JPH10150015A

JPH10150015A - 洗浄装置及び洗浄方法

Info

Publication number: JPH10150015A
Application number: JP8318606A
Authority: JP
Inventors: Kimio Motoda; 公男元田; Yoshitaka Matsuda; 義隆松田; Yoichi Honda; 洋一本田; Takamitsu Yamaguchi; 恭満山口
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1996-11-15
Filing date: 1996-11-15
Publication date: 1998-06-02
Anticipated expiration: 2016-11-15
Also published as: JP3250095B2

Abstract

(57)【要約】【課題】塗布機構における回転カップと固定カップに
付着する塗布液を除去して歩留まりの向上を図ること。【解決手段】ＬＣＤ基板Ｇを保持するスピンチャック
１０及びＬＣＤ基板Ｇの側方及び上、下部を包囲する回
転可能な蓋付回転カップ１２と、この蓋付回転カップ１
２の側方及び下方を包囲する固定カップ１４と、蓋付回
転カップ１２内に取り付けられてＬＣＤ基板Ｇの上方を
覆う整流板１７とを具備する塗布機構１において、蓋付
回転カップ１２の蓋部（蓋体１６）の中央に設けられた
供給孔３４を介して整流板１７上にシンナＢを供給する
第１の洗浄ノズル５と、スピンチャック１０の下方側に
配設されて整流板１７の外周下面、蓋付回転カップ１２
の内側面及び固定カップ１４の底面に向けてシンナＢを
供給する第２の洗浄ノズル６とを設ける。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、例えばＬＣＤ基
板の塗布機構等におけるカップ用の洗浄装置及び洗浄方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、液晶表示ディスプレイ（ＬＣ
Ｄ）装置の製造工程においては、ＬＣＤ基板（ガラス基
板）上に例えばＩＴＯ（ＩｎｄｉｕｍＴｉｎＯｘｉ
ｄｅ）の薄膜や電極パターン等を形成するために、半導
体製造工程において用いられるものと同様なフォトリソ
グラフィ技術を用いて回路パターン等を縮小してフォト
レジストに転写し、これを現像処理する一連の処理が施
される。

【０００３】例えば、被処理体であるＬＣＤ基板を、洗
浄し、アドヒージョン処理により疎水化処理を施し、冷
却した後、ＬＣＤ基板上にフォトレジストすなわち感光
膜を塗布形成する。次に、この塗布したフォトレジスト
をベーキングし、露光装置にて所定のパターンを露光す
る。そして、露光後のＬＣＤ基板に現像液を塗布して現
像した後にリンス液により現像液を洗い流し、現像処理
を完了する。

【０００４】上記のような処理を行う場合、ＬＣＤ基板
等の被処理体の表面にスピンコーティング法によってレ
ジスト液を塗布する処理が行われるが、この塗布処理の
際、ＬＣＤ基板が矩形状であるため、回転により空気流
に乱れが生じ、レジスト膜の膜厚の均一性が維持できな
いという問題がある。

【０００５】そのため、従来では、ＬＣＤ基板を保持す
る保持手段であるスピンチャックとＬＣＤ基板の側方及
び上、下部を蓋付回転カップで包囲し、この蓋付回転カ
ップ内のＬＣＤ基板の上方に整流板を取り付け、そし
て、蓋付回転カップの蓋部に設けられた給気孔から給気
される空気を整流板によって整流して回転カップの底部
に設けられた排気孔から排出して、空気流の乱れによる
レジスト膜の膜厚の乱れを防止している。また、蓋付回
転カップの側方及び下方を固定カップにて包囲して、回
転カップの回転により生じる空気流が回転カップ内に逆
流するのを防止している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この種
のスピンコーティング法によってレジスト液を塗布する
レジスト塗布装置においては、遠心力によってレジスト
液が外方へ飛散するため、回転カップの内側面や底面、
蓋体の裏面、整流板の下面等にレジストが付着する。ま
た、固定カップの内側面や底面にもレジストが付着する
虞れがある。このように回転カップ、固定カップ内や蓋
体、整流板等に付着したレジストは、乾燥してパーティ
クルを発生するため、このパーティクルがＬＣＤ基板に
付着すると、回路パターン等に支障をきたすばかりか歩
留まりの低下を招くという問題がある。

