JPH10116768A - 薬液処理装置および薬液処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 例えば現像液からなる薬液による物理的アタ
ックや供給量の不均一さに起因する現像ばらつきを低減
でき、現像均一性を向上させることができるとともに現
像欠陥の発生を防止する。 【解決手段】 薬液処理装置としての現像装置１は、被
処理物であるウエハ１００の被処理面１００ａに薬液を
供給するノズル６を備え、ノズル６の吐出口６１側に溜
まり部７が設けられている。溜まり部７は、底７１を有
する筒状体７２からなるもので、筒体７２は円筒形状の
堰７２となる。そして、吐出口６１から吐出された薬液
を溜まり部７に一旦溜め、溜めた薬液を堰７２からオー
バーフローさせて被処理面１００ａに供給し、被処理面
１００ａを薬液処理する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置の製造
に用いられる薬液処理装置および薬液処理方法に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体装置製造に用いられる従来の薬液
処理技術としては、被処理物の被処理面に塗布されてパ
ターン露光されたフォトレジスト（以下、単にレジスト
と記す）を現像する現像処理技術が知られている。そし
て現像処理技術では、近年のＬＳＩの高集積化およびそ
のデザインルールの縮小化に伴って、現像処理に用いる
レジストの性能および現像方法に、より高度なものが要
求されている。一般にレジストの性能は、露光部と未露
光部との溶解速度の差が大きいほど良いことが知見され
ている。この溶解速度の差は溶解コントラストと呼ば
れ、これが大きいほどレジストパターンの断面形状が矩
形に近くなる。溶解コントラストが大きいほど良いとさ
れるのは、断面形状が矩形に近いほど次の工程でエッチ
ングの変換差、ばらつきが小さくなり、高精度の加工が
可能になるからである。また溶解コントラストが大きい
ほどレジストの解像度が高く、したがってより微細なパ
ターン形成が可能になるためである。

【０００３】そこで従来では、この溶解コントラストを
大きくするためにレジストに様々な改良が加えられてい
る。その一つに、レジストに表面難溶化効果を持たせる
ことが挙げられる。これは未露光部のレジストに現像液
が接触すると、未露光部の溶解速度が極端に減少すると
いった効果である。この効果をレジストに持たせること
によって、加工形状やレジストの解像度が大きく向上し
ている。

【０００４】一方、上記のようにレジストの高性能化が
進む中で、現像後に得られるレジストパターンの断面形
状は現像方法に大きく依存することが知見されてきてい
る。例えばレジストの解像度、レジストパターンの断面
形状は、現像液の攪拌が小さい方が良く、また現像均一
性はレジストにできるだけ現像液による物理的アタック
を与えずかつレジストに現像液を均一に供給する方が良
いことが知られている。そして特にこの現像均一性は、
現像処理を行う現像装置に備えられたノズルからの現像
液の吐出速度、吐出量、吐出方向に影響されることが指
摘されている。したがって、レジストに対して現像液を
均一に供給できかつ現像液の物理的アタックが少ないこ
と、つまり均一かつソフトに現像液を盛れることが、現
像均一性の向上を図るうえで重要であると考えられる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の現像
装置のノズルは筒状をなし、一つの略円形の吐出口から
現像液を吐出するものが主流になっている。このため従
来装置を用いた現像処理では、現像液が直接供給される
部分が例えば被処理面の中心部のみといった具合に限定
され、微細なレジストパターンを形成する場合に、現像
液が直接供給される部分とそうでない部分とで大きな現
像ばらつきが生じる。

【０００６】またこのようなノズルから現像液を吐出さ
せる場合には、被処理面上のレジストに供給する全体の
現像液量を増加させるとノズルからの吐出速度が速くな
って着地点が遠くなり、結果としてレジストへの物理的
アタックが強くなる。よって従来の現像処理では現像の
制御性が悪く、現像ばらつきが大きくなる。さらに現像
液を吐出する吐出口の径によって吐出量が変化するた
め、ノズルの製造に高い精度が必要であり、手間がかか
るといった難点もある。

【０００７】また従来の現像処理では、いわゆるマイク
ロバブルに起因する現像欠陥が生じるといった不具合が
ある。この欠陥は、ノズルの吐出口から吐出された現像
液が直に被処理面に供給されることから、現像液中に溶
け込んでいるガスが被処理面面でマイクロバブルにな
り、例えばその部分に現像液が供給されないことによっ
て生じるのである。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明に係る薬液処理装置の第１の発明は、薬液を被
処理物の被処理面に供給するノズルの吐出口側に、有底
筒状の溜まり部が設けられているものである。

