JPH10147639A - 水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその製造方法 - Google Patents
水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその製造方法Info
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- JPH10147639A JPH10147639A JP31040696A JP31040696A JPH10147639A JP H10147639 A JPH10147639 A JP H10147639A JP 31040696 A JP31040696 A JP 31040696A JP 31040696 A JP31040696 A JP 31040696A JP H10147639 A JPH10147639 A JP H10147639A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 分子量分布が狭く、開始末端に１級水酸基を
導入した新規水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその
製造法の提供。 【解決手段】 第３級アルコール又はベンジルアルコー
ルの金属アルコキシド存在下、又はこれらアルコールと
アルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ金属アルコキシ
ド共存下、トリフルオロプロピレンオキシドを、要すれ
ばエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシドを共
重合した後、重合を停止し、開始末端を分解して１級水
酸基変性含フッ素ポリエーテル（Ｖ）を得る。 HO-(AO)n-R2 （Ｖ） (R2はH, C1-30の炭化水素基等、Aはエチレン基、プロピ
レン基又は-CH2CH(CF3)-を示し、分子中の全 A基の内少
なくとも５個は-CH2CH(CF3)-である。ｎは平均で５〜20
00の数を示す。〕
導入した新規水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその
製造法の提供。 【解決手段】 第３級アルコール又はベンジルアルコー
ルの金属アルコキシド存在下、又はこれらアルコールと
アルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ金属アルコキシ
ド共存下、トリフルオロプロピレンオキシドを、要すれ
ばエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキシドを共
重合した後、重合を停止し、開始末端を分解して１級水
酸基変性含フッ素ポリエーテル（Ｖ）を得る。 HO-(AO)n-R2 （Ｖ） (R2はH, C1-30の炭化水素基等、Aはエチレン基、プロピ
レン基又は-CH2CH(CF3)-を示し、分子中の全 A基の内少
なくとも５個は-CH2CH(CF3)-である。ｎは平均で５〜20
00の数を示す。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は含フッ素ポリエーテ
ル及びその製造方法に関するものであり、詳しくは化粧
品原料、繊維処理剤、塗料用添加剤、乳化剤、樹脂改質
剤、無機物処理剤等として有用な水酸基変性含フッ素ポ
リエーテル及びその製造方法に関するものである。
ル及びその製造方法に関するものであり、詳しくは化粧
品原料、繊維処理剤、塗料用添加剤、乳化剤、樹脂改質
剤、無機物処理剤等として有用な水酸基変性含フッ素ポ
リエーテル及びその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】含フッ
素化合物は一般にその表面自由エネルギーが非常に低い
ため、撥水性、撥油性、防汚性、非粘着性、低摩擦性を
有し、液状物はその低い表面張力により高い濡れ性、浸
透性といった特異な性質を示すことが知られている。中
でも、フッ素系ポリエーテルは、さまざまな物質の表面
改質等に用いられており、例えば、化粧品、磁気記録材
料や、精密機械用の潤滑剤、繊維処理剤等の用途が挙げ
られる。現在、そのようなフッ素系ポリエーテルとし
て、何種類かが開発されている（アウジモント社製；商
標フォンブリン、デュポン社製；商標クライトックス、
ダイキン（株）製；商標デムナム）。しかしながら、こ
れらはいずれも他の材料との相溶性に乏しいため、それ
らを配合物とすることが困難であり、また他の基材への
付着性が乏しい。
素化合物は一般にその表面自由エネルギーが非常に低い
ため、撥水性、撥油性、防汚性、非粘着性、低摩擦性を
有し、液状物はその低い表面張力により高い濡れ性、浸
透性といった特異な性質を示すことが知られている。中
でも、フッ素系ポリエーテルは、さまざまな物質の表面
改質等に用いられており、例えば、化粧品、磁気記録材
料や、精密機械用の潤滑剤、繊維処理剤等の用途が挙げ
られる。現在、そのようなフッ素系ポリエーテルとし
て、何種類かが開発されている（アウジモント社製；商
標フォンブリン、デュポン社製；商標クライトックス、
ダイキン（株）製；商標デムナム）。しかしながら、こ
れらはいずれも他の材料との相溶性に乏しいため、それ
らを配合物とすることが困難であり、また他の基材への
付着性が乏しい。
【０００３】最近、この欠点を解決したフルオロアルキ
ル基を有するポリエーテルが開発されている(Journal o
f Polymer Science Part A-1 Vol.5, 2343(1967) 、特
開平６−２５４０３号、特開平６−２６３８６８号、特
開平４−１２３０号等）。これらはアルカリ金属水酸化
物やアルコール−アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属
アルコキシド等の重合開始剤から重合を行うことによ
り、末端に水酸基を有する含フッ素ポリエーテルを得る
ものであった。しかし、得られたポリマーは分子量分布
が広く、収率が低い、重合速度が遅いことが問題点とし
て挙げられた。また、アルカリ金属水酸化物以外の重合
開始剤を用いた場合、末端の水酸基は２級となる。
ル基を有するポリエーテルが開発されている(Journal o
f Polymer Science Part A-1 Vol.5, 2343(1967) 、特
開平６−２５４０３号、特開平６−２６３８６８号、特
開平４−１２３０号等）。これらはアルカリ金属水酸化
物やアルコール−アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属
アルコキシド等の重合開始剤から重合を行うことによ
り、末端に水酸基を有する含フッ素ポリエーテルを得る
ものであった。しかし、得られたポリマーは分子量分布
が広く、収率が低い、重合速度が遅いことが問題点とし
て挙げられた。また、アルカリ金属水酸化物以外の重合
開始剤を用いた場合、末端の水酸基は２級となる。
【０００４】従って、本発明の目的は、撥水性、撥油性
等の特異な性質を有し、且つ他の材料との相溶性や各種
溶剤への溶解性、無機物等の粉体の表面処理等に優れて
おり、更には親水性基材（例えば、毛髪、皮膚）への付
着性も良好である水酸基変性含フッ素ポリエーテルを、
分子量分布を狭くし、短時間且つ高収率で製造する方法
を提供することにある。また、含フッ素ポリエーテルの
開始末端に１級水酸基を導入した新規１級水酸基変性含
フッ素ポリエーテル及びその製造方法を提供することに
ある。
等の特異な性質を有し、且つ他の材料との相溶性や各種
溶剤への溶解性、無機物等の粉体の表面処理等に優れて
おり、更には親水性基材（例えば、毛髪、皮膚）への付
着性も良好である水酸基変性含フッ素ポリエーテルを、
分子量分布を狭くし、短時間且つ高収率で製造する方法
を提供することにある。また、含フッ素ポリエーテルの
開始末端に１級水酸基を導入した新規１級水酸基変性含
フッ素ポリエーテル及びその製造方法を提供することに
ある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
に応えるために鋭意検討を行った結果、分子量分布の狭
い水酸基変性含フッ素ポリエーテルを短時間且つ高収率
で製造する方法、且つ含フッ素ポリエーテルの開始末端
に１級水酸基を導入した新規１級水酸基変性含フッ素ポ
リエーテル及びその製造方法を見出し、本発明を完成す
るに至った。
に応えるために鋭意検討を行った結果、分子量分布の狭
い水酸基変性含フッ素ポリエーテルを短時間且つ高収率
で製造する方法、且つ含フッ素ポリエーテルの開始末端
に１級水酸基を導入した新規１級水酸基変性含フッ素ポ
リエーテル及びその製造方法を見出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００６】即ち、本発明は、一般式（Ｉ） R1OH （Ｉ） 〔式中、 R1：式（II）又は(III) で表される基を示す。
【０００７】
【化４】
【０００８】（ここで、Ra,Rb,Rcは同一又は異なって総
炭素数１〜10のアルキル基、アルキル置換フェニル基、
フェニル基又はベンジル基を示し、Rdは水素原子、総炭
素数１〜10のアルキル基又はアルコキシ基を示す。）〕
