JPH0160170B2 - - Google Patents
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Description
本発明は、新規ハロゲンポリエーテルおよびそ
の製法と用途に関する。 本発明の新規含ハロゲンポリエーテル(I)
は、 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (b) 式: −(CHClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (c) 式: −(CCl2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (e) 式: −(CFClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(b)、(c)および(e)を合計
で少なくとも1個含み、くり返し単位(a)、(c)、
(d)および(f)を合計で少なくとも1個含む化合物
である。なお、本発明の含ハロゲンポリエーテ
ル(I)において、各くり返し単位の分子中で
の配列は任意である。 本発明の含ハロゲンポリエーテルは、たとえ
ば、式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、即ち、くり返し単位(a)
2〜200個から成る含フツ素ポリエーテル()
を塩素化およびフツ素化することにより容易に製
造することができる。 塩素化は、ポリエーテル()に、好ましくは
200〜500nmの紫外線照射下、塩素ガスを反応さ
せることにより行うことができる。反応温度は、
原料のポリエーテル()の重合度に依存する
が、反応を円滑に進める上で必要な撹拌が可能な
粘度と成るような温度を選択すればよい。一般
に、塩素化が進行するにつれて生成物の流動点が
低下するので、それに応じて反応温度を低下させ
ることができる。通常、30〜200℃、好ましくは
50〜150℃の反応温度が採用される。 塩素ガスは、反応液中に吹き込んでも、気相部
に流通させてもよく、また適当な不活性ガス(た
とえば窒素、アルゴンなど)で希釈して用いても
よい。 反応容器としては、外部または内部から光照射
が可能な容器ならばよく、光透過材としては石英
などが好ましいが、工業的にはパイレツクスグラ
スで充分である。 塩素化により得られる含ハロゲンポリエーテル
()は、くり返し単位(a)、(b)および(c)から成る
群から選択された少なくとも1種のくり返し単位
2〜200個から成り、くり返し単位(b)および(c)を
合計で少なくとも1個含む化合物である。 本発明の含ハロゲンポリエーテル(I)は、ポ
リエーテル()をさらにフツ素化することによ
り製造することができる。 フツ素化は、ポリエーテル()に、室温〜
300℃、好ましくは50〜200℃においてフツ素ガス
を反応させることにより行なうことができる。ま
た、フツ素ガスは適当な不活性ガス(たとえば窒
素、アルゴンなど)により希釈して用いてもよ
い。 反応様式としては、流通式およびバツチ式のい
ずれもが採用されうる。 本発明のポリエーテル(I)は、上記のように
先に塩素化を行つてポリエーテル()を製造
し、それを更にフツ素化することにより製造する
ことができるが、塩素化およびフツ素化の順序は
逆にしてもよく、その順序は本質的ではない。す
なわち、 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(d)および(f)を合計で少
なくとも1個含むポリエーテル()を得、こ
れを塩素化してポリエーテル(I)を製造する
ことができる。 ポリエーテル()も新規化合物であり、2,
2,3,3−テトラフルオロオキセタンを開環重
合することにより製造できる。その製法を以下に
説明する。 前記開環重合を行うに際しては、一般に重合開
始剤が用いられる。重合開始剤としては、ハロゲ
ン化アルカリ金属のように、アプロテイツク溶媒
中で活性なハロゲン陰イオンを生じさせるもの、
または強いルイス酸性を示すような化合物が好ま
しく用いられる。 用いる開始剤量は、とくに限定はされないが、
通常2,2,3,3−テトラフルオロオキセタン
量に対しては0.001〜30mol%、好ましくは0.01〜
10mol%が採用され得る。 前記重合開始剤としてのハロゲン化アルカリ金
属は、とくに限定されないが、例えばフツ化カリ
ウム、フツ化セシウム、ヨウ化カリウム、臭化カ
リウムなどが好ましく用いられる。開始剤として
ハロゲン化アルカリ金属を用いた場合の生成物は
一般に式: A(CH2CF2CF2O)nCH2CF2COF (1) [式中、Aは、F、BrまたはI、nは0〜200の
整数を表わす] で示される化合物である。この化合物の酸フルオ
ライド末端基は、加水分解、エステル化等の周知
の反応方法により対応する酸、アルカリ塩、エス
テルまたはアミド等に容易に導く事ができる。 前記重合開始剤としてのアルカリ金属フツ化物
と同時に、たとえば、 式:RfCOFまたは で示されるようなアシルフルオライド化合物を用
いると、前記(1)式のAがそれぞれ式: RfCF2O−または (但し、Rfは炭素数1〜10のパーフルオロアル
キル基、Rf′は炭素数1〜10のパーフルオロアル
キル基もしくは式: で示される基、tは0〜50の整数を表わす。) で表わされる式:−CH2CF2CF2O−で示される
くり返し単位を有する化合物を合成することがで
きる。 さらに2,2,3,3−テトラフルオロオキセ
タンを開環して得られるFCH2CF2COFなるアシ
ルフルオライドをたとえばフツ化セシウムと同時
に用いた場合にはアルカリ金属フツ化物を単独に
用いて重合した場合と同一構造の重合物が得られ
る。この方法は低分子状オリゴマーを分子量分布
を制御しながら得ようとする場合に有効な方法で
ある。 また、上述の説明からもわかるように、重合生
成物中に含まれる比較的揮発性の高い低分子量生
成物は、重合反応終了後蒸溜回収されたのち、再
度アルカリ金属フツ化物と同時に使用することに
より重合開始剤として再使用され得る。 また、上記の如く、アシルフルオライド化合物
を最初から使用せず、例えば予めアルカリ金属フ
ツ化物と反応してアシルフルオライドを生じるよ
うな含フツ素エポキシドを用い、これを2,2,
3,3−テトラフルオロオキセタンと反応させる
ことができる。例えば、ヘキサフルオロプロピレ
ンオキシドをアプロテイツ溶媒中でフツ化セシウ
ムを用いて反応させることにより、式: [式中、tは0〜50の整数を表わす] なる化合物を合成しておき、その系中に2,2,
3,3−テトラフルオロオキセタンを仕込み、結
果的に前記アシルフルオライドを単独に用いた場
合と同様の化合物を合成することもできる。 また、反対に、予めハロゲン化アルカリ金属開
始剤もしくは、アルカリ金属フツ化物とアシルフ
ルオライドの共存開始剤を用いて2,2,3,3
−テトラフルオロオキセタンを開環重合した系
