JPH10135105A

JPH10135105A - 周辺露光装置

Info

Publication number: JPH10135105A
Application number: JP8285232A
Authority: JP
Inventors: Kazuya Akiyama; 一也秋山
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1996-10-28
Filing date: 1996-10-28
Publication date: 1998-05-22
Anticipated expiration: 2016-10-28
Also published as: JP3383169B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基板上の素子領域の外形に沿って階段状に高
精度で周辺露光を行うことができる周辺露光装置を提供
する。【解決手段】基板回転部１０に保持した基板１の上方
にＣＣＤカメラ５１を配置し、基板１上の素子領域の少
なくとも１つの素子の形状を画像入力し、１つの素子の
形状データを算出する。また、ＣＣＤラインセンサ４０
により基板１の端縁位置を検出し、端縁位置データと素
子の形状データとから素子領域の外形データを算出し、
さらに素子領域の外形に沿った階段状の周辺露光領域の
位置データを算出する。光照射部２０は、周辺露光領域
の位置データに基づいて基板１の周辺領域を露光する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
基板の表面に塗布された感光膜の周縁部（周辺部）を露
光する周辺露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程では、半導体
ウエハ等の基板上にレジスト液を回転塗布し、所定のパ
ターンに現像してレジストマスクを形成した後、このレ
ジストマスクを用いて薄膜パターンを形成することが行
われている。

【０００３】レジスト液が回転塗布された基板は、その
周縁部を把持されて種々の基板装置間を搬送される。レ
ジスト液は回転塗布によって基板の周縁部にまで塗り広
げられている。したがって、基板の周縁部を把持する
と、周縁部のレジストが剥離して飛散し、基板中央部の
レジスト膜表面を汚染したり、他の基板の表面を汚染し
たりして基板処理の歩留りを低下させてしまう場合があ
る。

【０００４】このために、ポジ型のレジストの場合に
は、周辺露光装置を用いて予め基板の周縁部のレジスト
を露光しておき、レジストパターンの現像時に同時に基
板周縁部の不要なレジストを除去する処理が行われてい
る。

【０００５】従来の周辺露光装置では、基板の外縁から
一定幅の領域を環状に露光する方法が行われている。こ
のような露光方法は、例えば、特開平２−２８８２２１
号公報あるいは特公平６−１２７５６号公報に開示され
ている。前者の周辺露光装置では、基板の外周縁に接触
させたカムを用いて機械的に基板のオリエンテーション
フラット（以下、オリフラと称す）またはノッチの位置
を検出し、これを基準として基板の周縁部に一定幅の周
辺露光領域を環状に形成している。

【０００６】また、後者の周辺露光装置では、ラインセ
ンサを用いて光学的に基板のオリフラやノッチの位置を
検出し、これを基準として一定幅の周辺露光領域を環状
に形成している。

【０００７】ところが、近年では、レジストから発生す
るパーティクルによる汚染を確実に防止するために、基
板周縁部の不要なレジストをより完全に除去する要望が
高まってきた。

【０００８】基板上には矩形の素子が複数形成されるた
め、整列した複数の素子（素子領域）の外形は階段状に
形成されている。一方、基板はほぼ円形であるため、基
板の外周縁から一定幅の周辺露光領域を形成すると、階
段状の素子領域の外形部分との間に不要なレジストが残
存する領域が生じる。

【０００９】そこで、最近では、階段状の素子領域の外
形に沿って周辺露光を行うことが可能な周辺露光装置が
提案されている。このような周辺露光装置は、例えば特
開平３−２４２９２２号公報に開示されている。図９
は、階段状周辺露光が可能な周辺露光装置の露光動作の
説明図である。図９において、基板１上には複数の素子
２が配列されており、素子間には各素子２を切断するた
めの切断線（スクライブライン）３が形成されている。