で表されるアルコールの金属アルコキシド存在下、又は
一般式（Ｉ）で表されるアルコールとアルカリ金属水酸
化物あるいはアルカリ金属アルコキシド共存下、一般式
(IV)
炭素数１〜10のアルキル基、アルキル置換フェニル基、
フェニル基又はベンジル基を示し、Rdは水素原子、総炭
素数１〜10のアルキル基又はアルコキシ基を示す。）〕
で表されるアルコールの金属アルコキシド存在下、又は
一般式（Ｉ）で表されるアルコールとアルカリ金属水酸
化物あるいはアルカリ金属アルコキシド共存下、一般式
(IV)
【０００９】
【化５】
【００１０】で表されるトリフルオロプロピレンオキシ
ドを、また必要に応じてエチレンオキシド及び／又はプ
ロピレンオキシドをランダムあるいはブロック共重合し
た後、重合停止剤を用い重合を停止し、引き続き酸もし
くは還元剤により開始末端を分解することを特徴とする
一般式（Ｖ） HO-(AO)n-R2 （Ｖ） 〔式中、 R2：水素原子又は置換基を有しても良い炭素数１〜30の
炭化水素基、アルキルシリル基又はアシル基を示す。 A：エチレン基、プロピレン基又は式 (VI)
ドを、また必要に応じてエチレンオキシド及び／又はプ
ロピレンオキシドをランダムあるいはブロック共重合し
た後、重合停止剤を用い重合を停止し、引き続き酸もし
くは還元剤により開始末端を分解することを特徴とする
一般式（Ｖ） HO-(AO)n-R2 （Ｖ） 〔式中、 R2：水素原子又は置換基を有しても良い炭素数１〜30の
炭化水素基、アルキルシリル基又はアシル基を示す。 A：エチレン基、プロピレン基又は式 (VI)
【００１１】
【化６】
【００１２】で表される基を示し、ｎ個の Aは同一でも
異なっても良く、分子中の全 A基の内少なくとも５個は
式 (VI) で表される基である。 ｎ：平均で５〜2000の数を示す。〕で表される１級水酸
基変性含フッ素ポリエーテルの製造方法を提供するもの
である。
異なっても良く、分子中の全 A基の内少なくとも５個は
式 (VI) で表される基である。 ｎ：平均で５〜2000の数を示す。〕で表される１級水酸
基変性含フッ素ポリエーテルの製造方法を提供するもの
である。
【００１３】また、本発明は、前記一般式（Ｖ）で表さ
れる１級水酸基変性含フッ素ポリエーテルを提供するも
のである。
れる１級水酸基変性含フッ素ポリエーテルを提供するも
のである。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。
て詳細に説明する。
【００１５】本発明の製造方法は、以下に示す反応式
（Ａ）に従い、まず一般式（Ｉ）で表されるアルコール
（以下アルコール（Ｉ）と略記する）の金属アルコキシ
ド（一般式(VII) で表される化合物）存在下、又はアル
コール（Ｉ）とアルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ
金属アルコキシド共存下、一般式 (IV) で表されるトリ
フルオロプロピレンオキシド（以下トリフルオロプロピ
レンオキシド (IV) と略記する）を、また必要に応じて
一般式(VIII)で表されるエチレンオキシド及び／又はプ
ロピレンオキシドをランダムあるいはブロック共重合し
た後、重合停止剤を用い重合を停止することにより、一
般式(IX)で表される含フッ素ポリエーテルを合成し、引
き続き酸や還元剤により開始末端を分解し水酸基を導入
することにより、一般式（Ｖ）で表される含フッ素ポリ
エーテル（以下含フッ素ポリエーテル（Ｖ）と略記す
る）を製造するものである。
（Ａ）に従い、まず一般式（Ｉ）で表されるアルコール
（以下アルコール（Ｉ）と略記する）の金属アルコキシ
ド（一般式(VII) で表される化合物）存在下、又はアル
コール（Ｉ）とアルカリ金属水酸化物あるいはアルカリ
金属アルコキシド共存下、一般式 (IV) で表されるトリ
フルオロプロピレンオキシド（以下トリフルオロプロピ
レンオキシド (IV) と略記する）を、また必要に応じて
一般式(VIII)で表されるエチレンオキシド及び／又はプ
ロピレンオキシドをランダムあるいはブロック共重合し
た後、重合停止剤を用い重合を停止することにより、一
般式(IX)で表される含フッ素ポリエーテルを合成し、引
き続き酸や還元剤により開始末端を分解し水酸基を導入
することにより、一般式（Ｖ）で表される含フッ素ポリ
エーテル（以下含フッ素ポリエーテル（Ｖ）と略記す
る）を製造するものである。
【００１６】
【化７】
【００１７】〔反応式（Ａ）中、 M：アルカリ金属又はアルカリ土類金属を示す。 R1, R2, A, n：前記の意味を示す。 R3：水素原子又はメチル基を示す。〕 上記の反応式（Ａ）において使用される重合開始剤の金
属アルコキシド又は金属水酸化物のカウンターカチオン
(M) としてはナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシ
ウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金
属が挙げられる。
属アルコキシド又は金属水酸化物のカウンターカチオン
(M) としてはナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシ
ウム等のアルカリ金属、カルシウム等のアルカリ土類金
属が挙げられる。
【００１８】本発明方法において単量体として用いるト
リフルオロプロピレンオキシド (IV) はトリフルオロア
セトンを臭素化して得られたブロモトリフルオロアセト
ンを水素化リチウムアルミニウムで還元してブロモトリ
フルオロイソプロピルアルコールを得、これを苛性ソー
ダで処理する方法、あるいはトリフルオロプロピレンを
微生物を用いて酸化する方法（特公昭６１−１４７９８
号公報、特開昭６１−２０２６９７号公報参照）等によ
り製造することが出来る。
リフルオロプロピレンオキシド (IV) はトリフルオロア
セトンを臭素化して得られたブロモトリフルオロアセト
ンを水素化リチウムアルミニウムで還元してブロモトリ
フルオロイソプロピルアルコールを得、これを苛性ソー
ダで処理する方法、あるいはトリフルオロプロピレンを
微生物を用いて酸化する方法（特公昭６１−１４７９８
号公報、特開昭６１−２０２６９７号公報参照）等によ
り製造することが出来る。
【００１９】アルコール（Ｉ）としては、ｔ−ブタノー
ル、２−メチル−２−ブタノール、２−メチル−２−ペ
ンタノール、２−メチル−２−ヘキサノール、トリフェ
ニルメタノール、２−フェニル−２−プロパノール、２
−ベンジル−２−プロパノール、２−メチルフェニル−
２−プロパノール、２−フェニル−２−ブタノール等の
３級アルコール；ベンジルアルコール、メトキシベンジ
ルアルコール、エトキシベンジルアルコール等のベンジ
ルアルコールが挙げられる。
ル、２−メチル−２−ブタノール、２−メチル−２−ペ
ンタノール、２−メチル−２−ヘキサノール、トリフェ
ニルメタノール、２−フェニル−２−プロパノール、２
−ベンジル−２−プロパノール、２−メチルフェニル−
２−プロパノール、２−フェニル−２−ブタノール等の
３級アルコール；ベンジルアルコール、メトキシベンジ
ルアルコール、エトキシベンジルアルコール等のベンジ
ルアルコールが挙げられる。
【００２０】上記反応式（Ａ）においてR2は重合停止剤
から誘導される基を示す。使用する重合停止剤の種類に
よって、得られる含フッ素ポリエーテルの末端基の構造
を選択することができる。即ち、水、アルコール、酸を
用いれば末端のR2は水素原子になり、ハロゲン化物であ
るハロゲン化アルキルやハロゲン化アルケニルを用いれ
ばR2はアルキル基やアルケニル基になる。R2としては水
素原子又は置換基（水酸基、アミノ基、ハロゲン原子
等）を有しても良い炭素数１〜30のアルキル基、アルケ
ニル基、フェニル基、ベンジル基等の炭化水素基、アル
キルシリル基、アシル基などが好ましく、特に水素原
子、炭素数１〜20のアルキル基、炭素数１〜20のフッ素
置換アルキル基が好ましい。
から誘導される基を示す。使用する重合停止剤の種類に
よって、得られる含フッ素ポリエーテルの末端基の構造
を選択することができる。即ち、水、アルコール、酸を
用いれば末端のR2は水素原子になり、ハロゲン化物であ
るハロゲン化アルキルやハロゲン化アルケニルを用いれ
ばR2はアルキル基やアルケニル基になる。R2としては水
素原子又は置換基（水酸基、アミノ基、ハロゲン原子
等）を有しても良い炭素数１〜30のアルキル基、アルケ
ニル基、フェニル基、ベンジル基等の炭化水素基、アル
キルシリル基、アシル基などが好ましく、特に水素原
子、炭素数１〜20のアルキル基、炭素数１〜20のフッ素
置換アルキル基が好ましい。
【００２１】本発明において用いられる重合停止剤とし
ては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸；酢酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸等の有機酸：水；アルコール；塩素、臭素、ヨウ
素等のハロゲンを有するハロゲン化物が好ましい。ハロ
ゲン化物としてはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化
プロピル、ヨウ化ブチル、ヨウ化オクチル、ヨウ化ラウ
リル、ヨウ化ミリスチル、ヨウ化パルミチル、ヨウ化ス
テアリル、ヨウ化アリル、ヨウ化ベンジル、ヨウ化メチ
