JPH0768338B2 - 含フッ素ポリエーテルおよびその製法 - Google Patents
含フッ素ポリエーテルおよびその製法Info
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- JPH0768338B2 JPH0768338B2 JP63137663A JP13766388A JPH0768338B2 JP H0768338 B2 JPH0768338 B2 JP H0768338B2 JP 63137663 A JP63137663 A JP 63137663A JP 13766388 A JP13766388 A JP 13766388A JP H0768338 B2 JPH0768338 B2 JP H0768338B2
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、含フッ素ポリエーテルおよびその製法に関
し、更に詳しくは、従来の含フッ素ポリエーテルより高
い分子量と成り得る含フッ素ポリエーテルおよびその製
法に関する。
し、更に詳しくは、従来の含フッ素ポリエーテルより高
い分子量と成り得る含フッ素ポリエーテルおよびその製
法に関する。
従来の技術 含フッ素ポリエーテル、特にパーフルオロポリエーテル
は、不燃性で、耐熱性、耐薬品性、潤滑特性の優れた高
性能油として、航空宇宙産業、半導体産業を始めとし
て、多くの分野で幅広く使用されている。しかし、製造
方法に起因して、高分子量の含フッ素ポリエーテルを製
造することは困難である。
は、不燃性で、耐熱性、耐薬品性、潤滑特性の優れた高
性能油として、航空宇宙産業、半導体産業を始めとし
て、多くの分野で幅広く使用されている。しかし、製造
方法に起因して、高分子量の含フッ素ポリエーテルを製
造することは困難である。
また、末端基として酸フルオライドを有している含フッ
素ポリエーテルを不安定である。そのため従来より、酸
フルオライド末端基を安定化させる方法として、例えば
相当するポリフルオロポリエーテルを高温でF2と反応さ
せたり、水を使って加水分解した後にF2と反応させたり
する方法がとられているが、周知のようにF2を用いた反
応は安全性に問題がある。
素ポリエーテルを不安定である。そのため従来より、酸
フルオライド末端基を安定化させる方法として、例えば
相当するポリフルオロポリエーテルを高温でF2と反応さ
せたり、水を使って加水分解した後にF2と反応させたり
する方法がとられているが、周知のようにF2を用いた反
応は安全性に問題がある。
発明が解決しようとする課題 本発明の課題は、従来の含ハロゲンポリエーテルでは達
成できない高分子量にも成りうる新規含フッ素ポリエー
テルを提供することである。
成できない高分子量にも成りうる新規含フッ素ポリエー
テルを提供することである。
また本発明の別の課題は、そのような含ハロゲンポリエ
ーテルの簡便な製造方法を提供することである。
ーテルの簡便な製造方法を提供することである。
課題を解決する為の手段 本発明の課題は、 式:A−X−A´ (I) [式中、AおよびA´は、同一または異なって、−CO
F、−COClまたは−COOHで示される基、およびXは−CF2
CF2−Rf−O−(CmF2m)2−O−Rf´−CF2CF2−(ここ
でRfおよびRf´は、同一または異なって、 −(CF2CF2CF2O)− で示される直鎖状のパーフルオロプロピレンオキシ基ま
たは −(CH2CF2CF2O)a−(CHClCF2CF2O)b−(CCl2CF2CF
2O)c−(CHFCF2CF2O)d−(CFClCF2CF2O)e−(CF2
CF2CF2O)f− (a、b、c、d、eおよびfはそれぞれ0または正の
整数であって、2≦a+b+c+d+e+f≦200およ
びa+c+d+f≧1を満足する数である。)で示され
る繰り返し構造を持つパーフルオロアルキルポリエーテ
ル基を含む基、mは1〜6の数である。)で示される基
を表す。]で示される、分子量1,000〜20,000の含フッ
素ポリエーテル、 式:A−(CF2CF2)m−A´ (II) [式中、A、A´およびmは、前記と同意義。]で示さ
れる化合物と、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンと
を反応させること特徴とする含フッ素ポリエーテル
(I)の製法、 式:Z−Xn−Z´ (III) [式中、ZおよびZ´は、同一または異なって、−CO
F、−COCl、−COOHまたは−CF2CF2RfB(ここで、Rfは前
記と同意義。Bはフッ素または炭素数1〜5のパーフル
オロアルキル基である。)、nは0〜100の数である。
Xは前記と同意義。ただし、nが0の時、Zは共に−CF
2CF2RfBであり、nが1の時、Zの少なくとも一方は−C
F2CF2RfBである。] で示される、分子量2,000〜200,000の含フッ素ポリエー
テル により解決される。
F、−COClまたは−COOHで示される基、およびXは−CF2
CF2−Rf−O−(CmF2m)2−O−Rf´−CF2CF2−(ここ
でRfおよびRf´は、同一または異なって、 −(CF2CF2CF2O)− で示される直鎖状のパーフルオロプロピレンオキシ基ま
たは −(CH2CF2CF2O)a−(CHClCF2CF2O)b−(CCl2CF2CF
2O)c−(CHFCF2CF2O)d−(CFClCF2CF2O)e−(CF2
CF2CF2O)f− (a、b、c、d、eおよびfはそれぞれ0または正の
整数であって、2≦a+b+c+d+e+f≦200およ
びa+c+d+f≧1を満足する数である。)で示され
る繰り返し構造を持つパーフルオロアルキルポリエーテ
ル基を含む基、mは1〜6の数である。)で示される基
を表す。]で示される、分子量1,000〜20,000の含フッ
素ポリエーテル、 式:A−(CF2CF2)m−A´ (II) [式中、A、A´およびmは、前記と同意義。]で示さ
れる化合物と、2,2,3,3−テトラフルオロオキセタンと
を反応させること特徴とする含フッ素ポリエーテル
(I)の製法、 式:Z−Xn−Z´ (III) [式中、ZおよびZ´は、同一または異なって、−CO
F、−COCl、−COOHまたは−CF2CF2RfB(ここで、Rfは前
記と同意義。Bはフッ素または炭素数1〜5のパーフル
オロアルキル基である。)、nは0〜100の数である。
Xは前記と同意義。ただし、nが0の時、Zは共に−CF
2CF2RfBであり、nが1の時、Zの少なくとも一方は−C
F2CF2RfBである。] で示される、分子量2,000〜200,000の含フッ素ポリエー
テル により解決される。
本発明の含フッ素ポリエーテル(I)は、一般に、2官
能性化合物である化合物(II)と2,2,3,3−テトラフル
オロオキセタンとを反応させることにより製造すること
ができる。
能性化合物である化合物(II)と2,2,3,3−テトラフル
オロオキセタンとを反応させることにより製造すること
ができる。
重合開始剤としては、フッ化セシウムなどを用い、2官
能性化合物と重合開始剤の混合物(モル比0.6:1〜10:
1)にテトラフルオロオキセタンを加え、重合を行う。
反応温度は、−30〜20℃であり、溶媒としては、モノグ
ライム、テトラグライム、ポリグライム、トリクロロト
リフルオロエタン、テトラヒドロフランなどが使用でき
る。重合度は、2官能性化合物とテトラフルオロオキセ
タンのモル比を変えることにより自由に調節することが
できる。重合終了後、溶媒を除去し、フッ素によりフッ
素化することによりパーフルオロ化できる。
能性化合物と重合開始剤の混合物(モル比0.6:1〜10:
1)にテトラフルオロオキセタンを加え、重合を行う。
反応温度は、−30〜20℃であり、溶媒としては、モノグ
ライム、テトラグライム、ポリグライム、トリクロロト
リフルオロエタン、テトラヒドロフランなどが使用でき
る。重合度は、2官能性化合物とテトラフルオロオキセ
タンのモル比を変えることにより自由に調節することが
できる。重合終了後、溶媒を除去し、フッ素によりフッ
素化することによりパーフルオロ化できる。
また、含フッ素ポリエーテル(III)は、少なくとも一
方、好ましくは両方の末端に官能基を有する含フッ素ポ
リエーテル、すなわち、式: A−X−A´またはA−CF2CF2RfB [式中、A、A´、B、RfおよびXは前記と同意義。] で示されるポリエーテルを紫外線照射により縮合重合す
ることによって製造することができる。この場合、好ま
しい末端官能基は、酸フルオライド基であるが、カルボ
ン酸基、酸クロライド基であってもよい。この方法にお