【０００９】この発明では、ノズルの吐出口側に溜まり
部が設けられているので、吐出口から吐出された薬液が
溜まり部の筒状体内に一旦溜まる。筒状体内が薬液で満
たされると、一旦溜められた薬液は筒状体からオーバー
フローして下方に配置される被処理物の被処理面に供給
されることになる。したがって、ノズルから吐出された
薬液が被処理面に直に供給されないため、薬液による被
処理面への物理的アタックが強くならず、被処理面に薬
液がソフトに盛られる。また溜まり部に薬液が一旦溜め
られ、そこからオーバーフローして被処理面に供給され
るため、ノズルの吐出口の径に多少のばらつきがあって
も、薬液の供給量はほとんどばらつかない。さらに薬液
が筒状体の上端縁からオーバーフローするため、被処理
面の薬液が供給される部分が一部に限定されず、通常の
薬液の供給量であれば、筒状体の上端縁に応じた形状で
被処理面に供給される。

【００１０】本発明に係る薬液処理装置の第２の発明
は、薬液を被処理物の被処理面に供給するノズルが、こ
のノズルの吐出口側から下側側方に延びて形成された流
路面を有する分散部を備え、その流路面の下端縁が水平
方向に幅を有して形成されてなるものである。

【００１１】この発明では、ノズルの吐出口から吐出さ
れた薬液が流路面を伝って流れ、その下端縁から下方に
配置される被処理面へと供給される。この際、下端縁が
水平方向に幅を有しているため、通常の薬液の供給量で
あれば下端縁幅に応じた幅で被処理面に薬液が均一に供
給される。よって、被処理面において薬液が供給される
部分が一部に限定されない。また、薬液が流路面を伝っ
て流れることにより薬液に溶け込んでいるガスが取り除
かれた後に、被処理面に供給される。さらにノズルから
吐出された薬液が流路面と伝って流れて被処理面に供給
されることから、ノズルから被処理面に薬液が直に供給
されない。よって被処理面に供給する全体の薬液の量を
増加させても、薬液による被処理面への物理的アタック
が強くならず、被処理面上に薬液がソフトに盛られる。

【００１２】本発明に係る薬液処理方法の第１の発明
は、ノズルから吐出された薬液を一旦溜め、溜めた薬液
をオーバーフローさせて被処理物の被処理面に供給し、
この被処理面を薬液処理する方法である。

【００１３】この発明では、ノズルから吐出された薬液
を一旦溜め、溜めた薬液をオーバーフローさせて被処理
面に供給してノズルから薬液を被処理面に直に供給しな
いようにするため、薬液による被処理面への物理的アタ
ックが弱められ、被処理面に薬液がソフトに盛られる。
また薬液を一旦溜め、オーバーフローさせて被処理面に
供給するため、ノズルの吐出口の径に多少のばらつきが
あっても、薬液の供給量はほとんどばらつかない。

【００１４】本発明に係る薬液処理方法の第２の発明
は、ノズルの吐出口側に、下端縁が水平方向に幅を有す
る流路面を形成した分散部をこの流路面が傾斜した状態
となるように設け、ノズルから吐出された薬液を流路面
に流してこの下端縁から被処理物の被処理面に供給し、
被処理面を薬液処理する方法である。

【００１５】この発明では、ノズルから吐出された薬液
を流路面に流して、その水平方向に幅を有する下端縁か
ら被処理面へ供給するため、通常の薬液の供給量であれ
ば下端縁の幅に応じた幅で被処理面に薬液を均一に供給
することが可能になる。よって、被処理面において薬液
が供給される部分が一部に限定されない。また、薬液を
流路面に流すことで薬液に溶け込んでいるガスが取り除
かれることから、ガスが取り除かれた薬液が被処理面に
供給される。さらにノズルから吐出された薬液を流路面
に流した後に被処理面に供給するため、ノズルから被処
理面に薬液が直に供給されない。よって被処理面に供給
する全体の薬液の量を増加させても、薬液による被処理
面への物理的アタックが強くならず、被処理面上に薬液
をソフトに盛ることが可能になる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る薬液処理装置
および薬液処理方法の実施の形態を図面に基づいて説明
する。なお、本実施形態では、本発明の被処理物をウエ
ハとするとともに被処理面をウエハのレジストが形成さ
れた面とし、この被処理面のレジストを現像する現像装
置およびその現像方法に本発明を適用した例について述
べる。

【００１７】図１は第１実施形態を説明するための図で
あり、第１の発明の薬液処理装置に係る第１の例を示し
たものである。また図１において（ａ）は概略構成図、
（ｂ）は要部断面図であり、（ａ）はウエハを載置した
状態を示している。図１（ａ）に示すようにこの現像装
置１は、処理槽２、処理槽２内に設けられたウエハ１０
０用の載置台３と、薬液である現像液の供給手段、純水
の供給手段（図示略）および搬送手段（図示略）を備え
て構成されている。