【００１０】この周辺露光装置では、基板１の周縁部に
形成すべき階段状の周辺露光領域５の寸法データが予め
記憶されている。そして、周辺露光処理では、まずフォ
トセンサ４５を用いて基板１のオリフラ部１ａを検出
し、オリフラ部１ａの位置に基づいて周辺露光の基準位
置を設定し、この基準位置から予め記憶した周辺露光領
域５の寸法データに従って基板１上のレジストの周辺露
光が行われる。図９中の点線４ａは素子領域の外形線７
から一定距離隔てた位置に形成されるべき正規の周辺露
光領域５との境界線を示している。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところが、各素子２は
基板１に形成されたアライメントマーク（図示省略）を
基準に形成されており、基板１の外周縁あるいはオリフ
ラ部１ａを基準に形成されているものではない。このた
め、基板１の外周縁位置、例えばオリフラ部１ａの位置
を基準に上記の周辺露光を行うと、基板１の外周縁に対
する素子２の相対的な位置関係が基板ごとにばらつきを
生じ、図９中で実線４ｂで示すように、周辺露光領域５
の端縁位置が正規の位置（点線４ａ）からずれる場合が
生じる。この場合には、素子２上の必要なレジストの部
分までが露光されたり、あるいは本来周辺露光により除
去すべき部分が残存したりして周辺露光の不良が発生す
るという問題があった。また、周辺露光領域５の寸法デ
ータを予め記憶させておく作業は煩雑であり、操作者の
負担が大きいものであった。

【００１２】本発明の目的は、基板上の素子領域の外形
に沿って階段状に高精度で周辺露光を行うことができる
周辺露光装置を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る周辺露光装置は、基板上に塗布された感光膜
のうち、基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を素
子領域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置で
あって、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、基
板の端縁位置を検出する端縁位置検出手段と、素子領域
に含まれる少なくとも１つの素子の形状を画像データと
して入力する画像入力手段と、画像入力手段から入力さ
れた画像データから１つの素子の寸法と位置を検出し、
素子の寸法および端縁位置検出手段によって検出された
基板の端縁位置に基づいて素子領域の外形位置を算出
し、素子領域の外形位置に基づいて素子領域の外形に沿
った周辺露光領域の位置を算出する露光領域算出手段
と、感光膜に光を照射する光照射手段と、露光領域算出
手段によって算出された周辺露光領域の位置に基づいて
感光膜の周辺露光領域が露光されるように光照射手段を
制御する制御手段とを備えたものである。

【００１４】第２の発明に係る周辺露光装置は、第１の
発明に係る周辺露光装置の構成において、露光領域算出
手段が、素子の周囲を取り囲むスクライブラインの位置
に基づいて素子の寸法を検出するスクライブライン算出
部を含むものである。

【００１５】第３の発明に係る周辺露光装置は、第１ま
たは第２の発明に係る周辺露光装置の構成において、基
板保持手段が基板を回転させる基板回転部を有してお
り、制御手段が、基板が所定角度ずつ回転された位置毎
に周辺露光領域が分割して露光されるように光照射手段
を制御するものである。

【００１６】第４の発明に係る周辺露光装置は、第１ま
たは第２の発明に係る周辺露光装置の構成において、光
照射手段が光を照射する光照射部と光照射部を基板の全
面に亘って移動させる移動部とを備えたものである。

【００１７】第１〜第４の発明に係る周辺露光装置にお
いては、画像入力手段から入力した１つの素子の形状と
端縁位置検出手段が検出した基板の端縁位置とによって
基板の素子領域が算出され、さらに周辺露光領域の位置
が算出される。このため、素子領域の外形に沿った階段
状の複雑な形状を有する周辺露光領域の位置座標を操作
者が入力することなく周辺露光が可能となり、周辺露光
装置の操作性が向上する。

【００１８】また、画像入力範囲が基板外径よりも小さ
い画像入力手段であっても周辺露光領域の算出が可能と
なる。しかも、基板保持手段に保持された基板の画像を
直接入力することにより、周辺露光領域の位置の算出を
高精度に行うことができる。

【００１９】特に、第２の発明に係る周辺露光装置にお
いては、素子の周囲を取り囲むスクライブラインの画像
データから素子の寸法を算出し、これに基づいて素子領
域の外形および周辺露光領域の位置を算出することによ
り、周辺露光領域の位置の検出精度を向上することがで
きる。

