JPH10139705A - エーテル化合物の製造法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶剤、化粧料、洗浄剤組成物、潤滑剤、乳化
剤等に広範囲に使用可能なエーテル化合物を簡便かつ高
収率で供給できる製造法の提供。 【解決手段】 ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を
触媒を用いて水素雰囲気中で反応させてエーテル化合物
を製造するに際し、ヒドロキシ化合物として、アルカリ
金属を含有する触媒存在下での水酸基を１個以上有する
アルコールとアルキレンオキサイドとの反応生成物を、
吸着剤処理、蒸留処理、中和処理等により精製処理する
ことにより得られるヒドロキシ化合物を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はエーテル化合物の製
造法に関する。さらに詳しくは、溶剤、化粧料、洗浄剤
組成物、潤滑剤、乳化剤等に広範囲に使用可能なエーテ
ル化合物を簡便かつ高収率で供給できるエーテル化合物
の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、エーテル化合物はジエチルエーテ
ル、ジブチルエーテル、ジエチレングリコールジエチル
エーテル等が溶剤として利用されている。しかし、これ
らより分子量の大きいもの、あるいは非対称型のものは
合成が困難なため、ほとんど利用されていないのが現状
である。特に化粧料等に配合できる油剤として、エーテ
ル化合物は、現在汎用されているエステル系の油剤に比
べ、べとつかず、しかも加水分解もしないので、その有
用性が高くなってきている。

【０００３】また、エーテル化合物は、洗浄剤組成物と
しての油剤あるいは新しい非イオン活性剤としての利用
も考えられる。さらには、潤滑剤、乳化剤等への利用も
可能である。上記のような理由からもエーテル化合物の
利用に対する期待は高まっているが、本当に有用なエー
テル化合物を工業的レベルで、簡便かつ安価に製造でき
ないのが現状である。

【０００４】従来から知られているエーテル化合物の合
成に用いられる方法としては、例えば、アルコラートと
ハロゲン化アルキルからの合成（ウィリアムソン合成
法）、アルコールとエステル系化合物からの合成、アル
コール間の酸による脱水反応からの合成、アルコールの
オレフィンへの付加による合成等が一般的である。

【０００５】しかし、アルコラートとハロゲン化アルキ
ルからの合成では、アルコラートを生じさせるためのア
ルコールと当量の金属（Ｎａ、Ｋ等）、あるいはアルカ
リが必要であり、さらには反応後、それに伴う多量の塩
が生成し、工業的には好ましくない。また、アルコール
とエステル系化合物からの合成については、エステル化
合物がジメチル硫酸、ジエチル硫酸等に限定され、メチ
ルエーテル、エチルエーテルの合成には好ましいが、こ
れらの化合物より炭素数が多いエーテル化合物を合成す
るのは困難である。

【０００６】アルコール間の酸による脱水反応では対称
型エーテル化合物の合成には適するが、非対称型エーテ
ル化合物の合成は困難である。さらにはオレフィンの副
生も生じる。また、アルコールのオレフィンへの付加に
よる合成では、オレフィン化合物が限定されたり、ま
た、使用する触媒とともにかなり高価なものが多く、さ
らには、オレフィン、触媒ともに回収再利用も困難なも
のが多く、工業的には適さない。

【０００７】また、例えば、特開昭４８−３３０３７号
公報には各種モノエーテル類の利用が開示されている
が、その合成法としてウィリアムソン法が有利と明記し
てある。しかし、先にも述べたように、ウィリアムソン
法は工業的レベルでは好ましくない。更に、エーテル化
合物の利用法が、特開昭４８−５９４１号公報、米国特
許第４００９２５４号明細書に開示されているが、これ
らもウィリアムソン法がほとんどである。

【０００８】その他、エーテルの合成法として、アルコ
ールとカルボニル化合物から製造する方法がある。例え
ば、J. Chem. Soc., 5598(1963)、Chem. Commun., 422
(1967) にアルコール過剰系において、常圧水素雰囲気
下、酸性触媒を用いた条件下エーテル化合物を合成する
方法が記載されている。しかし、それらはすべてアルコ
ールが大過剰系であり、しかもメタノール、エタノー
ル、プロピルアルコールといった低級アルコールの使用
のみであり、炭素数が６を超える高級アルコールについ
ては記載されていない。

