１．０ｇ（収率８５
％）を得た（工程１０）。

【０１３４】製造例４製造例１の工程２において、テトラデカン酸メチルの代
わりにドデカン酸メチルを用いた以外は、製造例１の工
程１及び工程２と同様に反応を行い、アミド誘導体（２
ｃ）を得た（工程１及び２）。

【０１３５】

【化３６】

【０１３６】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに、上記（工程２）で得た化合物（２ｃ）
を用いた以外は、製造例１の工程５と同様に反応を行
い、アミド誘導体（３ｃ）を得た（工程５）。

【０１３７】

【化３７】

【０１３８】製造例１の工程７において、化合物（３
ａ）の代わりに上記（工程５）で得た化合物（３ｃ）を
用いた以外は、製造例１の工程７及び８と同様に反応を
行い、目的とするアミド誘導体（１ｃ）を得た（工程７
及び８）。

【０１３９】

【化３８】

【０１４０】製造例５製造例１の工程２において、テトラデカン酸メチルの代
わりに花王（株）製ルナックＰ−７０（テトラデカン
酸、ヘキサデカン酸、オクタデカン酸の重量比３：７
０：２７の混合物）を加熱還流下、硫酸触媒の存在下に
メタノールと反応させることにより製造したルナックＰ
−７０のメチルエステルを用いた以外は、製造例１の工
程１及び工程２と同様に反応を行い、アミド誘導体（２
ｄ）を得た（工程１及び２）。

【０１４１】

【化３９】

【０１４２】製造例３の工程１１において、化合物（２
ｂ）の代わりに上記（工程２）で得た化合物（２ｄ）を
用いて反応を行い、得られた１，３−ジオキソラン−ア
ミド誘導体（１６ｄ）を精製することなく次の工程１０
の反応を行った以外は、製造例３の工程１１及び１０と
同様に反応を行い、目的とするアミド誘導体（１ｄ）を
得た（工程１１及び１０）。

【０１４３】

【化４０】

【０１４４】製造例６製造例１の工程１において、ヘキサデシルグリシジルエ
ーテルの代わりにオクタデシルグリシジルエーテルを用
いた以外は、製造例１の工程１と同様に反応を行い、ア
ミノアルコール誘導体（４ｅ）を得た（工程１）。

【０１４５】

【化４１】

【０１４６】製造例１の工程２において、化合物（４
ａ）の代わりに上記（工程１）で得た化合物（４ｅ）を
用いた以外は、製造例１の工程２と同様に反応を行い、
アミド誘導体（２ｅ）を得た（工程２）。

【０１４７】

【化４２】

【０１４８】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに上記（工程２）で得た化合物（２ｅ）を
用いた以外は、製造例１の工程５と同様に反応を行い、
アミド誘導体（３ｅ）を得た（工程５）。

【０１４９】

【化４３】

【０１５０】製造例１の工程７において、化合物（３
ａ）の代わりに上記（工程５）で得た化合物（３ｅ）を
用いた以外は、製造例１の工程７及び８と同様に反応を
行い、目的とするアミド誘導体（１ｅ）を得た（工程７
及び８）。

【０１５１】

【化４４】

【０１５２】製造例７製造例１の工程２において、化合物（４ａ）の代わりに
製造例６の工程１で得た化合物（４ｅ）を、更にテトラ
デカン酸メチルの代わりにヘキサデカン酸メチルを用い
た以外は、製造例１の工程２と同様に反応を行い、アミ
ド誘導体（２ｆ）を得た（工程１及び２）。

【０１５３】

【化４５】

【０１５４】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに化合物（２ｆ）を用いた以外は、製造例
１の工程５と同様に反応を行い、アミド誘導体（３ｆ）
を得た（工程５）。

【０１５５】

【化４６】

【０１５６】製造例１の工程７において、化合物（３
ａ）の代わりに上記（工程５）で得た化合物（３ｆ）を
用いた以外は、製造例１の工程７及び８と同様に反応を
行い、目的とするアミド誘導体（１ｆ）を得た（工程７
及び８）。

【０１５７】

【化４７】

【０１５８】製造例８製造例１の工程１において、ヘキサデシルグリシジルエ
ーテルの代わりにテトラデシルグリシジルエーテルを用
いた以外は、製造例１の工程１と同様に反応を行い、ア
ミノアルコール誘導体（４ｇ）を得た（工程１）。

【０１５９】

【化４８】

【０１６０】製造例１の工程２において、化合物（４
ａ）の代わりに上記（工程１）で得た化合物（４ｇ）
を、更にテトラデカン酸メチルの代わりにヘキサデカン
酸メチルを用いた以外は、製造例１の工程２と同様に反
応を行い、アミド誘導体（２ｇ）を得た（工程２）。

【０１６１】

【化４９】

【０１６２】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに、上記（工程２）で得た化合物（２ｇ）
を用いた以外は、製造例１の工程５と同様に反応を行
い、アミド誘導体（３ｇ）を得た（工程５）。