【００２０】特に、第３の発明に係る周辺露光装置にお
いては、基板を所定角度ずつ回転させながら基板を分割
した所定領域毎に周辺露光処理を行うことにより、光照
射手段の移動範囲に比べて外径の大きい基板に対しても
周辺露光処理を行うことができる。

【００２１】特に、第４の発明に係る周辺露光装置にお
いては、光照射手段が基板の全面にわたって移動可能に
構成されているため、基板を静止した状態で周辺露光処
理を行うことができ、周辺露光装置の構成および制御動
作を簡素化することができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施例による周
辺露光装置の構成図である。周辺露光装置は、基板１を
水平に保持して回転する基板回転部１０、基板１の周縁
部に光線を照射して露光する光照射部２０、光照射部２
０の照射位置を移動させるための移動部３０、基板１の
端縁位置を検出するためのＣＣＤラインセンサ４０およ
び基板１の素子領域の画像を入力する画像入力部５０を
備えている。

【００２３】基板回転部１０は、基板１の裏面を吸引し
て保持するスピンチャック１１と、スピンチャック１１
を鉛直方向に延びる軸の回りに回転させるモータ１２と
から構成されている。基板１はスピンチャック１１に水
平姿勢で吸引保持され、モータ１２の回転軸の軸芯を中
心に回動される。

【００２４】光照射部２０は、露光光線となる紫外線を
発生するための露光光源２８と、露光光源２８からの紫
外線を伝達する光ファイバ２３と、光ファイバ２３の先
端に取り付けられかつ基板１の表面に紫外線を照射する
照射端２１とを備えている。露光光源２８は、水銀キセ
ノンランプ２５、楕円鏡２６、紫外線透過フィルタ２４
およびシャッタ２７から構成されている。紫外線透過フ
ィルタ２４を透過した紫外線は光ファイバ２３を通り照
射端２１に導かれる。照射端２１は、紫外線を所定のス
ポット形状（例えば矩形）に絞って基板１に照射するた
めのスリットや光学レンズ系（図示省略）等を備えてい
る。

【００２５】移動部３０は、照射端２１を支持する支持
アーム２２をＸ方向（Ｘ軸）およびＹ方向（Ｙ軸）にそ
れぞれ変位させるための半径方向変位部Ｍｘおよび接線
方向変位部Ｍｙとから構成される。半径方向変位部Ｍｘ
は、Ｘ方向に往復移動可能なＸテーブル３０と、Ｘテー
ブル３０を移動させるためのステッピングモータ３２お
よびボールねじから構成されている。さらに、接線方向
変位部Ｍｙは、Ｙ方向に移動可能なＹテーブル３３とＹ
テーブル３３を移動させるためのステッピングモータ３
４およびボールねじから構成されている。

【００２６】ＣＣＤラインセンサ４０は、基板１の上方
に配置される光源４１と、基板１の下方において光源４
１と対向して配置される受光部４２とを備えている。光
源４１および受光部４２の一部は基板１の外周縁部より
も中心側に入り込んだ位置に設置されている。そして、
光源４１から受光部４２に光を照射した状態で基板１を
回転させ、光源４１からの光線を基板１が遮る位置を受
光部４２で検出することによって基板１の端縁位置を検
出する。

【００２７】画像入力部５０は、基板１表面に形成され
る素子領域の形状を画像として入力するためのＣＣＤカ
メラ５１、カメラレンズ５２および基板１の表面を照明
するカメラ用照明器５３から構成されている。カメラレ
ンズ５２が取り付けられたＣＣＤカメラ５１は、少なく
とも１つの素子の画像を取り込むことができる入力範囲
を有し、かつ各素子のサイズと位置を高精度に算出でき
る程度の解像度を有している。ＣＣＤカメラ５１は基板
１の上方に配置されており、特に基板１の中心上方に配
置された場合には、光照射部２０の照射端２１との干渉
を防止する上で有効である。また、カメラ用照明器１２
は基板１表面の照度が不足する場合に使用する。

