JPH10150071A - 半導体装置の製造方法および半導体装置 - Google Patents

半導体装置の製造方法および半導体装置

Info

Publication number
JPH10150071A
JPH10150071A JP8308156A JP30815696A JPH10150071A JP H10150071 A JPH10150071 A JP H10150071A JP 8308156 A JP8308156 A JP 8308156A JP 30815696 A JP30815696 A JP 30815696A JP H10150071 A JPH10150071 A JP H10150071A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
external terminals
bump electrode
manufacturing
leads
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP8308156A
Other languages
English (en)
Inventor
Masako Sasaki
雅子 佐々木
Takayuki Okinaga
隆幸 沖永
Tomoaki Shimoishi
智明 下石
Hideki Tanaka
英樹 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi ULSI Engineering Corp
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi ULSI Engineering Corp, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi ULSI Engineering Corp
Priority to JP8308156A priority Critical patent/JPH10150071A/ja
Publication of JPH10150071A publication Critical patent/JPH10150071A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 TCP構造を有する半導体装置の製造時間を
短縮する。 【解決手段】 半導体チップ1の主面上に配置された複
数のボンディングパッド1BPに、テープキャリア2上
に配置された複数のリード2Lを電気的に接続するとと
もに、その半導体チップ1の主面を封止樹脂によって封
止してなるTCP構造を有する半導体装置を製造する際
に、複数のボンディングパッド1BPのうちの所定のボ
ンディングパッド1BP1と、複数のリード2Lのうち
の所定のリード2L1との接続状態を、その間にバンプ
電極を介在させるか否かにより選択的に切り換える工程
と、前記複数のボンディングパッド1BPと複数のリー
ド2Lとをバンプ電極を介して一括して接合する工程と
を有するものである。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
方法および半導体装置技術に関し、特に、TCP(Tape
Carrier Package)を有する半導体装置技術に適用して
有効な技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】小形で、薄く、しかも高機能を有する電
子機器の開発および製造に伴い、電子機器を構成するパ
ッケージにおいて、薄形実装が可能であり、しかも多ピ
ンにできるTCPが注目を集めている。
【0003】このTCPは、テープキャリアに繰り返し
形成された導体リードと半導体チップの電極とを重ね合
わせ接合し、その半導体チップを封止樹脂等によって封
止した構造のパッケージである。
【0004】なお、TCPについては、例えば特開平5
−21514号公報に記載があり、この文献には、イン
ナーリードボンディング時に半導体チップに加わる過大
圧力を緩和すべく、半導体チップ上には、その内部回路
と絶縁されたダミー突起電極を設け、テープキャリア上
にはTCP外部と電気的に接続されないダミーリードを
設け、そのダミー突起電極とダミーリードとを、通常の
半導体チップ上の突起電極とテープキャリア上のリード
とのボンディング工程時に同時にボンディングしてある
半導体装置が開示されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、TCPにお
いては、以下の問題があることを本発明者は見出した。
【0006】第1に、半導体チップの回路機能等の変更
に応じてテープキャリアを設計・製造し直さなければな
らず、半導体装置の製造に多大な時間と費用とがかかる
という問題がある。
【0007】例えばDRAM(Dynamic Random Access
Memory)等のようなメモリ製品においては、顧客の要求
仕様によって、同一の半導体チップにおいて、FPモー
ド(First Page Mode)とEDOページモード(Extended
Data Out Page mode)との機能切り替えを行う場合があ
る。この場合、ワイヤボンディング方式の場合は、ボン
ディングワイヤの打ち方によってその変更に対応するこ
とができるが、TCPの場合は、ボンディングパッドと
リードとが一体一対応でありボンディングパッドに対応
するリードが固定化されているので、そのような変更に
対応することができない。したがって、その場合には、
その機能等の変更に対応可能なように、新たにテープキ
ャリアの設計および製造をし直し、さらにその検査を行
わなければならず、DRAMの製造に多大な時間と労力
とがかかり、製品のコストも増加してしまう。
【0008】第2に、機能等の変更に対応可能なように
共用のテープキャリアを設計および製造すると、切り替
えのためのリードを新たに設ける必要が生じ、TCPの
引き出しピンの数が増加する結果、TCPの外形サイズ
が大きくなるとともに、他のパッケージとの共用化がで
きなくなるという問題がある。
【0009】例えばメモリモジュール等のようなモジュ
ール製品においては、SOJ(Small Outline J-lead P
ackage)やTSOP(Thin Small Outline Package) 等
のような他のパッケージをモジュール基板上に実装する
ことで製品を構成する場合がある。したがって、TCP
のピン数が、他のパッケージのピン数と等しければ、T
CPを用いてモジュール製品を製造する場合にも、他の
パッケージの実装用のモジュール基板をそのまま用いて
モジュール製品を製造することができる。しかし、上述
のようにTCPのピン数がTCP特有の理由によって増
えてしまうと、他のパッケージの実装用のモジュール基
板をそのまま使用することができなくなり、TCP実装
用のモジュール基板を特別に設計・製造しなければなら
ず、モジュール製品の製造に多大な時間と労力とがかか
り、製品のコストも増加してしまう。
【0010】本発明の目的は、TCP構造を有する半導
体装置の製造時間を短縮することのできる技術を提供す
ることにある。
【0011】また、本発明の他の目的は、TCP構造を
有する半導体装置のコストを下げることのできる技術を
提供することにある。
【0012】また、本発明の他の目的は、他のパッケー
ジとの互換性を備えたTCPを得ることのできる技術を
提供することにある。
【0013】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0014】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
次のとおりである。
【0015】本発明の半導体装置の製造方法は、半導体
チップの主面上に配置された複数の外部端子に、テープ
キャリア上に配置された複数のリードを電気的に接続し
た構造を有する半導体装置の製造方法であって、前記複
数の外部端子のうちの所定の外部端子と、前記複数のリ
ードのうちの所定のリードとの接続状態を、その間にバ
ンプ電極を介在させるか否かにより選択的に切り換える
工程を有するものである。
【0016】また、本発明の半導体装置は、半導体チッ
プの主面上に配置された複数の外部端子に、テープキャ
リア上に配置された複数のリードを電気的に接続した状
態で、前記半導体チップの少なくとも主面側を封止樹脂
によって封止した構造を有する半導体装置であって、前
記複数の外部端子のうちの所定の外部端子と、前記複数
のリードのうちの所定のリードとの接続状態を、その間
にバンプ電極を介在させるか否かによって選択的に切り
換え、前記半導体チップの回路動作モードを切り換えた
構造を有し、前記所定の外部端子の近傍に、前記半導体
チップの内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッ
ドを設け、前記所定のリードと前記ダミーパッドとをバ
ンプ電極を介して接合したものである。
【0017】また、本発明の半導体装置は、半導体チッ
プの主面上に配置された複数の外部端子に、テープキャ
リア上に配置された複数のリードを電気的に接続した状
態で、前記半導体チップの少なくとも主面側を封止樹脂
によって封止した構造を有する半導体装置であって、前
記複数のリードのうち、前記複数の外部端子のうちの2
個の所定の外部端子上を通過するよう形成された所定の