【００１８】処理槽２は、例えば平面視略円形の現像カ
ップからなるものである。また載置台３は、ウエハ１０
０を載置する載置面（図示略）が回転可能に設けられた
ものであるとともにチャック機構を有するものである。
載置面の回転は、例えば図示しないモータによってなさ
れる。したがって、載置台３の載置面には、ウエハ１０
０が回転可能に載置されかつこのチャック機構によって
保持されるようになっている。供給手段４は、載置面上
に載置されたウエハ１００の被処理面１００ａに現像液
を供給するためのもので、ノズルアーム５とこの先端に
設けられたノズル６と、ノズル６の先端に設けられた溜
まり部７とを備えている。

【００１９】ノズルアーム５は、載置面上に載置された
ウエハ１００の上方にノズル６を移動させるためのもの
である。またノズルアーム５は、例えば現像液供給路を
兼ねたものとなっており、直管状もしくは直管の先端が
下方に延びた略Ｌ字状に形成されている。上記したよう
にノズルアーム５の先端にはノズル６が設けられている
一方、後端には例えば供給管（図示略）を介して現像液
を貯留しているタンクが接続されている。ノズル６は従
来と同様に筒状に形成されており、ノズル６の先端に設
けられている現像液用の略円形状の吐出口６１が下方の
載置面に向いた状態で設けられている。

【００２０】溜まり部７は、図１（ｂ）に示すようにノ
ズル６から吐出した現像液を受けて溜めるもので、底７
１を有する筒状体７２、すなわち有底筒状体からなって
いる。この現像装置１において、溜まり部７の底７１の
底面７１ａおよび筒状体７２内の底部７３は平面視略円
形状に形成されているとともに、略水平な面からなって
いる。また筒状体７２は円筒形状の堰となるもので、溜
まり部７の底面７１ａから上方に向けて略垂直に立ち上
がった状態に形成されている。この筒状体（以下、堰と
記す）７２の半径は、例えばウエハ１００が８インチの
場合、１ｃｍ〜５ｃｍ程度に形成されている。

【００２１】さらに溜まり部７には、堰７２内の底部７
３の略中心に、ノズル６の吐出口６１の径よりも小さい
径を有し、底部７３から略垂直に立ち上がった棒状のガ
イド部７４が設けられている。このガイド部７４は、そ
の上端側がノズル６の吐出口６１内に挿入されること
で、溜まり部７とノズル６との相対的な位置合わせを可
能にするといった役割を有している。そしてこのような
溜まり部７は、ガイド部７４の上端側がノズル６の吐出
口６１内に挿入された状態でノズル６の吐出口６１側に
設けられている。

【００２２】なお、ノズルアーム５、ノズル６および溜
まり部７は、現像液に対して耐薬品性を有する材料、例
えばフッ素系の材料やステンレス等で形成されている。
また、ノズル６および溜まり部９は複数カ所で安定して
支持されている。純水の供給手段は、載置面上に載置さ
れたウエハ１００の被処理面１００ａに純水を供給する
ためのもので、先端から純水を吐出するノズルを備えて
いる。搬送手段は、現像処理の前の処理、すなわちレジ
ストのパターン露光後の熱処理（post-exposure bake;
ＰＥＢ）を終えたウエハ１００を載置台３まで搬送し、
現像処理後に載置台３上のウエハ１００を次の処理装置
まで搬送するメインアーム（図示略）を備えている。

【００２３】このように構成された現像装置１では、ノ
ズル６の吐出口６１側に溜まり部７が設けられているた
め、図２の矢印に示すように吐出口６１から吐出された
現像液２００は溜まり部７の堰７２内に一旦溜まる。堰
７２内が現像液２００で満たされると、一旦溜められた
現像液２００は堰７２の上端縁７２ｃを越え、つまりオ
ーバーフローして下方のウエハ１００の被処理面１００
ａへと流れる。この結果、被処理面１００ａに現像液２
００が供給される。したがって、ノズル６から吐出され
た現像液２００が被処理面１００ａのレジストに直に供
給されないので、被処理面１００ａに供給する全体の現
像液２００の量を増加させても、現像液２００によるレ
ジストへの物理的アタックが強くならず、レジスト上に
現像液２００をソフトに盛ることができる。