いて照射する紫外線は350nm、好ましくは250nm以下の波
長のものであり、より好ましくは180〜210nmのものであ
る。紫外線の照射時間は、紫外線の波長や含フッ素ポリ
エーテルの種類によって異なる。反応速度は照射エネル
ギーに比例し、−COFの濃度に対しては見掛け上0次で
ある。
方、好ましくは両方の末端に官能基を有する含フッ素ポ
リエーテル、すなわち、式: A−X−A´またはA−CF2CF2RfB [式中、A、A´、B、RfおよびXは前記と同意義。] で示されるポリエーテルを紫外線照射により縮合重合す
ることによって製造することができる。この場合、好ま
しい末端官能基は、酸フルオライド基であるが、カルボ
ン酸基、酸クロライド基であってもよい。この方法にお
いて照射する紫外線は350nm、好ましくは250nm以下の波
長のものであり、より好ましくは180〜210nmのものであ
る。紫外線の照射時間は、紫外線の波長や含フッ素ポリ
エーテルの種類によって異なる。反応速度は照射エネル
ギーに比例し、−COFの濃度に対しては見掛け上0次で
ある。
分子量の増大に伴い、反応液の粘度が急上昇して撹拌が
困難になるので、適当な溶媒の存在下に反応を行うのが
好ましいが、出発物質そのものを溶媒で希釈することな
く反応を行ってもよい。
困難になるので、適当な溶媒の存在下に反応を行うのが
好ましいが、出発物質そのものを溶媒で希釈することな
く反応を行ってもよい。
出発物質を希釈することなく反応に供する場合、通常室
温ないし350℃、好ましくは100〜200℃の温度で反応を
行う。
温ないし350℃、好ましくは100〜200℃の温度で反応を
行う。
溶媒を用いる場合、上記波長の紫外線を全くまたは殆ど
吸収しない溶媒が好ましく、また、反応後、減圧蒸留に
より除去できるものが望ましい。溶媒としては、出発物
質であるポリエーテルの低分子量、パーフルオロアルカ
ン、パーフルオロベンゼン、パーフルオロアミン等が好
ましい。
吸収しない溶媒が好ましく、また、反応後、減圧蒸留に
より除去できるものが望ましい。溶媒としては、出発物
質であるポリエーテルの低分子量、パーフルオロアルカ
ン、パーフルオロベンゼン、パーフルオロアミン等が好
ましい。
紫外線照射用の光源としては、照射効率の面から内部浸
漬型が好ましいが、外部照射型でもよい。外部照射型光
源を用いる場合、反応容器の一部に、紫外線透過用の窓
を設ける必要がある。
漬型が好ましいが、外部照射型でもよい。外部照射型光
源を用いる場合、反応容器の一部に、紫外線透過用の窓
を設ける必要がある。
また本発明の方法においては、紫外線照射反応中、N2、
ヘリウム等の不活性ガスを反応雰囲気内に流しておくこ
とが好ましい。
ヘリウム等の不活性ガスを反応雰囲気内に流しておくこ
とが好ましい。
以下、具体的実施例を挙げて本発明を詳細に説明する。
[実施例] 実施例1 FCF2CF2CF2OnCF2CF2COF(n=平均25)で示される
有機酸フルオライド500gを、フッ素樹脂製フィルム(製
品名ネオフロンPFA)製の窓(直径100mm)を付けた内容
積500mlのステンレス容器に仕込んだ。
有機酸フルオライド500gを、フッ素樹脂製フィルム(製
品名ネオフロンPFA)製の窓(直径100mm)を付けた内容
積500mlのステンレス容器に仕込んだ。
窒素ガスを50ml/minで流通させながら、外部より450Wの
高圧水銀ランプ(東芝製)で反応液に紫外線を照射し、
30時間反応を継続した。30時間後、反応液の赤外分光分
析を行ったところ、 の特異吸収である1890cm-1付近のピークが完全に消失し
ていた。
高圧水銀ランプ(東芝製)で反応液に紫外線を照射し、
30時間反応を継続した。30時間後、反応液の赤外分光分
析を行ったところ、 の特異吸収である1890cm-1付近のピークが完全に消失し
ていた。
粘度上昇とNMRスペクトルから、ほぼ定量的に[FCF2
CF2CF2OnCF2CF2]2が生成している事が確認された。
回収量は490gであった。
CF2CF2OnCF2CF2]2が生成している事が確認された。
回収量は490gであった。
実施例2 FCHFCF2CF2OlCF2CF2CF2OmCF2CF2COF (l:m=3:7、l+m=20) で示される有機酸フルオライドを用いた以外は実施例1