リードと、前記2個の所定の外部端子のいずれか一方と
の間にバンプ電極を介在させることによって、前記2個
の所定の外部端子のいずれと所定のリードとをバンプ電
極を介して電気的に接続するかを選択的に切り換え、前
記半導体チップの回路動作モードの切り換えたものであ
る。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する(なお、実施の形態を説明す
るための全図において同一機能を有するものは同一の符
号を付し、その繰り返しの説明は省略する)。
【0019】(実施の形態1)図1は本発明の一実施の
形態である半導体装置の平面図、図2は図1のII−II線
の断面図、図3(a)〜(c)はDRAMのアクセスモ
ードを説明するためのタイミングチャート、図4は図1
の半導体装置の一部の回路図、図5は図1の半導体装置
の要部拡大平面図、図6は図5のVI−VI線の断面図、図
7は図1の半導体装置の要部拡大平面図、図8は図7の
VIII−VIII線の断面図、図9〜図12は図1の半導体装
置の製造工程中における断面図、図13は図1の半導体
装置を用いた電子装置の断面図である。
【0020】まず、本実施の形態1の半導体装置の構造
を図1〜図8によって説明する。なお、図1には図面を
見易くするため封止樹脂は図示されていない。
【0021】本実施の形態1の半導体装置は、例えばコ
ンピュータ、携帯電話またはビデオカメラ等のような電
子機器あるいはIC(Integrated Circuit)カードやメ
モリカード等のような電子カードに内蔵される半導体装
置に用いて好適なものであり、例えば半導体チップ1の
ボンディングパッド(外部端子)1BPと、半導体チッ
プ1の主面上に設置されたテープキャリア2のリード2
Lとをバンプ電極3を介して電気的に接続するととも
に、半導体チップ1を封止樹脂4によって封止したTC
P構造を有している。
【0022】半導体チップ1は、例えば平面四角形状の
シリコン(Si)単結晶等の小片からなり、その主面に
は、例えばDRAM(Dynamic Random Access Memory)
が形成されている。
【0023】また、半導体チップ1の主面中央には、複
数のボンディングパッド1BPが一直線上に並んで配置
されている。このボンディングパッド1BPは、上記し
たDRAM回路の電極を半導体チップ1の外部に引き出
すための電極であり、例えばアルミニウム(Al)また
はAl合金からなる。ボンディングパッド1BPの上面
には、上記したバンプ電極3が接合されている。ただ
し、本発明においては、後述するように、所定のボンデ
ィングパッド(所定の外部端子)1BP1 にはバンプ電
極3が接合されていない場合もある。
【0024】このバンプ電極3は、例えばAuからな
り、例えばワイヤバンプ法によって形成されている。す
なわち、バンプ電極3は、ボンディングワイヤをワイヤ
ボンディング法によってボンディングパッドに接合した
後、ボンディングワイヤの接合部のボール部分をボンデ
ィングパッド1BP上に残し、それ以外の細線部分を切
断除去することにより形成されている。
【0025】一方、テープキャリア2は、テープ基材2
Tと、その片面に接着剤2aにより接着された複数本の
リード2Lとを有している。
【0026】テープ基材2Tは、例えばポリイミド樹脂
等からなり、その中央およびその左右には、例えば半導
体チップ1の長手方向に沿って延びる平面長方形状の開
口部2Ta〜2Tcが開口形成されている。
【0027】そのうち中央の開口部2Taからは上記し
た半導体チップ1のボンディングパッド1BPが露出さ
れている。なお、その左右の開口部2Tb, 2Tcは、
主として封止樹脂4を半導体チップ1に接触させて封止
性および強度性等を高めるために開口されたものであ
る。
【0028】リード2Lは、例えば銅(Cu)からな
り、テープ基材2Tの長辺から中央の開口部2Taに向
かって延び、その一端は、その開口部2Taに突出され
ている。そのリード2Lの突出端表面には、例えば金
(Au)メッキが施されている。
【0029】そして、このリード2Lの突出端は、上記
したバンプ電極3を介して半導体チップ1と電気的に接
続されている。なお、リード2Lとバンプ電極3とはA
u−Au結合等によって接合されている。
【0030】リード2Lの他端は、封止樹脂4に被覆さ
れずにテープ基材2Tの長辺から突出されてアウターリ
ード部を形成している。TCPは、そのアウターリード
部によって、実装基板上に実装され、実装基板上の配線
と電気的に接続されるようになっている。
【0031】なお、図1において、VCC, VSS等は各リ
ード2Lの機能を示しており、VCCは高電位の電源電圧
を示し、VSSは低電位の電源電圧を示し、I/ O1 〜I
/ O4 は入出力信号を示し、WEはライトイネーブル信
号を示し、バーRASはロウアドレスストローブ信号を
示し、A1 〜A11はアドレス信号を示し、バーCASは
カラムアドレスストローブ信号を示し、OEはアウトプ
ットイネーブル信号を示している。
【0032】このような半導体チップ1の主面、テープ
基材2Tの表面およびアウターリード部を除くリード2
Lの表面は封止樹脂4によって被覆されている。この封
止樹脂4は、例えばエポキシ系の樹脂からなり、例えば
液状樹脂を滴下し加熱硬化させることにより形成する、
いわゆるポッティング封止法等によって成形されてい
る。
【0033】ところで、本実施の形態1においては、1
つの半導体チップ1で、例えばファーストページモード
(First Page Mode)またはEDOページモード(Extend
ed Data Out Page Mode)のいずれか一方のアクセスモー
ドを組立工程時のリード2Lとボンディングパッド1B
Pとの接続状態によって選択することが可能となってい
る。
【0034】ここで、DRAMの幾つかのアクセスモー
ドにおけるデータ読み出し時のタイミングチャートを図
3に示す。なお、図3においてDout は出力信号を示
し、Rは行アドレス、Cは列アドレスを示している。
【0035】DRAMの読み出し動作は次のような順序
で行われる。まず、1本のワード線を行アドレスによっ
て選択し、そのワード線に接続されるメモリセルのデー
タを全てセンスアンプに送る。
【0036】続いて、どのセンスアンプの出力を選んで
出力端子にデータを出力するかを、列アドレスによって
選択する。したがって、この後で列アドレスのみを変更
すると、別のセンスアンプのデータを出力することがで
きる。なお、行アドレスを確定した後、列アドレスの変
更のみで高速にアクセスするモードを高速アクセスモー
ドという。
【0037】図3(a)はノーマルモードを示してい
る。バーRAS, バーCASが立ち下がり(アクティ
ブ)となった時点で、それぞれ行アドレス、列アドレス
をラッチする。出力は、バーCASがアクティブになっ
た時点でイネーブルされ、リード・データがバーRAS
アクセス時間、バーCASアクセス時間で規定される遅
いほうの時刻までに出力される。そして、バーCASが
アクティブである間、出力状態を保つ。バーRASが非
アクティブになった時点でリードサイクルは終了する。
【0038】また、図3(b)はファーストページモー
ドを示している。バーRASをアクティブにして行アド
レスをラッチした後、バーRASをアクティブ状態に保
持したまま、列アドレス信号を変化させつつバーCAS
をアクセス毎にアクティブにして同一行内における別の
メモリセルの連続高速アクセスを実現する。
【0039】図3(c)はEDOページモードを示して
いる。このモードは、出力データがバーCASの立ち下
がりでハイインピーダンス状態にならず、次のサイクル
のバーCASの立ち下がりまで維持されるモードであ
り、次のサイクルの列アドレスを高速ページモードより
も早く取り込むことができる。このため、EDOページ
モードは、高速ページモードよりも短いサイクルで動作
が可能となっている。
【0040】本実施の形態1において図1上において
は、上述の動作モードの切り換えが、図1の右側の最上
位置に配置され先端が三つ又に分岐するリード(所定の
リード)2L1 と所定のボンディングパッド1BP1 と
の接続状態によって行われるようになっている。
【0041】ここでは、例えば三つ又に分岐したリード
2L1 の中央のリード部2L1aがボンディングパッド1
BP1 に電気的に接続されていなければ、ファーストペ
ージモードが選択され、その中央のリード部2L1aがボ
ンディングパッド1BP1 に電気的に接続されていれ
ば、EDOページモードが選択されるようになってい
る。
【0042】また、三つ又に分岐したリード2L1 の上
下のリード部は、ボンディングパッド1BP2,1BP3
と電気的に接続されている。すなわち、そのボンディン
グパッド1BP2,1BP3 は低電位の電源電圧VSSに設
定されている。
【0043】このモード切り換えに寄与するボンディン
グパッド1BP1 が電気的に接続されている半導体チッ
プ1内の回路を図4に示す。ここには、複数のインバー
タゲートIN1 〜IN6 と、複数のナンドゲートNA1
〜NA4 と、ノアゲートNO1 〜NO6 と、オアゲート
ORとが示されている。
【0044】上記したアクセスモード切り換えに寄与す
るボンディングパッド1BP1 は、ナンドゲートNA3
の入力に電気的に接続されている。このナンドゲートN
A3の出力はナンドゲートNA2 の入力に電気的に接続