【０００７】この発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、塗布機構における回転カップと固定カップに付着す
る塗布液例えばレジストを除去して歩留まりの向上を図
れるようにした洗浄装置及び洗浄方法を提供することを
目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の洗浄装置は、被処理体を保持する保持手
段及び被処理体の側方及び上、下部を包囲する回転可能
な蓋付回転カップと、この蓋付回転カップの側方及び下
方を包囲する固定カップと、上記蓋付回転カップ内に取
り付けられて上記被処理体の上方を覆う整流板とを具備
する塗布機構のカップ用洗浄装置であって、上記蓋付
回転カップの蓋部中央に設けられた供給孔を介して上記
整流板上に洗浄液を供給する第１の洗浄ノズルと、上
記保持手段の下方側に配設されて上記整流板の外周下
面、蓋付回転カップの内側面及び固定カップの底面に向
けて洗浄液を供給する第２の洗浄ノズルと、を具備する
ことを特徴とする（請求項１）。

【０００９】この発明の洗浄装置において、上記固定カ
ップ内に配設されて上記蓋付回転カップの外周下面及び
固定カップの内側面に向かって洗浄液を供給する第３の
洗浄ノズルを具備する方が好ましい（請求項２）。この
場合、上記固定カップの内側面の下部を外方に向けて屈
曲形成して下方に開放させ、この固定カップの内側面の
屈曲部に向けて上記第３の洗浄ノズルから洗浄液を供給
可能に形成する方が好ましい（請求項３）。

【００１０】この発明の洗浄方法は、被処理体を保持す
る保持手段及び被処理体の側方及び上、下部を包囲する
回転可能な蓋付回転カップと、この蓋付回転カップの側
方及び下方を包囲する固定カップと、上記蓋付回転カッ
プ内に取り付けられて上記被処理体の上方を覆う整流板
とを具備する塗布機構のカップ用洗浄方法であって、上
記蓋付回転カップを回転させた状態で、上記蓋付回転カ
ップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液を供給し
て遠心力により蓋部下面に供給すると共に、上記整流板
の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固定カップの
底面に向けて洗浄液を供給する、ことを特徴とする（請
求項４）。

【００１１】この発明の洗浄方法において、上記蓋付回
転カップの外周下面及び上記固定カップの内側面に洗浄
液を供給する方が好ましい（請求項５）。

【００１２】また、この発明の洗浄方法において、上記
蓋付回転カップを第１の回転数で回転して、この蓋付回
転カップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液を供
給し、上記第１の回転数より速い第２の回転数で回転し
て、上記整流板の外周下面及び上記蓋付回転カップの内
側面に向けて洗浄液を供給し、かつ上記第１の回転数よ
り遅い第３の回転数で回転して、上記蓋付回転カップの
底面に洗浄液を供給する方が好ましい（請求項６）。こ
の場合、例えば上記第１の回転数を３５０〜６５０ｒｐ
ｍ、上記第２の回転数を７００〜１３００ｒｐｍ、上記
第３の回転数を１４〜２６ｒｐｍとすることができる
（請求項７）。

【００１３】この発明によれば、蓋付回転カップを回転
させた状態で、この回転カップの蓋部中央から整流板に
向けて洗浄液を供給すると共に、整流板の外周下面、蓋
付回転カップの内側面及び固定カップの底面に向けて洗
浄液を供給することにより、回転カップの蓋部中央から
供給される洗浄液が回転する整流板の遠心力によって外
方に飛散して蓋体の下面に付着する塗布液を除去し、ま
た、直接整流板の外周下面、回転カップの内側面及び固
定カップの底面に供給される洗浄液によってこれらに付
着する塗布液を除去することができる（請求項１，
４）。