ルベンジル、ヨードベンゼン、ヨードメチルベンゼン、
ヨウ化シンナミル、２−ヨードエチルアルコール、３−
ヨードプロピルアルコール、２−ヨードエチルアミン、
３−ヨードプロピルアミン、臭化メチル、臭化エチル、
臭化プロピル、臭化ブチル、臭化オクチル、臭化ラウリ
ル、臭化ミリスチル、臭化パルミチル、臭化ステアリ
ル、臭化アリル、臭化クロチル、臭化ベンジル、臭化メ
チルベンジル、ブロモベンゼン、ブロモメチルベンゼ
ン、臭化シンナミル、１−臭化酢酸メチル、ブロモメチ
ルメチルエーテル、２−ブロモエチルアルコール、３−
ブロモプロピルアルコール、２−ブロモエチルアミン、
３−ブロモプロピルアミン、塩化メチル、塩化エチル、
塩化アリル、塩化ベンジル、塩化メチルベンジル、クロ
ロメチルスチレン、１−塩化酢酸メチル、クロロメチル
メチルエーテル、２−クロロエチルアルコール、３−ク
ロロプロピルアルコール、２−クロロエチルアミン、３
−クロロプロピルアミン等のハロゲン化アルキル、ハロ
ゲン化アルケニル、ハロゲン化フェニル、ハロゲン化ベ
ンジル等が挙げられる。また、アセチルブロミド、アセ
チルクロリド、１−臭化酢酸ブロミド、１−塩化酢酸、
（メタ）アクリル酸クロリド、無水酢酸、無水安息香酸
等のアシル化剤；ヨウ化パーフルオロエチル、ヨウ化パ
ーフルオロプロピル、ヨウ化パーフルオロブチル、ヨウ
化パーフルオロヘキシル、ヨウ化パーフルオロオクチ
ル、ヨウ化２−（パーフルオロブチル）エチル、ヨウ化
２−（パーフルオロヘキシル）エチル、ヨウ化２−（パ
ーフルオロオクチル）エチル、トリフルオロ酢酸ブロミ
ド、トリフルオロ酢酸クロリド、パーフルオロプロピオ
ン酸ブロミド、パーフルオロプロピオン酸クロリド、パ
ーフルオロブタン酸ブロミド、パーフルオロブタン酸ク
ロリド、パーフルオロヘキサン酸ブロミド、パーフルオ
ロヘキサン酸クロリド、パーフルオロオクタン酸ブロミ
ド、パーフルオロオクタン酸クロリド、パーフルオロ
（2,5,8 −トリメチル−3,6,9 −トリオキサドデカノイ
ル）フロリド、パーフルオロ（2,5,8,11−テトラメチル
−3,6,9,12−テトラオキサペンタデカノイル）フロリ
ド、３Ｈ−テトラフルオロプロピオニルクロリド、５Ｈ
−オクタフルオロバレリルクロリド、７Ｈ−ドデカフル
オロヘプタノイルクロリド、９Ｈ−ヘキサデカフルオロ
ノナノイルクロリド、３−クロロテトラフルオロプロピ
オニルクロリド、3,4 −ジクロロペンタフルオロブチリ
ルクロリド、2,2 −ビス（トリフルオロメチル）プロピ
オニルフロリド等のハロゲン化アルキル化剤、ハロゲン
化アシル化剤；トリメチルクロロシラン、トリエチルク
ロロシラン、３−クロロプロピルトリメチルシラン、３
−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロ
ピルトリエトキシシラン、クロロメチルジメチルクロロ
シラン、ベンジルジメチルクロロシラン、ジメチルジク
ロロシラン、ジエチルジクロロシラン等のシリル化剤も
挙げられる。これらの重合停止剤としては塩酸等の無機
酸；酢酸等の有機酸；ハロゲン化アルキル；ハロゲン化
（ヨウ化、臭化、塩化）フッ素置換アルキルが特に好ま
しい。
ては、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸；酢酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸等の有機酸：水；アルコール；塩素、臭素、ヨウ
素等のハロゲンを有するハロゲン化物が好ましい。ハロ
ゲン化物としてはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化
プロピル、ヨウ化ブチル、ヨウ化オクチル、ヨウ化ラウ
リル、ヨウ化ミリスチル、ヨウ化パルミチル、ヨウ化ス
テアリル、ヨウ化アリル、ヨウ化ベンジル、ヨウ化メチ
ルベンジル、ヨードベンゼン、ヨードメチルベンゼン、
ヨウ化シンナミル、２−ヨードエチルアルコール、３−
ヨードプロピルアルコール、２−ヨードエチルアミン、
３−ヨードプロピルアミン、臭化メチル、臭化エチル、
臭化プロピル、臭化ブチル、臭化オクチル、臭化ラウリ
ル、臭化ミリスチル、臭化パルミチル、臭化ステアリ
ル、臭化アリル、臭化クロチル、臭化ベンジル、臭化メ
チルベンジル、ブロモベンゼン、ブロモメチルベンゼ
ン、臭化シンナミル、１−臭化酢酸メチル、ブロモメチ
ルメチルエーテル、２−ブロモエチルアルコール、３−
ブロモプロピルアルコール、２−ブロモエチルアミン、
３−ブロモプロピルアミン、塩化メチル、塩化エチル、
塩化アリル、塩化ベンジル、塩化メチルベンジル、クロ
ロメチルスチレン、１−塩化酢酸メチル、クロロメチル
メチルエーテル、２−クロロエチルアルコール、３−ク
ロロプロピルアルコール、２−クロロエチルアミン、３
−クロロプロピルアミン等のハロゲン化アルキル、ハロ
ゲン化アルケニル、ハロゲン化フェニル、ハロゲン化ベ
ンジル等が挙げられる。また、アセチルブロミド、アセ
チルクロリド、１−臭化酢酸ブロミド、１−塩化酢酸、
（メタ）アクリル酸クロリド、無水酢酸、無水安息香酸
等のアシル化剤；ヨウ化パーフルオロエチル、ヨウ化パ
ーフルオロプロピル、ヨウ化パーフルオロブチル、ヨウ
化パーフルオロヘキシル、ヨウ化パーフルオロオクチ
ル、ヨウ化２−（パーフルオロブチル）エチル、ヨウ化
２−（パーフルオロヘキシル）エチル、ヨウ化２−（パ
ーフルオロオクチル）エチル、トリフルオロ酢酸ブロミ
ド、トリフルオロ酢酸クロリド、パーフルオロプロピオ
ン酸ブロミド、パーフルオロプロピオン酸クロリド、パ
ーフルオロブタン酸ブロミド、パーフルオロブタン酸ク
ロリド、パーフルオロヘキサン酸ブロミド、パーフルオ
ロヘキサン酸クロリド、パーフルオロオクタン酸ブロミ
ド、パーフルオロオクタン酸クロリド、パーフルオロ
（2,5,8 −トリメチル−3,6,9 −トリオキサドデカノイ
ル）フロリド、パーフルオロ（2,5,8,11−テトラメチル
−3,6,9,12−テトラオキサペンタデカノイル）フロリ
ド、３Ｈ−テトラフルオロプロピオニルクロリド、５Ｈ
−オクタフルオロバレリルクロリド、７Ｈ−ドデカフル
オロヘプタノイルクロリド、９Ｈ−ヘキサデカフルオロ
ノナノイルクロリド、３−クロロテトラフルオロプロピ
オニルクロリド、3,4 −ジクロロペンタフルオロブチリ
ルクロリド、2,2 −ビス（トリフルオロメチル）プロピ
オニルフロリド等のハロゲン化アルキル化剤、ハロゲン
化アシル化剤；トリメチルクロロシラン、トリエチルク
ロロシラン、３−クロロプロピルトリメチルシラン、３
−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロ
ピルトリエトキシシラン、クロロメチルジメチルクロロ
シラン、ベンジルジメチルクロロシラン、ジメチルジク
ロロシラン、ジエチルジクロロシラン等のシリル化剤も
挙げられる。これらの重合停止剤としては塩酸等の無機
酸；酢酸等の有機酸；ハロゲン化アルキル；ハロゲン化
（ヨウ化、臭化、塩化）フッ素置換アルキルが特に好ま
しい。
【００２２】トリフルオロプロピレンオキシド (IV) 、
また必要に応じて用いられるエチレンオキシド及び／又
はプロピレンオキシドの重合は一般に窒素、アルゴン等
の乾燥不活性ガス存在下、−20〜 200℃の温度範囲で行
われる。特に０〜 150℃が好ましい。反応温度の調節、
反応系の粘度の調節などの必要に応じて有機溶媒中で重
合を行っても良い。溶媒としてはトリフルオロプロピレ
ンオキシド (IV) 、また必要に応じて用いられるエチレ
ンオキシド及び／又はプロピレンオキシドを溶解するも
のであれば特に限定はなく、例えばジオキサン、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，２−ジメトキシエタン、
ジグライム、テトラグライム、ジブチルエーテル等のエ
ーテル系溶媒；クロロメタン、ジクロロエタン、クロロ
ホルム等のハロゲン系溶媒；トルエン、キシレン等の芳
香族系溶媒；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ピリジ
ン等の含窒素系溶媒やジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）等が使用できるが、特にエーテル系の溶媒が好まし
い。また、これらの溶媒を併用することも可能である。
また、無溶媒で重合を行っても良い。反応時間は仕込原
料の量、温度等の反応条件によりかなり異なるが、通常
１時間〜１週間程度で行われる。
また必要に応じて用いられるエチレンオキシド及び／又
はプロピレンオキシドの重合は一般に窒素、アルゴン等
の乾燥不活性ガス存在下、−20〜 200℃の温度範囲で行
われる。特に０〜 150℃が好ましい。反応温度の調節、
反応系の粘度の調節などの必要に応じて有機溶媒中で重
合を行っても良い。溶媒としてはトリフルオロプロピレ
ンオキシド (IV) 、また必要に応じて用いられるエチレ
ンオキシド及び／又はプロピレンオキシドを溶解するも
のであれば特に限定はなく、例えばジオキサン、テトラ
ヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，２−ジメトキシエタン、
ジグライム、テトラグライム、ジブチルエーテル等のエ
ーテル系溶媒；クロロメタン、ジクロロエタン、クロロ