【００２４】また溜まり部７に現像液２００を一旦溜
め、オーバーフローさせて供給するため、ノズル６の吐
出口６１の径に多少のばらつきがあっても、その影響を
ほとんど受けない。つまり、溜まり部７から被処理面１
００ａに供給される現像液２００の供給量を常にほぼ均
一とすることができる。よって、ノズル６を高精度に製
造する必要がないため、製造が容易になる。さらに堰７
２が円筒形状に形成されていることから、現像液２００
が供給される部分が一部に限定されず、通常の現像液２
００の供給量であれば、溜まり部７を中心にして被処理
面１００ａの全方向にほぼ均一に現像液２００を供給す
ることができる。

【００２５】また吐出された現像液２００が溜まり部７
に一旦溜まるため、吐出終了後にノズルアーム５を移動
させた際、現像液２００が被処理面１００ａに落ちると
いった液だれを防止することができる。したがって、こ
の現像装置１によれば、現像液２００による物理的アタ
ックや供給量の不均一さ、液だれに起因する現像ばらつ
きを低減できるので、現像均一性を向上させることがで
きる。つまり、設計寸法が同一のレジストパターンをウ
エハ１００の被処理面１００ａ内にて均一な寸法に形成
することができる。また液だれによる現像欠陥の発生を
防止することができる。さらにノズル６の製造が非常に
容易になるので、生産性の向上を図ることができる。

【００２６】次に上記現像装置１を用いたレジストの現
像方法に基づき、第１の発明に係る薬液処理方法の一実
施形態を説明する。まず、表面にレジストが塗布され、
パターン露光、熱処理が行われたウエハ１００をメイン
アームによって載置台３の載置面上に載置し、チャック
機構によって保持させる。次いでウエハ１００を３０ｒ
ｐｍ程度の回転数で回転させながら、ノズルアーム５に
よってウエハ１００の上方でかつ被処理面１００ａの略
中心位置にノズル６および溜まり部７を移動させる。

【００２７】そして図２に示すように、ノズル６から現
像液２００を吐出させて溜まり部７に一旦溜め、溜めた
現像液１００を堰７２からオーバーフローさせて例えば
９０ｃｃ程度被処理面１００ａに供給する。次いで、現
像液２００の供給を停止するとともにウエハ１００の回
転を停止し、被処理面１００ａに現像液２００を盛った
状態を所定時間、例えば６０秒程度保持する。この間
に、被処理面１００ａのレジストが現像される。その
後、ウエハ１００を１０００ｒｐｍ程度の回転数で回転
させながら、純水の供給手段によって被処理面１００ａ
に純水を供給して水洗いし、現像液２００を除去する。
このことによりレジストの現像が停止する。

【００２８】そして純水の供給を停止し、ウエハ１００
の回転数を４０００ｒｐｍまで上昇させて純水を振り切
り被処理面１００ａを乾燥させる。乾燥後、ウエハ１０
０の回転を停止させ、メインアームによってウエハ１０
０を載置台３から次の工程に搬送する。以上の工程によ
って、被処理面１００ａのレジストの現像処理を終了す
る。

【００２９】この現像方法では、ノズル６からの現像液
２００を溜まり部７に一旦溜めつつ、溜めた現像液２０
０をオーバーフローさせて被処理面１００ａに供給す
る。そのため、現像液２００が直に被処理面１００ａに
供給される従来に比較して、現像液２００により被処理
面１００ａ上のレジストが受ける物理的アタックを低減
することができる。また現像液２００を溜まり部７に一
旦溜め、オーバーフローさせて被処理面１００ａに供給
するので、たとえノズル６から吐出された現像液２００
の量がばらついても、被処理面１００ａへの供給量をほ
ぼ均一に制御することができる。

【００３０】したがって、この現像方法によれば、被処
理面１００ａに現像液２００をソフトにかつ均一に盛る
ことができるので、前述した現像装置１と同様に、現像
均一性を向上させることができる。また従来のようにノ
ズル６を高精度に製造しなくても良いため、ノズル６の
製造が非常に容易になるといった効果も得ることができ
る。

【００３１】次に、上記した第１実施形態の現像装置１
および現像方法により、８インチのウエハ１００の被処
理面１００ａに形成されたレジストの現像処理を行った
実験結果について述べる。現像処理するレジストとして
は、化学増幅型のレジストをウエハ１００表面に０．７
μｍ程度の厚みに塗布形成し、縮小投影露光装置（ステ
ッパ）を用いて１０ｍＪ／ｃｍ² の露光量でパターン露
光したものを用いた。

