JPH10133360A - 光学薄膜及びその包装方法 - Google Patents

光学薄膜及びその包装方法

Info

Publication number
JPH10133360A
JPH10133360A JP1662297A JP1662297A JPH10133360A JP H10133360 A JPH10133360 A JP H10133360A JP 1662297 A JP1662297 A JP 1662297A JP 1662297 A JP1662297 A JP 1662297A JP H10133360 A JPH10133360 A JP H10133360A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
thin film
membrane
optical thin
piece
frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP1662297A
Other languages
English (en)
Inventor
Ching-Bore Wang
チン−ボア・ウォン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Micro Lithography Inc
Original Assignee
Micro Lithography Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Micro Lithography Inc filed Critical Micro Lithography Inc
Publication of JPH10133360A publication Critical patent/JPH10133360A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16HGEARING
    • F16H57/00General details of gearing
    • F16H57/04Features relating to lubrication or cooling or heating
    • F16H57/0412Cooling or heating; Control of temperature
    • F16H57/0413Controlled cooling or heating of lubricant; Temperature control therefor
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16HGEARING
    • F16H59/00Control inputs to control units of change-speed-, or reversing-gearings for conveying rotary motion
    • F16H59/68Inputs being a function of gearing status
    • F16H59/72Inputs being a function of gearing status dependent on oil characteristics, e.g. temperature, viscosity
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F16ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
    • F16HGEARING
    • F16H57/00General details of gearing
    • F16H57/02Gearboxes; Mounting gearing therein
    • F16H2057/02039Gearboxes for particular applications
    • F16H2057/02043Gearboxes for particular applications for vehicle transmissions
    • F16H2057/02047Automatic transmissions

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • General Details Of Gearings (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薄膜自体が包装システムの何れの部分とも接
触せず、薄膜の包装、輸送及び開梱中における薄膜の損
傷を防止すること。 【解決手段】 光学薄膜110は、薄膜メンブラン11
2と、薄膜フレーム114とを備え、薄膜フレームは、
カバー側部118と、メンブラン側部120と、外縁部
122とを備える。薄膜メンブランは、薄膜フレームの
メンブラン側部に取り付けられ且つメンブラン側部の相
当な部分を覆う。薄膜フレームのメンブラン側部は、薄
膜メンブランを超えて伸長する周縁領域124を有す
る。周縁領域は、薄膜フレームのメンブラン側部の周縁
に切欠き部分126を備える。包装体130は、第一の
部片132と、第二の部片134とを備える。第一の部
片は光学薄膜を支持する構造体を備える。この構造体
は、薄膜メンブランが包装体の第一の部片と接触しない
ように光学薄膜を支持する。包装体の第二の部片は、第
一の部片と係合して、光学薄膜を包装体内に包み込む。
包装体内に包み込んだとき、薄膜メンブランは包装体の
第一及び第二の部片とは接触しない。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は光学薄膜、具体的に
は光学薄膜の包装システムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体のチップ業界において、フォトマ
スクから基板へのパターンの転写は、そのフォトマスク
を光源に露出させて行われることが周知である。このパ
ターンの転写工程(フォトリソグラフィ法とも呼ばれ
る)を行う間に、フォトマスク上のパターンは感光性物
質で処理された基板上に投影される。この結果、基板上
には、マスクエッチングが複製される。都合の悪いこと
に、マスクの表面の異物も基板に複製され、このため、
基板に適正にパターンを転写する妨げとなることがあ
る。
【0003】マスク表面の不純物質を除去するため、薄
膜として公知のフレーム付きの薄いメンブランはマスク
表面上に取り付けられ、このため、薄膜メンブランは、
マスクから離間した所定の距離、マスクに対し平行に伸
長する。通常、マスク表面上に存在する全ての不純物質
は、薄膜上に落下する。
【0004】薄膜メンブラン上にある不純物質は、一般
に基板上に投影されないため、薄膜は、実質的に、上述
の問題点が無い。薄膜上の全てのパーティクル、又はそ
の他の不純物質がパターンの転写中に、焦点外れとなる
ように、マスク表面から離間した距離にて薄膜のフレー
ムが薄膜を支持する。
【0005】薄膜の使用は値形成される回路の品質を向
上させ、これにより、回路の製造の生産性を著しく向上
させる。従って、フォトリソグラフィ法が成功するため
には、高品質の薄膜であることが極めて重要であるか
ら、薄膜の製造技術は、益々、重要となっていることは
当然のことである。
【0006】薄膜の製造工程中、比較的大きい又は小さ
い不純パーティクルが薄膜メンブラン上に存在する可能
性を最小にすることが重要である。比較的大きいパーテ
ィクルは、フォトリソグラフィ法を行う間に(焦点外れ
であっても)、基板に複製されるため、許容し得ない。
また、薄膜メンブラン、又は薄膜フレームの下側にパー
ティクル(大小を問わず)があることも同様に許容し得
ない。かかるパーティクルは、フォトリソグラフィ法を
行う間に、マスク表面に落下するが、このことこそ薄膜
を使用する防止すべきものである。
【0007】また、薄膜メンブランは、その表面の全体
に亙って極めて透明で且つ均一であることも極めて重要
なことである。このため、薄膜メンブランは通常極めて
薄く、従って、損傷し易い。既存の包装システムは、薄
