JPH1013083A - 電磁波吸収体 - Google Patents
電磁波吸収体Info
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- JPH1013083A JPH1013083A JP8167699A JP16769996A JPH1013083A JP H1013083 A JPH1013083 A JP H1013083A JP 8167699 A JP8167699 A JP 8167699A JP 16769996 A JP16769996 A JP 16769996A JP H1013083 A JPH1013083 A JP H1013083A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ギガヘルツ帯の高周波に対するＥＭＣ・
ＥＭＩ対策として利用可能な、薄型で透明性の高い電磁
波吸収体を提供する。 【解決手段】 透明有機高分子からなる誘電体層の両表
面上に抵抗皮膜として金属酸化物、金属窒化物又はこれ
らの混合物のいずれかからなる薄膜を形成した電磁波吸
収体。
ＥＭＩ対策として利用可能な、薄型で透明性の高い電磁
波吸収体を提供する。 【解決手段】 透明有機高分子からなる誘電体層の両表
面上に抵抗皮膜として金属酸化物、金属窒化物又はこれ
らの混合物のいずれかからなる薄膜を形成した電磁波吸
収体。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はギガヘルツ帯の高周
波に対するＥＭＣ・ＥＭＩ対策として利用される電磁波
吸収体に関する。
波に対するＥＭＣ・ＥＭＩ対策として利用される電磁波
吸収体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、電波利用が進むにつれ電波障害、
電子機器の誤動作などの問題が表面化してきている。こ
れらの問題解決のために、薄型の電磁波吸収体が利用さ
れ、効果を挙げている。ここで利用される電磁波吸収体
として、たとえば、フェライト、金属、カーボンなど
の導電性フィラーを有機高分子材料の成型体に練り混
み、分散配合して構成された吸収体、導電性繊維を一
定間隔で格子状に配列して抵抗皮膜を構成した吸収体、
ポリエチレン発泡体、塩化ビニール樹脂板、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂板、ポリカーボネート樹脂板など
を誘電体層とし、その表面に導電体層を有した吸収体な
どが提案されている。
電子機器の誤動作などの問題が表面化してきている。こ
れらの問題解決のために、薄型の電磁波吸収体が利用さ
れ、効果を挙げている。ここで利用される電磁波吸収体
として、たとえば、フェライト、金属、カーボンなど
の導電性フィラーを有機高分子材料の成型体に練り混
み、分散配合して構成された吸収体、導電性繊維を一
定間隔で格子状に配列して抵抗皮膜を構成した吸収体、
ポリエチレン発泡体、塩化ビニール樹脂板、ポリメチ
ルメタクリレート樹脂板、ポリカーボネート樹脂板など
を誘電体層とし、その表面に導電体層を有した吸収体な
どが提案されている。
【０００３】しかしながら、前述した吸収体について
は、フィラーの分散状態、膜厚のバラツキにより短波長
領域では電波吸収性能が低下する問題があり、また透明
性を付与できないという問題を有している。
は、フィラーの分散状態、膜厚のバラツキにより短波長
領域では電波吸収性能が低下する問題があり、また透明
性を付与できないという問題を有している。
【０００４】また吸収体については、短波長に対する
ためには格子間隔を密にする必要があり、コストの上昇
を招くとともに、やはり透明性を付与するのが難しい点
に欠点を有している。
ためには格子間隔を密にする必要があり、コストの上昇
を招くとともに、やはり透明性を付与するのが難しい点
に欠点を有している。
【０００５】吸収体については、誘電体層の透明性が
良好なため、透明性を付与することが可能であるが、誘
電体の比誘電率が小さいため、誘電体の膜厚を厚くする
必要があり、薄型の電磁波吸収体とすることは不可能で
ある。
良好なため、透明性を付与することが可能であるが、誘
電体の比誘電率が小さいため、誘電体の膜厚を厚くする
必要があり、薄型の電磁波吸収体とすることは不可能で
ある。
【０００６】このように、従来の電磁波吸収体では、透
明性を有する薄型の電磁波吸収体は得られていない。
明性を有する薄型の電磁波吸収体は得られていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、この
ような問題を解決し、短波長領域においても電波の吸収
特性が低下しない、透明性の良好な薄型の電磁波吸収体
を提供することにある。
ような問題を解決し、短波長領域においても電波の吸収
特性が低下しない、透明性の良好な薄型の電磁波吸収体
を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明者は鋭意検討を行った結果、本発明を完成す