されている。ナンドゲートNA2 の出力は、ナンドゲー
トNA3 の入力および後段のナンドゲートNA4 の入力
に電気的に接続されている。さらに、ナンドゲートNA
4 の出力は、後段のインバータゲートIN6 、オアゲー
トORおよびノアゲートNO6 の入力に電気的に接続さ
れている。なお、インバータゲートIN6 、オアゲート
ORおよびノアゲートNO6 の出力はDRAMの内部回
路に電気的に接続されている。そして、ボンディングパ
ッド1BP1 にロウ(Low)レベルの電位が印加され
るとファーストページモードに設定され、ハイ(Hig
h)レベルの電位が印加されるとEDOページモードに
設定されるようになっている。
【0045】次に、このようなアクセスモードの切り換
えのための具体的な手段を図5〜図8によって説明す
る。なお、図5および図7においては、図面を見易くす
るため、バンプ電極が形成されているボンディングパッ
ド1BPに斜線を付すとともに、アクセスモード切り換
えに寄与するボンディングパッド1BP1 を二点鎖線で
囲んである。また、図5〜図8には図面を見易くするた
め封止樹脂は図示されていない。
【0046】まず、図5および図6は、例えばファース
トページモードに設定した場合を示している。三つ又に
分岐したリード2Lの中央のリード部2L1aは、ボンデ
ィングパッド1BP1 に電気的に接続されていない。具
体的には、図6に示すように、そのボンディングパッド
1BP1 上にバンプ電極が形成(供給)されておらず、
リード部2L1aの先端がボンディングパッド1BP1 の
上方に浮いた状態になっている。
【0047】すなわち、本実施の形態1においては、リ
ード2Lを接続しないボンディングパッド1BP1 に初
めからバンプ電極を設けないことにより、複数のリード
2Lと複数のボンディングパッド1BPとを一括してボ
ンディングしたとしても、そのバンプ電極の無いボンデ
ィングパッド1BP1 にはリード2Lが接続されないよ
うにすることが可能となっている。
【0048】また、図7および図8は、例えばEDOペ
ージモードに設定した場合を示している。三つ又に分岐
したリード2Lの中央のリード部2L1aは、ボンディン
グパッド1BP1 と電気的に接続されている。具体的に
は、図8に示すように、この場合のボンディングパッド
1BP1 にはバンプ電極3が接合されており、リード2
Lはバンプ電極3を介してボンディングパッド1BP1
と電気的に接続されている。
【0049】すなわち、本実施の形態1においては、ボ
ンディングパッド1BP上にバンプ電極3を設けるか否
かによって、ボンディングパッド1BPとリード2Lと
の接続状態を設定することにより、DRAMのアクセス
モードを切り換えるようにしている。
【0050】したがって、DRAMのアクセスモードの
切り換えに応じて、その変更に対応可能なテープキャリ
ア2を新たに設計し製造し直す必要が無くなるので、T
CP構造を有する半導体装置の製造時間を大幅に短縮さ
せることができるとともに、その製造コストを大幅に低
減させることが可能となっている。
【0051】次に、本実施の形態1における半導体装置
の製造方法の一例を図9〜図12によって説明する。
【0052】まず、図9に示すように、半導体チップ1
のボンディングパッド1BP上にワイヤバンプ法等によ
ってバンプ電極3を形成する。
【0053】すなわち、ボンディングワイヤを通常のA
uボールワイヤボンディング法によってボンディングパ
ッド1BPに熱圧着した後、そのボンディングワイヤに
おける接合部のボール(ネイルヘッド)部分をボンディ
ングパッド1BP上に残し、それ以外の細線部分を切断
除去することによりバンプ電極3を形成する。
【0054】ただし、本実施の形態1においては、例え
ばDRAMのアクセスモードをファーストページモード
に設定する場合、バンプ電極3の形成工程に際して、所
定のボンディングパッド1BP1 (図5等参照)上には
バンプ電極3を設けないようにする。すなわち、そのボ
ンディングパッド1BP1 にはボンディングワイヤを接
合しない。
【0055】なお、DRAMをEDOページモードに設
定する場合もワイヤバンプ法等によってバンプ電極3を
形成しても良いが、この場合は、全てのボンディングパ
ッド1BP上にバンプ電極3を形成することになるの
で、必ずしもワイヤバンプ法で形成する必要はない。例
えばリードに比較的厚いAuメッキを施し、熱圧着する
方法も考えられる。
【0056】続いて、図10に示すように、半導体チッ
プ1の主面上にテープキャリア2を位置合わせして配置
した後、その半導体チップ1とテープキャリア2とをボ
ンディングステージ上に載置する。
【0057】その後、テープキャリア2のリード2Lの
先端上方に配置されたボンディングツール5を下降し、
そのリード2Lの先端をバンプ電極3に押し当て加熱す
ることにより、図11に示すように、複数のリード2L
と複数のボンディングパッド1BP1 とをバンプ電極3
を介して一括して接合する。この際、バンプ電極3の形
成されていないボンディングパッド1BP1 はリード2
Lとは接合されない。
【0058】次いで、インナーリードボンディング工程
後の半導体チップ1の主面上に、例えば液状樹脂を滴下
し加熱硬化させることにより、図12に示すように、封
止樹脂4を形成する。
【0059】その後、半導体装置の封止樹脂4から突出
するリード2Lのアウターリード部を所定形状に成形し
て、半導体装置の製造を終了する。
【0060】このような半導体装置を用いて構成された
モジュールを図13に示す。
【0061】このモジュールを構成する実装基板6の主
面上には、例えば本実施の形態1の半導体装置がその厚
さ方向に2段重ねのような状態で実装されている。
【0062】各半導体装置は、その半導体チップ1の主
面を実装面側に向けて、例えばガルウィング状に成形さ
れたアウターリードを実装基板6のランド6aに電気的
に接続した状態で実装されている。
【0063】なお、ランド6aは実装基板6に形成され
た配線と電気的に接続されている。そして、この配線の
接続によりモジュール回路が構成されている。本実施の
形態1の半導体装置においては、アクセスモード切り換
えのためにリード本数が増えることもないので、他のパ
ッケージ用の実装基板6をそのまま使用することも可能
である。
【0064】以上のように、本実施の形態1によれば、
次の効果を得ることが可能となる。
【0065】(1).半導体チップ1上に配置されたボンデ
ィングパッド1BP上にバンプ電極3を設けるか否かに
よってそのボンディングパッド1BPとテープキャリア
2のリード2Lとの接続状態を変えてアクセスモードの
切り換えを行うことにより、アクセスモードの変更の度
にそれに対応可能なテープキャリア2を設計し製造し、
さらにその検査を行う必要を無くすことができ、1つの
テープキャリア2でそのアクセスモードの変更に柔軟に
対応させることが可能となる。
【0066】(2).上記(1) により、テープキャリア2の
設計、製造および検査のし直しが必要なくなるので、T
CP構造を有する半導体装置の開発および製造時間を大
幅に短縮させることが可能となる。
【0067】(3).上記(1) により、テープキャリア2の
設計、製造および検査のし直しが必要なくなるので、T
CP構造を有する半導体装置のコストを大幅に低減させ
ることが可能となる。
【0068】(4).上記(1) により、アクセスモードの切
り換えのためにピン数を増やす必要がなくなり、他のパ
ッケージ用の実装基板をそのまま使用することが可能と
なる。
【0069】(5).上記(4) により、TCP用に実装基板
を設計、製造および検査し直す必要がなくなるので、T
CPを実装する電子装置の開発および製造時間を大幅に
短縮させることが可能となる。
【0070】(6).上記(4) により、TCP用に実装基板
を設計、製造および検査し直す必要がなくなるので、T
CPを実装する電子装置のコストを大幅に低減させるこ
とが可能となる。
【0071】(実施の形態2)図14は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図、図15お
よび図16は図14にリードを配置した状態を示す半導
体装置の要部拡大平面図である。なお、図14〜図16
においてはバンプ電極が形成されているボンディングパ
ッドに斜線を付す。
【0072】前記実施の形態1においては、図5等にお
いてボンディングパッド1BP2,1BP3 に接続される
回路に対して、リード2Lを通じて外部から低電位の電
源電圧VSSを供給する場合について説明したが、本実施
の形態2においては、図14の破線で示すように、その
ボンディングパッドに接続される回路に対して半導体チ
ップ1の内部回路で生成した低電位の電源電圧VSSを供
給する構成としている。なお、図14には、図面を見易
くするためにリードを記していない。
【0073】本実施の形態2において、テープキャリア
のリードを配置した場合を図15および図16に示す。
【0074】この図15は、例えばファーストページモ
ードに設定した場合を示している。モード切り換えに寄
与するリード2L1 は、その先端が分岐されておらず1
本のままとなっている。この場合、ボンディングパッド
1BP1 上には、バンプ電極が形成されておらず、リー
ド2L1 とボンディングパッド1BP1 とは電気的に接
続されていない。
【0075】また、図16は、例えばEDOページモー