と同様にして反応させたところ、30時間後にほぼ定量的
に [FCHFCF2CF2OlCF2CF2CF2OmCF2CF2]2 が生成している事が確認された。回収量は485gであっ
た。
と同様にして反応させたところ、30時間後にほぼ定量的
に [FCHFCF2CF2OlCF2CF2CF2OmCF2CF2]2 が生成している事が確認された。回収量は485gであっ
た。
実施例3 FCF2CF2CF2OnCF2CF2COOH(n=平均25)で示され
る有機酸88gを、フッ素樹脂製フィルム(製品名ネオフ
ロンFEP)製の窓(直径100mm)を付けた内容積800mlの
ステンレス容器に仕込んだ。
る有機酸88gを、フッ素樹脂製フィルム(製品名ネオフ
ロンFEP)製の窓(直径100mm)を付けた内容積800mlの
ステンレス容器に仕込んだ。
窒素ガスを50ml/minで流通させながら外部より450Wの高
圧水銀ランプ(東芝製)で反応液に紫外線を照射し、16
時間反応を継続した。16時間後、赤外分光分析の結果に
は、−COOHや−COFの特異吸収のピークは全く見られな
かった。粘度上昇から、同程度の酸フルオライドを原料
として生成させたカップリング物とほぼ同粘度のカップ
リング物を得た。収量は83gであった。
圧水銀ランプ(東芝製)で反応液に紫外線を照射し、16
時間反応を継続した。16時間後、赤外分光分析の結果に
は、−COOHや−COFの特異吸収のピークは全く見られな
かった。粘度上昇から、同程度の酸フルオライドを原料
として生成させたカップリング物とほぼ同粘度のカップ
リング物を得た。収量は83gであった。
実施例4 上部にフッ素樹脂製フィルム(製品名ネオフロンFEP)
を貼った、マグネチックスターラを備えた内容積100ml
のステンレス製反応容器に、式:FCOCF2CF2−(OCF2CF2C
F2)n−(OC6F12O)−(CF2CF2CF2O)n−CF2CF2COF
(n=平均10)で示されるパーフルオロポリエーテル35
gと、F(CF2CF2CF2O)m−CF2CF2COF(m=平均20)15
gとを入れ、窒素ガスを流しながら、100℃で高温水銀灯
により紫外線照射した。60時間後、反応容器から取り出
した油状生成物の粘度は1180cst(40℃)であった。こ
の生成物はのIRチャートを第1図に示す。
を貼った、マグネチックスターラを備えた内容積100ml
のステンレス製反応容器に、式:FCOCF2CF2−(OCF2CF2C
F2)n−(OC6F12O)−(CF2CF2CF2O)n−CF2CF2COF
(n=平均10)で示されるパーフルオロポリエーテル35
gと、F(CF2CF2CF2O)m−CF2CF2COF(m=平均20)15
gとを入れ、窒素ガスを流しながら、100℃で高温水銀灯
により紫外線照射した。60時間後、反応容器から取り出
した油状生成物の粘度は1180cst(40℃)であった。こ
の生成物はのIRチャートを第1図に示す。
実施例5 15のステンレス製容器に式:FCOCF2CF2−(OCF2CF2C
F2)n−(OC6F12O)−(CF2CF2CF2O)n−CF2CF2COF
(n=平均10)で示されるパーフルオロポリエーテル10
0gと、溶媒としてF(CF2CF2CF2O)m−CF2CF3(m=平
均5)で示されるポリエーテル1を入れ、石英製水冷
管付き光照射器(400W高圧水銀灯入り)を容器内に差し
込み、メカニカルスターラで撹拌しながら、80℃に反応
液を保ち、窒素ガス気流下に光照射した。
F2)n−(OC6F12O)−(CF2CF2CF2O)n−CF2CF2COF
(n=平均10)で示されるパーフルオロポリエーテル10
0gと、溶媒としてF(CF2CF2CF2O)m−CF2CF3(m=平
均5)で示されるポリエーテル1を入れ、石英製水冷
管付き光照射器(400W高圧水銀灯入り)を容器内に差し
込み、メカニカルスターラで撹拌しながら、80℃に反応
液を保ち、窒素ガス気流下に光照射した。
72時間の照射後、光照射器を抜き出し、水2gを仕込み、
5時間撹拌した。次いで、フッ素ガスを2ml/min.で10時
間流通させ、その後窒素ガスで充分に置換し、反応液を
抜き出した。
5時間撹拌した。次いで、フッ素ガスを2ml/min.で10時
間流通させ、その後窒素ガスで充分に置換し、反応液を