【００２８】図２は、周辺露光装置の機能ブロック図で
ある。ここで、基板端縁位置算出手段Ａ、露光量設定手
段Ｃ、制御部Ｄ、露光位置算出手段Ｆは、パーソナルコ
ンピュータから構成され、露光幅設定手段Ｂはディスプ
レイおよびキーボード装置から構成され、さらにスクラ
イブライン位置算出部Ｅは画像処理基板から構成され
る。なお、上記構成において、スクライブライン位置算
出部Ｅおよび露光位置算出手段Ｆが本発明の露光領域算
出手段を構成し、光照射部２０および移動部３０が本発
明の光照射手段を構成する。また、基板回転部１０が本
発明の基板保持手段を構成し、画像入力部５０が本発明
の画像入力手段を構成し、制御部Ｄが制御手段を構成す
る。

【００２９】上記の周辺露光装置の各部の動作は制御部
Ｄにより制御される。図３は、本発明の実施例による周
辺露光装置の動作を示すフローチャートである。以下、
図３を参照して周辺露光装置の周辺露光動作について説
明する。

【００３０】なお、周辺露光動作の説明に先立ち、基板
１の基板中心Ｏｗ、スピンチャック１１の回転中心Ｏｒ
およびＣＣＤカメラ５１の画像入力領域Ｖの視野中心Ｏ
ｖの位置関係および周辺露光装置における座標系につい
て図４を参照して説明する。

【００３１】スピンチャック１１の回転中心Ｏｒは、Ｘ
軸の軸線上に位置し、さらにＣＣＤラインセンサ４０の
検出位置もＸ軸の軸線上に設定されている。また、移動
部３０の移動原点が図中Ｏ点に設定されている。

【００３２】基板１は、基板中心Ｏｗがスピンチャック
１１の回転中心Ｏｒに一致するようにスピンチャック１
１に載置されることが好ましいが、実際には、ずれて載
置される場合がある。また、ＣＣＤカメラ５１もその視
野中心Ｏｖがスピンチャック１１の回転中心Ｏｒに一致
するようにＣＣＤカメラ５１を設置することが難しく、
ずれて設置される場合がある。この場合、基板中心Ｏ
ｗ、視野中心Ｏｖ、回転中心Ｏｒの間には、例えば図中
に示す変位が生じる。そこで、以下に示す周辺露光装置
の動作の各ステップでは、これらの位置の変位量を考慮
した作業が行われる。

【００３３】まず、周辺露光装置でのＣＣＤカメラ５１
の組み立て時には、ＣＣＤカメラ５１の視野中心Ｏｖと
スピンチャック１１の回転中心Ｏｒとのオフセット量を
検出する。例えば、中心部分に「＋」印を描いたダミー
の基板をスピンチャック１１上に吸引保持して１／ｎ周
毎（ｎは２以上の整数）に回転させ、１／ｎ周毎の
「＋」印を含む画像をＣＣＤカメラ５１から取り込む。
そして、１／ｎ周毎の画像の「＋」印の位置を算出し、
それらの平均が回転中心Ｏｒとなる。そこで、求められ
た回転中心Ｏｒと視野中心Ｏｖとの変位量（△Ｘ₂，△
Ｙ₂）をオフセット量として検出する。

【００３４】図３において、周辺露光処理が開始される
と、まず周辺露光処理の対象となる基板１が搬送装置に
よりスピンチャック１１上に載置され、吸引保持される
（ステップＳ１）。

【００３５】次に、モータ１２を起動し、基板１を回転
させながらＣＣＤラインセンサ４０により基板１の端縁
位置を検出する。ＣＣＤラインセンサ４０では、基板１
の下方にある受光部４２の画素からＯＦＦ信号が出力さ
れ、基板１の外方にある画素からＯＮ信号が出力され
る。そして、ＯＮ信号を出力した画素の位置に基づい
て、スピンチャック１１の回転中心Ｏｒから基板１の外
周端縁までの半径が基板１の外周縁に沿って数度の回転
角度毎に複数箇所で求められる。また、この時半径が求
められた各外周縁位置の回転角度も同時に検出される。