ドに設定した場合を示している。この場合もモード切り
換えに寄与するリード2L1 は、その先端が分岐されて
おらず1本のままとなっている。ただし、この場合は、
ボンディングパッド1BP1上にバンプ電極が形成され
ており、リード2L1 とボンディングパッド1BP1と
が電気的に接続されている。
【0076】このような本実施の形態2においても前記
実施の形態1と同じ効果を得ることが可能となってい
る。
【0077】(実施の形態3)図17は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図、図18お
よび図19は図17にリードを配置した状態を示す半導
体装置の要部拡大平面図である。なお、図17〜図19
においてはバンプ電極が形成されているボンディングパ
ッドに斜線を付すとともに、モード切り換え用のボンデ
ィングパッドを二点鎖線で囲んである。
【0078】本実施の形態3おいては、図17に示すよ
うに、アクセスモード切り換えのために2個のボンディ
ングパッド(所定の外部端子)1BP1a, 1BP1bが半
導体チップ1上に配置されている。
【0079】すなわち、本実施の形態3においては、ボ
ンディングパッド1BP1a, 1BP1bのいずれにリード
を接続するかによってアクセスモードを変えることが可
能となっている。
【0080】例えばボンディングパッド1BP1aにリー
ドを接続し、ボンディングパッド1BP1bにはリードを
接続しないようにすればファーストページモードに設定
され、その反対のリード接続状態にすればEDOページ
モードに設定されるようになっている。
【0081】この図17にテープキャリアのリードを配
置した図を図18および図19に示す。
【0082】この図18は、例えばファーストページモ
ードに設定した場合を示している。この場合、ボンディ
ングパッド1BP1a上にはバンプ電極が形成されている
が、ボンディングパッド1BP1b上にはバンプ電極が形
成されていない。
【0083】アクセスモード切り換えに寄与するリード
2L1 は、その先端が二又に分岐されており、その一方
のリード部2L1aはバンプ電極3を介してボンディング
パッド1BP1 aと電気的に接続されているが、他方の
リード部2L1bはボンディングパッド1BP1b上に浮い
た状態となっていてボンディングパッド1BP1bと電気
的に接続されていない。
【0084】また、図19は、例えばEDOページモー
ドに設定した場合を示している。この場合、ボンディン
グパッド1BP1b上にはバンプ電極が形成され、他方の
ボンディングパッド1BP1a上にはバンプ電極が形成さ
れていない。
【0085】アクセスモード切り換えに寄与するリード
2L1 は、その先端が二又に分岐されており、その一方
のリード部2L1bはバンプ電極3を介してボンディング
パッド1BP1bと電気的に接続されているが、他方のリ
ード部2L1aはボンディングパッド1BP1a上に浮いた
状態となっていてボンディングパッド1BP1aと電気的
に接続されていない。
【0086】このような本実施の形態3においても前記
実施の形態1と同じ効果を得ることが可能となってい
る。
【0087】(実施の形態4)図20は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図である。
【0088】本実施の形態4は、前記実施の形態3とほ
ぼ同じである。異なるのは、図20に示すように、アク
セスモードの切り換えに寄与するリード2Lの先端がT
字状に形成されており、そのリード2L1 において図2
0の上下方向に延びる部分がボンディングパッド1BP
1a, 1BP1b上に配置されていることである。
【0089】この図20は、例えばファーストページモ
ードに設定した場合を示している。したがって、ボンデ
ィングパッド1BP1a上にはバンプ電極が形成されてい
るが、ボンディングパッド1BP1b上にはバンプ電極が
形成されていない。そして、リード2L1 は、バンプ電
極を介してボンディングパッド1BP1aと電気的に接続
されているが、ボンディングパッド1BP1bとは電気的
に接続されていない。
【0090】なお、EDOページモードに設定する場
合、ボンディングパッド1BP1b上にはバンプ電極を形
成し、ボンディングパッド1BP1a上にはバンプ電極を
形成しないようにする。そして、リード2L1 は、バン
プ電極3を介してボンディングパッド1BP1bと電気的
に接続するが、ボンディングパッド1BP1aとは電気的
に接続しないようにすれば良い。
【0091】このような本実施の形態4においても前記
実施の形態1と同じ効果を得ることが可能となってい
る。
【0092】(実施の形態5)図21は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図である。
【0093】本実施の形態5も、前記実施の形態3とほ
ぼ同じである。異なるのは、図21に示すように、アク
セスモードの切り換えに寄与するリード2Lの先端がL
字状に形成されており、そのリード2L1 において図2
0の上下方向に延びる部分がボンディングパッド1BP
1a, 1BP1b上に配置されていることである。
【0094】この図21は、例えばファーストページモ
ードに設定した場合を示している。したがって、ボンデ
ィングパッド1BP1a上にはバンプ電極が形成されてい
るが、ボンディングパッド1BP1b上にはバンプ電極が
形成されていない。そして、リード2L1 は、バンプ電
極を介してボンディングパッド1BP1aと電気的に接続
されているが、ボンディングパッド1BP1bとは電気的
に接続されていない。
【0095】なお、EDOページモードに設定する場
合、ボンディングパッド1BP1b上にはバンプ電極を形
成し、ボンディングパッド1BP1a上にはバンプ電極を
形成しないようにする。そして、リード2L1 は、バン
プ電極3を介してボンディングパッド1BP1bと電気的
に接続するが、ボンディングパッド1BP1aとは電気的
に接続しないようにすれば良い。
【0096】このような本実施の形態5においても前記
実施の形態1と同じ効果を得ることが可能となってい
る。
【0097】(実施の形態6)図22は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図、図23は
図22にリードを配置した状態を示す半導体装置の要部
拡大平面図、図24は図23のXXIV−XXIV線の断面図、
図25は図22にリードを配置した状態を示す半導体装
置の要部拡大平面図である。なお、図22、図23およ
び図25においては図面を見易くするためモード切り換
え用のボンディングパッドおよびダミーのボンディング
パッドとを二点鎖線で囲んである。
【0098】本実施の形態6においては、図22に示す
ように、アクセスモード切り換え用のボンディングパッ
ド1BP1a, 1BP1bの各々の近傍にダミーのボンディ
ングパッド(ダミーパッド)DBP1,DBP2 が配置さ
れている。
【0099】このダミーのボンディングパッドDBP1,
DBP2 は、半導体チップ1の内外の回路から電気的に
絶縁された状態で配置されたパッドであり、例えばボン
ディングパッド1BPと同じ材料で同じパターニング工
程時に形成されている。なお、ダミーのボンディングパ
ッドDBP1,DBP2 同士は電気的に接続されていても
良い。
【0100】この図22に、テープキャリアのリードを
配置した図を図23〜図25に示す。なお、図23およ
び図25においてはバンプ電極が形成されているボンデ
ィングパッド1BPに斜線を付す。
【0101】この図23および図24は、例えばファー
ストページモードに設定した場合を示している。
【0102】この場合、ボンディングパッド1BP1a上
にはバンプ電極3が形成されているが、ボンディングパ
ッド1BP1b上にはバンプ電極が形成されていない。た
だし、このボンディングパッド1BP1bに隣接するダミ
ーのボンディングパッドDBP2 上にはバンプ電極が形
成されている。
【0103】アクセスモード切り換えに寄与するリード
2L1 は、その先端が二又に分岐されており、その一方
のリード部2L1aがバンプ電極3を介してボンディング
パッド1BP1aと電気的に接続されている。なお、この
リード部2L1aは、ダミーのボンディングパッドDBP
1 と接合しても良いが、ここでは接合されていない場合
が示されている。
【0104】また、リード2L1 の他方のリード部2L
1bは、ボンディングパッド1BP1b上に浮いた状態とな
っていてボンディングパッド1BP1bとは電気的に接続
されていない。
【0105】ただし、このリード部2L1bの先端は、ダ
ミーのボンディングパッドDBP2とバンプ電極を介し
て接合されている。これにより、リード部2L1bは、し
っかりと固定され、ボンディングパッド1BP1bに接触
しないようになっている。
【0106】また、図25は、例えばEDOページモー
ドに設定した場合を示している。この場合、ボンディン
グパッド1BP1b上にはバンプ電極が形成され、他方の
ボンディングパッド1BP1a上にはバンプ電極が形成さ
れていない。ただし、このボンディングパッド1BP1a
に隣接するダミーのボンディングパッドDBP1 上には
バンプ電極が形成されている。
【0107】アクセスモード切り換えに寄与するリード
2L1 は、その先端が二又に分岐されており、その一方