【０００９】また、J. Org. Chem., 26, 1026(1961) に
は、各種ケタールの水素化分解反応によるエーテルの合
成法が開示されているが、これについても炭素数が６以
下の低級アルコールが中心であり、高級アルコールのエ
ーテル化の記載はなく、一般的でない。また、この反応
においては、一旦、ケタールを合成しなければならない
という欠点もある。

【００１０】また、近年、高級アルコールを用いたエー
テル化合物の合成例として、強酸を触媒としたトリエチ
ルシランによる還元法が開発され、高級アルコールと各
種カルボニル化合物から各種エーテル化合物が合成され
ているが（Chemistry letters, P.743-746, 1985) 、強
酸、トリエチルシラン等が高価なこともあり、工業的に
は好ましい方法とはいえない。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】上記で述べたように、
エーテル化合物は、その用途が期待されながら、製造が
困難であるため汎用的に利用できず、簡便にかつ高収率
で供給できるエーテル化合物の製造法が望まれていた。
従って、本発明の目的は、溶剤、化粧料、洗浄剤組成
物、潤滑剤、乳化剤等への利用として有用なエーテル化
合物を簡便に高収率で供給できる製造法を提供すること
にある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく、汎用的に使用できるエーテル化合物の簡
便かつ高収率の製造方法について鋭意検討を行った結
果、ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を水素雰囲気
下、触媒を用いて反応させるに際し、ヒドロキシ化合物
として、特定のヒドロキシ化合物を用いることにより、
一段階で、しかも高収率でエーテル化合物が得られるこ
とを見出し、本発明を完成するに到った。

【００１３】すなわち本発明は、ヒドロキシ化合物とカ
ルボニル化合物を、触媒を用いて水素雰囲気中で反応さ
せてエーテル化合物を製造するに際し、ヒドロキシ化合
物として、アルカリ金属を含有する触媒存在下での水酸
基を１個以上有するアルコールとアルキレンオキサイド
との反応生成物を精製処理することにより得られるヒド
ロキシ化合物を用いることを特徴とするエーテル化合物
の製造法を提供するものである。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を詳細
に説明する。

【００１５】本発明においては、ヒドロキシ化合物とし
て、アルカリ金属を含有する触媒存在下での水酸基を１
個以上有するアルコールとアルキレンオキサイドとの反
応生成物を精製処理することにより得られるヒドロキシ
化合物を用いる。

【００１６】水酸基を１個以上有するアルコールとして
は、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｎ−ペンチ
ルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−ヘプチル
アルコール、ｎ−オクチルアルコール、ｎ−ノニルアル
コール、ｎ−デシルアルコール、ｎ−ウンデシルアルコ
ール、ｎ−ドデシルアルコール、ｎ−トリデシルアルコ
ール、ｎ−テトラデシルアルコール、ｎ−ペンタデシル
アルコール、ｎ−ヘキサデシルアルコール、ｎ−オクタ
デシルアルコール、ｎ−エイコシルアルコール等の直鎖
飽和アルコール、イソプロピルアルコール、イソブチル
アルコール、２−エチルヘキシルアルコール、２−ヘキ
シルデシルアルコール、２−ヘプチルウンデシルアルコ
ール、２−オクチルドデシルアルコール、２−デシルテ
トラデシルアルコール、２−（１，３，３−トリメチル
ブチル）−５，７，７−トリメチルオクチルアルコー
ル、次式