【００１４】また、蓋付回転カップの外周下面及び上記
固定カップの内側面に洗浄液を供給することにより、回
転カップの外周下面及び固定カップの内側面に付着する
塗布液を除去することができる（請求項２，５）。この
場合、固定カップの内側面の下部を外方に向けて屈曲形
成することで、回転カップと固定カップ間を流れる空気
の滞留部を形成することができ、この滞留部にて外部に
飛散する塗布液を受け止めて上方への逆流を阻止するこ
とができ、かつ、この固定カップの内側面の屈曲部に向
けて第３の洗浄ノズルから洗浄液を供給することによっ
て固定カップに付着する塗布液を除去することができる
（請求項３）。

【００１５】また、蓋付回転カップを第１の回転数（例
えば３５０〜６５０ｒｐｍ）で回転して、この蓋付回転
カップの蓋部中央から整流板に向けて洗浄液を供給する
ことにより、回転カップの回転と共に回転する整流板の
遠心力によって洗浄液を蓋部の外周下面に衝突させて蓋
部下面に付着した塗布液を除去することができ、第１の
回転数より速い第２の回転数（例えば７００〜１３００
ｒｐｍ）で回転して、整流板の外周下面及び蓋付回転カ
ップの内側面に向けて洗浄液を供給することにより、整
流板の外周下面及び回転カップの内側面の広い面積に効
率よく洗浄液を供給することができ、かつ第１の回転数
より遅い第３の回転数（例えば１４〜２６ｒｐｍ）で回
転して、蓋付回転カップの底面に洗浄液を供給すること
により、洗浄液を回転カップの底面の内周側から外周側
に移動させて底面に付着する塗布液を除去することがで
きる（請求項６，７）。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下にこの発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。ここでは、この発明に係
る洗浄装置を、ＬＣＤ基板のレジスト塗布装置に適用し
た場合について説明する。

【００１７】上記レジスト塗布装置は、図１に示すよう
に、角形状の被処理体例えば矩形状のＬＣＤ基板Ｇ（以
下に基板という）の表面に塗布液供給ノズル１ａから塗
布液例えばレジスト液を供給してレジスト液を塗布する
塗布機構１と、基板Ｇの周縁部に塗布形成された不要な
塗布膜を除去する縁部除去機構２と、塗布機構１によっ
て塗布された基板Ｇを縁部除去機構２に搬送する搬送機
構３とを具備してなる。

【００１８】上記塗布機構１は、図２に示すように、基
板Ｇを図示しない真空装置によって吸着保持すると共に
水平方向（θ方向）に回転する保持手段であるスピンチ
ャック１０と、このスピンチャック１０の上部及び外周
部を包囲する処理室２０を有する上方部が開口した有低
開口円筒状の回転カップ１２と、回転カップ１２の開口
部１２ａを開閉可能に被着（着脱）し得る蓋体１６と、
この蓋体１６の下方に取り付けられてスピンチャック１
０によって保持される基板Ｇの上方を覆う整流板１７
と、回転カップ１２の外周側を取囲むように配置される
中空リング状の固定カップ１４とで主要部が構成されて
いる。また、この塗布機構１には、回転カップ１２の内
側面と底面、蓋体１６の裏面、整流板１７の外周下面及
び固定カップの内側面を洗浄する洗浄装置４が設けられ
ている。

【００１９】上記スピンチャック１０は下方に配置した
駆動モータ２１の駆動によって回転される回転軸２２を
介して水平方向に回転（自転）可能になっており、また
回転軸２２に連結される昇降シリンダ２３の駆動によっ
て上下方向に移動し得るようになっている。この場合、
回転軸２２は、固定カラー２４の内周面にベアリング２
５ａを介して回転可能に装着される回転内筒２６ａの内
周面に嵌着されるスプライン軸受２７に摺動可能に連結
されている。スプライン軸受２７には従動プーリ２８ａ
が装着されており、従動プーリ２８ａには駆動モータ２
１の駆動軸２１ａに装着された駆動プーリ２１ｂとの間
にベルト２９ａが掛け渡されている。したがって、駆動
モータ２１の駆動によってベルト２９ａを介して回転軸
２２が回転してスピンチャック１０が回転される。ま
た、回転軸２２の下部側は図示しない筒体内に配設され
ており、筒体内において回転軸２２はバキュームシール
部３０を介して昇降シリンダ２３に連結され、昇降シリ
ンダ２３の駆動によって回転軸２２が上下方向に移動し
得るようになっている。