のリード部2L1aはボンディングパッド1BP1a上に浮
いた状態となっていてボンディングパッド1BP1aと電
気的に接続されていない。
【0108】ただし、このリード部2L1aの先端は、ダ
ミーのボンディングパッドDBP1とバンプ電極を介し
て接合されている。これにより、リード部2L1aがしっ
かりと固定されており、ボンディングパッド1BP1aに
接触しないようになっている。
【0109】また、リード2L1 のリード部2L1bは、
バンプ電極3を介してボンディングパッド1BP1bと電
気的に接続されている。なお、このリード部2L1bは、
ダミーのボンディングパッドDBP2 と接合しても良い
が、ここでは接合されていない場合が示されている。
【0110】このような本実施の形態6においては、前
記実施の形態1で得られた効果の他に、以下の効果を得
ることが可能となっている。
【0111】(1).アクセスモード切り換え用のボンディ
ングパッド1BP1a, 1BP1bの近傍にダミーのボンデ
ィングパッドDBP1,DBP2 を設け、リード2L1 の
先端をダミーのボンディングパッドDBP1,DBP2 と
バンプ電極を介して接合し固定することにより、リード
2L1 の先端をしっかりと固定することが可能となる。
【0112】(2).上記(1) により、リード2L1 が接続
されるべきでないボンディングパッド1BPに接触して
しまうのを防止することができるので、アクセスモード
の設定の信頼性を向上させることができ、TCP構造を
有する半導体装置の歩留りおよび信頼性を向上させるこ
とが可能となる。
【0113】(実施の形態7)図26は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図、図27は
図26にリードを配置した状態を示す半導体装置の要部
拡大平面図である。なお、図26および図27において
は図面を見易くするためモード切り換え用のボンディン
グパッドおよびダミーのボンディングパッドを二点鎖線
で囲んである。
【0114】本実施の形態7においては、図26に示す
ように、ボンディングパッド1BP1a, 1BP1bの近傍
に、図26の上下方向に延びる大形のダミーのボンディ
ングパッド(ダミーパッド)DBP3 が1個設けられて
いる。
【0115】これにリードを配置した図を図27に示
す。なお、図27においては図面を見易くするためバン
プ電極の形成されたボンディングパッドに斜線を付す。
【0116】この図27は、例えばファーストページモ
ードに設定した場合を示している。この場合、ボンディ
ングパッド1BP1a上にはバンプ電極が設けられ、ボン
ディングパッド1BP1b上にはバンプ電極が設けられて
いない。また、大形のダミーのボンディングパッドDB
P3 上にはバンプ電極が設けられている。
【0117】そして、アクセスモードの切り換えに寄与
するリード2L1 は、その先端が二又に分岐されてお
り、その一方のリード部2L1aがバンプ電極3を介して
ボンディングパッド1BP1aと電気的に接続されている
とともに、その先端がダミーのボンディングパッドDB
P3 と接合されている。
【0118】また、リード2L1 の他方のリード部2L
1bは、ボンディングパッド1BP1b上に浮いた状態とな
っていてボンディングパッド1BP1bとは電気的に接続
されていないが、その先端は、ダミーのボンディングパ
ッドDBP3 とバンプ電極を介して接合されている。
【0119】これにより、リード2L1 におけるリード
部2L1a, 2L1bの両方をしっかりと固定することが可
能となっている。
【0120】このように、本実施の形態7によれば、前
記実施の形態6で得られた効果の他に、以下の効果をえ
ることが可能となっている。
【0121】(1).アクセスモード切り換え用のボンディ
ングパッド1BP1a, 1BP1bの近傍に大形のダミーの
ボンディングパッドDBP3 を設け、リード2L1 の先
端のリード部2L1a, 2L1bの両方をダミーのボンディ
ングパッドDBP3 とバンプ電極を介して接合し固定す
ることにより、リード2L1 の先端をしっかりと固定す
ることが可能となる。
【0122】(実施の形態8)図28は本発明の他の実
施の形態である半導体装置の要部拡大平面図、図29は
図28にリードを配置した状態を示す半導体装置の要部
拡大平面図である。なお、図28および図29において
は図面を見易くするためモード切り換え用のボンディン
グパッドおよびダミーのボンディングパッドを二点鎖線
で囲んである。
【0123】本実施の形態8においては、図28のよう
に、2つのボンディングパッド1BP1a, 1BP1bの間
の近傍に、そのボンディングパッド1BP1a等と同寸法
のダミーのボンディングパッド(ダミーパッド)DBP
4 が1個設けられている。
【0124】これにリードを配置した図を図29に示
す。なお、図29においては図面を見易くするためバン
プ電極の形成されたボンディングパッドに斜線を付す。
【0125】この図29は、例えばEDOページモード
に設定した場合を示している。この場合、ボンディング
パッド1BP1a上にはバンプ電極が設けられていない
が、ボンディングパッド1BP1b上にはバンプ電極が設
けられている。また、ダミーのボンディングパッドDB
P4 上にはバンプ電極が設けられている。
【0126】リード2L1 は、その先端がボンディング
パッド1BP1a, 1BP1bおよびダミーのボンディング
パッドDBP4 の上方を通過するように環状に形成され
ている。このリード2L1 は、バンプ電極を介してボン
ディングパッド1BP1bと電気的に接続されているが、
ボンディングパッド1BP1aとは電気的に接続されてい
ない。
【0127】ただし、リード2L1 は、バンプ電極を介
してダミーのボンディングパッドDBP4 と接合されて
いる。これにより、リード部2L1 をしっかりと固定す
ることが可能となっている。
【0128】このように、本実施の形態8によれば、前
記実施の形態7で得られた効果と同じ効果を得ることが
可能となっている。
【0129】以上、本発明者によってなされた発明を実
施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実
施の形態1〜8に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
【0130】例えば前記実施の形態1〜8においては、
ボンディングパッドが半導体チップの中央に配置されて
いる場合について説明したが、これに限定されるもので
はなく種々変更可能である。例えば図30に示すよう
に、半導体チップ1の長辺近傍にその辺に沿って複数の
ボンディングパッド1BPを配置する場合や図31に示
すように、半導体チップ1の外周近傍にその外周に沿っ
て複数のボンディングパッド1BPを配置する場合等に
も本発明を適用することができる。
【0131】また、前記実施の形態1, 2においてはダ
ミーのボンディングパッドを設けない場合について説明
したが、これに限定されるものではなく、前記実施の形
態1, 2においてもモード切り換えに寄与するボンディ
ングパッドの近傍にダミーのボンディングパッドを設
け、モード切り換えに寄与するリードと接合するように
しても良い。これは、特に、モード切り換えに寄与する
リードとモード切り換えに寄与するボンディングパッド
とを接続しない場合に、そのリードをダミーのボンディ
ングパッドに接合することで、しっかり固定することが
でき、そのリードがモード切り換えに寄与するボンディ
ングパッドに接触してしまうのを防止することが可能と
なる。
【0132】また、前記実施の形態8においては、アク
セスモードの切り換えに寄与するリードの先端を環状と
した場合について説明したが、これに限定されるもので
はなく、図32に示すように、そのリード2L1 をボン
ディングパッド1BP1a, 1BP1bおよびダミーのボン
ディングパッドDBP4 の半分以上を覆い隠せるような
幅広形状としても良い。なお、図32は、例えばEDO
ページモードに設定した場合を示している。
【0133】また、アクセスモード切り換え用のリード
の形状は前記実施の形態1〜8に限定されるものではな
く種々変更可能である。例えば図33に示すように、例
えば平面コ字状としても良い。図33はEDOページモ
ードに設定した場合を示している。リード2L1 には低
電位の電源電圧VSSが供給される。リード2L1 におい
て図33の上下方向に延びる部分はボンディングパッド
1BP上に配置されている。リード2L1 は、モード切
り換え用のボンディングパッド1BP1 とは電気的に接
続されていないが、低電位の電源電圧VSSを供給する必
要のある他のボンディングパッド1BPとはバンプ電極
を介して電気的に接続されている。なお、ファーストペ
ージモードにする場合には、リード2L1 をボンディン
グパッド1BP1 とバンプ電極を介して電気的に接続す
れば良い。
【0134】また、図34に示すようにしても良い。図
34は、例えばファーストページモードに設定した場合
を示している。リード2L1 において図34の上下方向
に延びる部分はボンディングパッド上には配置されてい
ない。リード2L1 はボンディングパッド1BP1aとは
バンプ電極を介して電気的に接続されているが、ボンデ
ィングパッド1BP1bとは電気的に接続されていない。
なお、EDOページモードにする場合には、リード2L
1 をボンディングパッド1BP1aとは電気的に接続せ