膜メンブラン自体が薄膜包装体と接触するような方法に
て光学薄膜を保持することが多い。この接触は、薄膜が
裂けて、使用し得なくなる程度に薄膜を損傷させる可能
性がある。また、より目に見えない状態ではあるが、包
装体に接触するパーティクルの薄膜の周縁部を微粒子、
又はその他の塵埃が擦るような状態で薄膜が損傷する可
能性がある。その結果、その薄膜は最終ユーザによって
不合格とされる。
【0008】上述のような一つの従来の包装システム
は、ミング・ハウ・イングの米国特許第4,697,7
01号に開示されている。この特許の図3において、そ
の包装体の頂部は光薄膜の周縁部分に直接、配置するこ
とが分かる。別のシステムは、アン・K.M.ミラーへ
の米国特許第4,511,038号に開示されている。
この第二の特許の図3及び図8には、包装体の底部分が
薄膜メンブランの周縁部分と直接、接触していることが
示してある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このため、本発明の一
つの目的は、従来技術の提案による欠点及びその問題点
を防止する薄膜実システムを開発することである。より
具体的には、本発明は、薄膜自体が包装システムの何れ
の部分とも接触せず、薄膜の包装、輸送、及び開梱中に
おける薄膜の損傷を防止する、包装システムを開発する
ことを目的とする。
【0010】又、低廉に製造でき、極めて清浄であり、
技能、教育及び熟練程度が低い者でも使用することがで
きる薄膜の包装システムを開発することである。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の一つの実施の形
態は、薄膜メンブランと、薄膜フレームとを備える光学
薄膜であり、該薄膜フレームが、底部のカバー側部と、
メンブランの頂側部と、メンブランの側部からカバー側
部まで下方に伸長する外縁部とを有する光学薄膜に関す
るものである。この薄膜メンブランは、薄膜フレームの
メンブラン側部の相当部分に取り付けられ且つ該部分を
覆う。この薄膜フレームのメンブラン側部は、薄膜メン
ブランを超えてカバー側部の方向に略下方に伸長する周
縁領域を有する。
【0012】本発明の一つの実施の形態において、該周
縁領域は、薄膜フレームのメンブラン側部の周縁に切欠
き部分を有する。本発明の一つの変形例において、この
切欠き部分は、面取り加工部分を有する。もう一つの変
形例において、この切欠き部分は、円弧状である。本発
明の更に別の変形例において、該切欠き部分は、第一の
所定の角度で外縁部に向けて伸長する第一の領域と、第
二の所定の角度で第一の領域から外縁部まで伸長する第
二の領域とを備えている。もう一つの実施の形態は、上
述の光学薄膜の一つを備え、この場合、薄膜フレーム
は、複数のコーナ領域を有する略多角形の形態をしてお
り、その周縁領域は、薄膜フレームのコーナ領域を有し
ている。
【0013】本発明のもう一つの形態は、カバーを受け
得るような設計としたカバー側部と、その上にメンブラ
ンが配置された設計とした平坦なメンブラン側部とを有
する光学薄膜フレームを備え、該メンブラン側部は、メ
ンブラン面に沿って配置されている。本明細書で使用す
る「メンブラン面」という用語は、メンブラン側部の表
面と一致する仮想面を意味する。外縁部は、カバー側部
とメンブラン側部との間を伸長する。このフレームは、
メンブランの略面外にて、メンブラン側部から伸長する
周縁領域を更に備えている。
【0014】本発明の更に別の形態は、光学薄膜と包装
体とを含む、包装した光学薄膜である。この薄膜は、フ
レームに取り付けられたメンブランを備えている。この
フレームは、カバー側部と、メンブラン側部と、カバー
側部とメンブラン側部との間を伸長する外縁部とを備え
ている。このメンブラン側部は、外縁部に向けて伸長す
る周縁領域を更に備えている。この薄膜メンブランは、
メンブラン側部上に取り付けられ且つ周縁領域以外のメ
ンブラン側部の略全体を覆う。本明細書で使用する
「略」という語は、製造許容公差のため、メンブランが
周縁部から僅かに差し込まれる薄膜を包含するため、ま
た、メンブランが外縁部の手前で終端となるようにする
メンブランの縁処理工程を考慮して使用するものであ
る。
【0015】本発明の更に別の形態は、光学薄膜を包装
する方法に関するものである。この方法は、(1)光学
薄膜を支持する構造体を有する第一の部片と、該第一の
部片と係合し得る形態とした第二の部片とを備える包装
体を提供し、また、メンブラン側部と、カバー側部と、
該カバー側部と薄膜フレームのメンブラン側部との間を
伸長する外縁部と、薄膜フレームのメンブラン側部に取
り付けられ且つその相当な部分を覆う薄膜メンブラン
と、薄膜フレームのカバー側部の上に取り付けられ且つ
該カバー側部と略同程度に伸びる保護カバーとを備える
光学薄膜を提供するステップと、(2)包装体の第一の
部片上に光学薄膜を支持する構造体の基端方向に光学薄
膜を配置するステップと、(3)薄膜メンブランが包装
体の第一の部片と接触しないように、光学薄膜を支持す
る構造体の上に光学薄膜を配置するステップと、(4)
薄膜メンブランが包装体の第一及び第二の部片と接触し
ないように包装体の第一の部片を包装体の第二の部片と
係合させることにより、光学薄膜を包み込むステップと
を備えている。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明のその他の各種の特徴、目
的、及び有利な点は、本明細書を読むに伴い、より明ら
かになるであろう。
【0017】先ず、図面を参照すると、図1には、従来
の光学薄膜10及び包装体12が図示されている。上述
したように、フォトリソグラフィ法でダストカバーとし
て使用される薄膜10は、薄膜メンブラン14と、薄膜
フレーム16とを備えている。これらの薄膜メンブラン
14及び薄膜フレーム16は、接着剤層18で共に取り
付けられている。該薄膜10は、薄膜メンブラン14の
反対側にて薄膜フレームの側部に取り付けられた保護カ
バー15を更に備えている。塵埃及びその他の微粒子が
フォトマスクの表面に落下するのを防止し得るように、
フォトマスク(図示せず)の上に薄膜10を直接、配置
し得るような設計にされている。その代わり、塵埃及び
その他の微粒子が薄膜メンブラン14に落下し、これに
より、かかる微粒子がフォトマスクの表面から隔てた位
置に保たれるようにする。このように、かかる微粒子
は、フォトリソグラフィ工程中に焦点外となり、このた
め、フォトマスク(図示せず)の下方の所定の距離の位
置に配置されたシリコンがウェーハ(図示せず)に複製
されない。
【0018】また、図1には、包装、貯蔵、及び輸送中
に光学薄膜10を保護するために使用される従来の包装
体12が図示されている。該包装体12は、基部20
と、蓋(図示せず)とを備えている。該基部20は、光
学薄膜10を受け入れる設計とされ、該蓋は該基部20
を取り外し可能に受け入れて、光学薄膜10を包み込
み、損傷又は汚染しないように薄膜メンブラン14を保
護し得るような形態とされている。図1に符号21で示
すように、薄膜メンブラン14は、包装体12の基部2
0と直接、接触している。基部20は、その外周の周り
で薄膜メンブラン14にのみ接触する一方、ある状況下
にて、この接触は、微粒子を発生させ、これにより、薄
膜10の有効性を損なうのに十分である。
【0019】本発明は、かかる微粒子が発生して、薄膜
を汚染させる可能性を著しく少なくする光学薄膜及び包
装体に関するものである。
【0020】本発明に従って形成された光学薄膜は、図
2乃至図4に図示され、全体として参照符号110で示
されている。該薄膜110は、薄膜メンブラン112
と、薄膜フレーム114とを備えている。図1乃至図1
5に図示するように、図面の目的上、薄膜メンブラン1
12の厚さは誇張して示してある。該薄膜フレーム11
4は、カバー側部118と、メンブラン側部120とを
備えている。該薄膜メンブラン112は、薄膜フレーム
114のメンブラン側部120に取り付けられて、その
相当部分を覆う。図2乃至図4に図示するように、薄膜
メンブラン112は、薄膜フレーム114のメンブラン
側部120と略同程度に伸びている。薄膜メンブラン1