【００３２】現像処理の結果、０．３μｍの線幅のレジ
ストパターンで３σ＝０．０１２μｍ（σ＝標準偏差）
と非常に良好な線幅均一性が得られた。このことから、
第１実施形態の現像装置１および現像方法によれば、ウ
エハ１００の面内にて均一性良く現像を行うことができ
ることが確認された。また、現像装置１では液だれの発
生が認められなかった。そして欠陥検査装置を用い、ウ
エハ１００の被処理面１００ａ全面において開孔不良と
いったような現像欠陥を検査したところ、従来装置を用
いた場合では現像欠陥が１５個であったのに対し、現像
装置１を用いた場合には現像欠陥が０．３個であった。
よって、第１実施形態の現像装置１および現像方法によ
れば、現像均一性を向上することができ、かつ現像欠陥
を低減できるため、半導体装置の製造歩留りの向上を図
ることが可能になる。

【００３３】なお、上記実施形態の現像方法では、ウエ
ハ１００の上方にノズル６および溜まり部７を位置させ
た後、ノズル６を動かすことなく現像液２００の供給を
行ったが、回転しているウエハ１００の被処理面１００
ａに対してノズル６および溜まり部７をスキャンさせな
がら、またはノズル６および溜まり部７をノズル６を中
心にして回転させながら現像液２００を供給してもよ
い。この場合には、さらに被処理面１００ａ全体に均一
に現像液２００を供給できるため、現像ばらつきを一層
低減することができる。また被処理面１００ａ上に生じ
る現像液２００中のガスによるマイクロバブルも取り除
くことができるので、マイクロバブルによる現像欠陥を
低減できるといった効果も得られる。さらに上記現像方
法では、ウエハ１００を回転させながら現像液２００を
供給したが、ウエハ１００を停止した状態でウエハ１０
０の被処理面１００ａに対してノズル６および溜まり部
７をスキャンさせながら、またはノズル６および溜まり
部７をノズル６を中心にして回転させながら現像液２０
０を供給してもよい。

【００３４】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第２
の例である第２実施形態の現像装置を図３に示す要部斜
視図を用いて説明する。第２実施形態の現像装置１１に
おいて、第１実施形態の現像装置１と相違するところは
溜まり部９の形状にある。

【００３５】すなわち、この現像装置１１の溜まり部９
は、短辺と長辺とからなる平面視略長方形状の底９１を
有する四角筒形状の筒状体９２からなる。またこの筒状
体９２の四面を構成する四側部のうち対向する一対の側
部は堰９２１となるものである。ここでは、筒状体９２
内の底部９３が例えば短辺と長辺とからなる平面視略長
方形状であり、底部９３の長辺から立ち上がった筒状体
９２の側部がそれぞれ、短辺から立ち上がった側部より
も低く形成された堰９２１となっている。したがって、
略平行に配置された二つの堰２１が備えられている。ま
た溜まり部９の長さ、つまり堰９２１の長さは、図４に
示すように例えばウエハ１００の半径程度の長さに形成
されている。また溜まり部９には、筒状体９２内の底部
９３における短手方向の略中心に、底部９３から略垂直
に立ち上がった板状のガイド部９４が、底部９３の長手
方向に亘って設けられている。

【００３６】一方、現像装置１１のノズル８は、その吐
出口（図示略）が例えばガイド部９４の厚みよりも大き
な幅を有するスリット状に形成されている。このノズル
８には、例えばノズルアーム５（図１参照）と吐出口と
の間に、吐出口の長さ方向に均一に現像液を供給する調
整機構（図示略）が設けられている。そして上記した溜
まり部９は、ガイド部９４の上端側がノズル８の吐出口
内に挿入された状態でノズル８の吐出口側に設けられて
いる。またこのようにガイド部９４の上端側がノズル８
の吐出口内に挿入されることで、溜まり部９とノズル８
とが相対的に位置合わせされた状態になっている。な
お、これらノズル８および溜まり部９も、現像液に対し
て耐薬品性を有する材料、例えばフッ素系の材料やステ
ンレス等で形成されている。またノズル８および溜まり
部９は複数カ所で安定して支持されている。

【００３７】このように構成された現像装置１１では、
第１実施形態と同様に、ノズル８の吐出口側に溜まり部
９が設けられているため、吐出口から吐出された現像液
が溜まり部９の筒状体９２内に一旦溜まり、堰９２１を
オーバーフローして下方のウエハ１００の被処理面１０
０ａへと流れる。この結果、被処理面１００ａに現像液
が供給される。したがって、被処理面１００ａに供給す
る全体の現像液の量を増加させても、現像液によるレジ
ストへの物理的アタックが強くならず、レジスト上に現
像液をソフトに盛ることができる。またノズル８の吐出
口の寸法に多少のばらつきがあっても、被処理面１００
ａに供給される現像液の供給量を常にほぼ均一とするこ
とができる。よって、ノズル８を容易に製造することが
できる。