ず、ボンディングパッド1BP1bとはバンプ電極を介し
て電気的に接続すれば良い。
【0135】また、ダミーのボンディングパッドを有す
るボンディングパッドの配置の仕方は、図35に示すよ
うにしても良い。すなわち、切り換え用のボンディング
パッド1BP1とそれに隣接するダミーのボンディング
パッドDBPとの中間の位置が、それらのボンディング
パッド1BP1,DBPの上下に並んでいるボンディン
グパッド1BPの配置線上に設定されている。この場
合、ボンディング時におけるボンディングの安定性を向
上させることが可能となる。
【0136】また、前記実施の形態1〜8においては、
ボンディングパッド上にバンプ電極を形成する技術の場
合について説明したが、これに限定されるものではな
く、例えばテープキャリアのリード側にバンプ電極を設
ける技術を用いても良い。この場合もボンディングパッ
ドと接合しないリードの端部にはバンプ電極を設けない
ようにすれば良い。
【0137】また、前記実施の形態1〜8においては、
ファーストページモードとEDOページモードとの切り
換える場合について説明したが、これに限定されるもの
ではなく種々変更可能であり、例えばDRAMのリフレ
ッシュサイクルの切り換えにも適用できる。例えば同一
半導体チップでも4Kリフレッシュを行う場合に、2本
のワード線を同時に立ち上げて4K、すなわち、1本の
ワード線で2Kのリフレッシュを行う方式(以下、2K
リフレッシュという)と、1本のワード線を立ち上げて
4Kのリフレッシュを行う方式(以下、4Kリフレッシ
ュという)とがある。2Kリフレッシュの場合は、2本
のワード線を同時に立ち上げてそれぞれに接続されたメ
モリマットの複数のメモリセルを同時にリフレッシュす
るので、リフレッシュ時間が速いが、消費電力が大き
い。また、4Kリフレッシュの場合は、1本のワード線
を立ち上げてそれに接続されたメモリマットの複数のメ
モリセルをリフレッシュするので、2Kに比べて同時に
リフレッシュするメモリセル数が多くリフレッシュに時
間がかかるが、消費電力が小さくて済む。したがって、
この場合も要求に応じて切り換えが可能とする場合があ
り、その場合に本発明の方法を適用することが可能であ
る。
【0138】また、前記実施の形態3〜8においては、
2つのボンディングパッドを使ってモード切り換えを行
う場合について説明したが、これに限定されるものでは
なく種々変更可能であり、4つのボンディングパッドま
たはそれ以上のボンディングパッドを使ってモード切り
換えを行うようにしても良い。
【0139】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野であるDRA
M技術に適用した場合について説明したが、それに限定
されるものではなく、例えばSRAM、疑似SRAM技
術等に適用できる。本発明は、少なくともTCPを有す
る半導体装置においてリードとボンディングパッドとの
接続状態によって機能等を変更する条件のものに適用で
きる。
【0140】
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
【0141】(1).本発明の半導体装置の製造方法によれ
ば、所定のリードと所定の外部端子との間にバンプ電極
を介在させるか否かによって所定のリードと所定の外部
端子との接続状態を選択的に切り換えることにより、そ
の接続状態を回路動作モードの変更に応じて切り換える
度にそれに対応可能なテープキャリアを設計し製造し、
さらにその検査を行う必要を無くすことができ、1つの
テープキャリアでその変更に柔軟に対応させることが可
能となる。
【0142】(2).上記(1) により、テープキャリアの設
計、製造および検査のし直しが必要なくなるので、TC
P構造を有する半導体装置の開発および製造時間を大幅
に短縮させることが可能となる。
【0143】(3).上記(1) により、テープキャリアの設
計、製造および検査のし直しが必要なくなるので、TC
P構造を有する半導体装置のコストを大幅に低減させる
ことが可能となる。
【0144】(4).上記(1) により、回路動作モードの切
り換えのためにTCPのピン数を増やす必要がなくな
り、他のパッケージ用の実装基板をそのまま使用するこ
とが可能となる。
【0145】(5).上記(4) により、TCP用に実装基板
を設計、製造および検査し直す必要がなくなるので、T
CPを実装する電子装置の開発および製造時間を大幅に
短縮させることが可能となる。
【0146】(6).上記(4) により、TCP用に実装基板
を設計、製造および検査し直す必要がなくなるので、T
CPを実装する電子装置のコストを大幅に低減させるこ
とが可能となる。
【0147】(7).本発明の半導体装置によれば、前記所
定の外部端子の近傍にダミーパッドを設け、前記所定の
リードと前記ダミーパッドとをバンプ電極を介して接合
したことにより、所定のリードがしっかり固定させるこ
とができるので、その所定のリードが電気的に接続され
ない外部端子に接触してしまうのを防止することが可能
となる。したがって、TCP構造を有する半導体装置の
歩留りおよび信頼性を向上させることが可能となる。
【0148】(8).本発明の半導体装置によれば、回路動
作モード切り換え用の外部端子が2個設けられていて
も、その上方を通過するように所定のリードの形状を形
成することにより、TCPのピン数を増やすことなく、
上記(1) の効果を得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施の形態である半導体装置の平面
図である。
【図2】図1のII−II線の断面図である。
【図3】(a)〜(c)はDRAMのアクセスモードを
説明するためのタイミングチャートである。
【図4】図1の半導体装置の一部の回路図である。
【図5】図1の半導体装置の要部拡大平面図である。
【図6】図5のVI−VI線の断面図である。
【図7】図1の半導体装置の要部拡大平面図である。
【図8】図7のVIII−VIII線の断面図である。
【図9】図1の半導体装置の製造工程中における断面図
である。
【図10】図1の半導体装置の図9に続く製造工程中に
おける断面図である。
【図11】図1の半導体装置の図10に続く製造工程中
における断面図である。
【図12】図1の半導体装置の図11に続く製造工程中
における断面図である。
【図13】図1の半導体装置を用いた電子装置の断面図
である。
【図14】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図15】図14にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図16】図14にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図17】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図18】図17にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図19】図17にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図20】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図21】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図22】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図23】図22にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図24】図23のXXIV−XXIV線の断面図である。
【図25】図22にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図26】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図27】図26にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図28】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図29】図28にリードを配置した状態を示す半導体
装置の要部拡大平面図である。
【図30】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
平面図である。
【図31】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
平面図である。
【図32】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図33】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図34】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【図35】本発明の他の実施の形態である半導体装置の
要部拡大平面図である。
【符号の説明】
1 半導体チップ 1BP ボンディングパッド(外部端子) 1BP1 ボンディングパッド(所定の外部端子) 1BP1a, 1BP1b ボンディングパッド(所定の外部