ホルム等のハロゲン系溶媒；トルエン、キシレン等の芳
香族系溶媒；ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ピリジ
ン等の含窒素系溶媒やジメチルスルホキシド（ＤＭＳ
Ｏ）等が使用できるが、特にエーテル系の溶媒が好まし
い。また、これらの溶媒を併用することも可能である。
また、無溶媒で重合を行っても良い。反応時間は仕込原
料の量、温度等の反応条件によりかなり異なるが、通常
１時間〜１週間程度で行われる。
【００２３】重合終了後添加する重合停止剤の量は重合
開始剤に対して等モル以上存在させるのが良い。温度は
−20〜 200℃、特に０〜 150℃が好ましい。反応時間は
添加剤の種類や量、温度等の反応条件によりかなり異な
るが、通常５分〜１週間程度で行われる。
開始剤に対して等モル以上存在させるのが良い。温度は
−20〜 200℃、特に０〜 150℃が好ましい。反応時間は
添加剤の種類や量、温度等の反応条件によりかなり異な
るが、通常５分〜１週間程度で行われる。
【００２４】重合反応が完結した後、重合停止剤により
停止させ、水で洗浄し、溶媒を留去、減圧乾燥すること
により、含フッ素ポリエーテル(IX)が得られる。精製法
としては有機溶媒による抽出や再沈、イオン交換樹脂や
電気透析による脱塩法が挙げられる。また、必要に応じ
て、カラムクロマトグラフィーや蒸留等の精製を行って
も良い。
停止させ、水で洗浄し、溶媒を留去、減圧乾燥すること
により、含フッ素ポリエーテル(IX)が得られる。精製法
としては有機溶媒による抽出や再沈、イオン交換樹脂や
電気透析による脱塩法が挙げられる。また、必要に応じ
て、カラムクロマトグラフィーや蒸留等の精製を行って
も良い。
【００２５】含フッ素ポリエーテル(IX)の開始末端を分
解させる酸としては、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、硫酸、硝
酸、ＣｒＯ3 、クロロスルホン酸等の無機酸；酢酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ジメチル硫
酸、ジエチル硫酸、トリフルオロ酢酸、ヨウ化トリメチ
ルシリル等の有機酸；ＢＢｒ3 、Ｅt2Ｏ・ＢＦ3 等のル
イス酸が好ましく、勿論これら酸の混合物でもよい。還
元剤としては、Ｈ2-Ｐd-Ｃ、Raney Ｎｉ、Ｎａ、Ｌi-液
体ＮＨ3 、Ｎa-液体ＮＨ3 等が好ましい。
解させる酸としては、ＨＣｌ、ＨＢｒ、ＨＩ、硫酸、硝
酸、ＣｒＯ3 、クロロスルホン酸等の無機酸；酢酸、メ
タンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ジメチル硫
酸、ジエチル硫酸、トリフルオロ酢酸、ヨウ化トリメチ
ルシリル等の有機酸；ＢＢｒ3 、Ｅt2Ｏ・ＢＦ3 等のル
イス酸が好ましく、勿論これら酸の混合物でもよい。還
元剤としては、Ｈ2-Ｐd-Ｃ、Raney Ｎｉ、Ｎａ、Ｌi-液
体ＮＨ3 、Ｎa-液体ＮＨ3 等が好ましい。
【００２６】含フッ素ポリエーテル(IX)の開始末端の分
解は−80〜 150℃の範囲で行われる。酸を使用する場合
は、一旦、冷却した後に酸を添加し、その後昇温させる
のが良く、−20〜 100℃が好ましい。また、還元剤の場
合は−80〜60℃が好ましい。酸の添加量は開始末端に対
して等モル以上存在させるのが良い。還元剤の添加量は
開始末端に対して 0.001〜等モル倍が良い。
解は−80〜 150℃の範囲で行われる。酸を使用する場合
は、一旦、冷却した後に酸を添加し、その後昇温させる
のが良く、−20〜 100℃が好ましい。また、還元剤の場
合は−80〜60℃が好ましい。酸の添加量は開始末端に対
して等モル以上存在させるのが良い。還元剤の添加量は
開始末端に対して 0.001〜等モル倍が良い。
【００２７】開始末端の分解反応に用いられる溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール系溶媒又はこれらの含水アルコール；ジオキ
サン、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、ジグライ
ム、テトラグライム、ジブチルエーテル等のエーテル系
溶媒；クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等
のハロゲン系溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族系溶
媒等が使用できるが、特にアルコール系やハロゲン系の
溶媒が好ましい。また、これらの溶媒を併用することも
可能である。反応時間は、添加する酸や還元剤の種類、
濃度、量、温度等の反応条件によりかなり異なるが、通
常30分〜１週間程度で行われる。
ては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等の
アルコール系溶媒又はこれらの含水アルコール；ジオキ
サン、ＴＨＦ、１，２−ジメトキシエタン、ジグライ
ム、テトラグライム、ジブチルエーテル等のエーテル系
溶媒；クロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム等
のハロゲン系溶媒；トルエン、キシレン等の芳香族系溶
媒等が使用できるが、特にアルコール系やハロゲン系の
溶媒が好ましい。また、これらの溶媒を併用することも
可能である。反応時間は、添加する酸や還元剤の種類、
濃度、量、温度等の反応条件によりかなり異なるが、通
常30分〜１週間程度で行われる。
【００２８】開始末端を分解した後、系を中性にし、溶
媒を留去、減圧乾燥することにより、含フッ素ポリエー
テル（Ｖ）が得られる。精製法としては、有機溶媒によ
る抽出や再沈、イオン交換樹脂や電気透析による脱塩法
が挙げられる。また、必要に応じて、カラムクロマトグ
ラフィーや蒸留等の精製を行っても良い。
媒を留去、減圧乾燥することにより、含フッ素ポリエー
テル（Ｖ）が得られる。精製法としては、有機溶媒によ
る抽出や再沈、イオン交換樹脂や電気透析による脱塩法
が挙げられる。また、必要に応じて、カラムクロマトグ
ラフィーや蒸留等の精製を行っても良い。
【００２９】このような方法で得られる含フッ素ポリエ
ーテル（Ｖ）は新規物質であり、撥水性、撥油性等の特
異な性質を有し、且つ他の材料との相溶性や各種溶剤へ
の溶解性、無機物等の粉体の表面処理等に優れており、
更には親水性基材（例えば、毛髪、皮膚）への付着性も
良好であり、化粧品原料、繊維処理剤、塗料用添加剤、
乳化剤、樹脂改質剤、無機物処理剤等として有用であ
る。
ーテル（Ｖ）は新規物質であり、撥水性、撥油性等の特
異な性質を有し、且つ他の材料との相溶性や各種溶剤へ
の溶解性、無機物等の粉体の表面処理等に優れており、
更には親水性基材（例えば、毛髪、皮膚）への付着性も
良好であり、化粧品原料、繊維処理剤、塗料用添加剤、
乳化剤、樹脂改質剤、無機物処理剤等として有用であ
る。
【００３０】
【発明の効果】本発明により、短時間且つ高収率で分子
量分布が狭い１級水酸基変性含フッ素ポリエーテル
（Ｖ）を合成することが可能となった。また、開始末端
を分解し水酸基を導入するため、合成した含フッ素ポリ
エーテルの重合度等の同定が容易である。
量分布が狭い１級水酸基変性含フッ素ポリエーテル
（Ｖ）を合成することが可能となった。また、開始末端
を分解し水酸基を導入するため、合成した含フッ素ポリ
エーテルの重合度等の同定が容易である。
【００３１】
【実施例】以下に実施例を挙げ、更に詳しく本発明を説
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準であ
る。
明するが、本発明はこれらによって何ら限定されるもの
ではない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準であ
る。
【００３２】実施例１ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(1) の合成
【００３３】
【化８】
【００３４】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.96ｇ(8.5mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン20mlを三方活栓
を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、
15分間攪拌した。次いでモレキュラーシーブス４Ａで乾
燥したトリフルオロプロピレンオキシド 7.4ml(85mmol)
を乾燥アルゴンの気流下、滴下ロートより反応系内が40
℃を越えないように注意しながら滴下した。３時間攪拌
した後、１Ｎ塩酸を攪拌下、中性になるまで加えること
により反応を停止させた。反応物をエーテルで抽出し、
水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去することによ
り、白色のワックス状の含フッ素ポリエーテル 9.4ｇ
（収率94％）を得た。
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.96ｇ(8.5mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン20mlを三方活栓
