JPH1012666A - 半導体素子の実装方法とその装置 - Google Patents

半導体素子の実装方法とその装置

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JPH1012666A
JPH1012666A JP18015796A JP18015796A JPH1012666A JP H1012666 A JPH1012666 A JP H1012666A JP 18015796 A JP18015796 A JP 18015796A JP 18015796 A JP18015796 A JP 18015796A JP H1012666 A JPH1012666 A JP H1012666A
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JP
Japan
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circuit board
semiconductor element
chip
pads
electrode
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JP18015796A
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English (en)
Inventor
Masahiro Azumaguchi
昌浩 東口
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH1012666A publication Critical patent/JPH1012666A/ja
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector

Landscapes

  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 接続部に複雑な処理が不要で、短時間で低処
理コストで回路基板に半導体素子を実装可能な半導体素
子の実装方法を提供する。 【解決手段】 回路基板1に凸状の電極部2を形成し、
パッド5を備えた半導体のチップ3を、パッド5を電極
部2にシート状接着剤7を介して対接配置し、対接され
たパッド5と電極部2とを導通状態で接合配置し、加圧
下で200℃で5秒間加熱し、回路基板1の電極部2に
チップ6のパッド5を接続し、パッド5と電極部2との
接合部以外の回路基板1とチップ3の対向間隙部に、光
硬化性樹脂8が充填され、回路基板1を裏面から照射し
光硬化性樹脂8を硬化させ、導電接続されたチップ3と
回路基板1とを互いに固定し、チップ3のパッド5に処
理が不要で、製造コストを低減して、パッド5と電極部
2とが導通接続され、回路基板1とチップ3とが互いに
固定装着された高品質の半導体素子の実装装置を製造す
ることが可能になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回路基板に半導体
素子を実装する半導体素子の実装方法と回路基板に半導
体素子が実装された半導体素子の実装装置とに関する。
【0002】
【従来の技術】特開昭64−37038号公報には、ワ
イヤボンダのキャピラリに挿通された合金ワイヤの先端
を電気トーチで加熱しボール部を形成し、このボール部
を半導体チップの電極に接続し、キャピラリを引き上げ
てボール部に連続するワイヤ部を形成し、ワイヤの先端
を基板上の配線に接続されたボール部に接続することに
より、接合部の割れや剥がれのない半導体材料の接続方
法が開示されている。また、特開平2−72642号公
報には、第1の導電材の突起を形成した基板と、第1の
導電材よりも低融点の第2の導電材が埋め込まれた凹部
を形成した基板とを、突起を凹部内に配置して両基板を
接続する基板の接続構造が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】前述の各公報に開示さ
れている回路基板間の接続方法、或いは回路基板と半導
体素子との接続方法は、何れも接続部に複雑な処理を施
す必要があり、処理に長時間を要すると共に製造コスト
上でも問題があった。
【0004】本発明は、前述したようなこの種の半導体
素子の実装方法の現状に鑑みてなされたものであり、そ
の第1の目的は、接続部に複雑な処理が不要で、短時間
で低処理コストで回路基板に半導体素子を実装すること
が可能な半導体素子の実装方法を提供することにある。
【0005】また、本発明の第2の目的は、接続部に複
雑な処理が不要で、短時間に製造コストを削減して製造
可能な半導体素子の実装装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記第1の目的を達成す
るために、請求項1記載の発明は、回路基板に半導体素
子を実装する半導体素子の実装方法であり、前記回路基
板の電極を凸状に形成する電極形成工程と、前記半導体
素子のパッド部に対して、前記電極を導通状態に対接配
置させる接合工程と、該接合工程で接合した前記パッド
部及び前記電極以外の前記回路基板と前記半導体素子と
の対向面間に、接着固定剤を充填し前記回路基板と前記
半導体素子とを互いに固定する固定工程とを有すること
を特徴とするものである。
【0007】同様に前記第1の目的を達成するために、
請求項2記載の発明は、請求項1記載の発明に対して、
前記接合工程に続いて実行され、前記半導体素子のパッ
ド部と前記回路基板の電極との導通状態を確認する導通
確認工程が設けられていることを特徴とするものであ
る。
【0008】前記第2の目的を達成するために、請求項
3記載の発明は、回路基板に半導体素子が実装された半
導体素子の実装装置であり、電極が凸状に形成された回
路基板と、前記電極にパッド部が導通状態に対接配置さ
れ、前記電極に前記パッド部が接合される半導体素子
と、互いに接合された前記パッド部及び前記電極以外の
前記回路基板と前記半導体素子の対向面間に充填される