に、たとえば、ヘキサフルオロプロピレンオキシ
ドを仕込むことにより [式中、Aは(1)式と同じ、xは2〜200の整数、
yは0〜50の整数を表わす。] なる化合物の合成もできる。 上記の説明からも理解されるように、理論的に
は2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンと
例えばヘキサフルオロプロピレンオキシドのよう
な同一開始剤系で開環重合可能なエポキシ化合物
は交互に、またはランダムにブロツク共重合物を
与えることが出来る、また、たとえば、シユウ酸
フルオライド(FOC・COF)のような二官能ア
シルフルオライドを、アルカリ金属フツ化物と同
時に、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタ
ンの重合開始剤として用いた場合には、 FOCCF2CH2(OCF2CF2CH2)zOCF2CF2O(CH2CF2CF2O)w
−CH2CF2COF(3) [式中、zおよびwはそれぞれ0〜200の整数を
表わす] で表わされる末端がそれぞれアシルフルオライド
である二官能性重合物が得られる。 一般的に、アプロテイツク溶媒中でアルカリ金
属フツ化物と作用して、 〜COF+MF〜CF2O-M+ (4) [式中、Mは、アルカリ金属種である。] (4)式で示されるようなフルオロアルコキシアニ
オンを平衡量形成するようなアシルフルオライド
化合物は、全て、アルカリ金属フツ化物共存下、
2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンの開
環重合開始剤となり、〜CF2O−なるアルコキシ
基の形で開環重合体の末端を形成し得ると言え
る。 ルイス酸性開始剤としては五フツ化アンチモン
(SbF5)が好ましく用いられる。 2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンの
開環反応は通常液相で実施され、反応溶媒として
は、ルイス酸開始剤以外では、アプロテイツク溶
媒、例えばジグライム、トリグライムもしくはテ
トラグライムのようなポリエチレングリコールジ
メチルエーテル類が好ましく用いられる。アセト
ニトリルやCH3OCH2CH2OCH3(グライム)を溶
媒として用いた場合には反応が遅いかまたは全く
反応しないが、18−クラウンエーテル−6のよう
な大環状ポリエーテル化合物を少量用いることに
より円滑に反応させ得る。アセトニトリルやグラ
イムは、その沸点が低い為、反応終了時に目的生
成物と容易に蒸溜分離出来る点で有利である。 ルイス酸開始剤の場合には、特に溶媒を必要と
しないがヘキサフルオロプロピレンの二量体もし
くは三量体が溶媒として用いられ得る。 反応温度は開始剤の種類や溶媒により変化しう
るが通常−80〜100℃の温度が用いられ、好まし
くは−30〜50℃の反応温度が採用されうる。 反応生成物は、通常の方法で回収することが出
来る。例えば、固体生成物は水洗して溶媒及び開
始剤残渣を除いた後、濾過することにより、また
揮発性生成物は精溜分離することにより回収でき
る。 反応生成物は前述したように、式: A(CH2CF2CF2O)nCH2CF2COF なる構造を有しており、末端のアシルフルオライ
ドは周知のように反応活性が高く、それ自身化学
的に価値あるものであるが、用途によつては不活
性なものが要求される。例えば、上記アシルフル
オライド化合物は、五フツ化アンチモン(SbF5)
を触媒量用い、ヘキサフルオロプロピレンの二量
体もしくは三量体中で室温以上に加熱することに
より、式: X(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 で示される化合物に変換出来る。このように末端
を化学的に不活性に変換したポリエーテルは、上
述のような要求に適応出来るものである。 紫外線存在下の塩素化およびフツ素化に際して
末端が−OCH2CF2COOHまたは−OCH2−
CF2COFであるポリエーテル()を用いた場
合、末端が−OCXYCF3または−OCXYCF2−Cl
[式中、XおよびYは前記と同意義。]である生成
物と、末端が−OCXYCOFまたは−OCXYCOCl
[式中、XおよびYは前記と同意義。]である生成
物が存在する。塩素またはフツ素の導入を停止
し、反応系内をたとえば窒素ガスで置換し、更に
紫外線照射を続けると、全ての末端は−
OCXYCF3または−OCXYCF2Clに変換される。 また、水で加水分解した後、フツ素を流通させ
ると末端を容易に−OCXYCF3に変換することが
できる。 本発明の新規含ハロゲンポリエーテル(I)の
主鎖は、熱的にも化学的にも非常に安定で、その
性状に応じ種々の用途に応用することができる。
特に本発明のポリエーテル(I)は、通常のパー
フルオロポリエーテルに比べて化学的、熱的安定
性はやや劣るものの、クロロフルオロ炭化水素系
のオイルよりも優れ、その潤滑性はパーフルオロ
ポリエーテルを凌ぐものである。 この特性を利用して、耐熱性、耐薬品性を持つ
オイルとして、溶媒、熱媒体、潤滑油、真空ポン
プ油などとして使用することができる。 また、末端安定化しないものは、含塩素フツ素
化合物を製造するための中間体として、またフツ
素系界面活性剤の原料として使用することができ
る。 次に参考例および実施例を示し、本発明を具体
的に説明する。 参考例 1 200mlのローターフローバルブ付ガラス管に、
よく乾燥したジグライム50ml、フツ化セシウム
0.15gおよび2,2,3,3−テトラフルオロオ
キセタン50gを仕込み、撹拌下、室温に15時間保
つた。反応混合物を水1000mlに入れ、析出した固
型物をガラスフイルターで分離し、メタノールで
洗浄した後、真空乾燥を行つて、白色粉末45gを
得た。融点:78℃。分解温度:316℃。 元素分析:
の製法と用途に関する。 本発明の新規含ハロゲンポリエーテル(I)
は、 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (b) 式: −(CHClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (c) 式: −(CCl2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (e) 式: −(CFClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(b)、(c)および(e)を合計
で少なくとも1個含み、くり返し単位(a)、(c)、
(d)および(f)を合計で少なくとも1個含む化合物
である。なお、本発明の含ハロゲンポリエーテ
ル(I)において、各くり返し単位の分子中で
の配列は任意である。 本発明の含ハロゲンポリエーテルは、たとえ
ば、式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、即ち、くり返し単位(a)