端子) 2 テープキャリア 2L リード 2L1 リード(所定のリード) 2L1a, 2L1b リード部 2T テープ基材 2Ta〜2Tc 開口部 2a 接着剤 3 バンプ電極 4 封止樹脂 5 ボンディングツール 6 実装基板 6a ランド DBP1 〜DBP4 ダミーのボンディングパッド(ダ
ミーパッド)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 沖永 隆幸 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 下石 智明 東京都小平市上水本町5丁目20番1号 日 立超エル・エス・アイ・エンジニアリング 株式会社内 (72)発明者 田中 英樹 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内

Claims (27)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップの主面上に配置された複数
    の外部端子に、テープキャリア上に配置された複数のリ
    ードを電気的に接続した構造を有する半導体装置の製造
    方法であって、(a)前記複数の外部端子のうち、所定
    の外部端子にはバンプ電極が接合されず、それ以外の外
    部端子上にはバンプ電極が接合されるようにバンプ電極
    を形成する工程と、(b)前記複数の外部端子と前記複
    数のリードとをバンプ電極を介して一括して接合する工
    程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
    おける前記バンプ電極の形成工程に際して、(a)前記
    複数の外部端子のうち、所定の外部端子にはボンディン
    グワイヤを接合せず、それ以外の外部端子にはボンディ
    ングワイヤを接合する工程と、(b)前記ボンディング
    ワイヤのうちの外部端子に接合されたボール部分のみを
    残し、それ以外の細線部分を除去する工程とを有するこ
    とを特徴とする半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、(a)前記複数の外部端子の形成工程に際し
    て、前記所定の外部端子の近傍に、前記半導体チップの
    内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッドを形成
    する工程と、(b)前記複数の外部端子と複数のリード
    とを一括して接合する工程に際して、前記所定のリード
    と、前記ダミーパッドとをバンプ電極を介して接合する
    工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  4. 【請求項4】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、前記複数の外部端子と複数のリードとの接合工
    程の後、前記半導体チップの少なくとも主面をポッティ
    ング法によって封止する工程を有することを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 半導体チップの主面上に配置された複数
    の外部端子に、テープキャリア上に配置された複数のリ
    ードを電気的に接続した構造を有する半導体装置の製造
    方法であって、 前記複数の外部端子のうちの所定の外部端子と、前記複
    数のリードのうちの所定のリードとの接続状態を、その
    間にバンプ電極を介在させるか否かにより選択的に切り
    換える工程を有することを特徴とする半導体装置の製造
    方法。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、前記複数の外部端子のうち、所定の外部端子上
    にはバンプ電極を形成せず、それ以外の外部端子上には
    バンプ電極を形成する工程を有することを特徴とする半
    導体装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項6記載の半導体装置の製造方法に
    おける前記バンプ電極の形成工程に際して、(a)前記
    複数の外部端子のうち、所定の外部端子にはボンディン
    グワイヤを接合せず、それ以外の外部端子にはボンディ
    ングワイヤを接合する工程と、(b)前記ボンディング
    ワイヤのうちの外部端子に接合されたボール部分のみを
    残し、それ以外の細線部分を除去する工程とを有するこ
    とを特徴とする半導体装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項5記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、前記複数の外部端子と複数のリードとをバンプ
    電極を介して一括して接合する工程を有することを特徴
    とする半導体装置の製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項5記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、(a)前記複数の外部端子の形成工程に際し
    て、前記所定の外部端子の近傍に、前記半導体チップの
    内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッドを形成
    する工程と、(b)前記複数の外部端子と複数のリード
    とを一括して接合する工程とを有し、 前記一括接合工程において、前記所定のリードと、前記
    ダミーパッドとをバンプ電極を介して接合することを特
    徴とする半導体装置の製造方法。
  10. 【請求項10】 請求項8記載の半導体装置の製造方法
    において、前記複数の外部端子と複数のリードとの接合
    工程の後、前記半導体チップの少なくとも主面をポッテ
    ィング法によって封止する工程を有することを特徴とす
    る半導体装置の製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項5記載の半導体装置の製造方法
    において、前記複数の外部端子のうちの所定の外部端子
    と、前記複数のリードのうちの所定のリードとの接続状
    態を選択的に切り換えることにより、前記半導体チップ
    の回路動作モードを切り換えることを特徴とする半導体
    装置の製造方法。
  12. 【請求項12】 請求項11記載の半導体装置の製造方
    法において、前記回路動作モードは、メモリ回路におけ
    るアクセスモードであることを特徴とする半導体装置の
    製造方法。
  13. 【請求項13】 半導体チップの主面上に配置された複
    数の外部端子に、テープキャリア上に配置された複数の
    リードを電気的に接続した構造を有する半導体装置の製
    造方法であって、 前記複数の外部端子のうち、2個の所定の外部端子のい
    ずれにバンプ電極を接合するか否かにより、前記2個の
    所定の外部端子と、前記複数のリードのうちの所定のリ
    ードとの接続状態を選択的に切り換え、前記半導体チッ
    プの回路動作モードを切り換える工程を有し、 前記所定のリードを、その一部が前記2個の所定の外部
    端子上を通過するような形状とするとともに、いずれか
    一方の所定の外部端子とバンプ電極を介して電気的に接
    続することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  14. 【請求項14】 請求項13記載の半導体装置の製造方
    法において、前記2個の所定の外部端子のうち、いずれ
    か一方の上にはバンプ電極を形成せず、それ以外の外部
    端子上にはバンプ電極を形成する工程を有することを特
    徴とする半導体装置の製造方法。
  15. 【請求項15】 請求項14記載の半導体装置の製造方
    法における前記バンプ電極の形成工程に際して、(a)
    前記2個の所定の外部端子のいずれか一方にはボンディ
    ングワイヤを接合せず、それ以外の外部端子にはボンデ
    ィングワイヤを接合する工程と、(b)前記ボンディン
    グワイヤのうちの外部端子に接合されたボール部分のみ
    を残し、それ以外の細線部分を除去する工程とを有する
    ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  16. 【請求項16】 請求項13記載の半導体装置の製造方
    法において、前記複数の外部端子と、前記複数のリード
    とを一括して接合する工程を有し、前記一括接合工程の
    際に、前記所定のリードと、前記2個の所定の外部端子
    のいずれか一方とをバンプ電極を介して電気的に接続す
    る工程を有することを特徴とする半導体装置の製造方
    法。
  17. 【請求項17】 請求項16記載の半導体装置の製造方
    法において、前記複数の外部端子と複数のリードとの接
    合工程の後、前記半導体チップの少なくとも主面をポッ