を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、
15分間攪拌した。次いでモレキュラーシーブス４Ａで乾
燥したトリフルオロプロピレンオキシド 7.4ml(85mmol)
を乾燥アルゴンの気流下、滴下ロートより反応系内が40
℃を越えないように注意しながら滴下した。３時間攪拌
した後、１Ｎ塩酸を攪拌下、中性になるまで加えること
により反応を停止させた。反応物をエーテルで抽出し、
水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去することによ
り、白色のワックス状の含フッ素ポリエーテル 9.4ｇ
（収率94％）を得た。
【００３５】この含フッ素ポリエーテル 1.8ｇをジクロ
ロメタン16ｇに溶解し、氷冷した。クロロスルホン酸0.
18ｇ(1.7mmol) を攪拌しながらゆっくりと滴下した。12
時間攪拌した後、水を約10ｇ加え、ジクロロメタンを留
去した。その後、反応物をエーテル／水で洗浄し、エー
テル抽出し、芒硝で乾燥、溶媒留去することにより、白
色ワックス状の含フッ素ポリエーテル 1.7ｇ（収率95
％）を得た。
ロメタン16ｇに溶解し、氷冷した。クロロスルホン酸0.
18ｇ(1.7mmol) を攪拌しながらゆっくりと滴下した。12
時間攪拌した後、水を約10ｇ加え、ジクロロメタンを留
去した。その後、反応物をエーテル／水で洗浄し、エー
テル抽出し、芒硝で乾燥、溶媒留去することにより、白
色ワックス状の含フッ素ポリエーテル 1.7ｇ（収率95
％）を得た。
【００３６】得られた含フッ素ポリエーテルの 1Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトルを図１に、ＩＲスペクトルを図２に示
す。 1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析、水酸基価より目的とする
水酸基変性含フッ素ポリエーテル(1) であることを確認
した。また、ＧＰＣでのピーク数平均分子量（カラム：
東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50
ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）は、ポリスチレン換算
で 1.9×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であった。
ＭＲスペクトルを図１に、ＩＲスペクトルを図２に示
す。 1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析、水酸基価より目的とする
水酸基変性含フッ素ポリエーテル(1) であることを確認
した。また、ＧＰＣでのピーク数平均分子量（カラム：
東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50
ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）は、ポリスチレン換算
で 1.9×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であった。
【００３７】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δppm)（溶媒：
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.5(m,36H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前の(CH3 )3C-に基づくピーク(1.1〜1.3p
pm) は元の５％存在） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：残存水酸基を既知量の無水酢酸と反応させ、
過剰の無水酢酸をKOH で滴定。サンプル１ｇ当たりに含
有される水酸基モル数をKOH 量（KOHmg/g ）で表し、表
１に示した。
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.5(m,36H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前の(CH3 )3C-に基づくピーク(1.1〜1.3p
pm) は元の５％存在） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：残存水酸基を既知量の無水酢酸と反応させ、
過剰の無水酢酸をKOH で滴定。サンプル１ｇ当たりに含
有される水酸基モル数をKOH 量（KOHmg/g ）で表し、表
１に示した。
【００３８】
【表１】
【００３９】実施例２ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(2) の合成
【００４０】
【化９】
【００４１】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン20mlを三方活栓
を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、
15分間攪拌した。次いでモレキュラーシーブス４Ａで乾
燥したトリフルオロプロピレンオキシド 8.7ml(100mmo
l) を乾燥アルゴンの気流下、滴下ロートより反応系内
が40℃を越えないように注意しながら滴下した。 3.5時
間攪拌した後、１Ｎ塩酸を攪拌下、中性になるまで加え
ることにより反応を停止させた。反応物をエーテルで抽
出し、水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去すること
により、白色のワックス状の含フッ素ポリエーテル10.5
ｇ（収率91％）を得た。
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン20mlを三方活栓
を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、
15分間攪拌した。次いでモレキュラーシーブス４Ａで乾
燥したトリフルオロプロピレンオキシド 8.7ml(100mmo
l) を乾燥アルゴンの気流下、滴下ロートより反応系内
が40℃を越えないように注意しながら滴下した。 3.5時
間攪拌した後、１Ｎ塩酸を攪拌下、中性になるまで加え
ることにより反応を停止させた。反応物をエーテルで抽
出し、水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去すること
により、白色のワックス状の含フッ素ポリエーテル10.5
ｇ（収率91％）を得た。
【００４２】この含フッ素ポリエーテル 4.0ｇをジクロ
ロメタン20ｇに溶解し、氷冷した。トリフルオロ酢酸
1.0mlをゆっくりと滴下し、氷冷下で３時間、室温で１
時間攪拌した。その後、水を約10ｇ加え、ジクロロメタ
ンを留去した。濃縮液に炭酸水素ナトリウムを加え中和
し、反応物をエーテル／水で洗浄し、エーテル抽出し、
芒硝で乾燥、溶媒留去することにより、白色ワックス状
の含フッ素ポリエーテル3.7ｇ（収率93％）を得た。
ロメタン20ｇに溶解し、氷冷した。トリフルオロ酢酸
1.0mlをゆっくりと滴下し、氷冷下で３時間、室温で１
時間攪拌した。その後、水を約10ｇ加え、ジクロロメタ
ンを留去した。濃縮液に炭酸水素ナトリウムを加え中和
し、反応物をエーテル／水で洗浄し、エーテル抽出し、
芒硝で乾燥、溶媒留去することにより、白色ワックス状
の含フッ素ポリエーテル3.7ｇ（収率93％）を得た。
【００４３】得られた含フッ素ポリエーテルの 1Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトルを図３に示す。 1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分
析、水酸基価より目的とする水酸基変性含フッ素ポリエ
ーテル(2) であることを確認した。また、ＧＰＣでのピ
ーク数平均分子量（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸ
Ｌ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフ
ラン）は、ポリスチレン換算で 2.7×103 、Ｍｗ／Ｍｎ
＝1.1 であった。
ＭＲスペクトルを図３に示す。 1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分
析、水酸基価より目的とする水酸基変性含フッ素ポリエ
ーテル(2) であることを確認した。また、ＧＰＣでのピ
ーク数平均分子量（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸ
Ｌ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフ
ラン）は、ポリスチレン換算で 2.7×103 、Ｍｗ／Ｍｎ
＝1.1 であった。
【００４４】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δppm)（溶媒：