2〜200個から成る含フツ素ポリエーテル()
を塩素化およびフツ素化することにより容易に製
造することができる。 塩素化は、ポリエーテル()に、好ましくは
200〜500nmの紫外線照射下、塩素ガスを反応さ
せることにより行うことができる。反応温度は、
原料のポリエーテル()の重合度に依存する
が、反応を円滑に進める上で必要な撹拌が可能な
粘度と成るような温度を選択すればよい。一般
に、塩素化が進行するにつれて生成物の流動点が
低下するので、それに応じて反応温度を低下させ
ることができる。通常、30〜200℃、好ましくは
50〜150℃の反応温度が採用される。 塩素ガスは、反応液中に吹き込んでも、気相部
に流通させてもよく、また適当な不活性ガス(た
とえば窒素、アルゴンなど)で希釈して用いても
よい。 反応容器としては、外部または内部から光照射
が可能な容器ならばよく、光透過材としては石英
などが好ましいが、工業的にはパイレツクスグラ
スで充分である。 塩素化により得られる含ハロゲンポリエーテル
()は、くり返し単位(a)、(b)および(c)から成る
群から選択された少なくとも1種のくり返し単位
2〜200個から成り、くり返し単位(b)および(c)を
合計で少なくとも1個含む化合物である。 本発明の含ハロゲンポリエーテル(I)は、ポ
リエーテル()をさらにフツ素化することによ
り製造することができる。 フツ素化は、ポリエーテル()に、室温〜
300℃、好ましくは50〜200℃においてフツ素ガス
を反応させることにより行なうことができる。ま
た、フツ素ガスは適当な不活性ガス(たとえば窒
素、アルゴンなど)により希釈して用いてもよ
い。 反応様式としては、流通式およびバツチ式のい
ずれもが採用されうる。 本発明のポリエーテル(I)は、上記のように
先に塩素化を行つてポリエーテル()を製造
し、それを更にフツ素化することにより製造する
ことができるが、塩素化およびフツ素化の順序は
逆にしてもよく、その順序は本質的ではない。す
なわち、 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(d)および(f)を合計で少
なくとも1個含むポリエーテル()を得、こ
れを塩素化してポリエーテル(I)を製造する
ことができる。 ポリエーテル()も新規化合物であり、2,
2,3,3−テトラフルオロオキセタンを開環重
合することにより製造できる。その製法を以下に
説明する。 前記開環重合を行うに際しては、一般に重合開
始剤が用いられる。重合開始剤としては、ハロゲ
ン化アルカリ金属のように、アプロテイツク溶媒
中で活性なハロゲン陰イオンを生じさせるもの、
または強いルイス酸性を示すような化合物が好ま
しく用いられる。 用いる開始剤量は、とくに限定はされないが、
通常2,2,3,3−テトラフルオロオキセタン
量に対しては0.001〜30mol%、好ましくは0.01〜
10mol%が採用され得る。 前記重合開始剤としてのハロゲン化アルカリ金
属は、とくに限定されないが、例えばフツ化カリ
ウム、フツ化セシウム、ヨウ化カリウム、臭化カ
リウムなどが好ましく用いられる。開始剤として
ハロゲン化アルカリ金属を用いた場合の生成物は
一般に式: A(CH2CF2CF2O)nCH2CF2COF (1) [式中、Aは、F、BrまたはI、nは0〜200の
整数を表わす] で示される化合物である。この化合物の酸フルオ
ライド末端基は、加水分解、エステル化等の周知
の反応方法により対応する酸、アルカリ塩、エス
テルまたはアミド等に容易に導く事ができる。 前記重合開始剤としてのアルカリ金属フツ化物
と同時に、たとえば、 式:RfCOFまたは で示されるようなアシルフルオライド化合物を用
いると、前記(1)式のAがそれぞれ式: RfCF2O−または (但し、Rfは炭素数1〜10のパーフルオロアル
キル基、Rf′は炭素数1〜10のパーフルオロアル
キル基もしくは式: で示される基、tは0〜50の整数を表わす。) で表わされる式:−CH2CF2CF2O−で示される
くり返し単位を有する化合物を合成することがで
きる。 さらに2,2,3,3−テトラフルオロオキセ
タンを開環して得られるFCH2CF2COFなるアシ
ルフルオライドをたとえばフツ化セシウムと同時
に用いた場合にはアルカリ金属フツ化物を単独に
用いて重合した場合と同一構造の重合物が得られ
る。この方法は低分子状オリゴマーを分子量分布
を制御しながら得ようとする場合に有効な方法で
ある。 また、上述の説明からもわかるように、重合生
成物中に含まれる比較的揮発性の高い低分子量生
成物は、重合反応終了後蒸溜回収されたのち、再
度アルカリ金属フツ化物と同時に使用することに
より重合開始剤として再使用され得る。 また、上記の如く、アシルフルオライド化合物
を最初から使用せず、例えば予めアルカリ金属フ
ツ化物と反応してアシルフルオライドを生じるよ
うな含フツ素エポキシドを用い、これを2,2,
3,3−テトラフルオロオキセタンと反応させる
ことができる。例えば、ヘキサフルオロプロピレ
ンオキシドをアプロテイツ溶媒中でフツ化セシウ
ムを用いて反応させることにより、式: [式中、tは0〜50の整数を表わす] なる化合物を合成しておき、その系中に2,2,
3,3−テトラフルオロオキセタンを仕込み、結
果的に前記アシルフルオライドを単独に用いた場
合と同様の化合物を合成することもできる。 また、反対に、予めハロゲン化アルカリ金属開
始剤もしくは、アルカリ金属フツ化物とアシルフ
ルオライドの共存開始剤を用いて2,2,3,3
−テトラフルオロオキセタンを開環重合した系
に、たとえば、ヘキサフルオロプロピレンオキシ
ドを仕込むことにより [式中、Aは(1)式と同じ、xは2〜200の整数、
yは0〜50の整数を表わす。] なる化合物の合成もできる。 上記の説明からも理解されるように、理論的に
は2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンと
例えばヘキサフルオロプロピレンオキシドのよう
な同一開始剤系で開環重合可能なエポキシ化合物
は交互に、またはランダムにブロツク共重合物を
与えることが出来る、また、たとえば、シユウ酸
フルオライド(FOC・COF)のような二官能ア
シルフルオライドを、アルカリ金属フツ化物と同
時に、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタ
ンの重合開始剤として用いた場合には、 FOCCF2CH2(OCF2CF2CH2)zOCF2CF2O(CH2CF2CF2O)w
−CH2CF2COF(3) [式中、zおよびwはそれぞれ0〜200の整数を
表わす] で表わされる末端がそれぞれアシルフルオライド
である二官能性重合物が得られる。 一般的に、アプロテイツク溶媒中でアルカリ金
属フツ化物と作用して、 〜COF+MF〜CF2O-M+ (4) [式中、Mは、アルカリ金属種である。] (4)式で示されるようなフルオロアルコキシアニ