るに至った。
め、本発明者は鋭意検討を行った結果、本発明を完成す
るに至った。
【０００９】本発明の電磁波吸収体は、透明有機高分子
からなる誘電体層の両表面上に抵抗皮膜として金属酸化
物、金属窒化物又はこれらの混合物のいずれかからなる
薄膜を形成したものである。
からなる誘電体層の両表面上に抵抗皮膜として金属酸化
物、金属窒化物又はこれらの混合物のいずれかからなる
薄膜を形成したものである。
【００１０】この誘電体層としては、金属アクリレート
及び金属メタクリレートの少なくとも一方を含む共重合
樹脂組成物、又は、電界によりポーリング処理を施した
アクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルポリマー
およびその共重合体を用いることが好ましい。
及び金属メタクリレートの少なくとも一方を含む共重合
樹脂組成物、又は、電界によりポーリング処理を施した
アクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルポリマー
およびその共重合体を用いることが好ましい。
【００１１】本発明において透明有機高分子材料として
共重合に使用される金属アクリレートまたは金属メタク
リレートとしては、亜鉛、銅、銀、鉄、ニッケル、コバ
ルト、マンガン、マグネシウム、鉛、アルミニウム、カ
ルシウム、ストロンチウム、バリウム、ガリウム、イト
ッリウム、インジウム、ランタン、ネオジム、ユウロピ
ウム、ホルミウム、ガドリニウム、イッテルビウム、タ
リウム、ルテニウム、バナジウム、ニオブ、ルテチウ
ム、プラセオジム、エルビウム等のアクリル酸塩又はメ
タクリル酸塩を例示できる。
共重合に使用される金属アクリレートまたは金属メタク
リレートとしては、亜鉛、銅、銀、鉄、ニッケル、コバ
ルト、マンガン、マグネシウム、鉛、アルミニウム、カ
ルシウム、ストロンチウム、バリウム、ガリウム、イト
ッリウム、インジウム、ランタン、ネオジム、ユウロピ
ウム、ホルミウム、ガドリニウム、イッテルビウム、タ
リウム、ルテニウム、バナジウム、ニオブ、ルテチウ
ム、プラセオジム、エルビウム等のアクリル酸塩又はメ
タクリル酸塩を例示できる。
【００１２】さらに上記金属アクリレート又は金属メタ
クリレートと共重合可能な化合物として、アクリル酸メ
チルなどのアクリル酸エステル化合物、メタクリル酸メ
チルなどのメタクリル酸エステル化合物、エチレン、プ
ロピレン、などのオレフィン類、スチレンなどの不飽和
結合を有する芳香族化合物、塩化ビニル、アクリロニト
リル、酢酸ビニルなどのビニル化合物を例示することが
できる。
クリレートと共重合可能な化合物として、アクリル酸メ
チルなどのアクリル酸エステル化合物、メタクリル酸メ
チルなどのメタクリル酸エステル化合物、エチレン、プ
ロピレン、などのオレフィン類、スチレンなどの不飽和
結合を有する芳香族化合物、塩化ビニル、アクリロニト
リル、酢酸ビニルなどのビニル化合物を例示することが
できる。
【００１３】金属アクリレート化合物あるいは金属メタ
クリレート化合物を共重合することにより、透明有機高
分子の比誘電率を大きくすることができ、その結果、誘
電体層の膜厚を薄くすることが可能である。
クリレート化合物を共重合することにより、透明有機高
分子の比誘電率を大きくすることができ、その結果、誘
電体層の膜厚を薄くすることが可能である。
【００１４】上記共重合樹脂組成物において金属アクリ
レートあるいは金属メタクリレートの共重合組成比は特
に限定されないが、共重合樹脂組成物の比誘電率の向上
効果を十分に得ることができ、かつ、共重合樹脂組成物
の機械的強度及び化学的安定性を維持するために、５重
量％以上５０重量％以下が好ましい。
レートあるいは金属メタクリレートの共重合組成比は特
に限定されないが、共重合樹脂組成物の比誘電率の向上
効果を十分に得ることができ、かつ、共重合樹脂組成物
の機械的強度及び化学的安定性を維持するために、５重
量％以上５０重量％以下が好ましい。
【００１５】また、本発明において誘電体層として使用
されるアクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルと
共重合可能な化合物として、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチルなどのアクリル酸エステル化合物、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタクリル酸エ
ステル化合物、エチレン、プロピレン、ブタジエンなど
のオレフィン類、スチレンなどの不飽和結合を有する芳
香族化合物、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルエーテル
などのビニル化合物を例示することができる。
されるアクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルと
共重合可能な化合物として、アクリル酸メチル、アクリ
ル酸エチルなどのアクリル酸エステル化合物、メタクリ
ル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタクリル酸エ
ステル化合物、エチレン、プロピレン、ブタジエンなど
のオレフィン類、スチレンなどの不飽和結合を有する芳
香族化合物、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルエーテル
などのビニル化合物を例示することができる。
【００１６】上記のアクリロニトリルポリマー、メタク
リロニトリルポリマー、アクリロニトリル及びメタクリ
ロニトリルの少なくとも一方を含む共重合体又はそれら
を少なくとも２種以上含む混合体は、電界により分子の
配向を制御し、一方向にそろえるポーリング処理を施す
ことにより、その比誘電率を増大することが可能であ
り、その結果、上記高分子材料を誘電体層とする電磁波
吸収体の膜厚を薄くすることが可能である。
リロニトリルポリマー、アクリロニトリル及びメタクリ
ロニトリルの少なくとも一方を含む共重合体又はそれら
を少なくとも２種以上含む混合体は、電界により分子の
配向を制御し、一方向にそろえるポーリング処理を施す
ことにより、その比誘電率を増大することが可能であ
り、その結果、上記高分子材料を誘電体層とする電磁波
吸収体の膜厚を薄くすることが可能である。
【００１７】誘電体層の両表面上に形成する抵抗皮膜
は、金属酸化物、金属窒化物又はこれらの混合物のいず
れかからなる薄膜であれば良いが、ＩＴＯ（酸化インジ
ウム／酸化スズ）、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜
鉛又は窒化チタンのいずれかからなる薄膜であることが
好ましい。この抵抗皮膜の膜厚は、皮膜の抵抗値が高く
なりすぎず、かつ、良好な生産性を維持するために、
０．００１μｍ以上０．２μｍ以下であることが好まし
く、０．００２μｍ以上０．１μｍ以下であることがさ
らに好ましい。この抵抗皮膜の形成には、通常の薄膜形
成方法が使用可能であるが、イオンプレーティング法、
蒸着法又はスパッタリング法のいずれかの方法により形
成することが好ましい。
は、金属酸化物、金属窒化物又はこれらの混合物のいず
れかからなる薄膜であれば良いが、ＩＴＯ（酸化インジ
ウム／酸化スズ）、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜
鉛又は窒化チタンのいずれかからなる薄膜であることが
好ましい。この抵抗皮膜の膜厚は、皮膜の抵抗値が高く
なりすぎず、かつ、良好な生産性を維持するために、
０．００１μｍ以上０．２μｍ以下であることが好まし
く、０．００２μｍ以上０．１μｍ以下であることがさ
らに好ましい。この抵抗皮膜の形成には、通常の薄膜形
成方法が使用可能であるが、イオンプレーティング法、
蒸着法又はスパッタリング法のいずれかの方法により形
成することが好ましい。
【００１８】誘電体層の両表面上に形成された抵抗皮膜
の表面には、電磁波吸収体の取り扱い時に擦れにより傷
ついて、電磁波吸収体の特性劣化を招くことのないよう
に、有機高分子フィルム若しくはシートによりラミネー
トするか又は有機塗料によりコーティングするなどの方
法で有機保護膜を形成することが好ましい。本発明にお
ける保護膜の厚さは、十分な保護能を得るために０．５
μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であること
がさらに好ましい。
の表面には、電磁波吸収体の取り扱い時に擦れにより傷
ついて、電磁波吸収体の特性劣化を招くことのないよう
に、有機高分子フィルム若しくはシートによりラミネー
トするか又は有機塗料によりコーティングするなどの方
法で有機保護膜を形成することが好ましい。本発明にお
ける保護膜の厚さは、十分な保護能を得るために０．５
μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上であること
がさらに好ましい。
【００１９】以上のように、金属アクリレート及び金属
メタクリレートの少なくとも一方を含む共重合樹脂組成
物、又は、電界によりポーリング処理を施した、アクリ
ロニトリルポリマー、メタクリロニトリルポリマー、ア
クリロニトリル及びメタクリロニトリルの少なくとも一
方を含む共重合体若しくはそれらを少なくとも２種以上
含む混合体を誘電体層とし、その両表面に抵抗皮膜を有
し、さらに有機保護膜で保護する積層構造とすることに
より、透明性の良好な薄型の電磁波吸収体を提供するこ
とができる。
メタクリレートの少なくとも一方を含む共重合樹脂組成
物、又は、電界によりポーリング処理を施した、アクリ
ロニトリルポリマー、メタクリロニトリルポリマー、ア
クリロニトリル及びメタクリロニトリルの少なくとも一
方を含む共重合体若しくはそれらを少なくとも２種以上
含む混合体を誘電体層とし、その両表面に抵抗皮膜を有