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.8(m,57H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前の(CH3 )3C-に基づくピーク(1.1〜1.3p
pm) なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表２に
示す。
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.8(m,57H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前の(CH3 )3C-に基づくピーク(1.1〜1.3p
pm) なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表２に
示す。
【００４５】
【表２】
【００４６】実施例３ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(3) の合成
【００４７】
【化１０】
【００４８】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したトルエン20mlを三方活栓を介し注
射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、15分間攪
拌した。次いでモレキュラーシーブス４Ａで乾燥したト
リフルオロプロピレンオキシド 8.7ml(100mmol) を乾燥
アルゴン気流下、滴下ロートより反応系内が40℃を越え
ないように注意しながら滴下した。 5.5時間攪拌した
後、ヨウ化２−（パーフルオロオクチル）エチル2.87ｇ
(5.0mmol) を加え、40℃で13時間攪拌し、重合を停止し
た。溶媒留去後、反応物をエーテルで抽出し、水で洗
浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去することにより、白色
のワックス状の含フッ素ポリエーテル12.2ｇ（収率92
％）を得た。
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したトルエン20mlを三方活栓を介し注
射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、15分間攪
拌した。次いでモレキュラーシーブス４Ａで乾燥したト
リフルオロプロピレンオキシド 8.7ml(100mmol) を乾燥
アルゴン気流下、滴下ロートより反応系内が40℃を越え
ないように注意しながら滴下した。 5.5時間攪拌した
後、ヨウ化２−（パーフルオロオクチル）エチル2.87ｇ
(5.0mmol) を加え、40℃で13時間攪拌し、重合を停止し
た。溶媒留去後、反応物をエーテルで抽出し、水で洗
浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去することにより、白色
のワックス状の含フッ素ポリエーテル12.2ｇ（収率92
％）を得た。
【００４９】この含フッ素ポリエーテル 4.0ｇをジクロ
ロメタン20ｇに溶解し、氷冷した。クロロスルホン酸0.
21ｇ(2.0mmol) を攪拌しながらゆっくりと滴下し、氷冷
下で３時間、室温で14時間攪拌した。その後、水を約10
ｇ加え、ジクロロメタンを留去した。濃縮液に炭酸水素
ナトリウムを加え中和し、反応物をエーテル／水で洗浄
し、エーテル抽出し、芒硝で乾燥、溶媒留去することに
より、白色ワックス状の含フッ素ポリエーテル 3.7ｇ
（収率93％）を得た。
ロメタン20ｇに溶解し、氷冷した。クロロスルホン酸0.
21ｇ(2.0mmol) を攪拌しながらゆっくりと滴下し、氷冷
下で３時間、室温で14時間攪拌した。その後、水を約10
ｇ加え、ジクロロメタンを留去した。濃縮液に炭酸水素
ナトリウムを加え中和し、反応物をエーテル／水で洗浄
し、エーテル抽出し、芒硝で乾燥、溶媒留去することに
より、白色ワックス状の含フッ素ポリエーテル 3.7ｇ
（収率93％）を得た。
【００５０】1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析、水酸基価より目
的とする水酸基変性含フッ素ポリエーテル(3) であるこ
とを確認した。また、ＧＰＣでのピーク数平均分子量
（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸ
Ｌ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）は、ポリ
スチレン換算で 2.5×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であっ
た。
的とする水酸基変性含フッ素ポリエーテル(3) であるこ
とを確認した。また、ＧＰＣでのピーク数平均分子量
（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸ
Ｌ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）は、ポリ
スチレン換算で 2.5×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であっ
た。
【００５１】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δppm)（溶媒：
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.5(m,60H) -CH2 -CH(CF3)O- 3.8〜4.5(m,4H) -CH2 -CH2 -C8F17 （開始末端脱離前の(CH3 )3C-に基づくピーク(1.1〜1.3p
pm) なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表３に
示す。
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.5(m,60H) -CH2 -CH(CF3)O- 3.8〜4.5(m,4H) -CH2 -CH2 -C8F17 （開始末端脱離前の(CH3 )3C-に基づくピーク(1.1〜1.3p
pm) なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表３に
示す。
【００５２】
【表３】
【００５３】実施例４ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(4) の合成
【００５４】
【化１１】
【００５５】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムトリフェニルメトキシド1.49ｇ(5.0mmol) を
仕込んだ後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下
にてブラスターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキ
ュラーシーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン25mlを
三方活栓を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で
仕込み、30分間攪拌した。次いでモレキュラーシーブス
４Ａで乾燥したトリフルオロプロピレンオキシド4.3ml
(50mmol) を乾燥アルゴンの気流下、滴下ロートより反
応系内で40℃を越えないように注意しながら滴下した。
16時間攪拌した後、１Ｎ塩酸を攪拌下、中性になるまで
加えることにより反応を停止させた。反応物をエーテル
で抽出し、水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去する
ことにより、白色のワックス状の含フッ素ポリエーテル
6.5ｇ（収率94％）を得た。
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムトリフェニルメトキシド1.49ｇ(5.0mmol) を
仕込んだ後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下
にてブラスターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキ
ュラーシーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン25mlを
三方活栓を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で
仕込み、30分間攪拌した。次いでモレキュラーシーブス
４Ａで乾燥したトリフルオロプロピレンオキシド4.3ml
(50mmol) を乾燥アルゴンの気流下、滴下ロートより反
応系内で40℃を越えないように注意しながら滴下した。
16時間攪拌した後、１Ｎ塩酸を攪拌下、中性になるまで
加えることにより反応を停止させた。反応物をエーテル
で抽出し、水で洗浄、芒硝で乾燥、溶媒を減圧留去する
ことにより、白色のワックス状の含フッ素ポリエーテル
6.5ｇ（収率94％）を得た。
【００５６】この含フッ素ポリエーテル 4.0ｇをジクロ