オンを平衡量形成するようなアシルフルオライド
化合物は、全て、アルカリ金属フツ化物共存下、
2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンの開
環重合開始剤となり、〜CF2O−なるアルコキシ
基の形で開環重合体の末端を形成し得ると言え
る。 ルイス酸性開始剤としては五フツ化アンチモン
(SbF5)が好ましく用いられる。 2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンの
開環反応は通常液相で実施され、反応溶媒として
は、ルイス酸開始剤以外では、アプロテイツク溶
媒、例えばジグライム、トリグライムもしくはテ
トラグライムのようなポリエチレングリコールジ
メチルエーテル類が好ましく用いられる。アセト
ニトリルやCH3OCH2CH2OCH3(グライム)を溶
媒として用いた場合には反応が遅いかまたは全く
反応しないが、18−クラウンエーテル−6のよう
な大環状ポリエーテル化合物を少量用いることに
より円滑に反応させ得る。アセトニトリルやグラ
イムは、その沸点が低い為、反応終了時に目的生
成物と容易に蒸溜分離出来る点で有利である。 ルイス酸開始剤の場合には、特に溶媒を必要と
しないがヘキサフルオロプロピレンの二量体もし
くは三量体が溶媒として用いられ得る。 反応温度は開始剤の種類や溶媒により変化しう
るが通常−80〜100℃の温度が用いられ、好まし
くは−30〜50℃の反応温度が採用されうる。 反応生成物は、通常の方法で回収することが出
来る。例えば、固体生成物は水洗して溶媒及び開
始剤残渣を除いた後、濾過することにより、また
揮発性生成物は精溜分離することにより回収でき
る。 反応生成物は前述したように、式: A(CH2CF2CF2O)nCH2CF2COF なる構造を有しており、末端のアシルフルオライ
ドは周知のように反応活性が高く、それ自身化学
的に価値あるものであるが、用途によつては不活
性なものが要求される。例えば、上記アシルフル
オライド化合物は、五フツ化アンチモン(SbF5)
を触媒量用い、ヘキサフルオロプロピレンの二量
体もしくは三量体中で室温以上に加熱することに
より、式: X(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 で示される化合物に変換出来る。このように末端
を化学的に不活性に変換したポリエーテルは、上
述のような要求に適応出来るものである。 紫外線存在下の塩素化およびフツ素化に際して
末端が−OCH2CF2COOHまたは−OCH2−
CF2COFであるポリエーテル()を用いた場
合、末端が−OCXYCF3または−OCXYCF2−Cl
[式中、XおよびYは前記と同意義。]である生成
物と、末端が−OCXYCOFまたは−OCXYCOCl
[式中、XおよびYは前記と同意義。]である生成
物が存在する。塩素またはフツ素の導入を停止
し、反応系内をたとえば窒素ガスで置換し、更に
紫外線照射を続けると、全ての末端は−
OCXYCF3または−OCXYCF2Clに変換される。 また、水で加水分解した後、フツ素を流通させ
ると末端を容易に−OCXYCF3に変換することが
できる。 本発明の新規含ハロゲンポリエーテル(I)の
主鎖は、熱的にも化学的にも非常に安定で、その
性状に応じ種々の用途に応用することができる。
特に本発明のポリエーテル(I)は、通常のパー
フルオロポリエーテルに比べて化学的、熱的安定
性はやや劣るものの、クロロフルオロ炭化水素系
のオイルよりも優れ、その潤滑性はパーフルオロ
ポリエーテルを凌ぐものである。 この特性を利用して、耐熱性、耐薬品性を持つ
オイルとして、溶媒、熱媒体、潤滑油、真空ポン
プ油などとして使用することができる。 また、末端安定化しないものは、含塩素フツ素
化合物を製造するための中間体として、またフツ
素系界面活性剤の原料として使用することができ
る。 次に参考例および実施例を示し、本発明を具体
的に説明する。 参考例 1 200mlのローターフローバルブ付ガラス管に、
よく乾燥したジグライム50ml、フツ化セシウム
0.15gおよび2,2,3,3−テトラフルオロオ
キセタン50gを仕込み、撹拌下、室温に15時間保
つた。反応混合物を水1000mlに入れ、析出した固
型物をガラスフイルターで分離し、メタノールで
洗浄した後、真空乾燥を行つて、白色粉末45gを
得た。融点:78℃。分解温度:316℃。 元素分析:
【表】
NMR:δ(ppm)=4.62(CH2)(内部標準:
TMS)。 δ(ppm)=−7.2(−CF2 O−)、−41.4(CH2C
F2)(外部標準:TFA)(標準より低磁場側を+
とする。)。 この化合物のIRチヤートを第1図に示す。 これらの結果より、生成物は、 −CH2CF2CF2O−の骨格を有するポリマーで
あると確認できた。平均分子量はGPCより1.5×
104であることが判明した。 参考例 2 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した1のフラスコを充分に乾燥窒素ガスで
置換し、乾燥ジグライム200mlおよびフツ化セシ
ウム4.2gを仕込み、氷浴中で撹拌下、パーフルオ
ロ−2−プロポキシプロピオン酸フルオライド
166gを加え、30分間保つた。2,2,3,3−
テトラフルオロオキセタン650gを5時間にわた
り滴下した。滴下終了後、氷浴を25℃水浴に取り
かえ、15時間保つた。均一になつた液を、減圧蒸
留し、液状物725g(60〜200℃/1mmHg)を得た。 これは、GC/MS、NMRおよびIR分析の結
果、 (aは、1〜10の整数) の混合物であると判明した。 参考例 3 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した300mlのフラスコを充分に乾燥窒素ガス
で置換し、乾燥ジグライム50mlおよびフツ化セシ
ウム0.2gを仕込み、氷浴中で撹拌下、2,2,3
−トリフルオロプロピオン酸フロリド26.0gを加
え30分間保つた。2,2,3,3−テトラフルオ
ロオキセタン130gを3時間にわたり滴下した。
滴下終了後、氷浴を水浴に取りかえ、12時間保つ
た。メタノール30gを滴下し、30分間保つた後、
反応混合物を水2に入れ、十分に撹拌し、分液
ロートで下層液を分離した(収量150g)。 これは、分析の結果、 F(CH2CF2CF2O)bCH2CF2COOCH3 (bは0〜9の整数) の混合物であると判明した。 参考例 4 六フツ化プロピレンダイマー[(CF3)2CFCF=
CF−CF330重量部と(CF3)2C=CFCF2CF370重
量部との混合物]150gおよび五フツ化アンチモ
ン0.3gを仕込み、撹拌下、2,2,3,3−テト
ラフルオロオキセタン65gをゆつくりと滴下し、
−50〜0℃で5時間保つた。減圧して低沸留分を
除去し、ワツクス状生成物50gを得た。融点52
℃。 これは、分析の結果、−CH2CF2CF2O−の構造