12を薄膜フレーム114に取り付けるために接着剤1
16が使用される。該薄膜フレーム114は、薄膜フレ
ームのカバー側部118とメンブラン側部120との間
を伸長する外縁部122を更に備えている。
【0021】薄膜メンブラン112は、通常、ニトロセ
ルロース、又はセルロース系アセテートのようなその他
のセルロース系重合体で製造されている。この材料は、
典型的に、最初に適当な溶剤中に溶解させて、ある種の
周縁フレームによりその縁部にて支持される間に基板に
紡糸される。この周縁フレームは、製造工程中に使用さ
れるものであり、図2乃至図11に図示した薄膜フレー
ム114(薄膜フレーム112がその上に配置された状
態で販売され且つ使用されるもの)とは異なる。
【0022】薄膜フレーム112に適合し、該薄膜フレ
ーム112に対して劣化しない接着剤116が選択され
且つ設計される。また、撹拌及び電磁放射線(薄膜フィ
ルムの検査に利用されるような放射線)及び光(フォト
リソグラフィ法に利用されるような光)に長期間に亙っ
て露出されたとき、その空間的及び位置の完全性を保
ち、また、その接着性能を保持し得る接着剤を選択す
る。また、適用後に分解したり、又は移行しないような
完全な位置的完全性を保ち得る接着剤116を選択す
る。この接着剤116は、ノーランド・プロダクツ・イ
ンコーポレーテッドから販売されているノーランド・オ
プチカル接着剤(No.65接着剤のような紫外線硬化
性接着剤)を選択することが好ましい。これと代替的
に、ノーランド81又は61型接着剤、その他の同様の
接着剤、又は従来のエポキシ系のものを利用してもよ
い。
【0023】薄膜フレーム114は矩形の形態として図
示されているが、使用されるフォトリソグラフィ装置に
対応して、この薄膜フレームは各種の異なる形態とする
ことが可能である。その他の形態の例としては、多角形
の形態、円形又は楕円形の形態、及び丸みを付けた端部
を有する長円形の形態がある。薄膜フレームは、各種の
その他の材料で形成することが可能であるが、典型的に
は、陽極処理したアルミニウムで製造される。
【0024】図2に示した光学薄膜は、保護カバー11
7(薄膜フレーム114のカバー側部118に取り外し
可能に取り付けられている)を更に備えている。該保護
カバー117は、通常、5又は7.5ミル・ポリエステ
ルの何れかで製造されており、典型的に、ミネソタ・マ
イニング・アンド・マニファクチャリング・カンパニー
が販売する3M966のようなアクリル系接着剤(図示
せず)により薄膜フレーム114に取り付けられてい
る。図示するように、該保護カバー117は、薄膜フレ
ーム114を超えて伸長するタブ119を備えている。
光学薄膜110をフォトマスクに取り付ける前に、保護
カバー117を薄膜フレーム114から除去し得るよう
にユーザが容易に把持可能な面を提供するためにこのタ
ブ119が使用される。本発明は塵埃又はその他の微粒
子で薄膜メンブランが汚染される可能性を更に少なくす
るために、この保護カバーを使用することが好ましいこ
とが多いが、その保護カバーを備えない光学薄膜と共に
本発明を実施することも可能であることを理解すべきで
ある。
【0025】薄膜フレーム114のメンブラン側部12
0は、図2に図示するように、薄膜メンブラン112を
超えて伸長する周縁領域124を備えている。これと代
替的に、このメンブラン側部120の周縁領域124
は、薄膜メンブラン112と外縁部122との間を伸長
するもと考えてもよい。図2に図示した薄膜フレーム1
14は、複数のコーナ領域125を有する、略多角形の
形態、具体的には、略矩形の形態を有している。この周
縁領域124は、薄膜フレーム114の上に設けられた
これらのコーナ領域125を有している。コーナ領域1
25を有さない円形、又は別の形態の薄膜フレーム11
4は、薄膜フレーム114のメンブラン側部120の上
にて薄膜メンブラン112を超えて伸長し、又は、薄膜
メンブラン112と外縁部122との間を伸長する周縁
領域124を含むことが可能であることを理解すべきで
ある。かかる形態は本発明の範囲に包含することを意図
するものである。周縁領域124は、薄膜メンブラン1
12、又はその何れの部分をもを含まないことを更に理
解すべきである。更に、この周縁領域124は、薄膜フ
レーム114のメンブラン側部120の全体に亙って連
続的には伸長しない。図示するように、該周縁領域12
4は、薄膜フレーム114の4つのコーナ領域125で
のみ伸長する。図4に最も良く図示するように、薄膜メ
ンブラン112は、周縁領域の多少、手前の位置にて停
止し、周縁領域124内に重なり合う可能性を防止し且
つ製造許容公差を許容することができる。この図示した
実施の形態において、該薄膜メンブランは、周縁領域以
外の略全てのメンブラン側部を覆うものと考えることが
できる。このことは、図5、図6、図9及び図14に示
した実施の形態にも当て嵌まる。
【0026】周縁領域124は、薄膜フレーム114の
メンブラン側部120の周縁に切欠き部分126を更に
備えている。図2及び図4において、この切欠き部分1
26は面取り加工部分を含む。この切欠き部分126の
その他の実施の形態としては、図5に符号126で示
す円弧状の切欠き部分と、図6に符号126で示す切
欠き部分とを備えている。この切欠き部分126は、
周縁部122に向けて第一の所定の角度で伸長する第一
の領域127と、該第一の領域127から外縁部122
まで第二の所定の角度にて伸長する第二の領域129と
を含む。これらの第一の領域127及び第二の領域12
9は15°乃至75°の範囲の角度で伸長している。こ
れらの領域は、30°乃至60°の範囲の角度で伸長す
ることが好ましい。これらの第一及び第二の所定の角度
は、互いに等しくし、又は異なるものとすることが可能
である。しかしながら、重要なことは、第一の領域12
7は、包装体130の肩部領域140が第二の領域12
9に接触する(薄膜メンブラン112が包装体130に
直接、接触せずに)のに十分な長さであり且つ十分な角
度であることである。
【0027】「切欠き部分」という語は、薄膜フレーム
114のメンブラン側部120と薄膜フレーム114の
外縁部122との間である角度で伸長する全ての斜角
面、面取り加工部分、又は、その他の直線状及び/又は
円弧状領域、又は面を意味するものとする。この切欠き
部分126は、最初に押出し成形し、又はその他の方法
で形成されるときに、薄膜フレーム114の一体部分と
することができる。これと代替的に、この切欠き部分1
26は、従来の薄膜フレームのコーナ領域125の一部
を切り取り、削り、又はその他の方法で除去することに
より形成してもよい。この切欠き部分126を形成する
その他の方法も可能である。
【0028】図7乃至図10には、本発明に従って構成
された包装した光学薄膜が図示されている。この包装し
た光学薄膜は、上述した光学薄膜110の一方及び包装
体130を備えている。この包装体130は、第一の部
片132と、第二の部片134とを備えている。該第一
の部片132は、光学薄膜を支持する構造体を備えてい
る。この構造体は、薄膜メンブラン112が包装体13
0の第一の部片132と接触しないように、光学薄膜1
10を支持し得る形態とされている。この包装体130
の第二部片134は、第一の部片132と係合し、これ
により、図7及び図8に示すように、包装体130内に
光学薄膜110を包み込む形態とされている。薄膜メン
ブラン112は、包装体130内に包み込まれたなら
ば、包装体130の第一の部片132及び第二の部片1
34と接触しない。
【0029】図8乃至図10に図示するように、この第
一の部片132は、底部分138を有する凹部136を
画成する。この凹部136は、光学薄膜110を受け入
れ得る形態とされている。一対の指穴137及びへこみ
部分133が第一の部片132に更に画成されている。
この対の指穴137は、ユーザが自己の親指、人指し指
又は中指を使用して、光学薄膜110を第一の部分13
2の凹部136から引き出すことを可能にする。このへ
こみ部分133はタブ119を光学薄膜の保護カバー1
17の上に受け得る形態とされている。この光学薄膜を
支持する構造体は、肩部領域140を備えている。この
肩部領域140は、凹部136内に内方に伸長して、薄