ロメタン20ｇに溶解し、氷冷した。トリフルオロ酢酸
2.0mlをゆっくりと滴下し、氷冷下で３時間、室温で16
時間攪拌した。その後、水を約10ｇ加え、ジクロロメタ
ンを留去した。濃縮液に炭酸水素ナトリウムを加え中和
し、反応物をエーテル／水で洗浄し、エーテル抽出し、
芒硝で乾燥、溶媒留去することにより、白色ワックス状
の含フッ素ポリエーテル3.0ｇ（収率91％）を得た。
ロメタン20ｇに溶解し、氷冷した。トリフルオロ酢酸
2.0mlをゆっくりと滴下し、氷冷下で３時間、室温で16
時間攪拌した。その後、水を約10ｇ加え、ジクロロメタ
ンを留去した。濃縮液に炭酸水素ナトリウムを加え中和
し、反応物をエーテル／水で洗浄し、エーテル抽出し、
芒硝で乾燥、溶媒留去することにより、白色ワックス状
の含フッ素ポリエーテル3.0ｇ（収率91％）を得た。
【００５７】1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析、水酸基価より目
的とする水酸基変性含フッ素ポリエーテル(4) であるこ
とを確認した。また、ＧＰＣでのピークは数平均分子量
（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸ
Ｌ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）は、ポリ
スチレン換算で 1.8×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であっ
た。
的とする水酸基変性含フッ素ポリエーテル(4) であるこ
とを確認した。また、ＧＰＣでのピークは数平均分子量
（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸ
Ｌ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）は、ポリ
スチレン換算で 1.8×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であっ
た。
【００５８】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δppm)（溶媒：
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.5(m,36H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前の(C 6H5 )3C-に基づくピーク(7.3〜7.4
ppm) なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表４に
示す。
アセトン−ｄ6)： 3.6〜4.5(m,36H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前の(C 6H5 )3C-に基づくピーク(7.3〜7.4
ppm) なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表４に
示す。
【００５９】
【表４】
【００６０】実施例５ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(5) の合成
【００６１】
【化１２】
【００６２】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン10mlを三方活栓
を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、
15分間攪拌した。この微懸濁液を乾燥アルゴンの気流下
注射器を用いて50mlオートクレーブに移した。次いでモ
レキュラーシーブス４Ａで乾燥したベンジルアルコール
0.52ml(5.0mmol) を注射器を用い、乾燥アルゴンの気流
下でオートクレーブ内に仕込み、60分間攪拌した。ドラ
イアイス−アセトンでトラップした乾燥エチレンオキシ
ド（水素化カルシウムで乾燥）2.5ml(50mmol) を氷冷し
た先程のオートクレーブに乾燥アルゴンの気流下添加し
た。エチレンオキシドの重合は40℃、３時間で行った。
このオートクレーブを再び氷冷した後、引き続きモレキ
ュラーシーブス４Ａで乾燥したトリフルオロプロピレン
オキシド4.3ml(50mmol) を乾燥アルゴン気流下添加し
た。５時間室温で重合した後、ヨウ化メチル0.85ｇ(6.0
mmol) を加え、40℃で13時間攪拌し、重合を停止した。
その後、溶媒を留去し、反応物をエーテル／水で洗浄
し、エーテル抽出し、芒硝での乾燥、溶媒を減圧留去す
ることにより、白色ワックス状の含フッ素ポリエーテル
7.0ｇ（収率88％）を得た。
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへモレキュラーシ
ーブス４Ａで乾燥したジメトキシエタン10mlを三方活栓
を介し注射器を用いて乾燥アルゴンの気流下で仕込み、
15分間攪拌した。この微懸濁液を乾燥アルゴンの気流下
注射器を用いて50mlオートクレーブに移した。次いでモ
レキュラーシーブス４Ａで乾燥したベンジルアルコール
0.52ml(5.0mmol) を注射器を用い、乾燥アルゴンの気流
下でオートクレーブ内に仕込み、60分間攪拌した。ドラ
イアイス−アセトンでトラップした乾燥エチレンオキシ
ド（水素化カルシウムで乾燥）2.5ml(50mmol) を氷冷し
た先程のオートクレーブに乾燥アルゴンの気流下添加し
た。エチレンオキシドの重合は40℃、３時間で行った。
このオートクレーブを再び氷冷した後、引き続きモレキ
ュラーシーブス４Ａで乾燥したトリフルオロプロピレン
オキシド4.3ml(50mmol) を乾燥アルゴン気流下添加し
た。５時間室温で重合した後、ヨウ化メチル0.85ｇ(6.0
mmol) を加え、40℃で13時間攪拌し、重合を停止した。
その後、溶媒を留去し、反応物をエーテル／水で洗浄
し、エーテル抽出し、芒硝での乾燥、溶媒を減圧留去す
ることにより、白色ワックス状の含フッ素ポリエーテル
7.0ｇ（収率88％）を得た。
【００６３】この含フッ素ポリエーテル4.1g（約2.6mmo
l)を含むエタノール溶液30mlに０．０１Ｎ塩酸 ０．２
ｍｌと10％Ｐｄ−Ｃ 90mg を加え、室温で中圧水素添加
(3.5kg/cm2) を行った。14時間後反応液を濾過し、濾液
を濃縮した。濃縮物をエーテル／水で洗浄し、エーテル
抽出し、芒硝で乾燥、溶媒を再び留去した。残渣をエタ
ノール／ヘキサンで再沈することにより、白色ワックス
状の含フッ素ポリエーテル 3.1ｇ（収率78％）を得た。
l)を含むエタノール溶液30mlに０．０１Ｎ塩酸 ０．２
ｍｌと10％Ｐｄ−Ｃ 90mg を加え、室温で中圧水素添加
(3.5kg/cm2) を行った。14時間後反応液を濾過し、濾液
を濃縮した。濃縮物をエーテル／水で洗浄し、エーテル
抽出し、芒硝で乾燥、溶媒を再び留去した。残渣をエタ
ノール／ヘキサンで再沈することにより、白色ワックス
状の含フッ素ポリエーテル 3.1ｇ（収率78％）を得た。
【００６４】1Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲ分析、水酸基価（ＯＨ
Ｖ）より目的とする含フッ素ポリエーテル(5) であるこ
とを確認した。また、ＧＰＣでのピークは数平均分子量
（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸ
Ｌ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）はポリス
チレン換算でＭｎ＝ 2.9×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であ
った。
Ｖ）より目的とする含フッ素ポリエーテル(5) であるこ
とを確認した。また、ＧＰＣでのピークは数平均分子量
（カラム：東ソー（株）製Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸ
Ｌ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テトラヒドロフラン）はポリス
チレン換算でＭｎ＝ 2.9×103 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.1 であ
った。
【００６５】1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（δppm)（溶媒：
アセトン−ｄ6)： 3.5〜3.7(s,3H) CH3 O- 3.6〜3.9(m,48H) -CH2 -CH2 O- 3.5〜4.5(m,30H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前のC 6H5 CH2 O-に基づくピーク(4.6〜4.
8, 7.2〜7.5ppm)なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表５に
示す。
アセトン−ｄ6)： 3.5〜3.7(s,3H) CH3 O- 3.6〜3.9(m,48H) -CH2 -CH2 O- 3.5〜4.5(m,30H) -CH2 -CH(CF3)O- （開始末端脱離前のC 6H5 CH2 O-に基づくピーク(4.6〜4.
8, 7.2〜7.5ppm)なし） ＩＲスペクトル（液膜、cm-1) ：3500, 2980, 2950, 29
00, 1460, 1370, 1320, 1270, 1180, 1130, 1080,1050,
920, 850, 720, 580 水酸基価：実施例１と同様に測定した水酸基価を表５に
示す。
【００６６】
【表５】
【００６７】比較例１ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(6) の合成
【００６８】
【化１３】
【００６９】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.96ｇ(8.5mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへ水 0.153ｇ(8.5
mmol) 、モレキュラーシーブス４Ａで乾燥したジメトキ
シエタン20mlを三方活栓を介し注射器を用いて乾燥アル
ゴンの気流下で仕込み、15分間攪拌した。次いでモレキ
ュラーシーブス４Ａで乾燥したトリフルオロプロピレン
オキシド 7.4ml(85mmol)を乾燥アルゴンの気流下、滴下
ロートより反応系内が40℃を越えないように注意しなが
ら滴下した。８時間室温で攪拌した後、１Ｎ塩酸を攪拌
下、中性になるまで加えることにより反応を停止させ
た。反応物をエーテルで抽出し、水で洗浄、芒硝で乾
燥、溶媒を減圧留去することにより、白色のワックス状
の含フッ素ポリエーテル 7.0ｇ（収率72％）を得た。Ｇ
ＰＣでのピーク数平均分子量（カラム：東ソー（株）製
Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テト
ラヒドロフラン）はポリスチレン換算で 1.7×103 、Ｍ
ｗ／Ｍｎ＝1.5 であった。
し、滴下ロート、温度計、三方活栓を付したガラス容器
にカリウムｔ−ブトキシド0.96ｇ(8.5mmol) を仕込んだ
後、反応容器内を再びアルゴン置換し、真空下にてブラ
スターにより加熱乾燥を行った。そこへ水 0.153ｇ(8.5
mmol) 、モレキュラーシーブス４Ａで乾燥したジメトキ
シエタン20mlを三方活栓を介し注射器を用いて乾燥アル
ゴンの気流下で仕込み、15分間攪拌した。次いでモレキ
ュラーシーブス４Ａで乾燥したトリフルオロプロピレン
オキシド 7.4ml(85mmol)を乾燥アルゴンの気流下、滴下
ロートより反応系内が40℃を越えないように注意しなが
ら滴下した。８時間室温で攪拌した後、１Ｎ塩酸を攪拌
下、中性になるまで加えることにより反応を停止させ
た。反応物をエーテルで抽出し、水で洗浄、芒硝で乾
燥、溶媒を減圧留去することにより、白色のワックス状
の含フッ素ポリエーテル 7.0ｇ（収率72％）を得た。Ｇ
ＰＣでのピーク数平均分子量（カラム：東ソー（株）製
Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テト
ラヒドロフラン）はポリスチレン換算で 1.7×103 、Ｍ
ｗ／Ｍｎ＝1.5 であった。
【００７０】比較例２ 水酸基変性含フッ素ポリエーテル(7) の合成
【００７１】
【化１４】
【００７２】十分に乾燥し、内部を乾燥アルゴンで置換
したガラス容器にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mm
ol) を仕込んだ後、反応容器内を再びアルゴン置換し、
真空下にてブラスターにより加熱乾燥を行った。そこへ
水 0.090ｇ(5.0mmol) 、モレキュラーシーブス４Ａで乾
燥したジメトキシエタン10mlを乾燥アルゴンの気流下で
仕込み、15分間攪拌した。この開始剤溶液を乾燥アルゴ
ンの気流下注射器を用いて50mlオートクレーブに移し
た。ドライアイス−アセトンでトラップした乾燥エチレ
ンオキシド（水素化カルシウムで乾燥）2.5ml(50mmol)
を氷冷したオートクレーブに乾燥アルゴンの気流下添加
した。エチレンオキシドの重合は40℃、５時間で行っ
た。このオートクレーブを再び氷冷した後、引き続きモ
レキュラーシーブス４Ａで乾燥したトリフルオロプロピ
レンオキシド4.3ml(50mmol) を乾燥アルゴン気流下添加
した。17時間室温で攪拌した後、１Ｎ塩酸を中性になる
まで加えることにより反応を停止させた。溶媒を留去
し、反応物をエーテルで抽出し、水で洗浄、芒硝で乾
燥、溶媒を減圧留去することにより、白色のワックス状
の含フッ素ポリエーテル 4.9ｇ（収率63％）を得た。Ｇ
ＰＣでのピーク数平均分子量（カラム：東ソー（株）製
Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テト
ラヒドロフラン）はポリスチレン換算でＭｎ＝ 2.7×10
3 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.7であった。
したガラス容器にカリウムｔ−ブトキシド0.56ｇ(5.0mm
ol) を仕込んだ後、反応容器内を再びアルゴン置換し、
真空下にてブラスターにより加熱乾燥を行った。そこへ
水 0.090ｇ(5.0mmol) 、モレキュラーシーブス４Ａで乾
燥したジメトキシエタン10mlを乾燥アルゴンの気流下で
仕込み、15分間攪拌した。この開始剤溶液を乾燥アルゴ
ンの気流下注射器を用いて50mlオートクレーブに移し
た。ドライアイス−アセトンでトラップした乾燥エチレ
ンオキシド（水素化カルシウムで乾燥）2.5ml(50mmol)
を氷冷したオートクレーブに乾燥アルゴンの気流下添加
した。エチレンオキシドの重合は40℃、５時間で行っ
た。このオートクレーブを再び氷冷した後、引き続きモ
レキュラーシーブス４Ａで乾燥したトリフルオロプロピ
レンオキシド4.3ml(50mmol) を乾燥アルゴン気流下添加
した。17時間室温で攪拌した後、１Ｎ塩酸を中性になる
まで加えることにより反応を停止させた。溶媒を留去
し、反応物をエーテルで抽出し、水で洗浄、芒硝で乾
燥、溶媒を減圧留去することにより、白色のワックス状
の含フッ素ポリエーテル 4.9ｇ（収率63％）を得た。Ｇ
ＰＣでのピーク数平均分子量（カラム：東ソー（株）製
Ｇ4000ＨＸＬ＋Ｇ2000ＨＸＬ、溶媒：50ｍＭ酢酸／テト
ラヒドロフラン）はポリスチレン換算でＭｎ＝ 2.7×10
3 、Ｍｗ／Ｍｎ＝1.7であった。
【００７３】実施例１〜５及び比較例１、２の反応条件
及び結果をまとめて表６に示す。
及び結果をまとめて表６に示す。
【００７４】
【表６】
【００７５】表６から明らかなように、本発明の実施例
は比較例に比べ、高収率で、分子量分布の狭い水酸基変
性含フッ素ポリエーテルを得ることができた。
は比較例に比べ、高収率で、分子量分布の狭い水酸基変
性含フッ素ポリエーテルを得ることができた。
【図１】 実施例１で得られた含フッ素ポリエーテル
(1) の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
(1) の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
【図２】 実施例１で得られた含フッ素ポリエーテル
(1) のＩＲスペクトルである。
(1) のＩＲスペクトルである。
【図３】 実施例２で得られた含フッ素ポリエーテル
(2) の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
(2) の 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルである。
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式（Ｉ） R1OH （Ｉ） 〔式中、 R1：式（II）又は(III) で表される基を示す。 【化１】 （ここで、Ra,Rb,Rcは同一又は異なって総炭素数１〜10
のアルキル基、アルキル置換フェニル基、フェニル基又
はベンジル基を示し、Rdは水素原子、総炭素数１〜10の
アルキル基又はアルコキシ基を示す。）〕で表されるア
ルコールの金属アルコキシド存在下、又は一般式（Ｉ）
で表されるアルコールとアルカリ金属水酸化物あるいは
アルカリ金属アルコキシド共存下、一般式 (IV) 【化２】 で表されるトリフルオロプロピレンオキシドを、また必
要に応じてエチレンオキシド及び／又はプロピレンオキ
シドをランダムあるいはブロック共重合した後、重合停
止剤を用い重合を停止し、引き続き酸もしくは還元剤に
より開始末端を分解することを特徴とする一般式（Ｖ） HO-(AO)n-R2 （Ｖ） 〔式中、 R2：水素原子又は置換基を有しても良い炭素数１〜30の
炭化水素基、アルキルシリル基又はアシル基を示す。 A：エチレン基、プロピレン基又は式 (VI) 【化３】 で表される基を示し、ｎ個の Aは同一でも異なっても良
く、分子中の全 A基の内少なくとも５個は式 (VI) で表
される基である。 ｎ：平均で５〜2000の数を示す。〕で表される１級水酸
基変性含フッ素ポリエーテルの製造方法。 - 【請求項２】 R2で示される基が、水素原子、又は水酸
基、アミノ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有
してもよい炭素数１〜30のアルキル基、アルケニル基、
フェニル基、ベンジル基、アルキルシリル基又はアシル
基である請求項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 前記一般式（Ｖ）で表される１級水酸基
変性含フッ素ポリエーテル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31040696A JPH10147639A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31040696A JPH10147639A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10147639A true JPH10147639A (ja) | 1998-06-02 |
Family
ID=18004881
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31040696A Pending JPH10147639A (ja) | 1996-11-21 | 1996-11-21 | 水酸基変性含フッ素ポリエーテル及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10147639A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6034207A (en) * | 1998-04-01 | 2000-03-07 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymers of hexafluoropropene oxide and process of making |
| US6127517A (en) * | 1998-04-01 | 2000-10-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymerization of hexafluoropropene oxide |
| WO2008072766A1 (ja) | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Chisso Corporation | フッ素系重合体および樹脂組成物 |
| WO2008072765A1 (ja) | 2006-12-15 | 2008-06-19 | Chisso Corporation | フッ素系重合体および樹脂組成物 |
| WO2008123122A1 (ja) | 2007-03-23 | 2008-10-16 | Chisso Corporation | 重合体および重合体を含む表面処理剤 |
| CN114002256A (zh) * | 2021-10-29 | 2022-02-01 | 珠海宏昌电子材料有限公司 | 改性聚苯醚痕量羟值的测定方法 |
-
1996
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