し、さらに有機保護膜で保護する積層構造とすることに
より、透明性の良好な薄型の電磁波吸収体を提供するこ
とができる。
【００２０】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるもので
はない。
するが、本発明はこれら実施例にのみ限定されるもので
はない。
【００２１】（実施例１）鉛ジメタクリレート１０重量
％を含有するメチルメタクリレート共重合体を用い、厚
さ２．８ｍｍのシートを作製した。
％を含有するメチルメタクリレート共重合体を用い、厚
さ２．８ｍｍのシートを作製した。
【００２２】この共重合樹脂シートの両面にスパッタリ
ング法によりＩＴＯを２８０オングストローム積層し
た。
ング法によりＩＴＯを２８０オングストローム積層し
た。
【００２３】ついで、抵抗皮膜を保護する目的でサラン
樹脂８０μｍで上記積層シートをラミネートし、電磁波
吸収体を作製した。
樹脂８０μｍで上記積層シートをラミネートし、電磁波
吸収体を作製した。
【００２４】図１に本実施例１の電磁波吸収体の断面構
造を示す模式図を示す。
造を示す模式図を示す。
【００２５】このようにして形成した積層シートを図２
に示す測定系の密閉箱の窓にセットし、周波数−吸収特
性を測定した。
に示す測定系の密閉箱の窓にセットし、周波数−吸収特
性を測定した。
【００２６】図３に周波数（ＧＨｚ）と透過減衰量（ｄ
Ｂ）の測定結果を示す。なお、被測定電磁波吸収体の有
無による近磁界プローブで検出される信号レベルの差を
とって、透過減衰量としている。
Ｂ）の測定結果を示す。なお、被測定電磁波吸収体の有
無による近磁界プローブで検出される信号レベルの差を
とって、透過減衰量としている。
【００２７】（実施例２）鉛ジメタクリレート２５重量
％を含有するメチルメタクリレート共重合体を用い、厚
さ１．５ｍｍのシートを作製した。
％を含有するメチルメタクリレート共重合体を用い、厚
さ１．５ｍｍのシートを作製した。
【００２８】この共重合樹脂シートに実施例１と同様に
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
【００２９】このようにして形成した積層シートを使用
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
【００３０】図４に周波数（ＧＨｚ）と透過減衰量（ｄ
Ｂ）の測定結果を示す。
Ｂ）の測定結果を示す。
【００３１】（実施例３）亜鉛ジメタクリレート２５重
量％を含有するメチルメタクリレート共重合体を用い、
厚さ１．５ｍｍのシートを作製した。
量％を含有するメチルメタクリレート共重合体を用い、
厚さ１．５ｍｍのシートを作製した。
【００３２】この共重合樹脂シートに実施例１と同様に
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
【００３３】このようにして形成した積層シートを使用
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
【００３４】図５に周波数（ＧＨｚ）と透過減衰量（ｄ
Ｂ）の測定結果を示す。
Ｂ）の測定結果を示す。
【００３５】（実施例４）共重合体組成比４０／６０の
アクリロニトリル−スチレン共重合体を厚さ２．８ｍｍ
のシート状に成型し、この成型体を電極板で挟み込み、
１２０℃に加熱しながら３００Ｖの電界を印加しながら
徐々に冷却することによりポーリング処理を行った。
アクリロニトリル−スチレン共重合体を厚さ２．８ｍｍ
のシート状に成型し、この成型体を電極板で挟み込み、
１２０℃に加熱しながら３００Ｖの電界を印加しながら
徐々に冷却することによりポーリング処理を行った。
【００３６】この共重合樹脂シートに実施例１と同様に
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
【００３７】このようにして形成した積層シートを使用
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
【００３８】図６に周波数（ＧＨｚ）と透過減衰量（ｄ
Ｂ）の測定結果を示す。
Ｂ）の測定結果を示す。
【００３９】（実施例５）アクリロニトリル重合体を厚
さ１．５ｍｍのシート状に成型し、この成型体を電極板
で挟み込み、１１０℃に加熱しながら３００Ｖの電界を
印加しながら徐々に冷却することによりポーリング処理
を行った。
さ１．５ｍｍのシート状に成型し、この成型体を電極板
で挟み込み、１１０℃に加熱しながら３００Ｖの電界を
印加しながら徐々に冷却することによりポーリング処理
を行った。
【００４０】この共重合樹脂シートに実施例１と同様に
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
【００４１】このようにして形成した積層シートを使用
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