【００１７】

【化２】

【００１８】（式中、a, bは、 a＋b＝14であり、 a＝b
＝７を頂点とする分布をもつ）で表されるメチル分岐イ
ソステアリルアルコール、２−テトラデシルオクタデシ
ルアルコール等の飽和分岐アルコール、９−オクタデセ
ニルアルコール、ファルネシルアルコール、アビエチル
アルコール、オレイルアルコール等のアルケニルアルコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチル
セロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル
（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノイソプ
ロピルエーテル（イソプロピルセロソルブ）、エチレン
グリコールモノブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、
エチレングリコールモノイソアミルエーテル、エチレン
グリコールモノヘキシルエーテル等のエチレングリコー
ルのモノエーテル類、ジエチレングリコールモノメチル
エーテル（メチルカルビトール）、ジエチレングリコー
ルモノエチルエーテル（エチルカルビトール）、ジエチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル（イソプロピ
ルカルビトール）、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル（ブチルカルビトール）等のジエチレングリコー
ルのモノエーテル類、トリエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ト
リエチレングリコールモノドデシルエーテル、トリエチ
レングリコールモノテトラデシルエーテル等のトリエチ
レングリコールのモノエーテル類、１，４−ブタンジオ
ールモノヘキシルエーテル、２−メチル−１，３−プロ
パンジオールモノオクチルエーテル、１，６−ペンタン
ジオールモノヘキシルエーテル、２，2'−ジメチルプロ
パンジオールモノオクチルエーテル、３−メチル−１，
５−ペンタンジオールモノヘキシルエーテル等のアルキ
レングリコールのモノエーテル類、エチレングリコー
ル、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオー
ル、１，９−ノナンジオール等のジオール類等が挙げら
れるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。

【００１９】これらのアルコールの中では、炭素数１〜
22、特に４〜22の脂肪族アルコールが好ましい。これら
のアルコールは１種又は２種以上の混合物として用いる
ことができる。また、本発明に用いられるアルキレンオ
キサイドとしては、エチレンオキサイド、プロピレンオ
キサイドあるいはブチレンオキサイドなどが挙げられ、
エチレンオキサイドが好ましい。これらのアルキレンオ
キサイドの平均付加モル数は特に限定されないが、１〜
500 が好ましく、３〜300 が特に好ましい。

【００２０】本発明において、水酸基を１個以上有する
アルコールとアルキレンオキサイドとの反応はアルカリ
金属を含有する触媒、好ましくは水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、重炭酸
ナトリウム、重炭酸カリウム、カリウムメチラート、ナ
トリウムブチラート、特に好ましくは水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウムをアルコールに対し0.05〜３重量
％、好ましくは 0.1〜１重量％存在させ、常圧もしくは
加圧下でアルキレンオキサイドを、温度100〜180℃、４
〜６時間で導入することにより行う。

【００２１】本発明においては、水酸基を１個以上有す
るアルコールとアルキレンオキサイドとの反応生成物を
精製処理したものをヒドロキシ化合物として用いる。本
発明に用いられるヒドロキシ化合物として好ましいもの
は、次の一般式（１）で表される化合物である。

【００２２】R₁−(OA)_n-OH （１） 〔式中、R₁は水素原子、炭素数１〜40の直鎖又は分岐の
アルキル基あるいはアルケニル基を示す。 Aは炭素数２
〜12のアルキレン基を示し、ｎ個のA は同一でも異なっ
ていてもよい。ｎは１〜500 の数を示す。〕 本発明において、精製処理とは、ヒドロキシ化合物とカ
ルボニル化合物を反応させエーテルを製造するに際し、
使用される触媒がアルカリ金属により不活性化されるの
を抑制する処理を言い、その方法は特に限定されない
が、好ましくはヒドロキシ化合物中のアルカリ金属イオ
ン含量を200 ppm 以下とする処理、あるいは無機強酸に
よる中和処理が挙げられ、前者の処理方法としては、吸
着剤処理、蒸留処理が挙げられ、ヒドロキシ化合物が蒸
留可能な低沸点物の場合は蒸留処理が、ヒドロキシ化合
物が蒸留不可能な高沸点物の場合は吸着剤処理が好まし
い。