膜フレーム114の周縁領域124の少なくとも一部に
係合して、図9に図示するように、光学薄膜110を凹
部136内に支持する。
【0030】第二の部片134は包装体130の第一の
部片132を受け入れて、これにより、光学薄膜110
を包装体130内に包み込む形態とされている。これと
代替的に、この第一の部片132は、包装体130の第
二の部片134を受け入れるようにしてもよい。第一の
部片132及び第二の部片134が何らかの方法にて、
薄膜メンブラン112に直接、接触せずに、光学薄膜1
10を包み込み且つその光学薄膜を保護する限り、その
何れの形態、又は、その一方の形態も本発明の範囲に属
するものである。図示するように、この第一の部片13
2は、第二の部片134に係合するための第一の対の止
め部分139を備えている。この第二の部片134は、
これらの第一部片132及び第二の部片134が互いに
係合したとき、上記の第一の対の止め部分139に嵌ま
り得る形態とされた第二の対の止め部分139を備えて
いる。これらの対の指穴137及び対の止め部分139
は、その他の形態も採用可能であるが、スラット状ヘこ
み部分の形態にて図示されている。包装体130の第一
の部片132及び第二の部片134の上には、通常、接
着テープ(図示せず)の形態とした補助的な係合手段を
設けることが望ましい。
【0031】この第二の部片134はへこんだ係合面1
35を更に備えている。この係合面135は、全体とし
て、薄膜フレームの形態と適合している。光学薄膜11
0が包装体130内に収容されたならば、係合面135
は光学薄膜110を包装体130の第一の部片132の
肩領域140に対して偏倚させる。第二の部片134
は、典型的に、塵埃を保持する目的のため、その内面の
少なくとも一部に沿って接着剤のコーティング(図示せ
ず)を含んでいる。
【0032】図8及び図9に図示するように、この肩部
領域140は、光学薄膜110に係合し且つ該光学薄膜
を支持し得るように凹部136内に伸長する複数の面1
42を備えている。本発明は、薄膜フレーム114のメ
ンブラン側部120の周縁領域124の少なくとも一部
に係合し得る形態とされた肩部領域140のその他の形
態を使用して実施することも可能であることを理解すべ
きである。肩部領域140は周縁領域124の切欠き部
分126の少なくとも一部に係合することが好ましい。
この肩部領域140は、周縁領域124の切欠き部分1
26にのみ係合するようにすることがより好ましい。
【0033】図8及び図10に図示するように、この肩
部領域140は切欠き部分126の角度に対応する角度
にて凹部136内に伸長する。この形態において、該肩
部領域140は、周縁領域124の切欠き領域126に
対し略平行である。この好適な実施の形態は、肩部領域
140と切欠き部分126との接触面を形成する。この
平滑な接触領域は、包装体130と光学薄膜110との
接触により、微粒子が形成される可能性をより小さくす
る点で有利である。しかしながら、切欠き部分126と
肩部領域140との係合のその他の形態も本発明の範囲
に属するものであることを理解すべきである。一部の適
用例の場合、この切欠き部分126と肩部領域140と
の線接触、又は点接触のような異なる係合形態とするこ
とが望ましいことがある。本発明は、従来の包装体及び
上述した光学薄膜110の一つを使用して、実施するこ
とが可能であることを更に理解すべきである。
【0034】コーナ領域125を含む周縁領域124を
有する薄膜フレーム114が使用される時、肩部領域1
40は、薄膜フレーム114上のコーナ領域125にし
か係合しないことが好ましい。かかる結果を得るための
一つの形態は、凹部136が図11に図示するような略
円形の形態を有する包装体130を使用することであ
る。この形態において、肩部領域140は、周縁領域1
24に直接、接触し得るのみであり、また好ましくは、
薄膜メンブラン112には、接触し得ない一方で、薄膜
フレーム114のメンブラン側部120のコーナ領域1
25にのみ接触するようにする。コーナ領域125が切
欠き部126を有するとき、肩部領域140は、コーナ
領域125の切欠き部分126にのみ係合することが好
ましい。輸送、又はその他の移動中、光学薄膜110が
包装体130内で移動するとき、包装体130の第一の
部片132と外縁部122及び/又は薄膜メンブラン1
12とが誤って接触することにより薄膜が分離する可能
性を解消する点でこの形態は、好ましい。
【0035】薄膜メンブラン112が包装体130の第
一の部片132の凹部の底部分138と離間した関係に
あるように、肩部領域140が薄膜フレーム114を凹
部136内に支持する。このため、この「離間した関
係」という語は、薄膜メンブラン112が凹部136の
底部分138の方を向いているが、底部分138、又は
第一の部片132のその他の何れの部分とも直接、接触
しないことを意味するものとする。
【0036】図12乃至図15には、本発明に従って形
成された包装した光学薄膜の別の実施の形態(現在の好
適な実施の形態)が図示されている。この包装した光学
薄膜は、上述した光学薄膜110の一方と、包装体23
0とを備えている。この包装体230は、第一の部片2
32と、第二の部片234とを備えている。この第一の
部片232は、薄膜メンブラン112が包装体230の
第一の部片232と接触しないように光学薄膜110を
支持し得る形態とされた、光学薄膜を支持する構造体を
備えている。包装体230の第二の部片234は、第一
の部片232と係合し得る形態とされ、このため、図1
2及び図13に図示するように、光学薄膜110を包装
体230内に包み込む。包装体230内に包み込まれた
とき、薄膜メンブラン212は、包装体230の第一の
部片232と、第二の部片234と接触しない。この包
装体230は、包装体230の第一の部片232、及び
第二の部片234に摺動可能に係合する、複数の取り外
し可能なクリップ236を更に備えている。これらのク
リップ236は第一の部片232及び第二の部片234
が分離して、これにより、光学薄膜110が損傷したり
汚染する可能性を防止する。
【0037】図13乃至図15に図示するように、この
第一の部片232は、基部238と、基部の円周から上
方に伸長する立ち上がり張り出し部242とを備えてい
る。この光学薄膜を支持する構造体は、中央に配置され
たプラットフォーム240を備えている。このプラット
フォーム240は、支持すべき光学薄膜110の薄膜フ
レーム114の形状に略対応することが好ましい。図1
2乃至図15に図示したこの薄膜フレーム114及びプ
ラットフォーム240は、略矩形の形態をしている。し
かしながら、このプラットフォーム240は、その他の
光学薄膜の形状と対応するその他の多数の形態とするこ
とができる。
【0038】図13乃至図15に図示するように、光学
薄膜を支持する構造体は光学薄膜110をプラットフォ
ーム240の上に摩擦状に保持するため、プラットフォ
ームの周縁の周りで離間された複数の突起244を更に
備えている。これらの突起244は、半球状の張り出し
部246を有する略円錐形の形態をしており、光学薄膜
110をプラットフォーム240上に配置する位置決め
ガイドとしても機能する。張り出し部246のその他の
形態も可能である。しかしながら、先端246を略円形
の形態としたものが好ましく、それは、この形態は光学
薄膜110にスクラッチ傷、又は損傷を与えるコーナ部
分、又は縁部がないからである。図13に図示するよう
に、第一の物片232はプラットフォーム240の各側
部に2つずつ設けられた8つの突起244を有してい
る。本発明は、突起244の異なる形状、その他の間
隔、数、又は高さを使用して、実施することが可能であ
ることを理解すべきである。本発明は、第一の部片を使
用して実施し、光学薄膜を支持する構造体が突起244
を有するが、プラットフォーム240を有しない形態と
することも可能であることを更に理解すべきである。こ
の改変例において、突起244は、第一の部片232の
基部238から伸長し、全体として、光学薄膜110の
形状の外形となる。
【0039】図12乃至図15に図示した包装した光学
薄膜の実施の形態において、光学薄膜110は、保護カ