【００４２】図７に周波数（ＧＨｚ）と透過減衰量（ｄ
Ｂ）の測定結果を示す。
Ｂ）の測定結果を示す。
【００４３】（実施例６）共重合体組成比６５／３５の
メタクリロニトリル−スチレン共重合体を厚さ３．０ｍ
ｍのシート状に成型し、この成型体を電極板で挟み込
み、１３０℃に加熱しながら３００Ｖの電界を印加しな
がら徐々に冷却することによりポーリング処理を行っ
た。
メタクリロニトリル−スチレン共重合体を厚さ３．０ｍ
ｍのシート状に成型し、この成型体を電極板で挟み込
み、１３０℃に加熱しながら３００Ｖの電界を印加しな
がら徐々に冷却することによりポーリング処理を行っ
た。
【００４４】この共重合樹脂シートに実施例１と同様に
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
ＩＴＯを積層し、ついで、抵抗皮膜を保護するサラン樹
脂をラミネートし、電磁波吸収体を作製した。
【００４５】このようにして形成した積層シートを使用
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
し実施例１と同様に、周波数−吸収特性を測定した。
【００４６】図８に周波数（ＧＨｚ）と透過減衰量（ｄ
Ｂ）の測定結果を示す。
Ｂ）の測定結果を示す。
【００４７】
【発明の効果】以上詳述したように、金属アクリレート
及び金属メタクリレートの少なくとも一方を含有した比
誘電率の高い透明有機高分子、又は、電界によりポーリ
ング処理を施した、アクリロニトリル若しくはメタクリ
ロニトリルポリマー及び／又はそれらの少なくとも一方
を含む共重合体を誘電体層に使用し、その両面に抵抗皮
膜を積層することにより、従来の電磁波吸収体と比較し
て薄型で透明性の高い電磁波吸収体を提供できる。
及び金属メタクリレートの少なくとも一方を含有した比
誘電率の高い透明有機高分子、又は、電界によりポーリ
ング処理を施した、アクリロニトリル若しくはメタクリ
ロニトリルポリマー及び／又はそれらの少なくとも一方
を含む共重合体を誘電体層に使用し、その両面に抵抗皮
膜を積層することにより、従来の電磁波吸収体と比較し
て薄型で透明性の高い電磁波吸収体を提供できる。
【図１】本発明の電磁波吸収体の断面構造を示す模式図
である。
である。
【図２】実施例で使用した電磁波吸収特性の測定系を示
す模式図である。
す模式図である。
【図３】本発明の実施例１の周波数（ＧＨｚ）−透過減
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
【図４】本発明の実施例２の周波数（ＧＨｚ）−透過減
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
【図５】本発明の実施例３の周波数（ＧＨｚ）−透過減
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
【図６】本発明の実施例４の周波数（ＧＨｚ）−透過減
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
【図７】本発明の実施例５の周波数（ＧＨｚ）−透過減
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
【図８】本発明の実施例６の周波数（ＧＨｚ）−透過減
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
衰量（ｄＢ）の測定結果を示す図である。
１ ・・・誘電体層 ２、３・・・抵抗皮膜 ４、５・・・有機保護膜 ６ ・・・スペクトラムアナライザー ７ ・・・増幅器 ８ ・・・近磁界プローブ ９ ・・・トラッキングジェネレーター １０ ・・・磁界発生源アンテナ １１ ・・・被測定電磁波吸収体 １２ ・・・被試験密閉箱
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 27/30 Ｂ３２Ｂ 27/30 Ａ Ｈ０１Ｑ 17/00 Ｈ０１Ｑ 17/00
Claims (6)
- 【請求項１】 透明有機高分子からなる誘電体層の両表
面上に抵抗皮膜として金属酸化物、金属窒化物又はこれ
らの混合物のいずれかからなる薄膜を形成したことを特
徴とする電磁波吸収体。 - 【請求項２】 誘電体層が金属アクリレート及び／又は
金属メタクリレートを含む共重合樹脂組成物からなるこ
とを特徴とする請求項１記載の電磁波吸収体。 - 【請求項３】 誘電体層が電界によりポーリング処理を
施したアクリロニトリルあるいはメタクリロニトリルポ
リマーおよびその共重合体からなることを特徴とする請
求項１記載の電磁波吸収体。 - 【請求項４】 抵抗皮膜がＩＴＯ（酸化インジウム／酸
化スズ）、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛又は窒
化チタンのいずれかからなり、その膜厚が０．００１μ
ｍ以上０．２μｍ以下であることを特徴とする請求項１