【００３６】基板１の基板中心Ｏｗがスピンチャック１
１の回転中心Ｏｒと一致している場合には、ＯＮ信号を
出力する画素の個数は変動しないが、偏心している場合
にはＯＮ信号を出力する画素の個数が変化する。そこ
で、この画素の変化量に基づいて基板１の基板中心Ｏｗ
とスピンチャック１１の回転中心Ｏｒとのオフセット量
を算出する。図４に示す例では、両者のオフセット量は
（△Ｘ₁，△Ｙ₁）である（ステップＳ２）。

【００３７】さらに、ＣＣＤラインセンサ４０により検
出したスピンチャック１１の回転中心Ｏｒから外周端縁
までの半径が最も短くなる点をオリフラ部１ａの中心位
置と判定し、このオリフラ部１ａの中心位置がＣＣＤラ
インセンサ４０の検出位置に一致する位置、あるいはそ
の位置から９０度、１８０度、２７０度回転した位置の
いずれかに基板１を停止させる。図４に示すように、Ｃ
ＣＤラインセンサ４０は、スピンチャック１１の回転中
心Ｏｒを通るＸ軸上に検出位置が設定されている。した
がって、上記の位置で基板１を停止させると、基板１の
オリフラ１ａの直線部分がＸ軸方向あるいはＹ軸方向に
ほぼ平行になる。以下の説明では、図４に示すように、
オリフラ部１ａをＣＣＤラインセンサ４０と反対側の位
置でＹ軸に平行に停止させたものとする（ステップＳ
３）。

【００３８】さらに、画像入力部５０から基板１表面の
素子領域の画像を入力する（ステップＳ４）。図５は、
素子領域の入力画像の模式図である。図５（ａ）におい
て、ＣＣＤカメラ５１の入力範囲Ｖは、少なくとも１つ
の素子２を含む大きさを有している。素子２はそれぞれ
平行な２組のスクライブラインＳＬＸ０，ＳＬＸ１，Ｓ
ＬＹ０，ＳＬＹ１に囲まれている。スクライブライン位
置算出部Ｅは、入力された画像データから各スクライブ
ラインＳＬＸ０〜１，ＳＬＹ０〜１を識別し、スクライ
ブラインの交点の位置座標を求める。そして、例えば交
点Ａ１，Ａ２の座標値に基づいてスクライブラインＳＬ
Ｙ０がＹ軸と平行であるか否かを判定する。図５（ａ）
のように、θだけ傾いている場合には、基板１を回転
し、図５（ｂ）に示すように、スクライブラインＳＬＹ
０，ＳＬＹ１がＹ軸に平行となるように基板１の回転停
止位置を微調整する（ステップＳ５）。

【００３９】図６は、スクライブライン位置算出部の動
作を示す説明図である。図５（ｂ）および図６におい
て、スクライブライン位置算出部Ｅは、視野中心Ｏｖと
基板中心Ｏｗのオフセット量あるいは入力画像から視野
中心ＯｖからスクライブラインＳＬＸ０，ＳＬＹ０まで
の距離（△Ｘ₁，△Ｙ₁）および１対のスクライブライ
ンＳＬＸ０とＳＬＸ１との間隔Ｙｃおよび１対のスクラ
イブラインＳＬＹ０とＳＬＹ１との間隔Ｘｃを求める。
素子領域では同一形状の素子２が繰り返し配列されてい
る。そこで、スクライブラインの間隔ＹｃをＹ軸方向に
整数倍することによりＸ軸に平行な各スクライブライン
ＳＬＸ−３〜ＳＬＸ３のＹ軸方向の座標値が視野中心Ｏ
ｖを基準として求まり、スクライブラインの間隔Ｘｃを
Ｘ軸方向に整数倍することによりＹ軸に平行な各スクラ
イブラインＳＬＹ−３〜ＳＬＹ３のＸ軸方向の座標値が
視野中心Ｏｖを基準として求まる。また、スピンチャッ
ク１１の回転中心Ｏｖと視野中心Ｏｖとのオフセット量
（△Ｘ₂，△Ｙ₂）も予め算出されている。したがっ
て、各スクライブラインの座標値にオフセット量（△Ｘ
₂，△Ｙ₂）を加えることによりスピンチャック１１の
回転中心Ｏｒを基準とする各スクライブラインＳＬＸ−
３〜３，ＳＬＹ−３〜３の座標値が求められる。