【００２０】上記回転カップ１２は、上記固定カラー２
４の外周面にベアリング２５ｂを介して装着される回転
外筒２６ｂの上端部に固定される連結筒３１を介して取
り付けられており、回転カップ１２の底部１２ｂとスピ
ンチャック１０の下面との間には、シール機能を有する
ベアリング３２が介在されてスピンチャック１０と相対
的に回転可能になっている。そして、回転外筒２６ｂに
装着される従動プーリ２８ｂと上記駆動モータ２１に装
着される駆動プーリ２１ｂに掛け渡されるベルト２９ｂ
によって駆動モータ２１からの駆動が回転カップ１２に
伝達されて回転カップ１２が回転される。この場合、従
動プーリ２８ｂの直径は上記回転軸２２に装着された従
動プーリ２８ａの直径と同一に形成され、同一の駆動モ
ータ２１にベルト２９ａ，２９ｂが掛け渡されているの
で、回転カップ１２とスピンチャック１０は同一回転す
る。なお、固定カラー２４と回転内筒２６ａ及び回転外
筒２６ｂとの対向面にはラビリンスシール部（図示せ
ず）が形成されて回転処理時に下部の駆動系から回転カ
ップ１２内にごみが進入するのを防止している。なお、
上記従動プーリ２８ａと２８ｂの直径を異ならせ、異な
る回転数で回転させるようにしてもよい。

【００２１】また、回転カップ１２は、側壁の内側面が
上側に向って縮径されたテーパ面を形成してなり、この
回転カップ１２の開口部１２ａにパッキング１８を介し
て閉塞される蓋体１６の中心部側に設けられた給気孔３
４から供給される空気流が、蓋体１６の下方側に配置さ
れた整流板１７上を通ってテーパ面に沿って、下部周辺
部すなわち側壁の下部側の周方向の適宜位置に設けられ
た排気孔３５から排気されるように構成されている。こ
のように給気孔３４と排気孔３５を設けることにより、
回転カップ１２が回転する際に、給気孔３４から処理室
２０内に流れる空気が排気孔３５から外部に流れるの
で、回転カップ１２の回転時に処理室２０内が必要以上
に負圧になるのを防止することができ、また、処理後に
回転カップ１２から蓋体１６を開放する際に大きな力を
要することなく，蓋体１６を容易に開放することができ
る。

【００２２】一方、上記固定カップ１４内部には環状通
路１４ａが設けられており、この環状通路１４ａの外周
壁の適宜箇所（例えば周方向の４箇所）には図示しない
排気装置に接続する排気口３６が設けられると共に、固
定カップ１４の内周側上方部に排気口３６と連通する放
射状の排気通路３７が形成されている（図２及び図３参
照）。このように固定カップ１４の外周部に排気口３６
を設けると共に、固定カップ１４の内周側上方部に排気
口３６と連通する排気通路３７を形成することにより、
回転処理時に処理室２０内で遠心力により飛散し排気孔
３５を通って固定カップ１４内に流れ込んだミストが回
転カップ１２の上部側へ舞い上がるのを防止して、排気
口３６から外部に排出することができる。