【００２３】本発明における吸着剤処理に用いられる吸
着剤としては、シリカ、マグネシア及びアルミナから選
択される少なくとも１種を主成分とするものが挙げら
れ、具体的にはケイ酸マグネシウム、酸化アルミニウ
ム、酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、炭酸アル
ミニウム、炭酸マグネシウム、あるいはこれらの混合物
等が挙げられ、ゼオライト、シリカ／アルミナ、活性ア
ルミナ、キョーワード（協和化学工業（株）製）、活性
白土等として市販されているものを用いればよい。吸着
剤の添加量は反応生成物に対して、 0.1〜20重量％が好
ましい。また吸着剤処理は減圧下、50〜 200℃の温度で
攪拌処理するのが好ましい。

【００２４】また、本発明における蒸留処理は、 0.1to
rr〜常圧下、50〜 250℃の温度範囲で行うのが好まし
い。

【００２５】本発明においては、上記の吸着剤処理、蒸
留処理に中和処理を組み合わせて行ってもよく、精製処
理することにより、ヒドロキシ化合物中の、カリウム、
ナトリウム等のアルカリ金属イオン含量を100 ppm 以
下、特に50ppm 以下とすることが好ましい。

【００２６】本発明における無機強酸による中和処理に
用いられる無機強酸としては、ｐＫａ３以下のもの、好
ましくは塩酸（ｐＫａ −８）、硫酸（pKa 1.99）、リ
ン酸（pKa2.15）が挙げられ、これらの酸によりpH５〜
７となるように中和するのが好ましい。中和処理はアル
コールの溶解条件下で酸を添加し、５〜60分攪拌すれば
よい。なお、このpHは１％水溶液での測定値である。

【００２７】本発明に用いられるカルボニル化合物とし
ては、例えば、一般式（２）

【００２８】

【化３】

【００２９】〔式中、R₂, R₃は水素原子、炭素数１〜35
の直鎖又は分岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示
し、R₂, R₃は同一であっても異なっていてもよい。ま
た、R₂,R₃が結合した環状構造であってもよい。〕で表
される化合物が挙げられる。

【００３０】一般式（２）で表される化合物の具体例と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、メチル−ｎ−
プロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチル−
ｎ−ブチルケトン、メチルイソブチルケトン（４−メチ
ル−２−ペンタノン）、ピナコロン、メチル−ｎ−アミ
ルケトン、メチル−ｎ−ヘキシルケトン、メチルｎ−ヘ
プチルケトン、メチルｎ−オクチルケトン、メチルｎ−
ノニルケトン、メチルｎ−デシルケトン、メチルｎ−ウ
ンデシルケトン、メチルｎ−ドデシルケトン、メチルｎ
−テトラデシルケトン、メチルｎ−ヘキサデシルケト
ン、メチルｎ−オクタデシルケトン、ジエチルケトン、
エチル−ｎ−ブチルケトン、ジ−ｎ−プロピルケトン、
ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、２，６，
６−トリメチルノナノン−４、６−メチル−５−ヘプテ
ノン−２等の鎖状ケトン、シクロヘキサノン、２−メチ
ルシクロヘキサノン、イソホロン、シクロペンタノン、
メチルシクロペンタノン、ヘキシルシクロペンタノン、
シクロヘプタノン等の環状ケトン、ホルムアルデヒド、
パラホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルア
ルデヒド、ブチルアルデヒド、ペンチルアルデヒド、ヘ
キシルアルデヒド、ヘプチルアルデヒド、オクチルアル
デヒド、ノニルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデ
シルアルデヒド、ドデシルアルデヒド、ヘキサデシルア
ルデヒド、オクタデシルアルデヒド、エイコシルアルデ
ヒド等の直鎖アルデヒド、２−エチルヘキシルアルデヒ
ド、２−エチルブチルアルデヒド、メチルヘプタデシル
アルデヒド等の分岐アルデヒドなどが挙げられるが、必
ずしもこれらに限定されるものではない。