【００３８】また堰９２１が直線状に形成されているこ
とから、現像液が供給される部分が一部に限定されず、
通常の現像液の供給量であれば、被処理面１００ａに堰
９２１の長さに対応した幅で現像液を均一に供給するこ
とができる。また吐出された現像液が溜まり部９に一旦
溜まるため、吐出終了後にノズルアーム５を移動させた
際、現像液が被処理面１００ａに落ちるといった液だれ
を防止することができる。

【００３９】さらにこの現像装置１１では、二つの堰９
２１が間隔をあけて設けられており、よって各堰９２１
からオーバーフローした現像液同士がつながることなく
被処理面１００ａに供給される。つまり、溜まり部９の
底面９１ａが現像液で取り囲まれないため、オーバーフ
ローした現像液の間に空気が巻き込まれて、溜まり部９
の底面９１ａと現像液とにより空気溜まりが形成され、
これによって被処理面１００ａにバブルが形成されるの
を防止できる。よって、バブルの発生による現像ばらつ
きや現像欠陥の発生を防ぐことができる。したがって、
この現像装置１１によれば、第１実施形態の現像装置１
の効果に加えて、バブルの発生による現像ばらつきや現
像欠陥の発生を防ぐことができるため、より現像均一性
の向上および現像欠陥の低減を図ることができる。

【００４０】この現像装置１１を用いて、上記実施形態
の現像方法と同様にしてレジストの現像処理の実験を行
った。この際、ウエハ１００の上方にノズル８および溜
まり部９を位置させた後、ノズル８を動かすことなく現
像液を供給した。現像処理するレジストとしては、化学
増幅型のレジストをウエハ１００表面に０．７μｍ程度
の厚みに塗布形成し、縮小投影露光装置（ステッパ）を
用いて１０ｍＪ／ｃｍ ² の露光量でパターン露光したも
のを用いた。

【００４１】現像処理の結果、０．３μｍの線幅のレジ
ストパターンで３σ＝０．０１２μｍと非常に良好な線
幅均一性が得られた。このことから、第２実施形態の現
像装置１１によれば、被処理面１００ａ内にて均一性良
く現像を行うことができることが確認された。また、現
像装置１１では液だれの発生が認められなかった。そし
て欠陥検査装置を用い、ウエハ１００の被処理面１００
ａ全面において開孔不良といったような現像欠陥を検査
したところ、従来装置を用いた場合では現像欠陥が１５
個であったのに対し、現像装置１１を用いた場合には現
像欠陥が０．３個であった。よって、この結果から確認
されるように、第２実施形態の現像装置１１によって
も、設計寸法が同一のレジストパターンを被処理面１０
０ａ内にて均一な寸法に形成することができかつ現像欠
陥を低減できるため、半導体装置の製造歩留りの向上を
図ることが可能になる。

【００４２】なお、この現像装置１１を用いた現像方法
では、ウエハ１００の上方にノズル８および溜まり部９
を位置させた後、ノズル８を動かすことなく現像液の供
給を行ったが、回転しているウエハ１００の被処理面１
００ａに対してノズル８および溜まり部９をスキャンさ
せながら、またはノズル８および溜まり部９をノズル８
の長さ方向の略中心を軸にして回転させながら現像液を
供給してもよい。この場合には、さらに被処理面１００
ａ全体に均一に現像液を供給できるため、現像ばらつき
を一層低減することができる。また被処理面１００ａ上
に生じる現像液中のガスによるマイクロバブルも取り除
くことができるので、マイクロバブルによる現像欠陥を
低減できるといった効果も得られる。またさらに上記現
像方法では、ウエハ１００を回転させながら現像液２０
０を供給したが、ウエハ１００を停止した状態でウエハ
１００の被処理面１００ａに対してノズル６および溜ま
り部７をスキャンさせながら、またはノズル６および溜
まり部７をノズル６を中心にして回転させながら現像液
２００を供給してもよい。

【００４３】また上記第２実施形態では、溜まり部９の
長さ（堰９２１の長さ）がウエハ１００の半径程度の長
さに形成されている場合について述べたが、これに限定
されない。例えば図５に示すようにウエハ１００の直径
程度の長さに形成することも可能である。つまり８イン
チのウエハ１００であれば、例えば２ｃｍ〜２２ｃｍ程
度の範囲で形成することができる。堰９２１の長さがウ
エハ１００の直径程度の長さに形成されていれば、より
被処理面１００ａ全体に均一に現像液を供給できるた
め、現像ばらつきをより一層低減することができる。