バー117がプラットフォーム240に接触するよう
に、プラットフォーム240の上に配置されることを理
解すべきである。この方向を向いているとき、薄膜メン
ブラン112及び周縁領域124は、プラットフォーム
240から離れる方向を向いている。図14には、薄膜
フレーム113の外縁部122と実際に接触した突起2
44が図示されているが、本発明は、薄膜フレーム11
4の外縁部122を超えて伸長する薄膜カバー117を
使用して実施することも可能であることを理解すべきで
ある。この改変例において、突起244は、薄膜フレー
ム114ではなくて、保護カバー117の縁部に係合す
る。
【0040】図12乃至図15に図示するように、この
第二の部片234は、立ち上がった上面247と、張り
出し部250とを備えている。この張り出し部250
は、第二の部片234の円周の周りを伸長し、包装体2
30の第一の部片232の張り出し部242の形状に対
応する。この第二の部片234は、凹部248を画成し
且つ肩部領域252を備えている。この肩領域252
は、凹部248内に内方に伸長し、第一の部片232に
支持された光学薄膜110の周縁領域124の少なくと
も一部分に係合する。肩部領域252は、光学薄膜11
0の各コーナ領域125に隣接する位置にて凹部248
内に伸長して、薄膜メンブラン112に接触していな
い。肩部領域252は、周縁領域の切欠き部分126の
形状に対応することが好ましい。図示するように、この
切欠き部分126は、面取り加工部分を有し、肩部領域
252は、切欠き部分126の少なくとも一部に係合す
ることにより、切欠き部分126との接触面を提供し得
る形態とされている。しかしながら、この肩部領域25
2は、上述の切り欠いた周縁領域124及び切欠き部分
126の何れかの形状に対応する形態とすることができ
ることを理解すべきである。この第二の部片134は、
典型的に、塵埃を保持する目的のため、その内面の少な
くとも一部に沿って接着剤コーティング(図示せず)を
含んでいる。
【0041】光学薄膜110を包装体230内に包み込
んだならば、包装体230が誤って開くのを防止するた
め、クリップ236を包装体230のコーナ部分の上に
挿入することが可能である。これらのクリップ236
は、略台形の形状をしており、前方部分254と、後方
部分256とを含んでいる。これらの部分は、一対の角
度付きの側壁258により接続されている。これらのク
リップ236は、包装体230のコーナ部の上方に亙っ
て挿入し、包装体230のコーナ部が後方部分256内
に伸長し且つクリップ236の前方部分254を貫通し
て更に伸長している。この後方部分256は、中央に配
置された一対の傾斜領域262を備えている。この傾斜
領域262は、クリップ236の後方部分256が包装
体のコーナ部分に摺動可能にな係合することを容易にす
る。クリップ236が包装体230に完全に係合する
と、前方部分254の一対の対向した歯260がクリッ
プ236が包装体230から誤って外れるのを防止す
る。図16に図示するように、この歯260は、略傾斜
路状の形態を有している。この形態は、クリップ236
が包装体230のコーナ部分に係合するのを容易にする
一方で、包装体230に取り付けたならば、クリップ2
36が外れるのを防止する。本発明は、クリップ236
ではなくて、その他の補助的な係合装置の形態を使用し
て、実施することが可能であることを理解すべきであ
る。包装体230の第一の部片232及び第二の部片2
34を共に接合するために、例えば、接着剤テープを使
用してもよい。しかしながら、このクリップ236を使
用することの有利な点は、包装体230を磨損させた
り、その包装体に残留物を残すことなく、繰り返し包装
体230に取り付け且つ取り外すことができる点であ
る。
【0042】上述した包装体130、230の何れかを
使用するためには、光学薄膜110は最初に包装体13
0、230の第一の部片132、232の上に光学薄膜
110を支持する構造体の基端方向に位置決めしなけれ
ばならない。次に、薄膜メンブラン112が包装体13
0、230の第一の部片132、232と接触しないよ
うに、光学薄膜110を光学薄膜を支持する構造体の上
に配置する。最後に、包装体130、230の第一の部
片132、232及び第二部片134、234を係合さ
せることにより、光学薄膜110を包装体130、23
0内に包み込む。このため、薄膜メンブラン112は、
包装体130、230の第一の部片132、232及び
第二の部片134、234と接触しない。
【0043】好適な実施の形態に対する上記及びその他
の改変例は、この開示の本発明の精神及び範囲、並び
に、特許請求の範囲に包含されるものであることを理解
すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】光学薄膜(包装体と直接、接触した薄膜メンブ
ランを備える)及び包装体の一端に沿った断面に関す
る、従来技術の光学薄膜及び包装体の断面斜視図であ
る。
【図2】保護カバーの一部分のみを切り欠いた、本発明
に従って形成された光学薄膜の斜視図である。
【図3】図2の線3−3に沿った、図2の薄膜の拡大断
面側面図である。
【図4】図2の線4−4に沿った、図2の薄膜の拡大断
面側面図である。
【図5】図2に示した光学薄膜の代替的な実施の形態の
拡大断面側面図である。
【図6】図4に示した光学薄膜の代替的な実施の形態の
拡大断面側面図である。
【図7】本発明に従って形成された包装後の光学薄膜の
斜視図である。
【図8】図7の包装した光学薄膜の分解斜視図である。
【図9】図7の線9−9に沿った、図7の包装後の光学
薄膜の拡大断面側面図である。
【図10】図7の線10−109に沿った、図7の包装
後の光学薄膜の拡大断面側面図である。
【図11】包装体の第二の部片を切り欠いた、図7の包
装した光学薄膜の代替的な実施の形態の平面図である。
【図12】本発明に従って形成された包装した光学薄膜
の更に別の実施の形態の斜視図である。該包装体は、第
一の部片と、第二の部片と、これらの第一及び第二の部
片を摺動可能に係合させる4つのクリップとを備えてい
る。
【図13】クリップを除去した、図12の包装後の光学
薄膜の分解斜視図である。
【図14】クリップを除去した、図12の線14−14
に沿った図12の包装後の光学薄膜の拡大断面側面図で
ある。
【図15】クリップを除去した、図12の線15−15
に沿った図12の包装後の光学薄膜の拡大断面側面図で
ある。
【図16】図12のクリップの一つを示す前方斜視図で
ある。
【図17】図12のクリップの一つを示す後方斜視図で
ある。
【符号の説明】
10 従来の光学薄膜 12 従来の包装体 14 薄膜メンブラン 15 保護カバー 16 薄膜フレーム 18 接着剤層 20 包装体の基部 110 本発明の光学薄膜 112 薄膜メンブ
ラン 114 薄膜フレーム 116 接着剤 117 保護カバー 118 フレームの
カバー側部 119 タブ 120 フレームの
メンブラン側部 122 フレームの外縁部 124 フレームの
周縁領域 125 光学薄膜のコーナ領域 126、126a、126b 切欠き部分 127 薄膜フレームの第二の領域 129 薄膜フレームの第二の領域 130 包装体 132 包装体の第
一の部片 133 包装体のへこみ部分 134 包装体の第
二の部片 135 第二の部片の係合面 136 第一の部片
の凹部 137 第一の部片の指穴 138 凹部の底部
分 139 第一の部片の止め部分 140 包装体の肩
部領域 142 肩部領域の面
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成9年4月11日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
フロントページの続き (71)出願人 596100753 1247−9 Elko Drive, Su nnyvale, California 94089−2211, United Sta tes of America

Claims (32)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光学薄膜にして、 薄膜メンブランと、 底部のカバー側部と、頂部のメンブラン側部と、該メン