【００４０】また、基板１の外形寸法も予めＣＣＤライ
ンセンサ４０により求められている。そこで、基板１内
に含まれる最も外側のスクライブラインＳＬＸ３，ＳＬ
Ｘ−３，ＳＬＹ３，ＳＬＹ−３を想定し、矩形の素子領
域Ｒを仮定する（ステップＳ６）。

【００４１】仮定された素子領域Ｒは、基板１から一部
がはみ出た素子あるいは基板１の外周端縁に極めて近接
する素子も含まれている。そこで、基板１上での有効な
素子領域を決定する必要がある。図７は、基板上の有効
な素子領域の決定方法を説明するための模式図である。
有効な素子領域Ｒｅを決定する方法としては、図６に示
す基板１の模式図をモニタに表示し、図７中に斜線で示
した不適切な素子２ａを操作者が直接指示する方法があ
る。または、各素子を取り囲むスクライブラインの座標
値に基づいて、素子の一部が基板１の外方に存在する素
子、さらには基板１の外周端縁に一定距離以内に近接す
る素子を不適切な素子として排除する方法を用いること
もできる。

【００４２】図７に示すように、有効な素子領域Ｒｅの
外形を規定する基準点（図中黒丸で表示）が求まると、
露光位置算出手段Ｆは、素子領域Ｒｅの外形から一定幅
離れた領域を露光するためのオフセット幅を基準点の座
標値に加算して図８に示すような露光基準点Ｐ₀〜Ｐ₅
の位置データを算出する。素子領域Ｒｅの外形と周辺露
光領域とのオフセット量は例えば２００μｍ以下に設定
する（ステップＳ７）。

【００４３】図８は、周辺露光処理の動作を示す模式図
である。周辺露光処理は、基板１を４分割したそれぞれ
の領域毎に、周辺露光領域の露光基準点Ｐ₀〜Ｐ₅に従
って行われる。光照射部２０の照射端２１（図１参照）
から照射されるスポット光ＳＢは、矩形に絞られてい
る。そして、移動部３０は、まずスポット光ＳＢの基準
点Ｓ₀が露光基準点Ｐ₀に一致する位置に照射端２１を
移動し、スポット光ＳＢの照射を開始する。さらに、照
射端には、露光量設定手段Ｃにより設定された露光量デ
ータに基づいて所定の速度で図中の矢印方向に従って順
次露光基準点Ｐ₁〜Ｐ₅間を移動し、基板１の約４分の
１の周辺領域の露光処理を行う（ステップＳ８）。

【００４４】その後、基板のすべての周辺領域の露光処
理が終わったか否かを判定し（ステップＳ９）、終了し
ていなければ、基板１を９０度回転し、ステップＳ５か
らステップＳ８の処理を繰り返し行う。

【００４５】すべての周辺領域の露光処理が終了すると
周辺露光処理を終了する。これにより、素子領域Ｒｅの
外形に沿って所定距離だけ離れた階段状の周辺露光領域
を形成することができる。

【００４６】このように、本実施例による周辺露光装置
は、基板の端縁位置を検出するＣＣＤラインセンサ４０
と、基板上の１つの素子の形状を画像情報として入力す
るＣＣＤカメラ５１とを備え、１つの素子の形状を検出
することによって素子領域Ｒｅの外形寸法を算出し、こ
の外形寸法に基づいて周辺露光領域の座標値を算出して
周辺露光処理を行うことができる。したがって、従来の
ように素子領域Ｒｅの位置情報を逐一入力する必要が無
くなり、操作性のよい処理効率の高い周辺露光装置を得
ることができる。

【００４７】なお、基板処理の初期段階において、基板
１表面の画像が不鮮明な場合には素子領域の画像データ
を取り込むことが困難となる。この場合には、ＣＣＤラ
インセンサ４０により得られた基板の端縁位置に基づい
て露光幅設定手段Ｂが露光幅を設定し、その露光幅で基
板の外周縁を環状に露光する周辺露光処理を併せて用い
てもよい。