をもつことが判明した。 参考例 5 500mlのガラスフラスコによく乾燥したジグラ
イム100mlおよびフツ化カリウム1.0gを仕込み、
撹拌下、氷浴中で2,2,3,3−テトラフルオ
ロオキセタン130gをゆつくりと滴下し、15時間
保つた。参考例1と同様の後処理を行なつて、ポ
リマー120gを得た。 これは、分析の結果、−CH2CF2CF2O−の構造
をもつことが判明した。平均分子量は、GPCよ
り1.0×104であつた。 参考例 6 乾燥ジグライム50mlおよびヨウ化カリウム15g
を仕込み、撹拌下2,2,3,3−テトラフルオ
ロオキセタン32.5gをゆつくりと滴下し、24時間
保つた。メタノール10gを滴下し、30分間保つた
後、水でよく洗浄し油状生成物30gを得た。 これは、分析の結果、 I(CH2CF2CF2O)cCH2CF2COOCH3 (cは0〜5の整数) の混合物であると判明した。 参考例 7 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した100mlフラスコに、乾燥ジグライム30ml
およびフツ化セシウム1.2gを仕込み、−30℃に冷
却した浴中で、撹拌した。次いで、パーフルオロ
プロピオン酸フルオリド10gをガス状で仕込み、
終了後、30分間そのまま保つた後、浴温を0℃に
上げ、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタ
ン50gを20時間にわたつて滴下した。滴下終了
後、浴温を徐々に20℃に上げ、更に5時間撹拌を
続けた後、メタノール50g中に入れ、撹拌し、更
に大量の水で洗浄した後、オイル状生成物47gを
得た。 NMR、IRおよびGC−MSにより分析した結
果、生成物は、 CF3CF2CF2O(CH2CF2CF2O)dCH2CF2COO
CH3 (dは、1〜8の整数) の混合物であることが分かつた。 参考例 8 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した30mlフラスコに、乾燥ジグライム10ml、
フツ化セシウム1.2gおよび2,2,3−トリフル
オロプロピオン酸フルオリド2.0gを加え、水浴中
で1時間撹拌した。次いで、撹拌下2,2,3,
3−テトラフルオロオキセタン10.0gを3時間に
わたつて滴下した。滴下終了後、更に15時間撹拌
を続けた。次いで、水浴を氷浴に取り替え、ヘキ
サフルオロプロピレンオキシドを10ml/分の流量
で系内に2時間吹き込んだ後、更に5時間反応を
続けた。反応液をメタノールで処理して、水洗
し、オイル状物18.0gを得た。 分析により、生成物は、 (eは、2〜9の整数、fは、0〜3の整数) の混合物であることが分かつた。 実施例 1 ローターフローバルブ付き100mlシリカチユー
ブに、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=5) で示されるポリフルオロエーテル1.76gと塩素
0.55gを仕込み、高圧紫外線照射装置を用いて15
時間紫外線を照射した。照射終了後、脱気して、
油状物2.00gを得た。 反応生成物は、IR、NMR分析から (CH2CF2CF2O)x−(CHClCF2CF2O)y で示される繰り返し単位を含む化合物であること
が分かつた。 実施例 2 吹き込み管付きの100mlシリカ製反応管に、
式:F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=5) で示されるポリフルオロエーテル35.0gを仕込み、
これに塩素ガスを50ml/分の流速で吹き込み管か
ら流通させながら、高圧水銀灯により紫外線を照
射した。6時間後、一部を取り出してGLC、IR
およびNMRで分析したところ、この化合物は、
主に F(CHClCF2CF2O)nCHClCF3 で示される構造を持つことが分かつた。 さらに反応を継続し、14時間後に反応を停止
し、生成物52.1gを得た。この化合物をNMR、
IRおよび元素分析により分析したところ、 F(CCl2CF2CF2O)nCCl2CF3 (nの平均=5) であることが分かつた。 実施例 3 パイレツクス製100mlフラスコに、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF2COOH (nの平均=25) で示される白色粉末状ポリフルオロエーテル
50.0gを仕込み、フラスコをフツ素油中で100〜
150℃に加熱し、マグネチツクスターラーで撹拌
しながら高圧水銀灯照射下に、差し込み管から塩
素ガスを100ml/分で吹き込んだ。1週間後、窒
素でフラスコ内を置換し、冷却してワツクス状生
成物75.0gを得た。分析の結果、 F(CCl2CF2CF2O)nCCl2CF2Cl (nの平均=25) で示される化合物であることが分かつた。この化
合物のIRチヤートを第2図に示す。 実施例 4 冷却器および差し込み管付きパイレツクス製
100mlフラスコに、式: CH2FCF2CF2OCH2CF2CF2OCH2−CF3 で示される液状化合物50.0gを仕込み、マグネチ
ツクスターラーで撹拌しながら高圧水銀灯照射下
に、差し込み管から塩素ガスを100ml/分で吹き
込んだ。水銀灯の熱により内部温度は90℃まで上
昇した。24時間後、窒素で置換し、反応生成物を
分析したところ、式: CCl2FCF2CF2OCCl2CF2CF2O−CCl2CF3 で示される化合物であることが分かつた。収量
72.0g。この化合物のIRチヤートを第3図に示す。 実施例 5 実施例4と同じ装置に、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=5) で示されるポリフルオロエーテル50.0gを仕込み、
これに塩素ガスを50ml/分の流速で3時間吹き込
んだ。塩素ガスの吹き込みを停止し、生成物を取
り出し、分析したところ、塩素化率は20%であつ
た。この試料から10gを取り、ステンレススチー
ル製(読み取り不可)の反応管に仕込み、マグネ
チツクスターラーで撹拌しながら、フツ素/窒素
(容積比70/30)混合ガスを50ml/分で室温で流
通させた。12時間後、生成物を分析したところ、
式: F(CClxFyCF2CF2O)nCClxFyCF3 (nの平均=5、x:y=1:4) で示される化合物であることが分かつた。 実施例 6 撹拌機付20ステンレス製反応器を100℃に保
ち、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=20) で示されるポリフルオロエーテル10Kgを仕込み、
これにフツ素ガスを5/分の流速で仕込みフツ
素化反応を行つた。40時間後、フツ素ガスの仕込
みを停止し、窒素で充分に置換を行い、生成物を
抜き出し、式: F(CF2CF2CF2O−)x−(CHFCF2CF2O)−yCF2CF2
COF (x:y=2:1) で示されるポリフルオロエーテル12Kgを得た。 このポリフルオロエーテルを20パイレツクス