【００２３】上記環状通路１４ａは、固定カップ１４の
底部から起立する外側壁１４ｂと固定カップ１４の天井
部から垂下する内側壁１４ｃとで迂回状に区画されて、
排気が均一に行えるようになっており、外側壁１４ｂと
内側壁１４ｃとの間に位置する底部１４ｄには周方向に
適宜間隔をおいてドレン孔１４ｅが設けられている。ま
た、内側壁１４ｃの下部側すなわち回転カップ１２の下
部側と対向する部分には、外方側に向かってクランク状
に屈曲する屈曲部１４ｇが下方に開放した状態で設けら
れている。このように屈曲部１４ｇを設けることによ
り、レジスト塗布処理時に上方から下方に流れる空気の
滞留部を作ることができ、外部に飛散されたレジストの
上方への逆流を阻止することができる。

【００２４】上記蓋体１６は回転処理時には回転カップ
１２の開口部１２ａに固定されて一体に回転される必要
があるので、例えば回転カップ１２の上部に突出する固
定ピン（図示せず）と、この固定ピンに嵌合する嵌合凹
所（図示せず）とを互いに嵌合させて蓋体１６を回転カ
ップ１２に固定するように構成されている。この蓋体を
開閉は図示しないロボットアームによって行われる。

【００２５】一方、上記洗浄装置４は、図２及び図３に
示すように、上記蓋体１６の中央部に設けられた給気孔
３４を供給孔としてこの供給孔３４内に隙間をおいて挿
入し、上記整流板１７の上面に洗浄液例えばシンナＢを
噴射（供給）する第１の洗浄ノズル５と、上記スピンチ
ャック１０の回転軸２２に装着されるブラケット１９に
取り付けられて、それぞれ整流板１７の外周下面、回転
カップ１２の内側面又は回転カップ１２の底面に向かっ
て洗浄液例えばシンナＢを噴射（供給）する第２の洗浄
ノズル６と、上記固定カップ１４の底部１４ｄから内方
側に延在する水平片１４ｆに取り付けられて、上記回転
カップ１２の外周下面又は固定カップ１４の内側面すな
わち内側壁１４ｃに向かって洗浄液例えばシンナＢを噴
射（供給）する第３の洗浄ノズル７を具備している。こ
れら第１〜第３の洗浄ノズル５，６，７は、図示しない
シンナ供給源に接続されており、例えばポンプあるいは
Ｎ2ガスのガス圧等によってそれぞれ独立してシンナＢ
が噴射（供給）されるように構成されている。

【００２６】このように構成することにより、第１の洗
浄ノズル５から整流板１７の上に噴射されるシンナＢ
は、回転する整流板１７による遠心力によって放射方向
に飛散されて図４のに示すように蓋体１６の下面に衝
突し、蓋体１６の下面に付着するレジストＡを溶解除去
することができる。

【００２７】また、上記第２の洗浄ノズル６は、図５に
示すように、整流板１７の外周下面に向かってシンナＢ
を噴射するノズル孔６ａを有するノズル体６Ａと、回転
カップ１２の内側面に向かってシンナＢを噴射するノズ
ル孔６ｂを有するノズル体６Ｂと、回転カップ１２の底
面の内周側部位に向かってシンナＢを噴射するノズル孔
６ｃを有するノズル体６Ｃの３種類にて構成されてお
り、円周方向に適宜間隔例えば１２０度の間隔をおいて
配置されている。これらノズル体６Ａ，６Ｂ，６Ｃの各
ノズル孔６ａ，６ｂ，６ｃから回転する整流板１７の外
周下面方向（図４及び図５の方向）、回転カップ１２
の内側面方向（図４及び図５の方向）及び回転カップ
１２の底面方向（図４及び図５の方向）にシンナＢを
噴射することにより、それぞれの対応する部位に付着す
るレジストを溶解除去することができる。なお、第２の
洗浄ノズル６は少なくとも３種類のノズル体６Ａ，６
Ｂ，６Ｃにて構成されていればよく、３種類のノズル体
６Ａ，６Ｂ，６Ｃを複数組み配置するようにしてもよ
い。