【００４８】また、上記の実施例では、基板１の中心部
の素子２の画像を取り込むようにＣＣＤカメラ５１を配
置したが、画像を取り込む素子２としては中心部のもの
に限定されるものではなく、素子領域Ｒｅ内の任意の素
子２の画像を取り込むようにＣＣＤカメラ５１を配置し
てもよい。この場合、素子２の位置は、スピンチャック
１１の回転中心ＯｒとＣＣＤカメラ５１の視野中心Ｏｖ
とのオフセット量から算出することができる。

【００４９】さらに、上記実施例では、ＣＣＤラインセ
ンサ４０を用いて基板１の端縁位置を検出するように構
成したが、基板１の端縁位置は他の手段を用いて検出す
るように構成してもよい。

【００５０】さらに、上記実施例では、基板１の４分の
１領域毎に周辺露光を行うように構成したが、移動部３
０のＸ，Ｙ方向への変位量が大きく、照射端２１が基板
１の全表面にわたって移動可能に構成される場合には、
基板１を回転することなく基板１の周辺露光を行うこと
ができる。この場合、露光位置算出手段Ｆは、基板１の
すべての周辺露光領域における露光基準点を同時に算出
するように構成される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による周辺露光装置の構成図で
ある。

【図２】本発明の実施例による周辺露光装置の機能ブロ
ック図である。

【図３】図１に示す周辺露光装置の動作を示すフローチ
ャートである。

【図４】周辺露光装置の基板中心、回転中心および視野
中心のオフセットの関係を示す説明図である。

【図５】図１の周辺露光装置のＣＣＤカメラの入力画像
の模式図である。

【図６】スクライブライン位置算出部における動作を示
す説明図である。

【図７】基板上の有効な素子領域を決定する動作を示す
説明図である。

【図８】図１の周辺露光装置における露光動作を示す説
明図である。

【図９】従来の周辺露光装置における露光動作を示す説
明図である。

【符号の説明】

１基板２素子１０基板回転部１１スピンチャック２０光照射部２１照射端３０移動部４０ＣＣＤラインセンサ５０画像入力部５１ＣＣＤカメラＳＬＸ−３〜ＳＬＸ３，ＳＬＹ−３〜ＳＬＹ３スクラ
イブラインＯｒスピンチャックの回転中心Ｏｖ視野中心Ｏｗ基板中心

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に塗布された感光膜のうち、前記
基板の素子領域の外側にある周辺露光領域を前記素子領
域の外形に沿って階段状に露光する周辺露光装置であっ
て、基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、前記基板の端縁位置を検出する端縁位置検出手段と、前記素子領域に含まれる少なくとも１つの素子の形状を
画像データとして入力する画像入力手段と、前記画像入力手段から入力された前記画像データから前
記１つの素子の寸法と位置を検出し、前記素子の寸法お
よび前記端縁位置検出手段によって検出された前記基板
の端縁位置に基づいて前記素子領域の外形位置を算出
し、前記素子領域の外形位置に基づいて前記素子領域の
外形に沿った周辺露光領域の位置を算出する露光領域算
出手段と、前記感光膜に光を照射する光照射手段と、前記露光領域算出手段によって算出された前記周辺露光
領域の位置に基づいて前記感光膜の周辺露光領域が露光
されるように前記光照射手段を制御する制御手段とを備
えたことを特徴する周辺露光装置。
【請求項２】前記露光領域算出手段は、前記素子の周
囲を取り囲むスクライブラインの位置に基づいて前記素
子の寸法を検出するスクライブライン算出部を含むこと
を特徴とする請求項１記載の周辺露光装置。
【請求項３】前記基板保持手段は、前記基板を回転さ
せる基板回転部を有しており、前記制御手段は、前記基板が所定角度ずつ回転された位
置毎に周辺露光領域が分割して露光されるように光照射
手段を制御することを特徴とする請求項１または２記載
の周辺露光装置。
【請求項４】前記光照射手段は、光を照射する光照射
部と、前記光照射部を前記基板の全面に亘って移動させ
る移動部とを備えたことを特徴とする請求項１または２
記載の周辺露光装置。