抜き出した。
反応液を減圧蒸留器に仕込み、溶媒のパーフルオロポリ
エーテルを留去し、残渣93gを回収した。0.2μmのミリ
ポアフィルターで濾過後、E型粘度計で粘度を測定した
ところ、4951cst(40℃)であった。得られたポリエー
テルは、計算によれば、出発物質パーフルオロポリエー
テルの13.6量体に相当することが判った。
エーテルを留去し、残渣93gを回収した。0.2μmのミリ
ポアフィルターで濾過後、E型粘度計で粘度を測定した
ところ、4951cst(40℃)であった。得られたポリエー
テルは、計算によれば、出発物質パーフルオロポリエー
テルの13.6量体に相当することが判った。
実施例6 乾燥窒素ガスで置換した500ml三ツ口フラスコに、十分
焼いたCsF2.0g(13.2mmol)を入れ、テトラグライム50m
lを注入した。更に、ジアシルフルオライドFCO−(CF2C
F2)2−COF8.0g(27.2mmol)を加え、−10℃に冷却し
つつ撹拌しながら、フラスコ内の温度が−5℃を越えな
いようにゆっくり2,2,3,3−テトラフルオロオキセタン6
6g(507mmol)を滴下した。70時間撹拌を続けた後、170
℃、1mmHgで減圧蒸留して、溶媒を除去した。残渣とし
てポリエーテル64.3gを得た。収率90%。
焼いたCsF2.0g(13.2mmol)を入れ、テトラグライム50m
lを注入した。更に、ジアシルフルオライドFCO−(CF2C
F2)2−COF8.0g(27.2mmol)を加え、−10℃に冷却し
つつ撹拌しながら、フラスコ内の温度が−5℃を越えな
いようにゆっくり2,2,3,3−テトラフルオロオキセタン6
6g(507mmol)を滴下した。70時間撹拌を続けた後、170
℃、1mmHgで減圧蒸留して、溶媒を除去した。残渣とし
てポリエーテル64.3gを得た。収率90%。
赤外分光分析およびNMRの結果、式: [−(CF2CF2CF2O)−(CH2CF2CF2O)a−CH2CF2COF]
2(a=平均10)で示されるポリエーテルであることが
判った。
2(a=平均10)で示されるポリエーテルであることが
判った。
実施例7 十分乾燥したステンレス製容器に、実施例6で得たポリ
エーテル52g(18.3mmol)を入れ、90〜110℃に加熱し、
マグネチックスターラにより撹拌した。窒素ガスで20%
に希釈したフッ素ガスを25ml/min.の速度で流入した。1
40時間後、赤外吸収スペクトルで、3000cm-1および880c
m-1における吸収の消滅を確認した。ポリエーテルの収
量は、60g(収率91.8%)であった。
エーテル52g(18.3mmol)を入れ、90〜110℃に加熱し、
マグネチックスターラにより撹拌した。窒素ガスで20%
に希釈したフッ素ガスを25ml/min.の速度で流入した。1
40時間後、赤外吸収スペクトルで、3000cm-1および880c
m-1における吸収の消滅を確認した。ポリエーテルの収
量は、60g(収率91.8%)であった。
赤外分光分析およびNMRの結果、式: [−(CF2CF2CF2O)−(CF2CF2CF2O)a−CF2CF2COF]
2(a=平均10)で示されるポリエーテルであることが
確認された。
2(a=平均10)で示されるポリエーテルであることが
確認された。
発明の効果 以上に説明したように本発明の方法によれば、低分子量
から高分子量までの含フッ素ポリエーテルを容易に製造
することができる。また、ポリエーテルの末端部を安全
に且つ容易に安定化処理することができる。
から高分子量までの含フッ素ポリエーテルを容易に製造
することができる。また、ポリエーテルの末端部を安全
に且つ容易に安定化処理することができる。
第1図は、実施例4で得られた生成物のIRチャートであ
る。
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−156726(JP,A) 特開 昭62−180116(JP,A) 特開 昭56−92263(JP,A) 特開 昭57−59843(JP,A) 特開 昭64−85218(JP,A) 特開 昭63−265920(JP,A) 特開 昭52−28586(JP,A) 米国特許3849504(US,A)
Claims (7)
- 【請求項1】式:A−X−A´ [式中、AおよびA´は、同一または異なって、−CO