    ブラン側部から前記カバー側部まで下方に伸長する外縁
    部とを有する薄膜フレームとを備え、 前記薄膜メンブランが、前記薄膜フレームの前記メンブ
    ラン側部の上に取り付けられ且つ該メンブラン側部の相
    当の部分を覆い、 前記メンブラン側部が、前記薄膜メンブランを超えて前
    記カバー側部に向けて略下方に伸長する周縁領域を備え
    ることを特徴とする光学薄膜。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の光学薄膜にして、前記
    周縁領域が、前記薄膜フレームの前記メンブラン側部の
    周縁に切欠き部分を備えることを特徴とする光学薄膜。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の光学薄膜にして、前記
    切欠き部分が面取り加工部分を含むことを特徴とする光
    学薄膜。
  4. 【請求項4】 請求項2に記載の光学薄膜にして、前記
    切欠き部分が円弧状であることを特徴とする光学薄膜。
  5. 【請求項5】 請求項2に記載の光学薄膜にして、前記
    切欠き部分が、第一の所定の角度にて前記外縁部に向け
    て伸長する第一の領域と、前記第一の所定の角度と異な
    る第二の所定の角度にて前記第一の領域から前記外縁部
    まで伸長する第二の領域とを備えることを特徴とする光
    学薄膜。
  6. 【請求項6】 請求項2に記載の光学薄膜にして、前記
    薄膜フレームの前記カバー側部に取り外し可能に取り付
    けられた保護カバーを更に備えることを特徴とする光学
    薄膜。
  7. 【請求項7】 請求項2に記載の光学薄膜にして、前記
    薄膜フレームが、複数のコーナ領域を有する略多角形の
    形態を有し、前記周縁領域が前記薄膜フレームの前記コ
    ーナ領域を含むことを特徴とする光学薄膜。
  8. 【請求項8】 カバーを受け入れ得る設計としたカバー
    側部と、メンブランがその上に配置された設計とした平
    坦なメンブラン側部とを備える光学薄膜フレームにし
    て、前記メンブラン側部が、メンブラン面に沿って配置
    され、外縁部が前記カバー側部と前記メンブラン側部と
    の間を伸長し、該メンブラン側部が、前記メンブランの
    面から略外方に前記メンブラン側部から伸長する周縁領
    域を含むことを特徴とする光学薄膜フレーム。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載の光学薄膜フレームにし
    て、前記周縁領域の少なくとも一部が前記カバー側部に
    向けて略伸長することを特徴とする光学薄膜フレーム。
  10. 【請求項10】 包装した光学薄膜にして、 薄膜メンブランと、 カバー側部と、メンブラン側部と、前記カバーと前記薄
    膜フレームのメンブラン側部との間にて伸長する外縁部
    とを有する薄膜フレームとを備え、 前記メンブランが、前記外縁部に向けて伸長する周縁領
    域を備え、 前記薄膜メンブランが、前記周縁領域以外のメンブラン
    側部に取り付けられ且つ該メンブラン側部の略全てを覆
    い、 前記薄膜フレームの前記カバー側部上に取り外し可能に
    取り付けられた保護カバーを備え、前記薄膜フレーム、
    薄膜メンブラン及び保護カバーが光学薄膜を備え、 第一の部片及び第二の部片を有する包装体を備え、該第
    一の部片が、光学薄膜を支持する構造体を備え、前記薄
    膜メンブランが前記包装体の第一の部片に接触せず、前
    記包装体の前記第二の部片が、前記第一の部片と係合す
    る形態とされ、これにより、前記光学薄膜を前記包装体
    内に包み込み、前記薄膜メンブランが前記包装体の前記
    第一の部片及び第二の部片に接触しないように、前記構
    造体が光学薄膜を支持することを特徴とする包装した光
    学薄膜。
  11. 【請求項11】 請求項10に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記包装体の前記第一の部片が、底部分を有す
    る凹部を画成し、前記凹部が、光学薄膜を受け入れ得る
    形態とされ、光学薄膜を支持する前記構造体が、前記凹
    部内に内方に伸長して、前記薄膜フレームの周縁領域の
    少なくとも一部に係合して、前記光学薄膜を前記凹部内
    に支持する肩部領域を備えることを特徴とする包装した
    光学薄膜。
  12. 【請求項12】 請求項11に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記肩部領域が、前記薄膜メンブランが前記凹
    部の底部分と離間した関係となるように、前記周縁領域
    の少なくとも一部分に係合する形態とされることを特徴
    とする包装した光学薄膜。
  13. 【請求項13】 請求項12に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記薄膜フレームが、複数のコーナ領域を有す
    る略多角形の形態を有し、前記周縁領域が、前記薄膜フ
    レームのコーナ領域を含むことを特徴とする包装した光
    学薄膜。
  14. 【請求項14】 請求項13に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記凹部が略円形の形態を有し、前記肩部領域
    が、前記薄膜フレームの前記コーナ領域にのみ係合する
    ことを特徴とする包装した光学薄膜。
  15. 【請求項15】 請求項14に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記薄膜フレームの前記コーナ領域の各々が、
    前記薄膜フレームの前記メンブラン側部の周縁に切欠き
    部分を含み、前記肩部領域が、前記コーナ領域の切欠き
    部分にのみ係合することを特徴とする包装した光学薄
    膜。
  16. 【請求項16】 請求項12に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記周縁領域が、前記薄膜フレームの前記メン
    ブラン側部の周縁に切欠き部分を有し、前記肩部領域
    が、前記周縁領域の前記切欠き部分の少なくとも一部分
    に係合し得る形態とされることを特徴とする包装した光
    学薄膜。
  17. 【請求項17】 請求項16に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記肩部領域が前記周縁領域の前記切欠き部分
    にのみ係合することを特徴とする包装した光学薄膜。
  18. 【請求項18】 請求項17に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記肩部領域が、前記周縁領域の前記切欠き部
    分に対して略平行であることを特徴とする包装した光学
    薄膜。
  19. 【請求項19】 請求項17に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記切欠き部分が面取り加工部分を含むことを
    特徴とする包装した光学薄膜。
  20. 【請求項20】 請求項19に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記切欠き部分が、第一の所定の角度にて前記
    外縁部に向けて伸長する第一の領域と、第二の所定の角
    度にて前記第一の領域から前記外縁部まで伸長する第二
    の領域とを備えることを特徴とする包装した光学薄膜。
  21. 【請求項21】 請求項17に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記切欠き部分が円弧状であることを特徴とす
    る包装した光学薄膜。
  22. 【請求項22】 請求項10に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記第二の部片が、凹部を画成し且つ肩部領域