接着固定剤とを有することを特徴とするものである。
【0009】
【発明の実施の形態】
[第1の実施の形態]本発明の半導体素子の実装方法に
係る第1の実施の形態を、図1を参照して説明する。図
1は本実施の形態の構成を示す説明図である。
【0010】本実施の形態では、図1(a)に示すよう
に、PCB基板、MCMキャリア、FCBなどの回路基
板1には、電極形成工程において、W、Cu、Ag、A
u、Alなどで凸状の電極部2が形成されており、この
回路基板1に対して、接続対象の金属被膜のパッド5を
備えた半導体のチップ3が、パッド5を回路基板1の電
極部2に、ホットメルトタイプのシート状接着剤7を介
して対接して配置される。次いで、接合工程で、同図
(b)に示すように、シート状接着剤7を挟んで、互い
に対接されたパッド5と電極部2とを導通状態で接合配
置し、加圧状態で200℃で5秒間加熱することによ
り、回路基板1の電極部2に、シート状接着剤7によっ
て、チップ6のパッド5を接続する。
【0011】そして、固定工程において、パッド5と電
極部2との接合部以外の回路基板1とチップ3との対向
間隙部に、エパキシやアクリルなどの光硬化性樹脂8が
充填され、回路基板1を裏面側から照射し、光硬化性樹
脂8を硬化させることにより、パッド5と電極部2とで
導電状態に接続されたチップ3と回路基板1とが互いに
固定される。
【0012】このような本実施の形態の半導体の実装方
法によって、図1(c)に示すように、回路基板1の凸
状に形成された電極部2に、パッド5が導通状態で接合
されてチップ3が回路基板1に、光硬化性樹脂8により
固定された構成の半導体素子の実装装置が製造される。
【0013】以上に説明したように、本実施の形態によ
ると、チップ3のパッド5に何らの処理を施す必要がな
く、製造コストを低減して、チップ3のパッド5と、回
路基板1の電極部2とが導通接続された状態で、回路基
板1とチップ3とを互いに固定装着された高品質の半導
体素子の実装装置を製造することが可能になる。
【0014】[第2の実施の形態]本発明の半導体素子
の実装方法に係る第2の実施の形態を、図2を参照して
説明する。図2は本実施の形態の主要部の構成を示す説
明図である。
【0015】本実施の形態では、すでに図1を参照して
説明した第1の実施の形態の接合工程に続いて、導通確
認工程が実行されるものであり、この導通確認工程で
は、図2に示すように、導通検出器10が使用され、こ
の導通検出器10は、コ字状のソケット11の底面に、
テスタに接続されるリード線13が取り付けられた複数
のプローバーピン12が固定された構成を有している。
この導通確認工程では、導通検出器10がソケット11
部分で回路基板1に装着され、プローバーピン12の端
部が、回路基板1の裏面において、電極部2に接続され
ている電極パッド15に圧接され、リード線13に接続
されたテスタによって、互いに接合されたチップ3のパ
ッド5と回路基板1の電極部2との導通が確認される。
本実施の形態のその他の工程は、すでに説明した第1の
実施の形態と同一なので、重複する説明は行わない。
【0016】このような本実施の形態の半導体の実装方
法によって、第1の実施の形態と同様に、図1(c)に
示すように、回路基板1の凸状に形成された電極部2
に、パッド5が導通状態で接合されてチップ3が回路基
板1に、光硬化性樹脂8により固定された構成の半導体
素子の実装装置が製造される。
【0017】以上に説明したように、本実施の形態によ
ると、チップ3のパッド5に何らの処理を施す必要がな
く、製造コストを低減して、チップ3のパッド5が回路
基板1の電極部2に導通接続された状態で、チップ3と
回路基板1とが互いに固定装着された高品質の半導体素
子の実装装置を、導通接続をチェックしながら、必要に
応じて実装調整を行って高精度で製造することが可能に
なる。
【0018】なお、以上の各実施の形態では、チップ3
のパッド5と回路基板1の電極部2とを、シート状接着
剤7を使用し加圧加熱の手段によって、互いに導通状態
で接続する場合を説明したが、本発明は、各実施の形態
に限定されるものではなく、UV硬化接着剤、瞬間接着
剤などを使用して、チップ3のパッド5と回路基板1の
電極部2とを互いに接続することも可能である。
【0019】
【発明の効果】請求項1記載の発明によると、回路基板
に対する半導体素子の実装時に、電極形成工程で、回路
基板の電極が凸状に形成され、対接工程で、半導体素子
のパッド部に対して電極が導通状態で対接配置され、固
定工程では、互いに接合されたパッド部及び電極以外の
回路基板と半導体素子との対向面間に、接着固定剤が充
填され回路基板と半導体素子とが互いに固定されるの
で、半導体素子のパッド部に何らの処理を施す必要がな
く、製造コストを低減して高品質の半導体素子の実装装
置を製造することが可能になる。
【0020】請求項2記載の発明によると、請求項1記
載の発明で得られる効果に加えて、接合工程に続いて、
半導体素子のパッド部と回路基板の電極との導通状態
が、導通確認工程で実行され、半導体素子のパッド部と
回路基板の電極との導通状態を確実に確認しながら、必
要に応じて実装調整を行って回路基板に対する半導体素
子の実装が行われるので、高品質の半導体素子の実装装
置をより精度よく製造することが可能になる。
【0021】請求項3記載の発明によると、回路基板に
電極が凸状に形成され、この電極に半導体素子のパッド
部が導通状態に対接配置され、該電極にパッド部が接合
され、互いに接合されたパッド部及び電極以外の回路基
板と半導体素子の対向面間に、接着固定剤が充填されて
いるので、低製造コストで製造可能で、高品質の回路基
板に半導体素子が実装された半導体素子の実装装置が提
供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体素子の実装方法の第1の実
施の形態の構成を示す説明図である。
【図2】本発明に係る半導体素子の実装方法の第2の実
施の形態の主要部の構成を示す説明図である。
【符号の説明】
1 回路基板 2 電極部 3 チップ 5 パッド 7 シート状接着剤 8 光硬化性樹脂