F、−COClまたは−COOHで示される基、およびXは −CF2CF2−Rf−O−(CmF2m)2−O−Rf´−CF2CF2− (ここでRfおよびRf´は、同一または異なって、 −(CF2CF2CF2O)− で示される直鎖状のパーフルオロプロピレンオキシ基ま
たは −(CH2CF2CF2O)a−(CHClCF2CF2O)b−(CCl2CF2CF
2O)c−(CHFCF2CF2O)d−(CFClCF2CF2O)e−(CF2
CF2CF2O)f− (a、b、c、d、eおよびfはそれぞれ0または正の
整数であって、2≦a+b+c+d+e+f≦200およ
びa+c+d+f≧1を満足する数である。)で示され
る繰り返し構造を持つパーフルオロアルキルポリエーテ
ル基、およびmは1〜6の数である。)で示される基を
表す。] で示される、分子量1,000〜20,000の含フッ素ポリエー
テル。 - 【請求項2】RfおよびRf´が、式: −(CF2CF2CF2O)p− [式中、pは1〜200の数を表す。] で示される繰り返し単位から成るパーフルオロアルキル
ポリエーテル基である特許請求の範囲第1項記載の含フ
ッ素ポリエーテル。 - 【請求項3】式:A−(CF2CF2)m−A´ [式中、AおよびA´は、同一または異なって、−CO
F、−COClまたは−COOHで示される基、およびmは1〜
6の数である。] で示される化合物と、2,2,3,3−テトラフルオロオキセ
タンとを反応させることを特徴とする特許請求の範囲第
1項記載の含フッ素ポリエーテルの製法。 - 【請求項4】式:Z−Xn−Z´ [式中、ZおよびZ´は、同一または異なって、−CO
F、−COCl、−COOHまたは−CF2CF2RfB(ここで、Rfは −(CF2CF2CF2O)− で示される直鎖状のパーフルオロプロピレンオキシ基ま
たは −(CH2CF2CF2O)a−(CHClCF2CF2O)b−(CCl2CF2CF
2O)c−(CHFCF2CF2O)d−(CFClCF2CF2O)e−(CF2
CF2CF2O)f− (a、b、c、d、eおよびfはそれぞれ0または正の
整数であって、2≦a+b+c+d+e+f≦200およ
びa+c+d+f≧1を満足する数である。)で示され
る繰り返し構造を持つパーフルオロアルキルポリエーテ
ル基、Bはフッ素または炭素数1〜5のパーフルオロア
ルキル基である。)、Xは、−CF2CF2−Rf−O−(CmF2
m)2−O−Rf´−CF2CF2−(ここでRfおよびRf´は、
同一または異なって、 −(CF2CF2CF2O)− で示される直鎖状パーフルオロプロピレンオキシ基また
は −(CH2CF2CF2O)a−(CHClCF2CF2O)b−(CCl2CF2CF
2O)c−(CHFCF2CF2O)d−(CFClCF2CF2O)e−(CF2
CF2CF2O)f− (a、b、c、d、eおよびfはそれぞれ0または正の
整数であって、2≦a+b+c+d+e+f≦200およ
びa+c+d+f≧1を満足する数である。)で示され
る繰り返し構造を持つパーフルオロアルキルポリエーテ
ル基、およびmは1〜6の数である。)で示される基、
およびnは0〜100の数である。ただし、nが0の時、
Zは共に−CF2CF2RfBであり、nが1の時、Zの少なく
とも一方は−CF2CF2RfBである。] で示される、分子量2,000〜200,000の含フッ素ポリエー
テル。 - 【請求項5】少なくとも一方の末端に官能基を有する含
フッ素ポリエーテルに紫外線を照射することによって縮
合重合することを特徴とする特許請求の範囲第4項記載
の含フッ素ポリエーテルの製法。 - 【請求項6】少なくとも一方の末端に官能基を有する含
フッ素ポリエーテルが、式:A−X−A´またはA−CF2C
F2RfB [式中、AおよびA´は、同一または異なって、−CO
F、−COClまたは−COOHで示される基、Xは−CF2CF2−R
f−O−(CmF2m)2−O−Rf´−CF2CF2−(ここでRfお
よびRf´は、同一または異なって、 −(CF2CF2CF2O)− で示される直鎖状パーフルオロプロピレンオキシ基また
は −(CH2CF2CF2O)a−(CHClCF2CF2O)b−(CCl2CF2CF
2O)c−(CHFCF2CF2O)d−(CFClCF2CF2O)e−(CF2