【００４４】さらに第２実施形態では、ノズル８の吐出
口がスリット状である場合について述べたが、ガイド部
９４の上端に沿って複数の吐出口が並設されていてもよ
いのはもちろんである。また第２実施形態では、筒状体
９２の四面を構成する四側部のうち対向する一対の側部
が堰９２１からなっている場合について述べたが、図６
に示すように一対の側部のうちの一方のみを堰９２１と
してもよい。

【００４５】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第３
の例である第３実施形態の現像装置を図７（ａ）に示す
要部斜視図および同図（ｂ）に示す要部断面図を用いて
説明する。第３実施形態の現像装置１２において、第１
実施形態の現像装置１と異なるところは、溜まり部７の
ガイド部７４にある。すなわち、この溜まり部７では、
第１実施形態と同様にガイド部７４が、堰７２内の底部
７３からノズル６の吐出口６１側に向けて立ち上がった
状態で形成されている一方、吐出口６１から吐出した現
像液を堰７２内に導く流路面７４ａを備えている。

【００４６】この流路面７４ａは、ノズル６の吐出口６
１から堰７２内の底部７３に向けて傾斜しており、さら
にその底部７３に略連続して形成されている。この実施
形態では、堰７２の内面７２ａ近傍の底部７３位置に連
続し、かつ若干の凹状の曲率を有した状態で流路面７４
ａが形成されている。

【００４７】このような溜まり部７を備えた現像装置１
２では、図８の矢印に示すようにノズル６から吐出され
た現像液２００が流路面７４ａを伝って流れ、溜まり部
７の堰７２内に導かれて一旦溜まる。このように現像液
２００が流路面７４ａを伝って流れることにより、現像
液２００内に溶け込んでいるガスが取り除かれる。ま
た、溜まった現像液２００は堰７２をオーバーフローし
て下方の被処理面１００ａへと流れる。したがって、こ
の現像装置１２を用いれば、ガスが取り除かれた現像液
２００を被処理面１００ａに形成されているレジストに
供給することができる。このため、従来のように現像液
２００内に溶け込んでいるガスが被処理面１００ａでマ
イクロバブルになることに因る現像欠陥の発生を防止す
ることができる。

【００４８】この現像装置１２を用いて、前記実施形態
の方法と同様にしてレジストの現像処理の実験を行っ
た。現像処理するレジストとしては、化学増幅型のレジ
ストをウエハ１００表面に０．７μｍ程度の厚みに塗布
形成し、縮小投影露光装置（ステッパ）を用いて１０ｍ
Ｊ／ｃｍ² の露光量でパターン露光したものを用いた。
現像処理の結果、０．３μｍの線幅のレジストパターン
で３σ＝０．０１２μｍと非常に良好な線幅均一性が得
られた。このことから、第２実施形態の現像装置１２に
よれば、被処理面１００ａ内にて均一性良く現像を行う
ことができることが確認された。また、現像装置１２で
は液だれの発生が認められなかった。そして欠陥検査装
置を用い、ウエハ１００の被処理面１００ａ全面におい
て開孔不良といったような現像欠陥を検査したところ、
従来装置を用いた場合では現像欠陥が１５個であったの
に対し、現像装置１２を用いた場合には現像欠陥が０．
３個であった。

【００４９】したがって、この結果から確認されるよう
に、第２実施形態の現像装置１２によっても、設計寸法
が同一のレジストパターンを被処理面１００ａ内にて均
一な寸法に形成することができ、かつ現像欠陥を低減で
きるため、半導体装置の製造歩留りの向上を図ることが
可能になる。

【００５０】なお、第３実施形態では、第１実施形態の
有底円筒形状の溜まり部７におけるガイド部７４が流路
面７４ａを有している場合について述べたが、図９の第
４実施形態に示すごとく、第２実施形態（図３参照）で
述べた有底四角形状の溜まり部９おいて、板状のガイド
部９４の両面を流路面９４ａとしてもよい。この場合、
流路面９４ａはノズル８の吐出口から筒状体９２内の底
部９３に向けて傾斜しており、さらにその底部９３に略
連続して形成されている。この実施形態では、堰９２１
の内面９２１ａ近傍の底部９３位置に連続しかつ凹状の
曲率を有した状態で流路面９４ａが形成されている。

【００５１】このような溜まり部７を備えた現像装置１
３でも、ノズル８の先端から吐出された現像液が流路面
９４ａを伝って流れ、溜まり部９の筒状体９２内に導か
れて一旦溜まる。このため、流路面９４ａを伝って流れ
ることによりガスが取り除かれた現像液を被処理面１０
０ａに形成されているレジストに供給することができ
る。したがって、第３実施形態と同様に、マイクロバブ
ルに起因する現像欠陥の発生を防止することができる。