    を備え、該肩部領域が、薄膜フレームの前記周縁領域の
    少なくとも一部分に係合し得るように前記凹部内に伸長
    することを特徴とする包装した光学薄膜。
  23. 【請求項23】 請求項22に記載の包装した光学薄膜
    にして、光学薄膜を支持する前記構造体が、前記薄膜フ
    レームの前記外縁部に係合し得るように前記包装体の前
    記第一の部片から伸長する複数の突起を備えることを特
    徴とする包装した光学薄膜。
  24. 【請求項24】 請求項22に記載の包装した光学薄膜
    にして、光学薄膜を支持する前記構造体が、前記薄膜フ
    レームの形状に略適合するプラットフォームを備えるこ
    とを特徴とする包装した光学薄膜。
  25. 【請求項25】 請求項24に記載の包装した光学薄膜
    にして、前記プラットフォームが、光学薄膜を該プラッ
    トフォームの上に摩擦状態に保持し得るように該プラッ
    トフォームの周縁の周りに離間された複数の突起を備え
    ることを特徴とする包装した光学薄膜。
  26. 【請求項26】 光学薄膜を包装する方法にして、 光学薄膜を支持する構造体を有する第一の部片と、該第
    一の部片と係合し得る形態とされた第二の部片とを備え
    る包装体を提供し、及びメンブラン側部を有する薄膜フ
    レームと、カバー側部と、該カバー側部と前記薄膜フレ
    ームのメンブラン側部との間を伸長する外縁部と、前記
    薄膜フレームのメンブラン側部に取り付けられ且つ該メ
    ンブラン側部の略全体より少ない部分を覆う薄膜メンブ
    ランと、前記薄膜フレームの前記カバー側部に取り付け
    られ且つ該カバー側部と略同程度に伸びる保護カバーと
    を備える光学薄膜を提供するステップと、 光学薄膜を前記包装体の第一の部片の上に支持する構造
    体の基端方向の位置に前記光学薄膜を位置決めするステ
    ップと、 前記薄膜メンブランが前記包装体の前記第一の部片と接
    触しないように、光学薄膜を支持する前記構造体の上に
    光学薄膜を配置するステップと、 前記薄膜メンブランが前記包装体の前記第一の部片及び
    第二の部片と接触しないように、該包装体の前記第一の
    部片を該包装体の前記第二の部片と係合させることによ
    り、前記光学薄膜を包み込むステップとを備えることを
    特徴とする包装方法。
  27. 【請求項27】 請求項26に記載の包装方法にして、
    前記第一の部片が凹部を画成し、光学薄膜を支持する前
    記構造体が該凹部内に伸長する肩部領域を備えることを
    特徴とする包装方法。
  28. 【請求項28】 請求項27に記載の包装方法にして、
    前記薄膜フレームの前記メンブラン側部が、該薄膜メン
    ブランを超えて伸長する周縁領域を備え、前記肩部領域
    が、該周縁領域の少なくとも一部分と係合し得る形態と
    されることを特徴とする包装方法。
  29. 【請求項29】 請求項26に記載の包装方法にして、
    前記薄膜フレームの前記メンブラン側部が、該薄膜メン
    ブランを超えて伸長する周縁領域を備え、前記第二の部
    片が、凹部を画成し且つ前記薄膜フレームのメンブラン
    側部の上の周縁領域の少なくとも一部分と係合し得るよ
    うに前記凹部内に伸長する肩部領域を備えることを特徴
    とする包装方法。
  30. 【請求項30】 請求項26に記載の包装方法にして、
    光学薄膜を支持する前記構造体が、前記薄膜フレームの
    外縁部と係合し得るように前記包装体の前記第一の部片
    から伸長する複数の突起を備えることを特徴とする包装
    方法。
  31. 【請求項31】 請求項29に記載の包装方法にして、
    光学薄膜を支持する前記構造体が、前記薄膜フレームの
    形状に略適合するプラットフォームを備えることを特徴
    とする包装方法。
  32. 【請求項32】 請求項31に記載の包装方法にして、
    前記プラットフォームが、前記光学薄膜を該プラットフ
    ォームの上に摩擦状態に保持し得るように該プラットフ
    ォームの周縁の周りで離間された複数の突起を備えるこ
    とを特徴とする包装方法。
JP1662297A 1996-10-30 1997-01-30 光学薄膜及びその包装方法 Pending JPH10133360A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US741864 1996-10-30
US08/741,864 US5820950A (en) 1996-10-30 1996-10-30 Optical pellicle and package

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH10133360A true JPH10133360A (ja) 1998-05-22

Family

ID=24982523

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1662297A Pending JPH10133360A (ja) 1996-10-30 1997-01-30 光学薄膜及びその包装方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5820950A (ja)
EP (1) EP0840169A1 (ja)
JP (1) JPH10133360A (ja)
KR (2) KR19980068650A (ja)
CA (1) CA2219562A1 (ja)
SG (1) SG53117A1 (ja)
TW (1) TW370505B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151197A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Nec Corp フォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置
JP2021060555A (ja) * 2019-10-09 2021-04-15 信越化学工業株式会社 ペリクルとその専用ペリクルケースからなるアセンブリ

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5938860A (en) 1997-08-28 1999-08-17 Micron Technology, Inc. Reticle cleaning without damaging pellicle
JP2000122266A (ja) * 1998-10-13 2000-04-28 Oki Electric Ind Co Ltd ペリクル
US6394109B1 (en) 1999-04-13 2002-05-28 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for removing carbon contamination in a sub-atmospheric charged particle beam lithography system
KR100696152B1 (ko) * 1999-09-13 2007-03-20 아사히 가라스 가부시키가이샤 펠리클
US20020144230A1 (en) * 1999-09-22 2002-10-03 Dupont Photomasks, Inc. System and method for correcting design rule violations in a mask layout file
US6782524B2 (en) * 1999-09-22 2004-08-24 Dupont Photomasks, Inc. Photomask and integrated circuit manufactured by automatically correcting design rule violations in a mask layout file