    ティング法によって封止する工程を有することを特徴と
    する半導体装置の製造方法。
  18. 【請求項18】 請求項13記載の半導体装置の製造方
    法において、前記所定のリードの先端が、前記2個の所
    定の外部端子上を通過するように二又に分岐されている
    ことを特徴とする半導体装置の製造方法。
  19. 【請求項19】 請求項13記載の半導体装置の製造方
    法において、(a)前記複数の外部端子の形成工程に際
    して、前記2個の所定の外部端子の近傍に、前記半導体
    チップの内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッ
    ドを形成する工程と、(b)前記複数の外部端子と複数
    のリードとを一括して接合する工程とを有し、前記一括
    接合工程において、前記所定のリードと、前記ダミーパ
    ッドとをバンプ電極を介して接合することを特徴とする
    半導体装置の製造方法。
  20. 【請求項20】 半導体チップの主面上に配置された複
    数の外部端子に、テープキャリア上に配置された複数の
    リードを電気的に接続した状態で、前記半導体チップの
    少なくとも主面側を封止樹脂によって封止した構造を有
    する半導体装置であって、 前記複数の外部端子のうちの所定の外部端子と、それに
    対向する前記複数のリードのうちの所定のリードとが、
    その間にバンプ電極が設けられておらず、電気的絶縁さ
    れていることを特徴とする半導体装置。
  21. 【請求項21】 請求項20記載の半導体装置におい
    て、前記所定の外部端子の近傍に、前記半導体チップの
    内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッドを設
    け、前記所定のリードと前記ダミーパッドとをバンプ電
    極を介して接合したことを特徴とする半導体装置。
  22. 【請求項22】 半導体チップの主面上に配置された複
    数の外部端子に、テープキャリア上に配置された複数の
    リードを電気的に接続した状態で、前記半導体チップの
    少なくとも主面側を封止樹脂によって封止した構造を有
    する半導体装置であって、 前記複数の外部端子のうちの所定の外部端子と、前記複
    数のリードのうちの所定のリードとの接続状態を、その
    間にバンプ電極を介在させるか否かによって選択的に切
    り換え、前記半導体チップの回路動作モードの切り換え
    たことを特徴とする半導体装置。
  23. 【請求項23】 請求項22記載の半導体装置におい
    て、前記所定の外部端子の近傍に、前記半導体チップの
    内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッドを設
    け、前記所定のリードと前記ダミーパッドとをバンプ電
    極を介して接合したことを特徴とする半導体装置。
  24. 【請求項24】 請求項22記載の半導体装置におい
    て、前記回路動作モードがメモリ回路におけるアクセス
    モードであることを特徴とする半導体装置。
  25. 【請求項25】 半導体チップの主面上に配置された複
    数の外部端子に、テープキャリア上に配置された複数の
    リードを電気的に接続した状態で、前記半導体チップの
    少なくとも主面側を封止樹脂によって封止した構造を有
    する半導体装置であって、 前記複数のリードのうち、前記複数の外部端子のうちの
    2個の所定の外部端子上を通過するよう形成された所定
    のリードと、前記2個の所定の外部端子のいずれか一方
    との間にバンプ電極を介在させることによって、前記2
    個の所定の外部端子のいずれと所定のリードとをバンプ
    電極を介して電気的に接続するかを選択的に切り換え、
    前記半導体チップの回路動作モードの切り換えたことを
    特徴とする半導体装置。
  26. 【請求項26】 請求項25記載の半導体装置におい
    て、前記所定のリードの先端が、前記2個の所定の外部
    端子上を通過するように二又に分岐されていることを特
    徴とする半導体装置。
  27. 【請求項27】 請求項25記載の半導体装置におい
    て、前記2個の所定の外部端子の近傍に、前記半導体チ
    ップの内外の回路とは電気的に絶縁されたダミーパッド
    を設け、前記所定のリードと前記ダミーパッドとをバン
    プ電極を介して接合したことを特徴とする半導体装置。
JP8308156A 1996-11-19 1996-11-19 半導体装置の製造方法および半導体装置 Withdrawn JPH10150071A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8308156A JPH10150071A (ja) 1996-11-19 1996-11-19 半導体装置の製造方法および半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8308156A JPH10150071A (ja) 1996-11-19 1996-11-19 半導体装置の製造方法および半導体装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10150071A true JPH10150071A (ja) 1998-06-02

Family

ID=17977579

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8308156A Withdrawn JPH10150071A (ja) 1996-11-19 1996-11-19 半導体装置の製造方法および半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH10150071A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013065673A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 Renesas Electronics Corp 半導体装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013065673A (ja) * 2011-09-16 2013-04-11 Renesas Electronics Corp 半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR950005446B1 (ko) 수지봉지형 반도체장치
CN100592509C (zh) 半导体装置及胶囊型半导体封装
KR0147259B1 (ko) 적층형 패키지 및 그 제조방법
US6756661B2 (en) Semiconductor device, a semiconductor module loaded with said semiconductor device and a method of manufacturing said semiconductor device
US6674177B2 (en) Apparatus for implementing selected functionality on an integrated circuit device
US7078824B2 (en) Semiconductor device having a switch circuit
US20040145042A1 (en) Semiconductor device
JP2009111401A (ja) 積層半導体チップパッケージ
JP2001094040A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH0755878A (ja) Kgdアレイ用テストソケット
JP4836110B2 (ja) マルチチップモジュール
JP3001481B2 (ja) 半導体装置およびその製造方法
JPH11251506A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP4616974B2 (ja) マルチチップモジュールのパッケージングプロセス
JPH10150071A (ja) 半導体装置の製造方法および半導体装置
US6707142B2 (en) Package stacked semiconductor device having pin linking means
JPH11330256A (ja) 半導体装置およびその製造方法
JP2003298002A (ja) 半導体モジュール
JP3718370B2 (ja) マルチチップ型半導体装置
JP2830793B2 (ja) マルチチップモジュール
JP2008172123A (ja) 半導体装置
JPS60200537A (ja) テスト専用端子付半導体装置
JP2003298003A (ja) 半導体モジュール
JPH0234960A (ja) 半導体装置及びその形成方法
JP3052633B2 (ja) 半導体装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20040203