【０１６３】

【化５０】

【０１６４】製造例１の工程７において、化合物（３
ａ）の代わりに、上記（工程５）で得た化合物（３ｇ）
を用いた以外は、製造例１の工程７及び８と同様に反応
を行い、目的とするアミド誘導体（１ｇ）を得た（工程
７及び８）。

【０１６５】

【化５１】

【０１６６】製造例９製造例１の工程１において、３−メトキシプロピルアミ
ンの代わりに２−メトキシエチルアミンを用いた以外
は、製造例１の工程１と同様に反応を行い、アミノアル
コール誘導体（４ｈ）を得た（工程１）。

【０１６７】

【化５２】

【０１６８】製造例１の工程２において、化合物（４
ａ）の代わりに上記（工程１）で得た化合物（４ｈ）
を、更にテトラデカン酸メチルの代わりにヘキサデカン
酸メチルを用いた以外は、製造例１の工程２と同様に反
応を行い、アミド誘導体（２ｈ）を得た（工程２）。

【０１６９】

【化５３】

【０１７０】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに上記（工程２）で得た化合物（２ｈ）を
用いた以外は、製造例１の工程５と同様に反応を行い、
アミド誘導体（３ｈ）を得た（工程５）。

【０１７１】

【化５４】

【０１７２】製造例１の工程６において、化合物（３
ａ）の代わりに上記（工程５）で得た化合物（３ｈ）を
用いた以外は、製造例１の工程６と同様に反応を行い、
目的とするアミド誘導体（１ｈ）を得た（工程６）。

【０１７３】

【化５５】

【０１７４】製造例３の工程１１において、化合物（２
ｂ）の代わりに上記（工程２）で得た化合物（２ｈ）を
用いた以外は、製造例３の工程１１と同様に反応を行
い、１，３−ジオキソラン−アミド誘導体（１６ｈ）を
得た（工程１１）。

【０１７５】

【化５６】

【０１７６】製造例３の工程１０において、化合物（１
６ｂ）の代わりに上記（工程１１）で得た化合物（１６
ｈ）を用いた以外は、製造例３の工程１１と同様に反応
を行い、目的とするアミド誘導体（１ｈ）を得た（工程
１０）。

【０１７７】製造例１０製造例１の工程１において、３−メトキシプロピルアミ
ンの代わりにエチルアミンを用いた以外は、製造例１の
工程１と同様に反応を行い、アミノアルコール誘導体
（４ｉ）を得た（工程１）。

【０１７８】

【化５７】

【０１７９】製造例１の工程２において、化合物（４
ａ）の代わりに上記（工程１）で得た化合物（４ｉ）
を、更にテトラデカン酸メチルの代わりにヘキサデカン
酸メチルを用いた以外は、製造例１の工程２と同様に反
応を行い、アミド誘導体（２ｉ）を得た（工程２）。

【０１８０】

【化５８】

【０１８１】製造例１の工程５において、化合物（２
ａ）の代わりに上記（工程２）で得た化合物（２ｉ）を
用いた以外は、製造例１の工程５と同様に反応を行い、
アミド誘導体（３ｉ）を得た（工程５）。

【０１８２】

【化５９】

【０１８３】製造例１の工程６において、化合物（３
ａ）の代わりに上記（工程５）で得た化合物（３ｉ）を
用いた以外は、製造例１の工程６と同様に反応を行い、
目的とするアミド誘導体（１ｉ）を得た（工程６）。

【０１８４】

【化６０】

【０１８５】実施例１表１〜表３に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造
し、これを使用したときの毛髪の感触について評価し
た。結果を表１〜表３に示す。なお、実施例において示
した融点は、セイコー電子工業株式会社製の示差走査熱
量計（ＤＳＣ）を用い、試料の約１mgをＤＳＣセル（５
μl ）に入れ、走査温度−１０〜２００℃、昇温速度２
℃／分で測定し、ＪＩＳ−Ｋ７１２１−１９８７−９−
９．１（２）の補外融点開始温度を融点として示した。

【０１８６】（評価方法）長さ約２０cm、約６ｇの毛髪
を洗浄後水分をふき取り、毛髪化粧料を、毛髪に対する
化粧料の重量比０．１で塗布し、自然乾燥した。この毛
髪の感触の変化をパネラー９名により官能評価した。評
価は本発明品と比較品を評点−２点から２点のスコアで
採点することにより行い、９名の平均値を求めた。評点
は高いほど優れている。

【０１８７】

【表１】

【０１８８】

【表２】

【０１８９】

【表３】

【０１９０】表１〜表３の結果から明らかなように、本
発明の毛髪化粧料はいずれも、毛髪の感触を改善する効
果に優れ、若々しい印象の毛髪を与えた。

【０１９１】実施例２表４に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、これ
を使用したときの毛髪の感触を評価した。評価は、実施
例１と同様にして毛髪を処理し、成分を十分に浸透させ
た後に洗浄、乾燥して表在の毛髪化粧料を除去した後、
実施例１と同様にして行った。結果を表４に示す。

【０１９２】

【表４】

【０１９３】表４の結果から明らかなように、本発明の
毛髪化粧料はいずれも表在のアミド化合物を洗浄除去し
た後でも優れた感触改善効果、及びしなやかさの付与効
果を示し、内部に浸透して毛髪物性を根本的に改善して
いることが確認された。