ガラス製反応器に仕込み、100℃に保ち、水銀ラ
ンプ(1KW)で照射下、塩素を5/分の流速
で48時間吹き込み管より吹き込んだ。終了後窒素
で置換し、生成物を抜き出し、式: F(CF2CF2CF2O−)x−(CClFCF2CF2O)−yCF2CF
2COF (x:y=2:1) で示されるポリフルオロエーテル12.5Kgを得た。 このポリフルオロエーテルを最初のステンレス
反応器に戻し、水100gを加えて撹拌した後、温
度を150℃に上げ、再度フツ素ガスを2/分の
流速で12時間流通させた。反応終了後、窒素で置
換した後、生成物を抜き出して、式: F(CF2CF2CF2O−)x−(CClFCF2CF2O)−
yCF2CF3 で示されるポリエーテル12.0Kgを得た。 反応生成物のIRを第4図に示す。 実施例 7 直結後油回転ポンプを厳密に溶剤で洗浄した
後、実施例6で得たオイルを注油し、フロン14と
水酸素との混合ガスを使用する試験用プラズマ発
生装置の運転を行つた。30日間の運転後もモータ
−電流値に異常は認められなかつた。 油を抜き出して調べた結果、粘度は40℃におい
て85cstであり、注入前のオイルの83cstと比べ顕
著な変化は認められなかつた。また、使用後の油
のIR、NMRの分析結果はいずれも使用前に比し
て変化が認められなかつた。
TMS)。 δ(ppm)=−7.2(−CF2 O−)、−41.4(CH2C
F2)(外部標準:TFA)(標準より低磁場側を+
とする。)。 この化合物のIRチヤートを第1図に示す。 これらの結果より、生成物は、 −CH2CF2CF2O−の骨格を有するポリマーで
あると確認できた。平均分子量はGPCより1.5×
104であることが判明した。 参考例 2 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した1のフラスコを充分に乾燥窒素ガスで
置換し、乾燥ジグライム200mlおよびフツ化セシ
ウム4.2gを仕込み、氷浴中で撹拌下、パーフルオ
ロ−2−プロポキシプロピオン酸フルオライド
166gを加え、30分間保つた。2,2,3,3−
テトラフルオロオキセタン650gを5時間にわた
り滴下した。滴下終了後、氷浴を25℃水浴に取り
かえ、15時間保つた。均一になつた液を、減圧蒸
留し、液状物725g(60〜200℃/1mmHg)を得た。 これは、GC/MS、NMRおよびIR分析の結
果、 (aは、1〜10の整数) の混合物であると判明した。 参考例 3 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した300mlのフラスコを充分に乾燥窒素ガス
で置換し、乾燥ジグライム50mlおよびフツ化セシ
ウム0.2gを仕込み、氷浴中で撹拌下、2,2,3
−トリフルオロプロピオン酸フロリド26.0gを加
え30分間保つた。2,2,3,3−テトラフルオ
ロオキセタン130gを3時間にわたり滴下した。
滴下終了後、氷浴を水浴に取りかえ、12時間保つ
た。メタノール30gを滴下し、30分間保つた後、
反応混合物を水2に入れ、十分に撹拌し、分液
ロートで下層液を分離した(収量150g)。 これは、分析の結果、 F(CH2CF2CF2O)bCH2CF2COOCH3 (bは0〜9の整数) の混合物であると判明した。 参考例 4 六フツ化プロピレンダイマー[(CF3)2CFCF=
CF−CF330重量部と(CF3)2C=CFCF2CF370重
量部との混合物]150gおよび五フツ化アンチモ
ン0.3gを仕込み、撹拌下、2,2,3,3−テト
ラフルオロオキセタン65gをゆつくりと滴下し、
−50〜0℃で5時間保つた。減圧して低沸留分を
除去し、ワツクス状生成物50gを得た。融点52
℃。 これは、分析の結果、−CH2CF2CF2O−の構造
をもつことが判明した。 参考例 5 500mlのガラスフラスコによく乾燥したジグラ
イム100mlおよびフツ化カリウム1.0gを仕込み、
撹拌下、氷浴中で2,2,3,3−テトラフルオ
ロオキセタン130gをゆつくりと滴下し、15時間
保つた。参考例1と同様の後処理を行なつて、ポ
リマー120gを得た。 これは、分析の結果、−CH2CF2CF2O−の構造
をもつことが判明した。平均分子量は、GPCよ
り1.0×104であつた。 参考例 6 乾燥ジグライム50mlおよびヨウ化カリウム15g
を仕込み、撹拌下2,2,3,3−テトラフルオ
ロオキセタン32.5gをゆつくりと滴下し、24時間
保つた。メタノール10gを滴下し、30分間保つた
後、水でよく洗浄し油状生成物30gを得た。 これは、分析の結果、 I(CH2CF2CF2O)cCH2CF2COOCH3 (cは0〜5の整数) の混合物であると判明した。 参考例 7 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した100mlフラスコに、乾燥ジグライム30ml
およびフツ化セシウム1.2gを仕込み、−30℃に冷
却した浴中で、撹拌した。次いで、パーフルオロ
プロピオン酸フルオリド10gをガス状で仕込み、
終了後、30分間そのまま保つた後、浴温を0℃に
上げ、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタ
ン50gを20時間にわたつて滴下した。滴下終了
後、浴温を徐々に20℃に上げ、更に5時間撹拌を
続けた後、メタノール50g中に入れ、撹拌し、更
に大量の水で洗浄した後、オイル状生成物47gを
得た。 NMR、IRおよびGC−MSにより分析した結
果、生成物は、 CF3CF2CF2O(CH2CF2CF2O)dCH2CF2COO
CH3 (dは、1〜8の整数) の混合物であることが分かつた。 参考例 8 ドライアイスコンデンサーおよび滴下ロートを
連結した30mlフラスコに、乾燥ジグライム10ml、
フツ化セシウム1.2gおよび2,2,3−トリフル
オロプロピオン酸フルオリド2.0gを加え、水浴中
で1時間撹拌した。次いで、撹拌下2,2,3,
3−テトラフルオロオキセタン10.0gを3時間に
わたつて滴下した。滴下終了後、更に15時間撹拌
を続けた。次いで、水浴を氷浴に取り替え、ヘキ
サフルオロプロピレンオキシドを10ml/分の流量
で系内に2時間吹き込んだ後、更に5時間反応を
続けた。反応液をメタノールで処理して、水洗
し、オイル状物18.0gを得た。 分析により、生成物は、 (eは、2〜9の整数、fは、0〜3の整数) の混合物であることが分かつた。 実施例 1 ローターフローバルブ付き100mlシリカチユー
ブに、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=5) で示されるポリフルオロエーテル1.76gと塩素
0.55gを仕込み、高圧紫外線照射装置を用いて15
時間紫外線を照射した。照射終了後、脱気して、
油状物2.00gを得た。 反応生成物は、IR、NMR分析から (CH2CF2CF2O)x−(CHClCF2CF2O)y で示される繰り返し単位を含む化合物であること