CF2CF2O)f− (a、b、c、d、eおよびfはそれぞれ0または正の
整数であって、2≦a+b+c+d+e+f≦200およ
びa+c+d+f≧1を満足する数である。)で示され
る繰り返し構造を持つパーフルオロアルキルポリエーテ
ル基、およびmは1〜6の数である。)で示される基、
およびBはフッ素または炭素数1〜5のパーフルオロア
ルキル基である。] で示されるポリエーテルである特許請求の範囲第5項記
載の製法。 - 【請求項7】紫外線の波長が350nm以下である特許請求
の範囲第5項記載の製法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP63137663A JPH0768338B2 (ja) | 1987-06-02 | 1988-06-02 | 含フッ素ポリエーテルおよびその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13951887 | 1987-06-02 | ||
JP62-139518 | 1987-06-02 | ||
JP63137663A JPH0768338B2 (ja) | 1987-06-02 | 1988-06-02 | 含フッ素ポリエーテルおよびその製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6485218A JPS6485218A (en) | 1989-03-30 |
JPH0768338B2 true JPH0768338B2 (ja) | 1995-07-26 |
Family
ID=26470902
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63137663A Expired - Fee Related JPH0768338B2 (ja) | 1987-06-02 | 1988-06-02 | 含フッ素ポリエーテルおよびその製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0768338B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO2023013600A1 (ja) * | 2021-08-02 | 2023-02-09 | 国立大学法人 東京大学 | フルオロポリエーテル化合物 |
Citations (1)
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---|---|---|---|---|
US3849504A (en) | 1967-03-10 | 1974-11-19 | Minnesota Mining & Mfg | Perfluoropolyethers and process for making |
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---|---|---|---|---|
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US4647413A (en) * | 1983-12-27 | 1987-03-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Perfluoropolyether oligomers and polymers |
-
1988
- 1988-06-02 JP JP63137663A patent/JPH0768338B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3849504A (en) | 1967-03-10 | 1974-11-19 | Minnesota Mining & Mfg | Perfluoropolyethers and process for making |
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JPS6485218A (en) | 1989-03-30 |
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