〜３のいずれか１項に記載の電磁波吸収体。 - 【請求項５】 抵抗皮膜をイオンプレーティング法、蒸
着法又はスパッタリング法のいずれかの方法により形成
したことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記
載の電磁波吸収体。 - 【請求項６】 抵抗皮膜の表面に有機高分子フィルム、
有機高分子シート又は有機塗膜のいずれかからなる保護
膜を装着したことを特徴とする請求項１〜５のいずれか
１項に記載の電磁波吸収体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8167699A JPH1013083A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 電磁波吸収体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8167699A JPH1013083A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 電磁波吸収体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1013083A true JPH1013083A (ja) | 1998-01-16 |
Family
ID=15854587
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8167699A Pending JPH1013083A (ja) | 1996-06-27 | 1996-06-27 | 電磁波吸収体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1013083A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0944299A2 (en) * | 1998-03-19 | 1999-09-22 | Lintec Corporation | Electric wave shielding material |
| JP2000299588A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Takenaka Komuten Co Ltd | 電磁波シールドパネル |
| JP2006093414A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 伝導ノイズ抑制体および伝導ノイズ対策方法 |
| JP2006093413A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Ｅｍｃ対策部材およびｅｍｃ対策方法 |
| JP2006186725A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Central Glass Co Ltd | 電磁波吸収板 |
| US7276291B2 (en) * | 1998-11-02 | 2007-10-02 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive articles and methods of making same |
| JP2012119690A (ja) * | 2007-06-26 | 2012-06-21 | Shimizu Corp | 電波吸収体の製造方法 |
| US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| US8904819B2 (en) | 2009-12-31 | 2014-12-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
| US8955217B2 (en) | 1999-10-25 | 2015-02-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for edge sealing barrier films |
| US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
| US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
| US9822454B2 (en) | 2006-12-28 | 2017-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
| US9839940B2 (en) | 2002-04-15 | 2017-12-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| CN111180898A (zh) * | 2020-01-16 | 2020-05-19 | 吉林大学 | 多值电阻集成的超构宽带光学透明微波吸波器件 |