が分かつた。 実施例 2 吹き込み管付きの100mlシリカ製反応管に、
式:F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=5) で示されるポリフルオロエーテル35.0gを仕込み、
これに塩素ガスを50ml/分の流速で吹き込み管か
ら流通させながら、高圧水銀灯により紫外線を照
射した。6時間後、一部を取り出してGLC、IR
およびNMRで分析したところ、この化合物は、
主に F(CHClCF2CF2O)nCHClCF3 で示される構造を持つことが分かつた。 さらに反応を継続し、14時間後に反応を停止
し、生成物52.1gを得た。この化合物をNMR、
IRおよび元素分析により分析したところ、 F(CCl2CF2CF2O)nCCl2CF3 (nの平均=5) であることが分かつた。 実施例 3 パイレツクス製100mlフラスコに、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF2COOH (nの平均=25) で示される白色粉末状ポリフルオロエーテル
50.0gを仕込み、フラスコをフツ素油中で100〜
150℃に加熱し、マグネチツクスターラーで撹拌
しながら高圧水銀灯照射下に、差し込み管から塩
素ガスを100ml/分で吹き込んだ。1週間後、窒
素でフラスコ内を置換し、冷却してワツクス状生
成物75.0gを得た。分析の結果、 F(CCl2CF2CF2O)nCCl2CF2Cl (nの平均=25) で示される化合物であることが分かつた。この化
合物のIRチヤートを第2図に示す。 実施例 4 冷却器および差し込み管付きパイレツクス製
100mlフラスコに、式: CH2FCF2CF2OCH2CF2CF2OCH2−CF3 で示される液状化合物50.0gを仕込み、マグネチ
ツクスターラーで撹拌しながら高圧水銀灯照射下
に、差し込み管から塩素ガスを100ml/分で吹き
込んだ。水銀灯の熱により内部温度は90℃まで上
昇した。24時間後、窒素で置換し、反応生成物を
分析したところ、式: CCl2FCF2CF2OCCl2CF2CF2O−CCl2CF3 で示される化合物であることが分かつた。収量
72.0g。この化合物のIRチヤートを第3図に示す。 実施例 5 実施例4と同じ装置に、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=5) で示されるポリフルオロエーテル50.0gを仕込み、
これに塩素ガスを50ml/分の流速で3時間吹き込
んだ。塩素ガスの吹き込みを停止し、生成物を取
り出し、分析したところ、塩素化率は20%であつ
た。この試料から10gを取り、ステンレススチー
ル製(読み取り不可)の反応管に仕込み、マグネ
チツクスターラーで撹拌しながら、フツ素/窒素
(容積比70/30)混合ガスを50ml/分で室温で流
通させた。12時間後、生成物を分析したところ、
式: F(CClxFyCF2CF2O)nCClxFyCF3 (nの平均=5、x:y=1:4) で示される化合物であることが分かつた。 実施例 6 撹拌機付20ステンレス製反応器を100℃に保
ち、式: F(CH2CF2CF2O)nCH2CF3 (nの平均=20) で示されるポリフルオロエーテル10Kgを仕込み、
これにフツ素ガスを5/分の流速で仕込みフツ
素化反応を行つた。40時間後、フツ素ガスの仕込
みを停止し、窒素で充分に置換を行い、生成物を
抜き出し、式: F(CF2CF2CF2O−)x−(CHFCF2CF2O)−yCF2CF2
COF (x:y=2:1) で示されるポリフルオロエーテル12Kgを得た。 このポリフルオロエーテルを20パイレツクス
ガラス製反応器に仕込み、100℃に保ち、水銀ラ
ンプ(1KW)で照射下、塩素を5/分の流速
で48時間吹き込み管より吹き込んだ。終了後窒素
で置換し、生成物を抜き出し、式: F(CF2CF2CF2O−)x−(CClFCF2CF2O)−yCF2CF
2COF (x:y=2:1) で示されるポリフルオロエーテル12.5Kgを得た。 このポリフルオロエーテルを最初のステンレス
反応器に戻し、水100gを加えて撹拌した後、温
度を150℃に上げ、再度フツ素ガスを2/分の
流速で12時間流通させた。反応終了後、窒素で置
換した後、生成物を抜き出して、式: F(CF2CF2CF2O−)x−(CClFCF2CF2O)−
yCF2CF3 で示されるポリエーテル12.0Kgを得た。 反応生成物のIRを第4図に示す。 実施例 7 直結後油回転ポンプを厳密に溶剤で洗浄した
後、実施例6で得たオイルを注油し、フロン14と
水酸素との混合ガスを使用する試験用プラズマ発
生装置の運転を行つた。30日間の運転後もモータ
−電流値に異常は認められなかつた。 油を抜き出して調べた結果、粘度は40℃におい
て85cstであり、注入前のオイルの83cstと比べ顕
著な変化は認められなかつた。また、使用後の油
のIR、NMRの分析結果はいずれも使用前に比し
て変化が認められなかつた。
第1図は、参考例1で得たポリマーのIRチヤ
ートである。第2図は、実施例3で得たポリエー
テルのIRチヤートである。第3図は、実施例4
で得たポリエーテルのIRチヤートである。第4
図は、実施例6で得たポリエーテルのIRチヤー
トである。
ートである。第2図は、実施例3で得たポリエー
テルのIRチヤートである。第3図は、実施例4
で得たポリエーテルのIRチヤートである。第4
図は、実施例6で得たポリエーテルのIRチヤー
トである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (b) 式: −(CHClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (c) 式: −(CCl2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (e) 式: −(CFClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(b)、(c)および(e)を合計
で少なくとも1個含み、くり返し単位(a)、(c)、
(d)および(f)を合計で少なくとも1個含む含ハロ
ゲンポリエーテル。 2 くり返し単位(a)、(b)および(c)から成る群から
選択された少なくとも1種のくり返し単位2〜
200個から成る特許請求の範囲第1項記載の含ハ
ロゲンポリエーテル。 3 くり返し単位(c)、(e)および(f)から成る群から
選択された少なくとも1種のくり返し単位2〜
200個から成り、くり返し単位(c)および(e)を合計
で少なくとも1個含み、くり返し単位(c)および(f)
を合計で少なくとも1個含み、(e)および(f)を合計
で少なくとも1個含む特許請求の範囲第1項記載
の含ハロゲンポリエーテル。 4 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位2〜200個から成る含フ