US6736386B1 (en) * 2001-04-10 2004-05-18 Dupont Photomasks, Inc. Covered photomask holder and method of using the same
US20050005256A1 (en) * 2002-06-03 2005-01-06 Dupont Photomasks, Inc. Photomask and integrated circuit manufactured by automatically correcting design rule violations in a mask layout file
US20070037067A1 (en) * 2005-08-15 2007-02-15 Ching-Bore Wang Optical pellicle with a filter and a vent
US7935547B2 (en) * 2006-02-17 2011-05-03 Freescale Semiconductor, Inc. Method of patterning a layer using a pellicle
JP2009063740A (ja) * 2007-09-05 2009-03-26 Shin Etsu Chem Co Ltd ペリクルフレーム
JP5199217B2 (ja) * 2009-11-02 2013-05-15 信越化学工業株式会社 ペリクル
JP6274079B2 (ja) * 2014-11-04 2018-02-07 日本軽金属株式会社 ペリクル用支持枠および製造方法
JP6308676B2 (ja) * 2014-12-18 2018-04-11 信越化学工業株式会社 リソグラフィ用ペリクル容器。

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4131363A (en) * 1977-12-05 1978-12-26 International Business Machines Corporation Pellicle cover for projection printing system
US4470508A (en) * 1983-08-19 1984-09-11 Micro Lithography, Inc. Dustfree packaging container and method
US4511038A (en) * 1984-01-30 1985-04-16 Ekc Technology, Inc. Container for masks and pellicles
US4697701A (en) * 1986-05-30 1987-10-06 Inko Industrial Corporation Dust free storage container for a membrane assembly such as a pellicle and its method of use
US4828640A (en) * 1987-05-28 1989-05-09 Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. Method of producing films using a peeling jig
JPS63305359A (ja) * 1987-06-05 1988-12-13 Nec Yamagata Ltd 半導体用ペリクル膜保管ケ−ス
US5254375A (en) * 1991-08-26 1993-10-19 Yen Yung Tsai Apparatus for controllably separating framed working area from remainder of the membrane
US5203961A (en) * 1991-09-20 1993-04-20 Yen Yung Tsai Wet die cutter assembly and method
US5422704A (en) * 1992-07-13 1995-06-06 Intel Corporation Pellicle frame
US5305878A (en) * 1993-04-01 1994-04-26 Yen Yung Tsai Packaged optical pellicle
JP3347224B2 (ja) * 1994-09-09 2002-11-20 三菱電機株式会社 ペリクル
JPH08114910A (ja) * 1994-10-17 1996-05-07 Mitsui Petrochem Ind Ltd マスク保護装置の製造法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009151197A (ja) * 2007-12-21 2009-07-09 Nec Corp フォトマスク受納器並びにこれを用いるレジスト検査方法及びその装置
JP2021060555A (ja) * 2019-10-09 2021-04-15 信越化学工業株式会社 ペリクルとその専用ペリクルケースからなるアセンブリ

Also Published As

Publication number Publication date
TW370505B (en) 1999-09-21
SG53117A1 (en) 1998-09-28
EP0840169A1 (en) 1998-05-06
US5820950A (en) 1998-10-13
KR19980068650A (ko) 1998-10-26
CA2219562A1 (en) 1998-04-30
KR19980033319A (ko) 1998-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH10133360A (ja) 光学薄膜及びその包装方法
US5305878A (en) Packaged optical pellicle
JP3464260B2 (ja) 視力矯正レンズ用パッケージ
KR940000101B1 (ko) 박막 팩키징 및 처리 시스템
US4577756A (en) Protective canister for computer discs
CA2070257C (en) Optical pellicle holder
WO1996009571A1 (en) Protective mask for pellicle
JP2003133406A (ja) ウェハー輸送用のウェハークッション
GB2199808A (en) Packaging container
JP2004361647A (ja) 大型ペリクルの収納方法
US5332604A (en) Adhesive system for reducing the likelihood of particulate
JPH1138598A (ja) ペリクルと、その収納ケース
JP3218338B2 (ja) フォトマスク等基板の収納ケースにおける蓋固定バンド装置
JPH036915Y2 (ja)
JP3540390B2 (ja) マスク保護装置の収納ケース
TW201233605A (en) Substrate container, mask blank package, transfer mask package and film-coated glass substrate container
WO2022220228A1 (ja) ペリクルフレーム積層体及びこれを用いたペリクルの製造方法
JP2001092114A (ja) フォトマスク等基板の収納ケース
JP2003209162A (ja) 半導体ウエハ用容器
JPH0624837Y2 (ja) ペリクル収納容器
JPH0245194Y2 (ja)
JPH031478Y2 (ja)
JPH0534110Y2 (ja)
JPH09138498A (ja) ペリクル収納容器
KR200240960Y1 (ko) 포토마스크

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010202