【００３１】これらのカルボニル化合物の中では、炭素
数１〜12の鎖状ケトン、環状ケトンあるいはアルデヒド
が好ましく、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン（４−メチル−２−ペンタノン）等の炭
素数３〜６の鎖状ケトンや、ホルムアルデヒド、パラホ
ルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブチルアルデヒ
ド、オクチルアルデヒド、デシルアルデヒド、ウンデシ
ルアルデヒド、ドデシルアルデヒド等の炭素数１〜12、
更には３〜８の脂肪族アルデヒドが特に好ましく、更に
はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン（４−メチル−２−ペンタノン）が特に好ましい。
これらのカルボニル化合物は、１種又は２種以上の混合
物として用いることができる。

【００３２】本発明の製造法において、ヒドロキシ化合
物とカルボニル化合物の仕込み比は、特に限定されない
が、通常、ヒドロキシ化合物／カルボニル化合物（モル
比）＝50／１〜１／50が好ましく、特に20／１〜１／2
0、更に特に10／１〜１／10が好ましい。ヒドロキシ化
合物が低分子量で、蒸留等で容易に除去できるものであ
れば、ヒドロキシ化合物を過剰に用いて反応させるのが
好ましい。また、カルボニル化合物が低分子量で、蒸留
等で容易に除去できるものであれば、カルボニル化合物
を過剰に用いて反応させるのが好ましい。ヒドロキシ化
合物／カルボニル化合物のモル比が上記範囲以外でも収
率にはそれほど影響を与えないが、経済的ではない。

【００３３】本発明において、ヒドロキシ化合物とカル
ボニル化合物を反応させる際に用いられる触媒として
は、水素化能を有するものであれば特に限定されない
が、パラジウム触媒；水酸化パラジウム、酸化パラジウ
ム等のパラジウム化合物；ルテニウム、ロジウムあるい
は白金触媒；酸化ルテニウム、酸化ロジウム、酸化白金
等が挙げられる。また、イリジウム、オスミウム、レニ
ウム等の触媒も用いることができる。これらの触媒は、
カーボン、アルミナ、シリカアルミナ、シリカ、ゼオラ
イト等の担体に適度に担持されていてもよい。これらの
触媒の中で、好ましくはパラジウム系触媒、更に好まし
くはカーボン、アルミナ、シリカアルミナもしくはシリ
カに担持されたパラジウム触媒、水酸化パラジウム又は
酸化パラジウムであり、特にカーボンに担持されたパラ
ジウム触媒が好ましい。

【００３４】本発明において触媒は、通常カーボン、ア
ルミナ等の担体に対して１〜10重量％の割合で担持して
使用するが、担体に担持せずにそのまま使用しても構わ
ない。また、20〜60重量％程度の含水品であっても構わ
ない。触媒は、例えば担体に対して５重量％担持された
ものであれば、使用するヒドロキシ化合物に対して0.1
〜10重量％使用するのが好ましい。0.1重量％より少な
くても反応は進行するが、反応は遅く好ましくない。ま
た、10重量％より多く用いても反応は速いが、逆に副反
応も進行し好ましくない。さらに好ましくは0.5〜５重
量％である。触媒はすべてのｐＨ領域で使用できるが、
好ましくはｐＨ８〜２、更に好ましくはｐＨ 7.5〜３の
触媒がよい。ここでいう触媒のｐＨとは、イオン交換水
30ｇに触媒粉末２ｇを分散させた時の水溶液のｐＨをい
う。

【００３５】本発明においては、ヒドロキシ化合物とカ
ルボニル化合物を水素雰囲気中で反応させるが、水素圧
は特に限定されず、加圧下又は大気圧下のいずれでもよ
く、１（大気圧）〜300kg/cm² が好ましく、１（大気
圧）〜200kg/cm² が特に好ましい。また、本発明におい
て、ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物を反応させる
際の反応温度は特に限定されないが、10〜 200℃が好ま
しく、30〜 180℃が特に好ましい。反応時間は、反応温
度、水素圧、触媒量などによって適宜選べばよいが、通
常１〜24時間、好ましくは１〜12時間である。

【００３６】また、本発明の反応においては、場合によ
っては反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒を用いて反応
を行ってもよい。反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒と
しては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン等の炭化水素系
溶媒が挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもの
ではない。反応に全く悪影響を及ぼさない溶媒を用いる
場合の溶媒の使用量は、特に限定されないが、反応液に
対して0.5 〜２倍容量が好ましい。

【００３７】また、本発明においては、反応系中に副生
する水を除去する目的で、無水硫酸マグネシウム、無水
硫酸ナトリウム等の脱水剤を添加して反応を行っても良
い。

【００３８】

【実施例】以下、製造例及び実施例を挙げて本発明をよ
り詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定さ
れるものではない。尚、例中の％は特記しない限り重量
基準である。

【００３９】製造例１ オートクレーブにドデシルアルコール 185ｇ、水酸化カ
リウム0.81ｇを入れ、窒素置換後、 100〜 110℃でエチ
レンオキサイド 400ｇを４時間かけて送入し、揮発分
0.5％以下となるまで反応を続け、反応終了後、酢酸0.8
4ｇを加えて中和し、粗ポリオキシエチレンドデシルエ
ーテルを得た。得られた粗ポリオキシエチレンドデシル
エーテルの平均エチレンオキサイド付加モル数は 9.1モ
ル、Ｋイオン量は970ppmであった。

【００４０】製造例２ オートクレーブにドデシルアルコール 185ｇ、水酸化カ
リウム0.81ｇを入れ、窒素置換後、 100〜 110℃でエチ
レンオキサイド 600ｇを６時間かけて送入し、揮発分
0.5％以下となるまで反応を続け、反応終了後、酢酸を
0.84ｇ加えて中和し、粗ポリオキシエチレンドデシルエ
ーテルを得た。得られた粗ポリオキシエチレンドデシル
エーテルの平均エチレンオキサイド付加モル数は13.7モ
ル、Ｋイオン量は720ppmであった。

【００４１】製造例３ オートクレーブにドデシルアルコール 185ｇ、水酸化カ
リウム0.81ｇを入れ、窒素置換後、 100〜 110℃でエチ
レンオキサイド 770ｇを 6.5時間かけて送入し、揮発分
0.5％以下となるまで反応を続け、反応終了後、酢酸0.
84ｇを加えて中和し、粗ポリオキシエチレンドデシルエ
ーテルを得た。得られた粗ポリオキシエチレンドデシル
エーテルの平均エチレンオキサイド付加モル数は17.5モ
ル、Ｋイオン量は620ppmであった。

【００４２】製造例４ オートクレーブにブチルアルコール74ｇ、水酸化カリウ
ム0.32ｇを入れ、窒素置換後、 100〜 110℃でエチレン
オキサイド 132ｇを２時間かけて送入し、揮発分 0.5％
以下となるまで反応を続け、粗ポリオキシエチレンブチ
ルエーテルを得た。得られた粗ポリオキシエチレンブチ
ルエーテルの平均エチレンオキサイド付加モル数は３モ
ル、Ｋイオン量は1080ppm であった。

【００４３】製造例５ オートクレーブにステアリルアルコール 270ｇ、水酸化
カリウム1.18ｇを入れ、窒素置換後、 100〜 110℃でエ
チレンオキサイド2917ｇを10時間かけて送入し、揮発分
0.5％以下となるまで反応を続け、粗ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテルを得た。得られた粗ポリオキシエ
チレンステアリルエーテルの平均エチレンオキサイド付
加モル数は66.3モル、Ｋイオン量は250ppmであった。

【００４４】実施例１ ４つ口フラスコに製造例１で得られた粗ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル100ｇ、珪酸マグネシウム（キョ
ーワード 600S 、協和化学工業（株）製）を2.6ｇ入
れ、減圧下（30〜40torr) 、 140℃で１時間攪拌した。
その後、珪酸マグネシウムを濾別し、精製ポリオキシエ
チレンドデシルエーテルを90ｇ得た。得られた精製ポリ
オキシエチレンドデシルエーテル中のＫイオン量は33 p
pmであった。