ツ素ポリエーテルを塩素化およびフツ素化して、 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (b) 式: −(CHClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (c) 式: −(CCl2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (e) 式: −(CFClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(b)、(c)および(e)を合計
で少なくとも1個含み、くり返し単位(a)、(c)、
(d)および(f)を合計で少なくとも1個含む化合物
を得ることを特徴とする含ハロゲンポリエーテ
ルの製法。 5 塩素化を塩素ガスにより、フツ素化をフツ素
ガスにより行なう特許請求の範囲第4項記載の製
法。 6 塩素化を波長200〜500nmの光の照射下に行
なう特許請求の範囲第5項記載の製法。 7 フツ素化を室温〜300℃の温度で行う特許請
求の範囲第5項記載の製法。 8 (a) 式: −(CH2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (b) 式: −(CHClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (c) 式: −(CCl2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (d) 式: −(CHFCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、 (e) 式: −(CFClCF2CF2O)− で示されるくり返し単位、および (f) 式: −(CF2CF2CF2O)− で示されるくり返し単位から成る群から選択さ
れた少なくとも1種のくり返し単位2〜200個
から成り、くり返し単位(b)、(c)および(e)を合計
で少なくとも1個含み、くり返し単位(a)、(c)、
(d)および(f)を合計で少なくとも1個含む含ハロ
ゲンポリエーテルから成る真空ポンプ油。
Priority Applications (10)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23561084A JPS61113616A (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 | 新規含ハロゲンポリエ−テルおよびその製法と用途 |
DE8484116003T DE3485616D1 (de) | 1983-12-26 | 1984-12-20 | Verfahren zur herstellung von halogen enthaltenden polyathern |
EP90119306A EP0415462B1 (en) | 1983-12-26 | 1984-12-20 | Halogen-containing polyether |
EP84116003A EP0148482B1 (en) | 1983-12-26 | 1984-12-20 | Process for preparing halogen-containing polyether |
DE3486428T DE3486428T2 (de) | 1983-12-26 | 1984-12-20 | Halogen enthaltendes Polyether |
KR1019840008233A KR880000659B1 (ko) | 1984-03-26 | 1984-12-21 | 할로겐 함유 폴리에테르의 제조방법 |
CA000470995A CA1259443A (en) | 1983-12-26 | 1984-12-24 | Halogen-containing polyether |
US06/940,191 US4845268A (en) | 1983-12-26 | 1986-12-09 | Halogen-containing polyether |
US07/338,036 US4973742A (en) | 1983-12-26 | 1989-04-14 | Halogen-containing polyether |
SU5010940A RU2107074C1 (ru) | 1983-12-26 | 1992-02-26 | Галогенсодержащий простой полиэфир |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23561084A JPS61113616A (ja) | 1984-11-07 | 1984-11-07 | 新規含ハロゲンポリエ−テルおよびその製法と用途 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61113616A JPS61113616A (ja) | 1986-05-31 |
JPH0160170B2 true JPH0160170B2 (ja) | 1989-12-21 |
Family
ID=16988556
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23561084A Granted JPS61113616A (ja) | 1983-12-26 | 1984-11-07 | 新規含ハロゲンポリエ−テルおよびその製法と用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61113616A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2503591B2 (ja) * | 1987-06-02 | 1996-06-05 | ダイキン工業株式会社 | 含ハロゲンポリエ―テルおよびその用途 |
US6491979B1 (en) * | 1998-07-17 | 2002-12-10 | Daikin Industries, Ltd. | Fluorine-containing surface treatment composition |
JP4940677B2 (ja) * | 2006-02-01 | 2012-05-30 | ユニマテック株式会社 | パーフルオロポリエーテルカルボン酸フロライドの製造法 |
-
1984
- 1984-11-07 JP JP23561084A patent/JPS61113616A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61113616A (ja) | 1986-05-31 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |