JPH10147579A - エポキシド、ケトンの製造法、エポキシド、オキサザボロリジンの製造法およびケトンのエナンチオ選択的還元 - Google Patents
エポキシド、ケトンの製造法、エポキシド、オキサザボロリジンの製造法およびケトンのエナンチオ選択的還元Info
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- JPH10147579A JPH10147579A JP9305771A JP30577197A JPH10147579A JP H10147579 A JPH10147579 A JP H10147579A JP 9305771 A JP9305771 A JP 9305771A JP 30577197 A JP30577197 A JP 30577197A JP H10147579 A JPH10147579 A JP H10147579A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C67/00—Preparation of carboxylic acid esters
- C07C67/30—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group
- C07C67/313—Preparation of carboxylic acid esters by modifying the acid moiety of the ester, such modification not being an introduction of an ester group by introduction of doubly bound oxygen containing functional groups, e.g. carboxyl groups
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C69/00—Esters of carboxylic acids; Esters of carbonic or haloformic acids
- C07C69/608—Esters of carboxylic acids having a carboxyl group bound to an acyclic carbon atom and having a ring other than a six-membered aromatic ring in the acid moiety
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D303/00—Compounds containing three-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D303/02—Compounds containing oxirane rings
- C07D303/38—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals
- C07D303/40—Compounds containing oxirane rings with hydrocarbon radicals, substituted by carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals by ester radicals
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 式：
【化１】
で示されるエポキシド。
【解決手段】 前記エポキシドは、式：
【化２】
で示されるエステルを、不活性有機溶剤中で強過酸と反
応させることによって得られる。 【効果】 本発明によるエポキシドは、高く評価される
香気成分の製造に有用であり、極めて有用な収率および
卓越したジアステレオ化学的純度およびエナンチオマー
純度で、該香気成分を製造できるようにする。
応させることによって得られる。 【効果】 本発明によるエポキシドは、高く評価される
香気成分の製造に有用であり、極めて有用な収率および
卓越したジアステレオ化学的純度およびエナンチオマー
純度で、該香気成分を製造できるようにする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機合成の分野に
関する。更に詳細には、嗅覚の点で有利であるＨｅｄｉ
ｏｎｅ（登録商標）（３−オキソ−２−ペンチル−１−
シクロペンタン酢酸メチル；出所：フィルメニッヒ社
（Firmenich SA）、ジュネーブ、スイス共和国）の異性
体を含めて、高く評価される香気成分の製造のための出
発生成物として有用なエポキシドに関する。
関する。更に詳細には、嗅覚の点で有利であるＨｅｄｉ
ｏｎｅ（登録商標）（３−オキソ−２−ペンチル−１−
シクロペンタン酢酸メチル；出所：フィルメニッヒ社
（Firmenich SA）、ジュネーブ、スイス共和国）の異性
体を含めて、高く評価される香気成分の製造のための出
発生成物として有用なエポキシドに関する。
【０００２】
【従来の技術】１９９５年１２月１４日発行の国際公開
番号ＷＯ９５／３３７３５号には、式：
番号ＷＯ９５／３３７３５号には、式：
【０００３】
【化１０】
【０００４】〔式中、Ｒaは、炭素原子１〜８個を有す
るアルキル基を表し、Ｒbは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基を
表す〕で示されるエポキシドが記載されている。しかし
ながら、そこから化合物（Ａ）の明確な立体化学の記述
または言及を見出すことはできない。ところで、前記化
合物の製造についての前記文献中に記載された方法を再
現しようと試みたが、Ｒaがペンチル基またはヘキシル
基である場合と、Ｒbがメチル基またはエチル基である
場合に、式（Ａ）のそれぞれのエポキシドのジアステレ
オマーの混合物を製造できるようにするにすぎないこと
が見出された。従って、国際公開番号ＷＯ９５／３３７
３５号中に記載されたようなエポキシド（Ａ）の製造の
ための方法は、ジアステレオ選択的ではないこと、更
に、この反応は、２５％の程度の極めて低い変換率で生
じることが見出された。
るアルキル基を表し、Ｒbは、Ｃ1〜Ｃ4−アルキル基を
表す〕で示されるエポキシドが記載されている。しかし
ながら、そこから化合物（Ａ）の明確な立体化学の記述
または言及を見出すことはできない。ところで、前記化
合物の製造についての前記文献中に記載された方法を再
現しようと試みたが、Ｒaがペンチル基またはヘキシル
基である場合と、Ｒbがメチル基またはエチル基である
場合に、式（Ａ）のそれぞれのエポキシドのジアステレ
オマーの混合物を製造できるようにするにすぎないこと
が見出された。従って、国際公開番号ＷＯ９５／３３７
３５号中に記載されたようなエポキシド（Ａ）の製造の
ための方法は、ジアステレオ選択的ではないこと、更
に、この反応は、２５％の程度の極めて低い変換率で生
じることが見出された。
【０００５】また、国際公開番号ＷＯ９５／３３７３５
号中で示されているものとは異なり、こうして得られた
エポキシドの変換は、記載された反応条件下で、即ち、
ヨウ化リチウムの触媒量の存在下でのエポキシドの熱処
理では、所望のケトンとは全く異なる生成物を形成する
ことになる。従って、国際公開番号ＷＯ９５／３３７３
５号中に記載されたのと同様の方法を、Ｒaがペンチル
であり、かつＲbがＣＨ3である式（Ａ）のエポキシドに
適用する場合、前記文献中の記載により予想されていた
のと同様の３−オキソ−２−ペンチル−１−シクロペン
タン酢酸メチルの代わりに、スペクトルデータによっ
て、構造式：
号中で示されているものとは異なり、こうして得られた
エポキシドの変換は、記載された反応条件下で、即ち、
ヨウ化リチウムの触媒量の存在下でのエポキシドの熱処
理では、所望のケトンとは全く異なる生成物を形成する
ことになる。従って、国際公開番号ＷＯ９５／３３７３
５号中に記載されたのと同様の方法を、Ｒaがペンチル
であり、かつＲbがＣＨ3である式（Ａ）のエポキシドに
適用する場合、前記文献中の記載により予想されていた
のと同様の３−オキソ−２−ペンチル−１−シクロペン
タン酢酸メチルの代わりに、スペクトルデータによっ
て、構造式：
【０００６】
【化１１】
【０００７】を有することが確認された全く異なるラク
トン、即ち、シス−ペルヒドロ−６ａ−ペンチル−２−
シクロペンタ［ｂ］フラノンが得られた。
トン、即ち、シス−ペルヒドロ−６ａ−ペンチル−２−
シクロペンタ［ｂ］フラノンが得られた。
【０００８】前記ラクトンは、実際には、出願人等の研
究所では久しい以前から知られていたラクトンであり、
僅かに動物性であり湿った金属性の化学臭気を有してい
る。しかしながら、所望の環式ケトンの痕跡すらも、前
記生成物中で検出することはできなかった。同じこと
は、Ｒaがヘキシルであり、Ｒbがメチルまたはエチルで
ある場合にも該当する。
究所では久しい以前から知られていたラクトンであり、
僅かに動物性であり湿った金属性の化学臭気を有してい
る。しかしながら、所望の環式ケトンの痕跡すらも、前
記生成物中で検出することはできなかった。同じこと
は、Ｒaがヘキシルであり、Ｒbがメチルまたはエチルで
ある場合にも該当する。
【０００９】要するに、前記の従来技術の文献には本発
明による式（Ｉ）のエポキシドを取得するかまたは変換
することができるようにする方法が記載されていないこ
とおよび結果として、本発明の対象であり、かつ上記の
固有の立体化学を有する化合物の任意の有利な有用性を
認められなかったことは、上記から明らかである。
明による式（Ｉ）のエポキシドを取得するかまたは変換
することができるようにする方法が記載されていないこ
とおよび結果として、本発明の対象であり、かつ上記の
固有の立体化学を有する化合物の任意の有利な有用性を
認められなかったことは、上記から明らかである。
【００１０】それでも、出願人等は、化合物（Ｉ）が調
香師によって特に高く評価されている光学活性香気成分
を純粋な状態で製造するための出発生成物として極めて
有用であることを見出した。
香師によって特に高く評価されている光学活性香気成分
を純粋な状態で製造するための出発生成物として極めて
有用であることを見出した。
【００１１】また、更に続けて提示されている比較例か
ら明らかになるように、上記の先行技術文献には、エポ
キシド（Ｉ）に相応する純粋なラセミ体、即ち、式：
ら明らかになるように、上記の先行技術文献には、エポ
キシド（Ｉ）に相応する純粋なラセミ体、即ち、式：
【００１２】
【化１２】
【００１３】〔式中、エポキシ置換基およびカルボキシ
置換基は、厳密にはシスであるような相対的な位置を有
し、符号ＲおよびＲ1は、式（Ｉ）中に記載された意味
を有する〕に相応するエポキシドが記載されていないこ
とにも注意しなければならない。また、エポキシド
（Ｉ）とそのそれぞれのエナンチオマーとの等モル量混
合物である前記化合物も、新規化合物である。これら
は、厳密にはシスシクラン配置を有する相応するケトン
の製造に有用であることが判明し、その最も重要な例
は、香料においては、ｃｉｓ−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商
標）またはシス−３−オキソ−２−ペンチル−１−シク
ロペンタン酢酸メチルである。
置換基は、厳密にはシスであるような相対的な位置を有
し、符号ＲおよびＲ1は、式（Ｉ）中に記載された意味
を有する〕に相応するエポキシドが記載されていないこ
とにも注意しなければならない。また、エポキシド
（Ｉ）とそのそれぞれのエナンチオマーとの等モル量混
合物である前記化合物も、新規化合物である。これら
は、厳密にはシスシクラン配置を有する相応するケトン
の製造に有用であることが判明し、その最も重要な例
は、香料においては、ｃｉｓ−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商
標）またはシス−３−オキソ−２−ペンチル−１−シク
ロペンタン酢酸メチルである。
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、式：
は、式：
【００１５】
【化１３】
【００１６】〔式中、シクラン（１Ｒ）配置を有し、２
位の基はトランス配置であり、かつエポキシ基は環の１
位に対してシス配置であり、Ｒは、低級アルキル基を表
し、Ｒ1は、炭素原子１〜８個を有する飽和もしくは不
飽和で、線状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表す〕で
示されるエポキシドである。
位の基はトランス配置であり、かつエポキシ基は環の１
位に対してシス配置であり、Ｒは、低級アルキル基を表
し、Ｒ1は、炭素原子１〜８個を有する飽和もしくは不
飽和で、線状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表す〕で
示されるエポキシドである。
【００１７】低級アルキル基とは、この場合、線状もし
くは分枝鎖状のＣ1〜Ｃ4−アルキル基、更に詳細には、
メチル基もしくはエチル基のことである。
くは分枝鎖状のＣ1〜Ｃ4−アルキル基、更に詳細には、
メチル基もしくはエチル基のことである。
【００１８】本発明によれば、式（Ｉ）の光学活性エポ
キシドは有利な化合物であり、更に好ましい化合物とし
て、（＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−
エポキシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテー
トを挙げることができる。以下に記載された新規方法に
よる前記化合物の変換は、（＋）−ｃｉｓ−Ｈｅｄｉｏ
ｎｅ（登録商標）または（＋）−メチル−（１Ｒ）−シ
ス−３−オキソ−２−ペンチル−１−シクロペンタンア
セテート、即ち、前記の公知環式ケトンの、よくても典
型的な匂い特性、特にジャスミンノートを有することが
知られているような異性体の製造を可能にする。
キシドは有利な化合物であり、更に好ましい化合物とし
て、（＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−
エポキシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテー
トを挙げることができる。以下に記載された新規方法に
よる前記化合物の変換は、（＋）−ｃｉｓ−Ｈｅｄｉｏ
ｎｅ（登録商標）または（＋）−メチル−（１Ｒ）−シ
ス−３−オキソ−２−ペンチル−１−シクロペンタンア
セテート、即ち、前記の公知環式ケトンの、よくても典
型的な匂い特性、特にジャスミンノートを有することが
知られているような異性体の製造を可能にする。
【００１９】従ってまた、本発明は、適当なルイス酸ま
たは酸性粘土を含有する酸性助剤を用いる不活性有機溶
剤中での前記エポキシドの処理を含む新規変換方法によ
る、（１Ｒ）−シスシクラン配置を有する式：
たは酸性粘土を含有する酸性助剤を用いる不活性有機溶
剤中での前記エポキシドの処理を含む新規変換方法によ
る、（１Ｒ）−シスシクラン配置を有する式：
【００２０】
【化１４】
【００２１】で示される環式ケトンの製造のための式
（Ｉ）のエポキシドの使用に関するものでもある。
（Ｉ）のエポキシドの使用に関するものでもある。
【００２２】
【課題を解決するための手段】出願人等は、驚異的なこ
とに、前記の反応条件が、以下の実施例から明らかにな
るように、選択的かつ卓越した収率で式（ＩＩ）の光学
活性ケトンを取得できるようにしたことを見出した。こ
の結果は、低分子量の酸のアルカリ金属またはアルカリ
土類金属の塩の存在下で、エポキシドに熱処理を施した
ような前記の文献中に記載されているような先行技術の
方法を用いて観察することができた結果とは異なるもの
である。
とに、前記の反応条件が、以下の実施例から明らかにな
るように、選択的かつ卓越した収率で式（ＩＩ）の光学
活性ケトンを取得できるようにしたことを見出した。こ
の結果は、低分子量の酸のアルカリ金属またはアルカリ
土類金属の塩の存在下で、エポキシドに熱処理を施した
ような前記の文献中に記載されているような先行技術の
方法を用いて観察することができた結果とは異なるもの
である。
【００２３】本発明の方法を特徴付ける反応は、使用さ
れた試薬および特に酸性助剤の反応性に応じて種々の温
度で実施される。従って、国際公開番号ＷＯ９５／３３
７３５号中に記載された方法とは異なり、本発明の方法
は、典型的には１２０℃以下の穏和な温度条件を使用で
きるようにしている。
れた試薬および特に酸性助剤の反応性に応じて種々の温
度で実施される。従って、国際公開番号ＷＯ９５／３３
７３５号中に記載された方法とは異なり、本発明の方法
は、典型的には１２０℃以下の穏和な温度条件を使用で
きるようにしている。
【００２４】本発明の方法に適するルイス酸としては、
特に（例えばエーテル化物のように）錯化されていても
よい三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウムおよびヨウ化
マグネシウムを挙げることができる。
特に（例えばエーテル化物のように）錯化されていても
よい三フッ化ホウ素、三塩化アルミニウムおよびヨウ化
マグネシウムを挙げることができる。
【００２５】酸性粘土としては、ＦＩＬＴＲＯＬ（登録
商標）（出所：Ｈａｒｓｈａｗ／Ｆｉｌｔｒｏｌ）の名
称で知られている一群の製品からのアルミノ珪酸塩を基
礎とする粘土、ＧＫ（出所：Ｇｅｏｒｇｉａ Ｋａｏｌ
ｉｎ Ｃｏ．）のような名称で市販により入手可能な粘
土、Ｋ触媒、例えばＫ１０、ＫＰ１０、ＫＳＦおよびＫ
ＳＦ／Ｏ（出所：Ｓｕｅｄ−Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ）の名
称で公知のモンモリロナイト、ベントナイト、また更に
常用の任意の別の酸性粘土を使用することができる。本
発明の有利な実施態様によれば、例えばＦｉｌｔｒｏｌ
（登録商標）Ｇ２４を使用することになる。
商標）（出所：Ｈａｒｓｈａｗ／Ｆｉｌｔｒｏｌ）の名
称で知られている一群の製品からのアルミノ珪酸塩を基
礎とする粘土、ＧＫ（出所：Ｇｅｏｒｇｉａ Ｋａｏｌ
ｉｎ Ｃｏ．）のような名称で市販により入手可能な粘
土、Ｋ触媒、例えばＫ１０、ＫＰ１０、ＫＳＦおよびＫ
ＳＦ／Ｏ（出所：Ｓｕｅｄ−Ｃｈｅｍｉｅ ＡＧ）の名
称で公知のモンモリロナイト、ベントナイト、また更に
常用の任意の別の酸性粘土を使用することができる。本
発明の有利な実施態様によれば、例えばＦｉｌｔｒｏｌ
（登録商標）Ｇ２４を使用することになる。
【００２６】酸性助剤を出発エポキシドに相応して使用
することができる割合は、濃度の広い範囲内で変動す
る。出願人等は、２つの試薬の間の比は、例えば化学量
論的であってもよいが、しかし、同様に有用な結果は、
エポキシドに相応する酸性助剤の触媒量を用いて得られ
ることを観察した。
することができる割合は、濃度の広い範囲内で変動す
る。出願人等は、２つの試薬の間の比は、例えば化学量
論的であってもよいが、しかし、同様に有用な結果は、
エポキシドに相応する酸性助剤の触媒量を用いて得られ
ることを観察した。
【００２７】本発明により使用することができる溶剤と
しては、反応条件下で不活性であるような常用の溶剤を
採用することができる。特に環式もしくは非環式炭化水
素、特にシクロヘキサン、キシレンおよびトルエン、エ
ーテル、例えばジエチルエーテルまたはテトラヒドロフ
ランあるいは更に塩素化された溶剤、特にジクロロメタ
ンを挙げることができる。特に有用な結果は、トルエン
またはジクロロメタンを用いて得られた。
しては、反応条件下で不活性であるような常用の溶剤を
採用することができる。特に環式もしくは非環式炭化水
素、特にシクロヘキサン、キシレンおよびトルエン、エ
ーテル、例えばジエチルエーテルまたはテトラヒドロフ
ランあるいは更に塩素化された溶剤、特にジクロロメタ
ンを挙げることができる。特に有用な結果は、トルエン
またはジクロロメタンを用いて得られた。
【００２８】本発明の方法の有利な実施態様によれば、
（＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−エポ
キシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートが
使用される。前記実施態様は、上記のように、Ｈｅｄｉ
ｏｎｅ（登録商標）の有利な異性体、即ち（＋）−メチ
ル−（１Ｒ）−シス−３−オキソ−２−ペンチル−１−
シクロペンタンアセテートを製造できるようにするの
で、それ自体特に有利であることを示した。
（＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−エポ
キシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートが
使用される。前記実施態様は、上記のように、Ｈｅｄｉ
ｏｎｅ（登録商標）の有利な異性体、即ち（＋）−メチ
ル−（１Ｒ）−シス−３−オキソ−２−ペンチル−１−
シクロペンタンアセテートを製造できるようにするの
で、それ自体特に有利であることを示した。
【００２９】勿論、上記の方法で、上記により定義され
たのと同様の式（Ｉ′）のラセミ体のエポキシドを使用
する場合には、式（ＩＩ）のケトンの厳密にはシスシク
ラン配置を有するラセミ体の当量である相応するラセミ
体の環式ケトンが得られることになる。従って、例えば
ｃ−２，３−エポキシ−２−ペンチル−ｒ−１−シクロ
ペンタン酢酸メチルを使用する場合には、ラセミ体のｃ
ｉｓ−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商標）は、純粋な状態で得
られることになる。
たのと同様の式（Ｉ′）のラセミ体のエポキシドを使用
する場合には、式（ＩＩ）のケトンの厳密にはシスシク
ラン配置を有するラセミ体の当量である相応するラセミ
体の環式ケトンが得られることになる。従って、例えば
ｃ−２，３−エポキシ−２−ペンチル−ｒ−１−シクロ
ペンタン酢酸メチルを使用する場合には、ラセミ体のｃ
ｉｓ−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商標）は、純粋な状態で得
られることになる。
【００３０】また、本発明は、式：
【００３１】
【化１５】
【００３２】〔式中、シクラン（１Ｒ）配置を有し、か
つ符号ＲおよびＲ1は、式（Ｉ）中で示された意味を有
する〕で示されるエステルを不活性有機溶剤中で強過酸
と反応させることによって特徴付けられる既に定義され
た式（Ｉ）のエポキシドの製造法に関するものでもあ
る。
つ符号ＲおよびＲ1は、式（Ｉ）中で示された意味を有
する〕で示されるエステルを不活性有機溶剤中で強過酸
と反応させることによって特徴付けられる既に定義され
た式（Ｉ）のエポキシドの製造法に関するものでもあ
る。
【００３３】式（ＩＩＩ）の光学活性エステルは、新規
化合物であり、以下に記載されることになる新規方法に
より製造される。
化合物であり、以下に記載されることになる新規方法に
より製造される。
【００３４】実際には、ラセミ体の２−ペンチル−２−
シクロペンテン酢酸メチルは、Ａｇｒｉｃ．Ｂｉｏｌ．
Ｃｈｅｍ．５０、１８６７（１９８６）中のＴ．Ｋｉｔ
ａｈａｒａ他の論文から公知であるが、前記論文中に
は、前記ラセミ体化合物中、即ち、式（ＩＩＩ）による
（１Ｒ）配置のものの中に存在するエナンチオマーのい
ずれか１つについての記載はない。従って、以下に見ら
れるように、本発明は、絶対配置（１Ｒ）を有する式
（ＩＩＩ）の所望のエナンチオマー、更に詳細には
（＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロ
ペンテン−１−アセテートの製造のための新規方法を提
供する。
シクロペンテン酢酸メチルは、Ａｇｒｉｃ．Ｂｉｏｌ．
Ｃｈｅｍ．５０、１８６７（１９８６）中のＴ．Ｋｉｔ
ａｈａｒａ他の論文から公知であるが、前記論文中に
は、前記ラセミ体化合物中、即ち、式（ＩＩＩ）による
（１Ｒ）配置のものの中に存在するエナンチオマーのい
ずれか１つについての記載はない。従って、以下に見ら
れるように、本発明は、絶対配置（１Ｒ）を有する式
（ＩＩＩ）の所望のエナンチオマー、更に詳細には
（＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロ
ペンテン−１−アセテートの製造のための新規方法を提
供する。
【００３５】式（Ｉ）のエポキシドの製造の場合に本発
明により使用された強過酸としては、酸化反応で常用の
ペルオキシ酸の中から選択された、強力な電子求引性で
ある有機過酸を使用することができる（例えばＯｒｇ．
Ｃｈｅｍ．、第５版、Ｗ．Ｓ．Ｔｒａｈａｎｏｖｓｋ
ｙ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９７８中の第３
節を見よ）。こうして、過マレイン酸、過フタル酸、ｍ
−クロロ過安息香酸または更に式ＣＸ3ＣＯ2ＯＨ〔式
中、Ｘは、典型的にはハロゲン原子、特に塩素またはフ
ッ素を表す〕で示される過酸を、有利な助剤として挙げ
ることができる。有利に、過マレイン酸またはトリフル
オロ過酢酸が使用されることになる。
明により使用された強過酸としては、酸化反応で常用の
ペルオキシ酸の中から選択された、強力な電子求引性で
ある有機過酸を使用することができる（例えばＯｒｇ．
Ｃｈｅｍ．、第５版、Ｗ．Ｓ．Ｔｒａｈａｎｏｖｓｋ
ｙ、Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ、１９７８中の第３
節を見よ）。こうして、過マレイン酸、過フタル酸、ｍ
−クロロ過安息香酸または更に式ＣＸ3ＣＯ2ＯＨ〔式
中、Ｘは、典型的にはハロゲン原子、特に塩素またはフ
ッ素を表す〕で示される過酸を、有利な助剤として挙げ
ることができる。有利に、過マレイン酸またはトリフル
オロ過酢酸が使用されることになる。
【００３６】前記方法における適当な溶剤としては、塩
素化された溶剤が有利に使用されることになる。非常に
有用な結果は、特にジクロロメタンを用いて得られた。
素化された溶剤が有利に使用されることになる。非常に
有用な結果は、特にジクロロメタンを用いて得られた。
【００３７】前記の方法で出発生成物として使用された
式（ＩＩＩ）のエステルは、新規化合物であり、また、
本発明の対象でもある。前記エステルの中では、特に
（＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロ
ペンテン−１−アセテートを挙げることができ、該エス
テルの変換は、本発明によれば、Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録
商標）の有利な異性体を製造できるようにする。
式（ＩＩＩ）のエステルは、新規化合物であり、また、
本発明の対象でもある。前記エステルの中では、特に
（＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロ
ペンテン−１−アセテートを挙げることができ、該エス
テルの変換は、本発明によれば、Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録
商標）の有利な異性体を製造できるようにする。
【００３８】また、本発明は、常用の反応を使用して製
造することができるような市販により入手可能な材料ま
たは生成物から出発する式（ＩＩＩ）のエステルの製造
のための新規方法に関するものでもある。エステル（Ｉ
ＩＩ）の製造法を特徴付ける反応は、以下に示されてい
る：
造することができるような市販により入手可能な材料ま
たは生成物から出発する式（ＩＩＩ）のエステルの製造
のための新規方法に関するものでもある。エステル（Ｉ
ＩＩ）の製造法を特徴付ける反応は、以下に示されてい
る：
【００３９】
【化１６】
【００４０】本発明によれば、前記反応式中の第一の反
応は、支持体に対して、化学量論的量または触媒量で使
用することができるようなオキサザボロリジン−ボラン
タイプの系を用いて実施される出発シクロペンテノンの
エナンチオ選択的還元からなる。これは、種々の刊行物
中に記載されているケトンのエナンチオ選択的還元のた
めの系であるが（例えばＥ．Ｊ．Ｃｏｒｅｙ他、Ｊ．Ａ
ｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８７、１０９、７９２
５；Ｓ．Ｉｔｓｕｎｏ他、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．Ｊｐｎ、１９８７、６０、３９５；Ｄ．Ｊ．Ｍａｔ
ｈｒｅ他、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９１、５６、７
５１；Ｖ．Ｋ．Ｓｉｎｇｈ、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９
９２、６０５を見よ）、しかし、出願人等の知るところ
によれば、上記のようなシクロペンテノンの還元の場合
にはまだ使用されていない。還元のための触媒としての
式：
応は、支持体に対して、化学量論的量または触媒量で使
用することができるようなオキサザボロリジン−ボラン
タイプの系を用いて実施される出発シクロペンテノンの
エナンチオ選択的還元からなる。これは、種々の刊行物
中に記載されているケトンのエナンチオ選択的還元のた
めの系であるが（例えばＥ．Ｊ．Ｃｏｒｅｙ他、Ｊ．Ａ
ｍｅｒ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８７、１０９、７９２
５；Ｓ．Ｉｔｓｕｎｏ他、Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．Ｊｐｎ、１９８７、６０、３９５；Ｄ．Ｊ．Ｍａｔ
ｈｒｅ他、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９９１、５６、７
５１；Ｖ．Ｋ．Ｓｉｎｇｈ、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ １９
９２、６０５を見よ）、しかし、出願人等の知るところ
によれば、上記のようなシクロペンテノンの還元の場合
にはまだ使用されていない。還元のための触媒としての
式：
【００４１】
【化１７】
【００４２】で示されるオキサザボロリジンまたは
（Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３，３−ジフェニ
ル−１Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，２］
オキサザボロールの使用が含まれ、この場合、前記還元
は、（錯化した形での）ＢＨ3を用いて引き起こされ
る。この還元反応は、単離することができ、かつ前記オ
キサザボロリジンに再変換できるような更に望ましいア
ルコール（ＩＶ）、（Ｓ）−α，α−ジフェニル−２−
ピロリジンメタノールを自体公知の方法で供給する
（Ｄ．Ｊ．Ｍａｔｈｒｅ、引用された参考文献を見
よ）。
（Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３，３−ジフェニ
ル−１Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，２］
オキサザボロールの使用が含まれ、この場合、前記還元
は、（錯化した形での）ＢＨ3を用いて引き起こされ
る。この還元反応は、単離することができ、かつ前記オ
キサザボロリジンに再変換できるような更に望ましいア
ルコール（ＩＶ）、（Ｓ）−α，α−ジフェニル−２−
ピロリジンメタノールを自体公知の方法で供給する
（Ｄ．Ｊ．Ｍａｔｈｒｅ、引用された参考文献を見
よ）。
【００４３】更に有利な実施態様によれば、上記のオキ
サザボロリジンは、少なくともｅ．ｅ．９０％の光学純
度を有するアルコール（ＩＶ）を生じるためにシクロペ
ンテノン（Ｖ）対して触媒量で使用される。前記反応の
詳細な条件は、以下に記載されることになる。
サザボロリジンは、少なくともｅ．ｅ．９０％の光学純
度を有するアルコール（ＩＶ）を生じるためにシクロペ
ンテノン（Ｖ）対して触媒量で使用される。前記反応の
詳細な条件は、以下に記載されることになる。
【００４４】出願人等はまた、次式：
【００４５】
【化１８】
【００４６】〔式中、前記の公知オキサザボロリジン触
媒と比較して、フェニル基の１個は、水素原子によって
置換されている〕で示されるような上記還元のための新
規触媒を開発することができた。上記式中、アリール置
換基は、置換されていないかまたは置換されたフェニル
基、例えばトルエン、キシレン、ジ−第三ブチルベンゼ
ンまたはメシチレンまたは更に融合したアリール基、例
えばナフタレンであってもよい。
媒と比較して、フェニル基の１個は、水素原子によって
置換されている〕で示されるような上記還元のための新
規触媒を開発することができた。上記式中、アリール置
換基は、置換されていないかまたは置換されたフェニル
基、例えばトルエン、キシレン、ジ−第三ブチルベンゼ
ンまたはメシチレンまたは更に融合したアリール基、例
えばナフタレンであってもよい。
【００４７】新規触媒は、反応が出発生成物として、次
式：
式：
【００４８】
【化１９】
【００４９】〔式中、Ａｒは、上記の意味を有する〕で
示されるアミノアルコールを使用するような２個のフェ
ニル基を有する公知のオキサザボロリジン触媒の製造と
同様の反応により合成することができる。アミノアルコ
ールは、公知方法（Ａ．オオカワ、Ｋ．ソアイ、Ｊ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１、１９
８７、１４６５を見よ）により製造され、かつトリメチ
ルボロキシン（ＢＯＭｅ）3と反応して所望の触媒を生
じる。
示されるアミノアルコールを使用するような２個のフェ
ニル基を有する公知のオキサザボロリジン触媒の製造と
同様の反応により合成することができる。アミノアルコ
ールは、公知方法（Ａ．オオカワ、Ｋ．ソアイ、Ｊ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｐｅｒｋｉｎ Ｔｒａｎｓ．１、１９
８７、１４６５を見よ）により製造され、かつトリメチ
ルボロキシン（ＢＯＭｅ）3と反応して所望の触媒を生
じる。
【００５０】前記触媒は、新規化学物質であり、本発明
の１つの対象でもある。
の１つの対象でもある。
【００５１】Ａｒがフェニルであるこの新規触媒系、即
ち、（Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３−フェニル
−１Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，２］オ
キサザボロールを本発明によるエナンチオ選択的還元で
使用する場合、前記の公知オキサザボロリジンを用いて
得られた結果と同様に良好な結果が得られた。前記の公
知オキサザボロリジンのように、新規触媒は、シクロペ
ンテノン（Ｖ）に対して化学量論的量または触媒量で使
用することができる。
ち、（Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３−フェニル
−１Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，２］オ
キサザボロールを本発明によるエナンチオ選択的還元で
使用する場合、前記の公知オキサザボロリジンを用いて
得られた結果と同様に良好な結果が得られた。前記の公
知オキサザボロリジンのように、新規触媒は、シクロペ
ンテノン（Ｖ）に対して化学量論的量または触媒量で使
用することができる。
【００５２】式（Ｖ）のシクロペンテノンをアルコール
（ＩＶ）にエナンチオ選択的還元するための１つの別の
合成法には、生物工学的工程が含まれている。前記ケト
ンを、常法により相応するラセミ体のアセテートに変換
することができ、次に、該アセテートを、リパーゼを用
いてエナンチオ選択的に鹸化して望ましい光学活性アル
コール（ＩＶ）にすることができる。
（ＩＶ）にエナンチオ選択的還元するための１つの別の
合成法には、生物工学的工程が含まれている。前記ケト
ンを、常法により相応するラセミ体のアセテートに変換
することができ、次に、該アセテートを、リパーゼを用
いてエナンチオ選択的に鹸化して望ましい光学活性アル
コール（ＩＶ）にすることができる。
【００５３】前記反応工程に適するリパーゼは、当業者
には公知であり、例えば Candida antarctica、Pseudom
onas Fluorescens、Pseudomonas Amano、Humicola lan
g.、Candida cylindracea、Mucor Miehei、Chromabacte
rium viscosum、Aspergillusniger、Mucor javanicus
および Rhisopus arrhizus が含まれる。
には公知であり、例えば Candida antarctica、Pseudom
onas Fluorescens、Pseudomonas Amano、Humicola lan
g.、Candida cylindracea、Mucor Miehei、Chromabacte
rium viscosum、Aspergillusniger、Mucor javanicus
および Rhisopus arrhizus が含まれる。
【００５４】アセテート官能基にするためのケト官能基
の変換は、従来技術で常用の助剤を用いて引き起こされ
る。前記の関係から、ＬｉＡｌＨ4／無水酢酸の系を挙
げることができるが、しかし、別の系を使用することも
できる。同様に、アセテートの他に別のエステルを使用
してもよい。
の変換は、従来技術で常用の助剤を用いて引き起こされ
る。前記の関係から、ＬｉＡｌＨ4／無水酢酸の系を挙
げることができるが、しかし、別の系を使用することも
できる。同様に、アセテートの他に別のエステルを使用
してもよい。
【００５５】アリルアルコール（ＩＩＩ）のクライゼン
転位は、エナンチオマー配置を全体的に保持する式（Ｉ
ＩＩ）のエステルを得られるようにする。これは、全く
驚異的な結果であり、酸性条件および反応媒体の上昇し
た温度によって有利である可逆的脱水による出発シクロ
ペンテノールのラセミ化の程度が顕著になることが予想
されていたという事実が記載されていた。更に、出発シ
クロペンテノールの光学純度に対して、得られた生成物
の光学純度が実際的には損失を観察されなかった（ラセ
ミ化１％未満）。
転位は、エナンチオマー配置を全体的に保持する式（Ｉ
ＩＩ）のエステルを得られるようにする。これは、全く
驚異的な結果であり、酸性条件および反応媒体の上昇し
た温度によって有利である可逆的脱水による出発シクロ
ペンテノールのラセミ化の程度が顕著になることが予想
されていたという事実が記載されていた。更に、出発シ
クロペンテノールの光学純度に対して、得られた生成物
の光学純度が実際的には損失を観察されなかった（ラセ
ミ化１％未満）。
【００５６】前記エステル化反応の条件は、以下に更に
詳細に記載されている。
詳細に記載されている。
【００５７】要するに、本発明は、高く評価される香気
成分の製造にそれ自体が有用であり、かつ極めて有用な
収率および卓越したジアステレオ化学的純度およびエナ
ンチオマー純度で、該香気成分を製造できるようにする
ような新規光学活性化合物を製造できるようにしてい
る。更にこれは、工業的規模で使用することができるよ
うな反応を使用することによって、環境に対する危険が
ない。
成分の製造にそれ自体が有用であり、かつ極めて有用な
収率および卓越したジアステレオ化学的純度およびエナ
ンチオマー純度で、該香気成分を製造できるようにする
ような新規光学活性化合物を製造できるようにしてい
る。更にこれは、工業的規模で使用することができるよ
うな反応を使用することによって、環境に対する危険が
ない。
【００５８】本発明は、以下の実施例を用いて更に詳細
に記載されることになるが、実施例中で、温度は、摂氏
を示し、かつ略符号は、従来技術で常用の意味を有す
る。
に記載されることになるが、実施例中で、温度は、摂氏
を示し、かつ略符号は、従来技術で常用の意味を有す
る。
【００５９】
発明の実施態様 例 １ （＋）−（１Ｒ）−２−ペンチル−１−シクロペンテン
−１−オールの製造 テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１４０ｍｌ中の２−ペン
チル−２−シクロペンテン−１−オン（９．１２ｇ、６
０ミリモル）の溶液を、上記のオキサザボロリジン、即
ち、（Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３，３−ジフ
ェニル−１Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，
２］オキサザボロール（１６．７ｍｌ；トルエン中０．
３６Ｍ、６．０ミリモル；参照のため引用されたD. J.
Mathreを見よ）を用いて処理した。ＴＨＦ（６０ｍｌ）
中のＢＨ3・Ｓ（ＣＨ3）2（３．３０ｍｌ＝２．６４
ｇ、３４．８ミリモル）の溶液を、０℃で１時間かけて
滴加した。この反応を、メタノール３ｍｌ（Ｈ2の発
生）、引き続くエチルエーテルおよび５％のＨＣｌで停
止させた。洗浄して中和させた（水で２回およびブライ
ンで１回）有機相を分離し、かつ溶剤を蒸発させた。粗
製生成物９．５ｇが得られ、これをバルブ・ツー・バル
ブ装置中で蒸発させ（炉温度６０℃／１１Ｐａ）、
（＋）−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロペンテン
−１−オール８．１ｇ（収率８９％）を生じさせた。
−１−オールの製造 テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１４０ｍｌ中の２−ペン
チル−２−シクロペンテン−１−オン（９．１２ｇ、６
０ミリモル）の溶液を、上記のオキサザボロリジン、即
ち、（Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３，３−ジフ
ェニル−１Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，
２］オキサザボロール（１６．７ｍｌ；トルエン中０．
３６Ｍ、６．０ミリモル；参照のため引用されたD. J.
Mathreを見よ）を用いて処理した。ＴＨＦ（６０ｍｌ）
中のＢＨ3・Ｓ（ＣＨ3）2（３．３０ｍｌ＝２．６４
ｇ、３４．８ミリモル）の溶液を、０℃で１時間かけて
滴加した。この反応を、メタノール３ｍｌ（Ｈ2の発
生）、引き続くエチルエーテルおよび５％のＨＣｌで停
止させた。洗浄して中和させた（水で２回およびブライ
ンで１回）有機相を分離し、かつ溶剤を蒸発させた。粗
製生成物９．５ｇが得られ、これをバルブ・ツー・バル
ブ装置中で蒸発させ（炉温度６０℃／１１Ｐａ）、
（＋）−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロペンテン
−１−オール８．１ｇ（収率８９％）を生じさせた。
【００６０】この化合物は、以下の分析データを示し
た。
た。
【００６１】［α］20 D＝＋２８．３（ｃ＝２．７；Ｃ
ＨＣｌ3） エナンチオマー過剰量（ｅ．ｅ．）＝９１％（相応する
トリメチルシリルエーテルを基礎とするタイプ Megadex
（登録商標）５またはCD-Chirasil（登録商標）DEX CB
により測定した） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.20〜1.40（ｍ，４Ｈ）；1.40〜1.57（ｍ，３
Ｈ；Ｄ2Ｏ＝２Ｈを伴う）；1.69（ｍ，１Ｈ）；2.02〜
2.47（ｍ，５Ｈ）；4.64（幅広、１Ｈ）；5.53（幅広
ｓ、１Ｈ）δｐｐｍ。
ＨＣｌ3） エナンチオマー過剰量（ｅ．ｅ．）＝９１％（相応する
トリメチルシリルエーテルを基礎とするタイプ Megadex
（登録商標）５またはCD-Chirasil（登録商標）DEX CB
により測定した） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.20〜1.40（ｍ，４Ｈ）；1.40〜1.57（ｍ，３
Ｈ；Ｄ2Ｏ＝２Ｈを伴う）；1.69（ｍ，１Ｈ）；2.02〜
2.47（ｍ，５Ｈ）；4.64（幅広、１Ｈ）；5.53（幅広
ｓ、１Ｈ）δｐｐｍ。
【００６２】ＮＭＲ（13Ｃ）：146.7（ｓ）；126.9
（ｓ）；78.9（ｄ）；34.1（ｔ）；31.9（ｔ）；29.7
（ｔ）；28.1（ｔ）；27.5（ｔ）；22.6（ｔ）；14.1
（ｑ）δｐｐｍ。
（ｓ）；78.9（ｄ）；34.1（ｔ）；31.9（ｔ）；29.7
（ｔ）；28.1（ｔ）；27.5（ｔ）；22.6（ｔ）；14.1
（ｑ）δｐｐｍ。
【００６３】ＭＳ：154（Ｍ+,2）、97（30）、83（10
0）、79（12）、67（7）、55（11）、41（9）。
0）、79（12）、67（7）、55（11）、41（9）。
【００６４】異なるオキサザボロリジン、即ち（Ｓ）−
テトラヒドロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ，３Ｈ
−ピロロ−［１，２−ｃ］［１，３，２］オキサザボロ
ール（例７を見よ）を、不斉還元における触媒として、
かつ支持体に対して１０％の量で使用する場合、同じキ
ラルシクロペンテノールが、６８％の収率および９０％
のｅ．ｅ．で得られた。
テトラヒドロ−１−メチル−３−フェニル−１Ｈ，３Ｈ
−ピロロ−［１，２−ｃ］［１，３，２］オキサザボロ
ール（例７を見よ）を、不斉還元における触媒として、
かつ支持体に対して１０％の量で使用する場合、同じキ
ラルシクロペンテノールが、６８％の収率および９０％
のｅ．ｅ．で得られた。
【００６５】例 ２ （＋）−エチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−１−シクロ
ペンテン−１−アセテートの製造 例１により得られたシクロペンテノール（５ｇ、３２．
５ミリモル）とオルト酢酸トリエチル（４７．２ｍｌ＝
４２．１ｇ、２６０ミリモル、８当量）との混合物を、
ビグローカラム（Vigreux Column）およびコンデンサを
備えた反応器中で窒素流下に１４５℃（油浴の温度１６
０℃）に加熱し、他方、連続的に４時間に亘って、オル
ト酢酸トリエチル（５．９ｍｌ＝５．２６ｇ、３２．５
ミリモル、１当量）中のピバル酸（２３２ｍｇ、２．２
８ミリモル、７モル％）を添加する。反応の間、形成さ
れたエタノール並びに酢酸エチルおよび少量のオルト酢
酸を留去した。反応混合物を更に１時間加熱し、次に２
０℃に冷却し、稀釈された水性ＮａＨＣＯ3を用いて加
水分解し、かつエーテルで抽出した。有機層を水で２回
洗浄し、ブラインで１回洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4により乾燥
させ、かつ蒸発させて粗製生成物１５．４ｇを生じさせ
た。ヘッドの蒸留後に（６．６ｇ、５０℃／１．１×１
０2Ｐａ）、（＋）−エチル−（１Ｒ）−２−ペンチル
−２−シクロペンテン−１−アセテート５．３０ｇ（９
５℃／１．１×１０2Ｐａ）（収率７３％）が得られ、
この場合、ｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー純度を有し
ている（タイプMegadex（登録商標）５型のキラルカラ
ム）。
ペンテン−１−アセテートの製造 例１により得られたシクロペンテノール（５ｇ、３２．
５ミリモル）とオルト酢酸トリエチル（４７．２ｍｌ＝
４２．１ｇ、２６０ミリモル、８当量）との混合物を、
ビグローカラム（Vigreux Column）およびコンデンサを
備えた反応器中で窒素流下に１４５℃（油浴の温度１６
０℃）に加熱し、他方、連続的に４時間に亘って、オル
ト酢酸トリエチル（５．９ｍｌ＝５．２６ｇ、３２．５
ミリモル、１当量）中のピバル酸（２３２ｍｇ、２．２
８ミリモル、７モル％）を添加する。反応の間、形成さ
れたエタノール並びに酢酸エチルおよび少量のオルト酢
酸を留去した。反応混合物を更に１時間加熱し、次に２
０℃に冷却し、稀釈された水性ＮａＨＣＯ3を用いて加
水分解し、かつエーテルで抽出した。有機層を水で２回
洗浄し、ブラインで１回洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4により乾燥
させ、かつ蒸発させて粗製生成物１５．４ｇを生じさせ
た。ヘッドの蒸留後に（６．６ｇ、５０℃／１．１×１
０2Ｐａ）、（＋）−エチル−（１Ｒ）−２−ペンチル
−２−シクロペンテン−１−アセテート５．３０ｇ（９
５℃／１．１×１０2Ｐａ）（収率７３％）が得られ、
この場合、ｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー純度を有し
ている（タイプMegadex（登録商標）５型のキラルカラ
ム）。
【００６６】［α］20 D＝＋２３．６（ｃ＝３．９；Ｃ
ＨＣｌ3） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.26（ｔ，Ｊ＝７，３Ｈ）；1.22〜1.63（ｍ，７
Ｈ）；1.86〜2.36（ｍ，６Ｈ）；2.53（ｄｄ，Ｊ＝１５
および４，１Ｈ）；2.95（幅広、１Ｈ）；4.14（ｑ，Ｊ
＝７，２Ｈ）；5.37（幅広ｓ、１Ｈ）δｐｐｍ。
ＨＣｌ3） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.26（ｔ，Ｊ＝７，３Ｈ）；1.22〜1.63（ｍ，７
Ｈ）；1.86〜2.36（ｍ，６Ｈ）；2.53（ｄｄ，Ｊ＝１５
および４，１Ｈ）；2.95（幅広、１Ｈ）；4.14（ｑ，Ｊ
＝７，２Ｈ）；5.37（幅広ｓ、１Ｈ）δｐｐｍ。
【００６７】ＮＭＲ（13Ｃ）：14.1（ｑ）；14.3
（ｑ）；22.6（ｔ）；27.4（ｔ）；28.9（ｔ）；30.4
（ｔ）；30.5（ｔ）；31.8（ｔ）；38.8（ｔ）；43.7
（ｄ）；60.2（ｔ）；124.3（ｄ）；146.3（ｓ）；173.
4（ｓ）δｐｐｍ。
（ｑ）；22.6（ｔ）；27.4（ｔ）；28.9（ｔ）；30.4
（ｔ）；30.5（ｔ）；31.8（ｔ）；38.8（ｔ）；43.7
（ｄ）；60.2（ｔ）；124.3（ｄ）；146.3（ｓ）；173.
4（ｓ）δｐｐｍ。
【００６８】ＭＳ：224（Ｍ+,24）、176（5）、150（3
1）、136（68）、121（20）、107（30）、93（56）、80
（100）、79（92）、67（58）、55（18）、41（46）、2
9（63）。
1）、136（68）、121（20）、107（30）、93（56）、80
（100）、79（92）、67（58）、55（18）、41（46）、2
9（63）。
【００６９】例 ３ （＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロ
ペンテン−１−アセテートの製造 前記のシクロペンテノールを、例２中に記載したのと同
様にして反応させるが、しかし、オルト酢酸トリメチル
（２７当量）およびピバル酸１０モル％を使用する。こ
の反応を、約１１５℃の温度で約６時間に亘って行っ
た。通常の処理後に、所望の（＋）−メチル−（１Ｒ）
−２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−アセテート
が４３％の収率およびｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー
純度で得られた（キラルカラムMegadex（登録商標）
５）。
ペンテン−１−アセテートの製造 前記のシクロペンテノールを、例２中に記載したのと同
様にして反応させるが、しかし、オルト酢酸トリメチル
（２７当量）およびピバル酸１０モル％を使用する。こ
の反応を、約１１５℃の温度で約６時間に亘って行っ
た。通常の処理後に、所望の（＋）−メチル−（１Ｒ）
−２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−アセテート
が４３％の収率およびｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー
純度で得られた（キラルカラムMegadex（登録商標）
５）。
【００７０】該化合物は、以下の分析特性値を示した： ［α］20 D＝＋２５．３（ｃ＝３．６；ＣＨＣｌ3） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.20〜1.60（ｍ，７Ｈ）；1.85〜2.35（ｍ，６
Ｈ）；2.54（ｄｄ，Ｊ＝１５および４，１Ｈ）；2.93
（幅広、１Ｈ）；3.67（ｓ，３Ｈ）；5.37（幅広ｓ、１
Ｈ）δｐｐｍ。
Ｈ）；1.20〜1.60（ｍ，７Ｈ）；1.85〜2.35（ｍ，６
Ｈ）；2.54（ｄｄ，Ｊ＝１５および４，１Ｈ）；2.93
（幅広、１Ｈ）；3.67（ｓ，３Ｈ）；5.37（幅広ｓ、１
Ｈ）δｐｐｍ。
【００７１】ＮＭＲ（13Ｃ）：14.1（ｑ）；22.6
（ｔ）；27.4（ｔ）；28.9（ｔ）；30.4（ｔ）；30.5
（ｔ）；31.8（ｔ）；38.5（ｔ）；43.6（ｄ）；51.5
（ｑ）；124.4（ｄ）；146.2（ｓ）；173.8（ｓ）δｐ
ｐｍ。
（ｔ）；27.4（ｔ）；28.9（ｔ）；30.4（ｔ）；30.5
（ｔ）；31.8（ｔ）；38.5（ｔ）；43.6（ｄ）；51.5
（ｑ）；124.4（ｄ）；146.2（ｓ）；173.8（ｓ）δｐ
ｐｍ。
【００７２】ＭＳ：210（Ｍ+,32）、178（3）、150（1
6）、136（59）、121（13）、107（23）、93（43）、80
（100）、67（42）、41（36）、29（31）。
6）、136（59）、121（13）、107（23）、93（43）、80
（100）、67（42）、41（36）、29（31）。
【００７３】また、前記エステルを、同じ化学的および
光学的純度で、例２中に記載された該エステルの同族体
のトランスエステル化（収率８５％）または相応する酸
の形成のための前記同族体を鹸化し、次にエステル化す
ることによって製造した（全収率８５％；通常の条
件）。
光学的純度で、例２中に記載された該エステルの同族体
のトランスエステル化（収率８５％）または相応する酸
の形成のための前記同族体を鹸化し、次にエステル化す
ることによって製造した（全収率８５％；通常の条
件）。
【００７４】中間生成物（＋）−（１Ｒ）−２−ペンチ
ル−２−シクロペンテン−１−酢酸（収率８９％）は、
ｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー純度および以下の分析
データを示した： ［α］20 D＝＋３２．５（ｃ＝６．０；ＣＨＣｌ3） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.20〜1.65（ｍ，７Ｈ）；1.86〜2.36（ｍ，６
Ｈ）；2.60（ｄｄ，Ｊ＝１５，５および４，１Ｈ）；2.
95（幅広、１Ｈ）；5.39（幅広ｓ、１Ｈ）；〜10.3〜1
1.3（幅広，１Ｈ）δｐｐｍ。
ル−２−シクロペンテン−１−酢酸（収率８９％）は、
ｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー純度および以下の分析
データを示した： ［α］20 D＝＋３２．５（ｃ＝６．０；ＣＨＣｌ3） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.20〜1.65（ｍ，７Ｈ）；1.86〜2.36（ｍ，６
Ｈ）；2.60（ｄｄ，Ｊ＝１５，５および４，１Ｈ）；2.
95（幅広、１Ｈ）；5.39（幅広ｓ、１Ｈ）；〜10.3〜1
1.3（幅広，１Ｈ）δｐｐｍ。
【００７５】ＮＭＲ（13Ｃ）：14.1（ｑ）；22.6
（ｔ）；27.4（ｔ）；28.9（ｔ）；30.4（ｔ）；30.5
（ｔ）；31.8（ｔ）；38.5（ｔ）；43.4（ｄ）；124.6
（ｄ）；146.0（ｓ）；180.2（ｓ）δｐｐｍ。
（ｔ）；27.4（ｔ）；28.9（ｔ）；30.4（ｔ）；30.5
（ｔ）；31.8（ｔ）；38.5（ｔ）；43.4（ｄ）；124.6
（ｄ）；146.0（ｓ）；180.2（ｓ）δｐｐｍ。
【００７６】ＭＳ：196（Ｍ+,31）、136（56）、125（1
0）、121（12）、107（20）、93（49）、91（41）、79
（100）、77（62）、67（40）、53（21）、41（48）、2
9（39）。
0）、121（12）、107（20）、93（49）、91（41）、79
（100）、77（62）、67（40）、53（21）、41（48）、2
9（39）。
【００７７】例 ４ （＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−エポ
キシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートの
製造 ＣＨ2Ｃｌ2（１５ｍｌ）中の例３中に記載されたエステ
ル（２．１０ｇ、１０．０ミリモル）および無水マレイ
ン酸（１．４６ｇ、１５．０ミリモル、１．５当量）の
溶液を、１０℃で、７０％のＨ2Ｏ2（０．５８ｇ、１２
ミリモル、１．２当量）を用いて少量ずつ処理した。１
０℃で４時間後に、この反応混合物をＮａＨＣＯ3の飽
和水溶液中に注ぎ込んだ。この生成物をエーテルで抽出
し、水およびブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4により乾燥
させ、かつ蒸発させて粗製生成物２．３５ｇを生じさせ
た。バルブ・ツー・バルブ装置中での蒸留（炉温度７０
℃／８Ｐａ）により、ジアステレオマー過剰量ｄ．ｅ．
１００％およびｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー純度
（カラムMegadex（登録商標）５）を有する純粋な状態
（１．９５ｇ、８６％）でエポキシドを生じさせた。７
０％のＨ2Ｏ2（３６０ｍｇ、７．５ミリモル）を使用
し、０℃でＣＨ2Ｃｌ2（２０ｍｌ）中の（ＣＦ3ＣＯ）2
Ｏ（２．３１ｇ＝１．５３ｍｌ、１１．０ミリモル）の
溶液に添加した場合に同じ結果が得られた。３０分後
に、前記溶液を、−５０℃で、ＣＨ2Ｃｌ2（１０ｍｌ）
中の例３中に記載されたエステル（１．０５ｇ、５．０
ミリモル）およびＮａ2ＣＯ3（１．５９ｇ、１５ミリモ
ル）の懸濁液に滴加した。添加を終了後に（１５分
間）、反応が完結した。溶液を上記と同様に処理し、か
つ生成物を蒸留して、純粋な（＋）−メチル−（１Ｒ，
２Ｓ，３Ｒ）−２，３−エポキシ−２−ペンチル−１−
シクロペンタンアセテート８６３ｍｇ（収率７６％）を
生じたが、この場合、前記と同じ特性値を示した。
キシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートの
製造 ＣＨ2Ｃｌ2（１５ｍｌ）中の例３中に記載されたエステ
ル（２．１０ｇ、１０．０ミリモル）および無水マレイ
ン酸（１．４６ｇ、１５．０ミリモル、１．５当量）の
溶液を、１０℃で、７０％のＨ2Ｏ2（０．５８ｇ、１２
ミリモル、１．２当量）を用いて少量ずつ処理した。１
０℃で４時間後に、この反応混合物をＮａＨＣＯ3の飽
和水溶液中に注ぎ込んだ。この生成物をエーテルで抽出
し、水およびブラインで洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4により乾燥
させ、かつ蒸発させて粗製生成物２．３５ｇを生じさせ
た。バルブ・ツー・バルブ装置中での蒸留（炉温度７０
℃／８Ｐａ）により、ジアステレオマー過剰量ｄ．ｅ．
１００％およびｅ．ｅ．９０％のエナンチオマー純度
（カラムMegadex（登録商標）５）を有する純粋な状態
（１．９５ｇ、８６％）でエポキシドを生じさせた。７
０％のＨ2Ｏ2（３６０ｍｇ、７．５ミリモル）を使用
し、０℃でＣＨ2Ｃｌ2（２０ｍｌ）中の（ＣＦ3ＣＯ）2
Ｏ（２．３１ｇ＝１．５３ｍｌ、１１．０ミリモル）の
溶液に添加した場合に同じ結果が得られた。３０分後
に、前記溶液を、−５０℃で、ＣＨ2Ｃｌ2（１０ｍｌ）
中の例３中に記載されたエステル（１．０５ｇ、５．０
ミリモル）およびＮａ2ＣＯ3（１．５９ｇ、１５ミリモ
ル）の懸濁液に滴加した。添加を終了後に（１５分
間）、反応が完結した。溶液を上記と同様に処理し、か
つ生成物を蒸留して、純粋な（＋）−メチル−（１Ｒ，
２Ｓ，３Ｒ）−２，３−エポキシ−２−ペンチル−１−
シクロペンタンアセテート８６３ｍｇ（収率７６％）を
生じたが、この場合、前記と同じ特性値を示した。
【００７８】 ［α］20 D＝＋１３．３（ｃ＝３．７；ＣＨＣｌ3） ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.89（ｔ，Ｊ＝７，３
Ｈ）；1.11（ｍ，１Ｈ）；1.22〜1.40（ｍ，６Ｈ）；1.
48〜1.66（ｍ，２Ｈ）；1.76〜1.91（ｍ，２Ｈ）；1.95
（ｄｄ，Ｊ＝１４および８，１Ｈ）；2.22〜2.38（ｍ，
２Ｈ）；2.60（ｄｄ，１５，５および４，１Ｈ）；3.29
（ｓ，１Ｈ）；3.66（ｓ，３Ｈ）δｐｐｍ。
Ｈ）；1.11（ｍ，１Ｈ）；1.22〜1.40（ｍ，６Ｈ）；1.
48〜1.66（ｍ，２Ｈ）；1.76〜1.91（ｍ，２Ｈ）；1.95
（ｄｄ，Ｊ＝１４および８，１Ｈ）；2.22〜2.38（ｍ，
２Ｈ）；2.60（ｄｄ，１５，５および４，１Ｈ）；3.29
（ｓ，１Ｈ）；3.66（ｓ，３Ｈ）δｐｐｍ。
【００７９】ＮＭＲ（13Ｃ）：14.0（ｑ）；22.6
（ｔ）；24.7（ｔ）；26.5（ｔ）；26.7（ｔ）；29.2
（ｔ）；31.9（ｔ）；34.5（ｔ）；37.6（ｄ）；51.6
（ｑ）；62.6（ｄ）；68.3（ｓ）；173.6（ｓ）δｐｐ
ｍ。
（ｔ）；24.7（ｔ）；26.5（ｔ）；26.7（ｔ）；29.2
（ｔ）；31.9（ｔ）；34.5（ｔ）；37.6（ｄ）；51.6
（ｑ）；62.6（ｄ）；68.3（ｓ）；173.6（ｓ）δｐｐ
ｍ。
【００８０】ＭＳ：226（Ｍ+,3）、211（12）、183（2
6）、167（35）、152（42）、138（22）、123（37）、1
09（51）、96（89）、81（100）、67（56）、55（7
2）、41（88）、29（49）。
6）、167（35）、152（42）、138（22）、123（37）、1
09（51）、96（89）、81（100）、67（56）、55（7
2）、41（88）、29（49）。
【００８１】更に、他の反応条件も使用した。以下の表
は、上記の結果をまとめかつエポキシド化条件を変化さ
せることによって得られた結果と比較するものである。
反応生成物中に存在する種々の化合物（絶対配置）（重
量％）並びにタイプＤＢ−ＷＡＸのカラム上での該化合
物の滞留時間［１００℃（３分間）、次に３０℃／分］
を表中に示してある。
は、上記の結果をまとめかつエポキシド化条件を変化さ
せることによって得られた結果と比較するものである。
反応生成物中に存在する種々の化合物（絶対配置）（重
量％）並びにタイプＤＢ−ＷＡＸのカラム上での該化合
物の滞留時間［１００℃（３分間）、次に３０℃／分］
を表中に示してある。
【００８２】
【表１】
【００８３】例 ５ （＋）−エチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２−エポキシ
−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートの製造 前記エポキシドを、例４中に記載されたのと同様の条件
下で製造するが、しかし、例２中に記載されたエステル
から出発した。以下の表は、異なる反応条件下で得られ
た結果をまとめている。
−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートの製造 前記エポキシドを、例４中に記載されたのと同様の条件
下で製造するが、しかし、例２中に記載されたエステル
から出発した。以下の表は、異なる反応条件下で得られ
た結果をまとめている。
【００８４】
【表２】
【００８５】例 ６ （＋）−メチル−（１Ｒ）−シス−３−オキソ−２−ペ
ンチル−１−シクロペンタンアセテートまたは（＋）−
（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商標）の製造 例４中に記載されたエポキシド（１．０ｇ、４．４２ミ
リモル）、４Åのモレキュラーシーブ（０．５０ｇ）お
よびトルエン（１０ｍｌ）の混合物を、２３℃で、エー
テル化トリフルオロホウ素ＢＦ3・ＯＥｔ2（５６μｌ＝
６３ｍｇ、０．４４ミリモル、０．１当量）で処理し
た。２０〜２５℃で８分後に、反応を、重炭酸ナトリウ
ムの飽和した氷水溶液を添加することによって停止さ
せ、次に、生成物をエーテルで抽出し、水で２回洗浄
し、ブラインで１回洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4により乾燥さ
せ、かつ溶剤を蒸発させて粗製生成物１．０９ｇを生じ
させた。バルブ・ツー・バルブ装置中での最後の蒸留に
より（炉温度６０〜８５℃／７×１０2Ｐａ）、純度８
０％（収率６６％、ｄ．ｅ８７％、ｅ．ｅ．９０％）を
有する（＋）−（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録
商標）８２４ｇを生じさせた。第二の分留により、
（−）−（１Ｓ）−トランス配置の異性体５重量％並び
にジエン、即ちメチル−（２−ペンチル−２−シクロペ
ンテン−１−イリデン）アセテート５重量％を含有する
（＋）−（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商標）
を生じさせた。
ンチル−１−シクロペンタンアセテートまたは（＋）−
（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商標）の製造 例４中に記載されたエポキシド（１．０ｇ、４．４２ミ
リモル）、４Åのモレキュラーシーブ（０．５０ｇ）お
よびトルエン（１０ｍｌ）の混合物を、２３℃で、エー
テル化トリフルオロホウ素ＢＦ3・ＯＥｔ2（５６μｌ＝
６３ｍｇ、０．４４ミリモル、０．１当量）で処理し
た。２０〜２５℃で８分後に、反応を、重炭酸ナトリウ
ムの飽和した氷水溶液を添加することによって停止さ
せ、次に、生成物をエーテルで抽出し、水で２回洗浄
し、ブラインで１回洗浄し、Ｎａ2ＳＯ4により乾燥さ
せ、かつ溶剤を蒸発させて粗製生成物１．０９ｇを生じ
させた。バルブ・ツー・バルブ装置中での最後の蒸留に
より（炉温度６０〜８５℃／７×１０2Ｐａ）、純度８
０％（収率６６％、ｄ．ｅ８７％、ｅ．ｅ．９０％）を
有する（＋）−（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録
商標）８２４ｇを生じさせた。第二の分留により、
（−）−（１Ｓ）−トランス配置の異性体５重量％並び
にジエン、即ちメチル−（２−ペンチル−２−シクロペ
ンテン−１−イリデン）アセテート５重量％を含有する
（＋）−（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉｏｎｅ（登録商標）
を生じさせた。
【００８６】同じ方法で、ＢＦ3・ＯＥｔ2の化学量論的
量を使用した場合、（＋）−（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉ
ｏｎｅ（登録商標）を、純度９０％（ｄ．ｅ９０％、
ｅ．ｅ９０％）で７０％の収率で得られた。
量を使用した場合、（＋）−（１Ｒ）−シス−Ｈｅｄｉ
ｏｎｅ（登録商標）を、純度９０％（ｄ．ｅ９０％、
ｅ．ｅ９０％）で７０％の収率で得られた。
【００８７】更に、前記の条件とは異なる他の反応条件
を同様の方法で使用した。以下の表は、上記の結果をま
とめかつ異なる反応条件下で得られた結果と比較するも
のである。反応生成物中に存在する種々の化合物（絶対
配置）（重量％）並びにタイプＤＢ−ＷＡＸのカラム上
での該化合物の滞留時間［１００℃（３分間）、次に３
０℃／分］を表中に示してある。
を同様の方法で使用した。以下の表は、上記の結果をま
とめかつ異なる反応条件下で得られた結果と比較するも
のである。反応生成物中に存在する種々の化合物（絶対
配置）（重量％）並びにタイプＤＢ−ＷＡＸのカラム上
での該化合物の滞留時間［１００℃（３分間）、次に３
０℃／分］を表中に示してある。
【００８８】
【表３】
【００８９】例 ７ （Ｓ）−テトラヒドロ−１−メチル−３−フェニル−１
Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，２］オキサ
ザボロールの製造 トルエン（１０ｍｌ）中の（１Ｒ，２′Ｓ）−１−フェ
ニル−２′−ピロリジンメタノール（オオカワ他により
得られた、引用文献参照のこと）（０．５５４ｇ、３．
１ミリモル）およびトリメチルボロキシン（０．２２６
ｇ、２．１ミリモル）の溶液を、２５℃で撹拌した。４
５分後に、この溶液を緩徐に昇温させて２時間還流さ
せ、かつ形成されたＨ2Ｏおよびホウ酸を、トルエンと
の共沸混合物として留去した。直ちに、この混合物を、
半分の新鮮なトルエン（約５ｍｌ）の添加（反応の間に
添加することが必要とされるトルエンの３または４容
量）によって濃縮した。この反応混合物を一晩で室温に
冷却し、かつ所望のオキサザボロリジン（５．２ｍｌ、
約［０．５９Ｍ］）の溶液を、シリンジを介して瓶の中
に運搬し、かつアルゴン雰囲気下で貯蔵した。この溶液
は、例えば上記の還元条件下で使用することができた。
Ｈ，３Ｈ−ピロロ［１，２−ｃ］［１，３，２］オキサ
ザボロールの製造 トルエン（１０ｍｌ）中の（１Ｒ，２′Ｓ）−１−フェ
ニル−２′−ピロリジンメタノール（オオカワ他により
得られた、引用文献参照のこと）（０．５５４ｇ、３．
１ミリモル）およびトリメチルボロキシン（０．２２６
ｇ、２．１ミリモル）の溶液を、２５℃で撹拌した。４
５分後に、この溶液を緩徐に昇温させて２時間還流さ
せ、かつ形成されたＨ2Ｏおよびホウ酸を、トルエンと
の共沸混合物として留去した。直ちに、この混合物を、
半分の新鮮なトルエン（約５ｍｌ）の添加（反応の間に
添加することが必要とされるトルエンの３または４容
量）によって濃縮した。この反応混合物を一晩で室温に
冷却し、かつ所望のオキサザボロリジン（５．２ｍｌ、
約［０．５９Ｍ］）の溶液を、シリンジを介して瓶の中
に運搬し、かつアルゴン雰囲気下で貯蔵した。この溶液
は、例えば上記の還元条件下で使用することができた。
【００９０】ＭＳ：201（Ｍ+,100）、200（94）、186
（12）、172（92）、158（20）、130（42）、104（1
9）、91（78）、77（18）、70（18）、67（18）、51（1
3）、39（15）。
（12）、172（92）、158（20）、130（42）、104（1
9）、91（78）、77（18）、70（18）、67（18）、51（1
3）、39（15）。
【００９１】比較例 国際公開番号ＷＯ９５／３３７３５号中に記載された方
法 Ａ．２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−酢酸メチ
ルを、上記引用文献、例１中に記載された条件下で（Ｎ
ａＳＯ4、ＨＣＯＯＨ、ＨＣＯＯＮａ、Ｈ2Ｏ2、７０％
で、４０℃、６時間）、エポキシド化した。エーテル抽
出および反応生成物のバルブ・ツー・バルブ装置中での
蒸留後に、上記表Ｉ（４を見よ）から明らかなように、
本質的に出発エステルが得られ、この場合、所望のエポ
キシド中の収率は、僅かに２０％までにすぎない。
法 Ａ．２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−酢酸メチ
ルを、上記引用文献、例１中に記載された条件下で（Ｎ
ａＳＯ4、ＨＣＯＯＨ、ＨＣＯＯＮａ、Ｈ2Ｏ2、７０％
で、４０℃、６時間）、エポキシド化した。エーテル抽
出および反応生成物のバルブ・ツー・バルブ装置中での
蒸留後に、上記表Ｉ（４を見よ）から明らかなように、
本質的に出発エステルが得られ、この場合、所望のエポ
キシド中の収率は、僅かに２０％までにすぎない。
【００９２】Ｂ．ｃ−メチル−２，３−エポキシ−２−
ペンチル−ｒ−１−シクロペンタンアセテート（例４中
に記載されたのと同様の方法で得られるが、しかし、ラ
セミ体の２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−酢酸
メチルから出発する）を、国際公開番号ＷＯ９５／３３
７３５号の例２中に記載されたのと同様の方法で反応さ
せた。
ペンチル−ｒ−１−シクロペンタンアセテート（例４中
に記載されたのと同様の方法で得られるが、しかし、ラ
セミ体の２−ペンチル−２−シクロペンテン−１−酢酸
メチルから出発する）を、国際公開番号ＷＯ９５／３３
７３５号の例２中に記載されたのと同様の方法で反応さ
せた。
【００９３】上記のエポキシド４００ｍｇ（１．８０ミ
リモル）およびＬｉＩ１９ｍｇ（０．１４ミリモル）の
混合物を、バルブ・ツー・バルブ装置中に入れ、加熱し
て１９０℃にした。１０分後に、黒色混合物を真空中
（８Ｐａ）で蒸留した。留出物（２７７ｍｇ）は、本質
的に出発エポキシド（純度８２％）であった。この留出
物を、再度、残分（６８ｍｇ）と組合せ、３０分間加熱
して１９０℃にし、冷却し、かつバルブ・ツー・バルブ
装置（炉温度９０℃／８Ｐａ）中で蒸留して留出物１１
０ｍｇを得た。前記生成物の再蒸留（炉温度１１０℃／
１１Ｐａ）により、純度９０％を有しかつ以下の分析デ
ータを示す生成物８５ｍｇを生じさせた。
リモル）およびＬｉＩ１９ｍｇ（０．１４ミリモル）の
混合物を、バルブ・ツー・バルブ装置中に入れ、加熱し
て１９０℃にした。１０分後に、黒色混合物を真空中
（８Ｐａ）で蒸留した。留出物（２７７ｍｇ）は、本質
的に出発エポキシド（純度８２％）であった。この留出
物を、再度、残分（６８ｍｇ）と組合せ、３０分間加熱
して１９０℃にし、冷却し、かつバルブ・ツー・バルブ
装置（炉温度９０℃／８Ｐａ）中で蒸留して留出物１１
０ｍｇを得た。前記生成物の再蒸留（炉温度１１０℃／
１１Ｐａ）により、純度９０％を有しかつ以下の分析デ
ータを示す生成物８５ｍｇを生じさせた。
【００９４】ＩＲ（ニート）:2950、2920、2855、176
0、〜1735（くびれ）、〜1705（くびれ）、1450、121
5、1185ｃｍ-1。
0、〜1735（くびれ）、〜1705（くびれ）、1450、121
5、1185ｃｍ-1。
【００９５】ＮＭＲ（1Ｈ、360ＭＨｚ）：0.87（ｔ，Ｊ
＝７，３Ｈ）；〜1.2〜1.8（ｍ，１２Ｈ）；1.90（ｍ，
１Ｈ）；2.05（ｍ，１Ｈ）；2.28（ｄｄ，Ｊ＝１７，５
および３，５，１Ｈ）；2.51（ｍ，１Ｈ）；2.85（ｄ
ｄ，Ｊ＝１７，５および１０，１Ｈ）δｐｐｍ。
＝７，３Ｈ）；〜1.2〜1.8（ｍ，１２Ｈ）；1.90（ｍ，
１Ｈ）；2.05（ｍ，１Ｈ）；2.28（ｄｄ，Ｊ＝１７，５
および３，５，１Ｈ）；2.51（ｍ，１Ｈ）；2.85（ｄ
ｄ，Ｊ＝１７，５および１０，１Ｈ）δｐｐｍ。
【００９６】ＮＭＲ（13Ｃ）：177.5（ｓ）；98.3
（ｓ）；42.1（ｄ）；39.4（ｔ）；38.1（ｔ）；37.1
（ｔ）；34.4（ｔ）；32.1（ｔ）；24.0（ｔ）；23.9
（ｔ）；22.5（ｔ）；14.0（ｑ）δｐｐｍ。
（ｓ）；42.1（ｄ）；39.4（ｔ）；38.1（ｔ）；37.1
（ｔ）；34.4（ｔ）；32.1（ｔ）；24.0（ｔ）；23.9
（ｔ）；22.5（ｔ）；14.0（ｑ）δｐｐｍ。
【００９７】ＭＳ：196（Ｍ+,6）、167（6）、153（1
0）、140（17）、125（100）、97（70）、81（18）、71
（26）、69（30）、55（50）、41（69）。
0）、140（17）、125（100）、97（70）、81（18）、71
（26）、69（30）、55（50）、41（69）。
【００９８】前記スペクトルデータは、更に前記文献中
に引用されたラクトンの構造に相応している。
に引用されたラクトンの構造に相応している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ // Ｃ０７Ｍ 7:00
Claims (17)
- 【請求項１】 式： 【化１】 〔式中、シクラン（１Ｒ）配置を有し、２位の基はトラ
ンス配置であり、かつエポキシ基は環の１位に対してシ
ス配置であり、Ｒは、低級アルキル基を表し、Ｒ1は、
炭素原子１〜８個を有する飽和もしくは不飽和で、線状
もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表す〕で示されるエポ
キシド。 - 【請求項２】 （＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）
−２，３−エポキシ−２−ペンチル−１−シクロペンタ
ンアセテート。 - 【請求項３】 式： 【化２】 〔式中、シクラン配置（１Ｒ）−シスを有し、符号Ｒお
よびＲ1は、式（Ｉ）中で示された意味を有する〕で示
される環式ケトンを製造するための方法において、請求
項１に記載のエポキシドを、不活性有機溶剤中で、適当
なルイス酸または酸性粘土を含有する酸性助剤を用いて
処理することを特徴とする、環式ケトンの製造法。 - 【請求項４】 （＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）
−２，３−エポキシ−２−ペンチル−１−シクロペンタ
ンアセテートを、（＋）−メチル−（１Ｒ）−シス−３
−オキソ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテー
トを製造するために使用する、請求項３に記載の方法。 - 【請求項５】 酸性助剤がエーテル化トリフルオロホウ
素または三塩化アルミニウムである、請求項３または４
に記載の方法。 - 【請求項６】 請求項１に記載のエポキシドを製造する
ための方法において、式： 【化３】 〔式中、シクラン配置（１Ｒ）−シスを有し、符号Ｒお
よびＲ1は、式（Ｉ）中で示された意味を有する〕で示
されるエステルを、不活性有機溶剤中で強過酸と反応さ
せることを特徴とする、請求項１に記載のエポキシドの
製造法。 - 【請求項７】 式（ＩＩＩ）のエステルを、キラルオキ
サザボロリジンの存在下でＢＨ3を用いて、式： 【化４】 〔式中、Ｒ1は、式（ＩＩＩ）中で示された意味を有す
る〕で示されるケトンを還元して、式： 【化５】 で示される（１Ｒ）配置のシクロペンテノールを得、次
にこれを、クライゼンタイプの転位に有利な反応条件下
で、適当なオルト酢酸アルキルと反応させて、望ましい
エステルを生じさせることからなる方法によって得る、
請求項６に記載の方法。 - 【請求項８】 ケトンを、式： 【化６】 〔式中、Ａｒは、置換もしくは非置換のフェニル基また
は融合したアリール基を表す〕で示されるキラルオキサ
ザボロリジンを用いて還元させる、請求項７に記載の方
法。 - 【請求項９】 （＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチ
ル−２−シクロペンテン−１−アセテートを還元して、
（＋）−メチル−（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ）−２，３−エポ
キシ−２−ペンチル−１−シクロペンタンアセテートを
得る、請求項６に記載の方法。 - 【請求項１０】 強過酸が過マレイン酸またはトリフル
オロ過酢酸である、請求項６または９に記載の方法。 - 【請求項１１】 ２−ペンチル−２−シクロペンテン−
１−オンを還元して、（＋）−（１Ｒ）−２−ペンチル
−２−シクロペンテン−１−オールを生じさせる、請求
項７または８に記載の方法。 - 【請求項１２】 前記シクロペンテノールを、ピバリン
酸の存在下に、オルト酢酸メチルと反応させて、（＋）
−メチル−（１Ｒ）−２−ペンチル−２−シクロペンテ
ン−１−アセテートを得る、請求項１１に記載の方法。 - 【請求項１３】 式： 【化７】 〔式中、シクラン（１Ｒ）配置を有し、符号Ｒは、低級
アルキル基を表し、Ｒ1は、炭素原子１〜８個を有する
飽和もしくは不飽和で、線状もしくは分枝鎖状の炭化水
素基を表す〕で示されるエステル。 - 【請求項１４】 （＋）−メチル−（１Ｒ）−２−ペン
チル−２−シクロペンテン−１−アセテート。 - 【請求項１５】 式： 【化８】 〔式中、置換基のエポキシおよびカルボキシが、厳密な
シス配置を有し、Ｒは、低級アルキル基を表し、Ｒ
1は、炭素原子１〜８個を有する飽和もしくは不飽和
で、線状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を表す〕で示さ
れるエポキシド。 - 【請求項１６】 式： 【化９】 〔式中、Ａｒは、置換もしくは非置換のフェニル基また
は融合したアリール基を表す〕で示されるオキサザボロ
リジン。 - 【請求項１７】 ケトンをアルコールにするためのエナ
ンチオ選択的還元法において、この方法が、式（ＶＩ）
のオキサザボロリジンを使用することを含むことを特徴
とする、ケトンをアルコールにするためのエナンチオ選
択的還元法。
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