【００４５】500 ml容オートクレーブに、上記で得られ
た精製ポリオキシエチレンドデシルエーテル80ｇ、アセ
トン80ｇ、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ 1.6ｇを仕込み、水
素雰囲気下、反応温度150 ℃、反応圧力70kg／cm²G、回
転数800 rpm で７時間反応を行った。反応終了後、濾過
により触媒を除去し、未反応アセトンを減圧留去するこ
とにより、エーテル化度77％のポリエチレングリコール
(EO=9.1)ドデシルイソプロピルエーテルを85ｇ得た。

【００４６】実施例２ 実施例１において、500 ml容オートクレーブに、精製ポ
リオキシエチレンドデシルエーテル80ｇ、アセトン80
ｇ、触媒として５％Ｐｄ−Ｃ 1.6ｇとともに無水硫酸マ
グネシウム2.5 ｇを仕込む以外は実施例１と同様にして
エーテル化度97％のポリエチレングリコール(EO=9.1)ド
デシルイソプロピルエーテルを85ｇ得た。

【００４７】実施例３ ４つ口フラスコに製造例２で得られた粗ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル100ｇ、珪酸マグネシウム（キョ
ーワード 600S ）を 2.9ｇ入れ、減圧下 (30〜40torr)
、 140℃で１時間攪拌した。その後、珪酸マグネシウ
ムを濾別し、精製ポリオキシエチレンドデシルエーテル
を91ｇ得た。得られた精製ポリオキシエチレンドデシル
エーテル中のＫイオン量は36 ppmであった。次に、得ら
れた精製ポリオキシエチレンドデシルエーテルを用いる
以外は実施例２と同様にしてポリエチレングリコール(E
O=13.7) ドデシルイソプロピルエーテルを得た。エーテ
ル化度は96％であった。

【００４８】実施例４ ４つ口フラスコに製造例３で得られた粗ポリオキシエチ
レンドデシルエーテル100ｇ、珪酸マグネシウム（キョ
ーワード 600S ）を 3.7ｇ入れ、減圧下（30〜40torr)
、 140℃で１時間攪拌した。その後、珪酸マグネシウ
ムを濾別し、精製ポリオキシエチレンドデシルエーテル
を88ｇ得た。得られた精製ポリオキシエチレンドデシル
エーテル中のＫイオン量は41 ppmであった。次に、得ら
れた精製ポリオキシエチレンドデシルエーテルを用いる
以外は実施例２と同様にしてポリエチレングリコール(E
O=17.5) ドデシルイソプロピルエーテルを得た。エーテ
ル化度は97％であった。

【００４９】実施例５ ナシ型フラスコに製造例４で得られた粗ポリオキシエチ
レンブチルエーテル100 ｇを入れ、減圧下（２torr) 、
84℃で蒸留し、精製ポリオキシエチレンブチルエーテル
を95ｇ得た。得られた精製ポリオキシエチレンブチルエ
ーテル中のＫイオン量は１ppm 以下であった。次に、得
られた精製ポリオキシエチレンブチルエーテルを用いる
以外は実施例２と同様にしてポリエチレングリコール(E
O=３) ブチルイソプロピルエーテルを得た。エーテル化
度は99％であった。

【００５０】実施例６ ４つ口フラスコに製造例５で得られた粗ポリオキシエチ
レンステアリルエーテル100 ｇ、珪酸マグネシウム（キ
ョーワード 600S ）を 6.5ｇ入れ、減圧下（30〜40tor
r) 、 140℃で１時間攪拌した。その後、珪酸マグネシ
ウムを濾別し、精製ポリオキシエチレンステアリルエー
テルを86ｇ得た。得られた精製ポリオキシエチレンステ
アリルエーテル中のＫイオン量は44ppm であった。次
に、得られた精製ポリオキシエチレンステアリルエーテ
ルを用いる以外は実施例２と同様にしてポリエチレング
リコール(EO=66.3) ステアリルイソプロピルエーテルを
得た。エーテル化度は91％であった。