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回路基板に半導体素子を実装する半導体
    素子の実装方法であり、 前記回路基板の電極を凸状に形成する電極形成工程と、 前記半導体素子のパッド部に対して、前記電極を導通状
    態に対接配置させる接合工程と、 該接合工程で接合した前記パッド部及び前記電極以外の
    前記回路基板と前記半導体素子との対向面間に、接着固
    定剤を充填し前記回路基板と前記半導体素子とを互いに
    固定する固定工程とを有することを特徴とする半導体素
    子の実装方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体素子の実装方法に
    対して、 前記接合工程に続いて実行され、前記半導体素子のパッ
    ド部と前記回路基板の電極との導通状態を確認する導通
    確認工程が設けられていることを特徴とする半導体素子
    の実装方法。
  3. 【請求項3】 回路基板に半導体素子が実装された半導
    体素子の実装装置であり、 電極が凸状に形成された回路基板と、 前記電極にパッド部が導通状態に対接配置され、前記電
    極に前記パッド部が接合される半導体素子と、 互いに接合された前記パッド部及び前記電極以外の前記
    回路基板と前記半導体素子の対向面間に充填される接着
    固定剤とを有することを特徴とする半導体素子の実装装
    置。
JP18015796A 1996-06-20 1996-06-20 半導体素子の実装方法とその装置 Pending JPH1012666A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6992721B1 (en) 1999-08-31 2006-01-31 Fujitsu Limited Image pickup device attachable to electronic apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6992721B1 (en) 1999-08-31 2006-01-31 Fujitsu Limited Image pickup device attachable to electronic apparatus

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