| US10950821B2 (en) | 2007-01-26 | 2021-03-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
-
1996
- 1996-06-27 JP JP8167699A patent/JPH1013083A/ja active Pending
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0944299A3 (en) * | 1998-03-19 | 2000-05-31 | Lintec Corporation | Electric wave shielding material |
| EP0944299A2 (en) * | 1998-03-19 | 1999-09-22 | Lintec Corporation | Electric wave shielding material |
| US7276291B2 (en) * | 1998-11-02 | 2007-10-02 | 3M Innovative Properties Company | Transparent conductive articles and methods of making same |
| JP2000299588A (ja) * | 1999-04-15 | 2000-10-24 | Takenaka Komuten Co Ltd | 電磁波シールドパネル |
| US8955217B2 (en) | 1999-10-25 | 2015-02-17 | Samsung Display Co., Ltd. | Method for edge sealing barrier films |
| US9839940B2 (en) | 2002-04-15 | 2017-12-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
| JP2006093414A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 伝導ノイズ抑制体および伝導ノイズ対策方法 |
| JP2006093413A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | Ｅｍｃ対策部材およびｅｍｃ対策方法 |
| JP2006186725A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Central Glass Co Ltd | 電磁波吸収板 |
| US7623058B2 (en) | 2004-12-28 | 2009-11-24 | Central Glass Company, Limited | Electromagnetic wave absorbing plate |
| US9822454B2 (en) | 2006-12-28 | 2017-11-21 | 3M Innovative Properties Company | Nucleation layer for thin film metal layer formation |
| US10950821B2 (en) | 2007-01-26 | 2021-03-16 | Samsung Display Co., Ltd. | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
| JP2012119690A (ja) * | 2007-06-26 | 2012-06-21 | Shimizu Corp | 電波吸収体の製造方法 |
| US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
| US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
| US9362530B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-06-07 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
| US8904819B2 (en) | 2009-12-31 | 2014-12-09 | Samsung Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
| CN111180898A (zh) * | 2020-01-16 | 2020-05-19 | 吉林大学 | 多值电阻集成的超构宽带光学透明微波吸波器件 |
| CN111180898B (zh) * | 2020-01-16 | 2021-05-07 | 吉林大学 | 多值电阻集成的超构宽带光学透明微波吸波器件 |
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