【００５１】実施例７ 製造例１において、粗ポリオキシエチレンドデシルエー
テル 100ｇに酢酸の代わりに氷冷下、５％塩酸水溶液を
1.8ｇ加えpH７とし、 0.5時間攪拌した。その後、減圧
下（30〜40torr) 、80℃で１時間攪拌し、精製ポリオキ
シエチレンドデシルエーテルを得た。次に、得られた精
製ポリオキシエチレンドデシルエーテルを用いる以外は
実施例２と同様にしてポリエチレングリコール(EO=9.1)
ドデシルイソプロピルエーテルを得た。エーテル化度は
86％であった。

【００５２】実施例８ 製造例１において、粗ポリオキシエチレンドデシルエー
テル 100ｇに酢酸の代わりに氷冷下、85％リン酸水溶液
を0.28ｇ加えpH７とし、 0.5時間攪拌した。その後、減
圧下（30〜40torr) 、80℃で１時間攪拌し、精製ポリオ
キシエチレンドデシルエーテルを得た。次に、得られた
精製ポリオキシエチレンドデシルエーテルを用いる以外
は実施例２と同様にしてポリエチレングリコール(EO=9.
1)ドデシルイソプロピルエーテルを得た。エーテル化度
は81％であった。

【００５３】比較例１ 500 ml容オートクレーブに、製造例１で得られた粗ポリ
オキシエチレンドデシルエーテル80ｇ、アセトン80ｇ、
触媒として５％Ｐｄ−Ｃ 1.6ｇ、無水硫酸マグネシウム
2.5 ｇを仕込み、水素雰囲気下、反応温度150 ℃、反応
圧力70kg／cm²G、回転数800 rpm で７時間反応を行った
が、反応は全く進行しなかった。

【００５４】比較例２ 製造例２で得られた粗ポリオキシエチレンドデシルエー
テルを用いる以外は比較例１と同様に反応を行ったが、
反応は全く進行しなかった。

【００５５】比較例３ 製造例３で得られた粗ポリオキシエチレンドデシルエー
テルを用いる以外は比較例１と同様に反応を行ったが、
反応は全く進行しなかった。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ヒドロキシ化合物とカルボニル化合物
   を、触媒を用いて水素雰囲気中で反応させてエーテル化
   合物を製造するに際し、ヒドロキシ化合物として、アル
   カリ金属を含有する触媒存在下での水酸基を１個以上有
   するアルコールとアルキレンオキサイドとの反応生成物
   を精製処理することにより得られるヒドロキシ化合物を
   用いることを特徴とするエーテル化合物の製造法。
2. 【請求項２】 精製処理が、ヒドロキシ化合物中のアル
   カリ金属イオン含量を200 ppm 以下とする処理である請
   求項１記載の製造法。
3. 【請求項３】 精製処理が、吸着剤処理又は蒸留処理で
   ある請求項１又は２記載の製造法。
4. 【請求項４】 精製処理が、無機強酸による中和処理で
   ある請求項１記載の製造法。
5. 【請求項５】 ヒドロキシ化合物が、一般式（１） R₁−(OA)_n-OH （１） 〔式中、R₁は水素原子、炭素数１〜40の直鎖又は分岐の
   アルキル基あるいはアルケニル基を示す。 Aは炭素数２
   〜12のアルキレン基を示し、ｎ個のA は同一でも異なっ
   ていてもよい。ｎは１〜500 の数を示す。〕で表される
   化合物である請求項１〜４のいずれか一項に記載の製造
   法。
6. 【請求項６】 カルボニル化合物が、一般式（２） 【化１】 〔式中、R₂, R₃は水素原子、炭素数１〜35の直鎖又は分
   岐のアルキル基あるいはアルケニル基を示し、R₂, R₃は
   同一であっても異なっていてもよい。また、R₂,R₃が結
   合した環状構造であってもよい。〕で表される化合物で
   ある請求項１〜５のいずれか一項に記載の製造法。
7. 【請求項７】 触媒が、カーボン、アルミナ、シリカア
   ルミナもしくはシリカに担持されたパラジウム触媒、水
   酸化パラジウム又は酸化パラジウムである請求項１〜６
   のいずれか一項に記載の製造法。