【００２８】また、第３の洗浄ノズル７は、図６に示す
ように、回転カップ１２の外周下面に向かってシンナＢ
を噴射するノズル孔７ａを有するノズル体７Ａと、固定
カップ１４の内側壁１４ｃ（具体的には屈曲部１４ｇ）
に向かってシンナＢを噴射するノズル孔７ｂを有するノ
ズル体７Ｂの２種類にて構成されており、円周方向に適
宜間隔例えば１８０度の間隔をおいて配置されている。
これらノズル体７Ａ，７Ｂの各ノズル孔７ａ，７ｂから
回転カップ１２の外周下面方向（図４及び図６の方
向）及び固定カップ１４の内側壁１４ｆ（具体的には屈
曲部１４ｇ）方向（図４及び図６の方向）にシンナＢ
を噴射することにより、それぞれの対応する部位に付着
するレジストを溶解除去することができる。なお、第３
の洗浄ノズル７は少なくとも２種類のノズル体７Ａ，７
Ｂにて構成されていればよく、２種類のノズル体７Ａ，
７Ｂを複数組み配置するようにしてもよい。

【００２９】なお、上記縁部除去機構２は、図１に示す
ように、図示しない真空装置によって基板Ｇを吸着保持
する載置台５０と、この載置台５０によって保持される
基板Ｇの４辺の縁部の上下面に洗浄液例えばレジストの
溶剤（シンナ）を噴射する第１の洗浄液供給手段である
４個の除去ノズル５１とで主要部が構成されている。

【００３０】上記除去ノズル５１は、図１のＸ又はＹ方
向に延在するように設けられたガイドレール５３に摺動
自在に取り付けられたスライド部材５４に取着されてい
る。このスライド部材５４は、ワイヤ，チェーン，ベル
ト，ボールねじやステッピングモータ，エアーシリンダ
等を使用した移動機構（図示せず）により、Ｘ又はＹ方
向に往復移動可能に構成されている。また、隣接する除
去ノズル５１が互いに干渉つまり衝突しないように、除
去ノズル５１の近接位置を検知するセンサ５５が設けら
れている。このセンサ５５によって隣接する一方の除去
ノズル５１が他方の除去ノズル５１側に接近するのを検
知し、その検知信号を図示しない制御部に伝達して、制
御部からの制御信号によって移動機構の駆動を停止する
ことにより、隣接する除去ノズル５１同士の干渉すなわ
ち衝突を防止することができる。

【００３１】次に、上記洗浄装置４による洗浄作用につ
いて説明する。まず、上記塗布機構１によって基板Ｇの
レジスト塗布を行った後、蓋体１６を開放し、スピンチ
ャック１０を上昇して、図示しない搬送アームによって
基板Ｇを取り出す。その後、蓋体１６を閉塞して、スピ
ンチャック１０と共に回転カップ１２及び蓋体１６を回
転（例えば３５０〜６５０ｒｐｍの回転数で回転）する
と共に、供給孔３４（給気孔）に隙間をもって挿入され
る第１の洗浄ノズル５から回転する整流板１７の中心上
面にシンナＢを噴射する。すると、整流板１７の上に噴
射されたシンナＢは遠心力によって放射方向に飛散され
て、蓋体１６の外周下面に衝突し、蓋体１６の外周下面
に付着するレジストＡを溶解して除去する（図３及び図
４の参照）。

【００３２】次に、スピンチャック１０と回転カップ１
２の回転を高速回転（例えば７００〜１３００ｒｐｍの
回転数で回転）すると共に、第２の洗浄ノズル６のノズ
ル体６Ａ，６Ｂから整流板１７の外周下面及び回転カッ
プの内側面に向かってシンナＢを噴射する。すると、シ
ンナＢは回転する整流板１７の外周下面及び回転カップ
１２の内側面に衝突してこれらに付着するレジストＡを
溶解して除去する（図３及び図４の，参照）。ま
た、この整流板１７の外周下面及び回転カップ１２の内
側面の洗浄と同時に、第３の洗浄ノズル７のノズル体７
Ａ，７Ｂから回転カップ１２の外周下面及び固定カップ
の内側面すなわち内側壁１４ｆ（具体的には屈曲部１４
ｇ）に向かってシンナＢを噴射することにより、回転カ
ップ１２の外周下面及び固定カップの内側壁１４ｆ（具
体的には屈曲部１４ｇ）に付着するレジストＡを溶解し
て除去する（図３及び図４の，参照）。