【０１９４】実施例３表５に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、これ
を使用したときの毛髪の感触を評価した。評価は、実施
例１と同様にして毛髪を処理し、成分を６０℃で１時間
浸透させた後に洗浄、乾燥して表在の毛髪化粧料を除去
した後、実施例１と同様にして行った。結果を表５に示
す。

【０１９５】

【表５】

【０１９６】表５の結果から明らかなように、浸透促進
剤を配合すると、感触改善及び柔軟化効果がより向上す
ることが確認された。

【０１９７】試験例１実施例１で製造した毛髪化粧料（本発明品２）につい
て、ダメージ回復改善効果を評価した。すなわち、長さ
約２０cm、約６ｇの毛髪に還元酸化処理を三回繰り返し
て激しいダメージを与え、この毛髪を洗浄後水分をふき
取り、毛髪化粧料を、毛髪に対する化粧料の重量比０．
１で塗布し、自然乾燥した。この毛髪の感触の変化を実
施例１と同様な方法で評価した。結果を表６に示す。

【０１９８】

【表６】

【０１９９】表６の結果から明らかなように、毛髪は還
元酸化処理によりダメージを受け、感触、つや、ハリ、
コシが著しく低下するが、本発明の毛髪化粧料を塗布す
ることにより、低下した諸物性は健常な毛髪に近いレベ
ルまで改善され、優れたダメージ回復効果が得られた。

【０２００】実施例４表７に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、これ
を使用したときの毛髪の感触を実施例１と同様にして評
価した。結果を表７に示す。

【０２０１】

【表７】

【０２０２】表７の結果から明らかなように、油剤を配
合するとすべりやパサツキが変化し、感触がより改善さ
れた。

【０２０３】実施例５表８に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、これ
を使用したときの毛髪の感触を実施例１と同様にして評
価した。結果を表８に示す。

【０２０４】

【表８】

【０２０５】表８の結果から明らかなように、ポリマー
を配合すると、毛髪にハリコシを与える効果が高められ
た。

【０２０６】実施例６表９に示す組成の毛髪化粧料を常法により製造し、これ
を使用したときの毛髪の感触を実施例２と同様にして評
価した。結果を表９に示す。

【０２０７】

【表９】

【０２０８】表９の結果から明らかなように、本発明の
毛髪化粧料は、すべり、パサツキを変化させ、感触が改
善された。

【０２０９】試験例２毛髪化粧料で処理した毛髪の枝毛発生率を評価した。す
なわち、実施例１で得られた本発明品１及び２並びに比
較品１を用い、実施例１と同様にして毛髪化粧料で処理
した毛髪、及び対照として未処理の毛髪について、１０
００回ブラッシングをくり返して毛髪に機械的なダメー
ジを与えた。毛髪化粧料で処理した場合の枝毛発生数を
対照の未処理の場合の枝毛発生数で除して、枝毛発生率
を求めた。すなわち、枝毛発生率が低いほど、損傷が少
ないことを示す。結果を表１０に示す。

【０２１０】

【表１０】

【０２１１】表１０の結果から明らかなように、本発明
の毛髪化粧料で処理した毛髪は枝毛発生率が低く、機械
的ダメージによる損傷を抑えられた。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】融点が０〜５０℃のアミド化合物を含有
する毛髪化粧料。
【請求項２】アミド化合物が、総炭素数３０以上のＮ
−置換アミド化合物である請求項１記載の毛髪化粧料。
【請求項３】アミド化合物が、次の一般式（１）〜
（３）【化１】（式中、Ｒ¹及びＲ²は同一又は異なって炭素数１〜４
０のヒドロキシル化されていてもよい炭化水素基を示
し、Ｒ³は炭素数１〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキ
レン基又は単結合を示し、Ｒ⁴は水素原子、炭素数１〜
１２の直鎖若しくは分岐鎖のアルコキシ基又は２，３−
ジヒドロキシプロピルオキシ基を示す。ただし、Ｒ³が
単結合のときはＲ⁴は水素原子である。）【化２】（式中、Ｒ¹及びＲ²は前記と同じ意味を示し、Ｒ^3aは
炭素数３〜６の直鎖若しくは分岐鎖のアルキレン基を示
し、Ｒ^4aは炭素数１〜１２の直鎖又は分岐鎖のアルコキ
シ基を示す。）【化３】（式中、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は前記と同じ意味を示し、
Ｒ^4bは水素原子、炭素数１〜１２の直鎖若しくは分岐鎖
のアルコキシ基又は２，３−エポキシプロピルオキシ基
を示す。ただし、Ｒ³が単結合のときＲ^4bは水素原子で
ある。）で表わされるアミド誘導体から選ばれるもので
ある請求項１又は２記載の毛髪化粧料。
【請求項４】更に、油剤を含有する請求項１〜３のい
ずれか１項記載の毛髪化粧料。
【請求項５】更に、ポリマーを含有する請求項１〜４
のいずれか１項記載の毛髪化粧料。
【請求項６】更に、浸透促進剤を含有する請求項１〜
５のいずれか１項記載の毛髪化粧料。