【００３３】次に、スピンチャック１０と回転カップ１
２の回転を低速回転（例えば１４〜２６ｒｐｍの回転数
で回転）すると共に、第２の洗浄ノズル６のノズル体６
Ｃから回転する回転カップ１２の底面にシンナＢを噴射
する。すると、回転カップ１２の底面に噴射されたシン
ナＢは遠心力によって回転カップ１２の底面上の外周側
に移動して底面に付着するレジストＡを溶解して除去し
（図３及び図４の参照）、排気孔３５を通って排出さ
れる際、排気孔３５に付着するレジストＡを溶解して除
去する。

【００３４】なお、上記実施形態では、蓋体１６の外周
下面の洗浄（図４の）→整流板１７の外周下面、回転
カップ１２の内側面、回転カップ１２の外周下面及び固
定カップ１４の内側壁１４ｆ（具体的には屈曲部１４
ｇ）の洗浄（図４の，，，参照）→回転カップ
１２の底面、排気孔３５の洗浄（図４の参照）の順で
洗浄を行う場合について説明したが、必しもこのような
順序で行う必要はなく、洗浄の順序を適宜選択すること
ができる。また、この洗浄作業のタイミングは任意であ
り、例えば所定数例えば１ロット等の基板Ｇのレジスト
塗布を行った後、定期的に行うようにすることができ
る。

【００３５】上記実施形態では、この発明に係る洗浄装
置及び洗浄方法をＬＣＤ基板の塗布装置に適用した場合
について説明したが、塗布装置以外の処理装置例えば現
像装置においても同様に適用することができ、また、Ｌ
ＣＤ基板以外の例えば半導体ウエハ等の被処理体の塗布
装置や現像装置等のカップ洗浄にも適用することができ
る。

【００３６】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば、以下のような優れた効果が得られる。

【００３７】１）請求項１又は４記載の発明によれば、
蓋付回転カップを回転させた状態で、この回転カップの
蓋部中央から整流板に向けて洗浄液を供給すると共に、
整流板の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固定カ
ップの底面に向けて洗浄液を供給することにより、回転
カップの蓋部中央から供給される洗浄液が回転する整流
板の遠心力によって外方に飛散して蓋体の下面に付着す
る塗布液を除去し、また、直接整流板の外周下面、回転
カップの内側面及び固定カップの底面に供給される洗浄
液によってこれらに付着する塗布液を除去することがで
きる。したがって、蓋付回転カップ、整流板に付着する
塗布液が乾燥してパーティクルを防止することができる
ので、製品の歩留まりの向上を図ることができる。

【００３８】２）請求項２又は５記載の発明によれば、
蓋付回転カップの外周下面及び上記固定カップの内側面
に洗浄液を供給することにより、回転カップの外周下面
及び固定カップの内側面に付着する塗布液を除去するこ
とができるので、上記１）に加えて更に洗浄性の向上を
図ることができる。

【００３９】３）請求項３記載の発明によれば、固定カ
ップの内側面の下部を外方に向けて屈曲形成して下方に
開放させ、この屈曲部に向けて洗浄液を供給するので、
滞留部にて外部に飛散する塗布液を受け止めて上方への
逆流を阻止することができると共に、固定カップに付着
する塗布液を効率良く除去することができる。

【００４０】４）請求項６及び７記載の発明によれば、
回転カップの回転と共に回転する整流板の遠心力によっ
て洗浄液を蓋部の外周下面に衝突させて蓋部下面に付着
した塗布液を除去することができ、整流板の外周下面及
び回転カップの内側面の広い面積に効率よく洗浄液を供
給することができ、かつ洗浄液を回転カップの底面の内
周側から外周側に移動させて底面に付着する塗布液を除
去することができるので、上記１）、２）に加えて更に
洗浄効率の向上を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る洗浄装置を具備するレジスト塗
布装置の概略平面図である。

【図２】この発明に係る洗浄装置を示す概略断面図であ
る。

【図３】上記洗浄装置の要部を示す拡大断面図である。

【図４】洗浄部を具体的に示す概略断面図である。

【図５】この発明における第２の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【図６】この発明における第３の洗浄ノズルの別の種類
を示す概略断面図である。

【符号の説明】

１塗布機構５第１の洗浄ノズル６第２の洗浄ノズル７第３の洗浄ノズル１０スピンチャック（保持手段）１２回転カップ１４固定カップ１４ｃ内側壁１４ｇ屈曲部１６蓋体１７整流板３４供給孔ＧＬＣＤ基板（被処理体）ＡレジストＢシンナ（洗浄液）

フロントページの続き (72)発明者本田洋一熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４東京エレクトロン九州大津事業所内 (72)発明者山口恭満熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の４東京エレクトロン九州大津事業所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】被処理体を保持する保持手段及び被処理
体の側方及び上、下部を包囲する回転可能な蓋付回転カ
ップと、この蓋付回転カップの側方及び下方を包囲する
固定カップと、上記蓋付回転カップ内に取り付けられて
上記被処理体の上方を覆う整流板とを具備する塗布機構
のカップ用洗浄装置であって、上記蓋付回転カップの蓋部中央に設けられた供給孔を介
して上記整流板上に洗浄液を供給する第１の洗浄ノズル
と、上記保持手段の下方側に配設されて上記整流板の外周下
面、蓋付回転カップの内側面及び固定カップの底面に向
けて洗浄液を供給する第２の洗浄ノズルと、を具備する
ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項２】請求項１記載の洗浄装置において、上記固定カップ内に配設されて上記蓋付回転カップの外
周下面及び固定カップの内側面に向かって洗浄液を供給
する第３の洗浄ノズルを具備することを特徴とする洗浄
装置。
【請求項３】請求項２記載の洗浄装置において、上記固定カップの内側面の下部を外方に向けて屈曲形成
して下方に開放させ、この固定カップの内側面の屈曲部
に向けて上記第３の洗浄ノズルから洗浄液を供給可能に
形成する、ことを特徴とする洗浄装置。
【請求項４】被処理体を保持する保持手段及び被処理
体の側方及び上、下部を包囲する回転可能な蓋付回転カ
ップと、この蓋付回転カップの側方及び下方を包囲する
固定カップと、上記蓋付回転カップ内に取り付けられて
上記被処理体の上方を覆う整流板とを具備する塗布機構
のカップ用洗浄方法であって、上記蓋付回転カップを回転させた状態で、上記蓋付回転
カップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液を供給
して遠心力により蓋部下面に供給すると共に、上記整流
板の外周下面、蓋付回転カップの内側面及び固定カップ
の底面に向けて洗浄液を供給する、ことを特徴とする洗
浄方法。
【請求項５】請求項４記載の洗浄方法において、上記蓋付回転カップの外周下面及び上記固定カップの内
側面に洗浄液を供給する、ことを特徴とする洗浄方法。
【請求項６】請求項４又は５記載の洗浄方法におい
て、上記蓋付回転カップを第１の回転数で回転して、この蓋
付回転カップの蓋部中央から上記整流板に向けて洗浄液
を供給し、上記第１の回転数より速い第２の回転数で回
転して、上記整流板の外周下面及び上記蓋付回転カップ
の内側面に向けて洗浄液を供給し、かつ上記第１の回転
数より遅い第３の回転数で回転して、上記蓋付回転カッ
プの底面に洗浄液を供給する、ことを特徴とする洗浄方
法。
【請求項７】請求項６記載の洗浄方法において、上記第１の回転数が３５０〜６５０ｒｐｍ、上記第２の
回転数が７００〜１３００ｒｐｍ、上記第３の回転数が
１４〜２６ｒｐｍである、ことを特徴とする洗浄方法。