【００５２】この現像装置１３を用いて、第２実施形態
の方法と同様にしてレジストの現像処理の実験を行った
ところ、被処理面１００ａ内にて均一性良く現像を行う
ことができることが確認された。また、現像装置１３で
は液だれの発生が認められなかった。そして欠陥検査装
置を用い、ウエハ１００の被処理面１００ａ全面におい
て開孔不良といったような現像欠陥を検査したところ、
現像欠陥が低減したことが確認された。よって、第４実
施形態の現像装置１３によっても、現像均一性を向上で
きかつ現像欠陥を低減できるため、半導体装置の製造歩
留りの向上を図ることができる。

【００５３】なお、第４実施形態では、筒状体９２の四
面を構成する四側部のうち、対向する一対の側部が堰９
２１からなっている溜まり部９について述べたが、図１
０に示すように一対の側部のうちの一方のみを堰９２１
とした溜まり部９において、ガイド部９４が流路面９４
ａを有したものとすることもできる。

【００５４】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第５
の例である第５実施形態の現像装置を図１１に示す要部
断面図を用いて説明する。第５実施形態の現像装置１４
は、溜まり部７の堰７２の内面７２ａが凹状に曲率を有
した状態に形成されている点で、第１実施形態の現像装
置１と相違している。

【００５５】このような現像装置１４では、堰７２の内
面７２ａが凹状に曲率を有した状態に形成されているの
で、ノズル６の吐出口６１（図１参照）から吐出した現
像液が溜まり部７に溜まる際に、堰７２内の内面７２ａ
でソフトに当たって跳ね返り難い。このため、現像液に
バブルが立ちにくく、結果として現像液内への空気の巻
き込みが抑制される。よってこの現像装置１４によれ
ば、現像液内への空気の巻き込みを抑えつつ被処理面１
００ａに現像液を供給できることから、第１実施形態と
同様の効果に加えて、現像欠陥の発生を一層抑えること
ができるといった効果を得ることができる。

【００５６】なお、この実施形態では、ガイド部７４が
堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり部
７について述べたが、例えば図１２に示す変形例のよう
に、流路面７４ａを有するガイド部７４を備えた溜まり
部７において、その堰７２の内面７２ａを凹状に曲率を
有した状態に形成することも可能である。この場合に
は、ノズル６の吐出口６１から吐出した現像液が流路面
７４ａを伝って流れ落ち、そのまま堰７２内の内面７２
ａに沿うため、現像液の堰７２内の内面７２ａへの当た
りがさらにソフトになる。したがって、バブルが立って
現像液内に空気が巻き込まれるのを一層抑制することが
できるので、さらに現像欠陥の発生を抑えることができ
る。

【００５７】また第５実施形態では、有底円筒形状の溜
まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の有底
四角形状の溜まり部９において、堰９２１の内面９２１
ａを凹状に曲率を有した状態に形成してもよい。この場
合にも、上記実施形態と同様の効果を得ることができ
る。

【００５８】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第６
の例である第６実施形態の現像装置を図１３に示す要部
断面図を用いて説明する。第６実施形態の現像装置１５
では、上記の第５実施形態と堰７２の上端縁７２ｃ付近
の形状が相違している。すなわち、現像装置１５では、
溜まり部７が堰７２の上端縁７２ｃから下側側方に延出
したひさし７５が形成されている。また、凹状に曲率を
有した状態に形成された堰７２の内面７２ａに連続する
ように、堰７２の上端縁７２ｃが凸状に曲率を有した状
態に形成されている。

【００５９】このような現像装置１５では、ノズル６の
吐出口６１（図１参照）から吐出された現像液が堰７２
内に一旦溜まってオーバーフローする際に、現像液がひ
さし７５を伝って下方へと流れる。このため、現像液が
堰７２の外面７２ｂを伝って溜まり部７の底面７１ａに
回り込むのを防止することができるので、吐出後に溜ま
り部７の底面７１ａに現像液が残っていることがない。
よって、吐出終了後のノズルアーム５の移動時に、溜ま
り部７の底面７１ａに残っていた現像液が被処理面１０
０ａに落ちるといった液だれを確実に防止することがで
きる。また溜まり部７の底面７１ａに現像液が回り込ま
ないため、通常の現像液の供給量であれば、溜まり部７
を中心にして被処理面１００ａの全方向にほぼ均一に現
像液を供給することができる。

【００６０】さらにノズル６から吐出された現像液が堰
７２内の内面７２ａでソフトに当たって一端溜まった後
に、ひさし７５を伝って下方へとスムーズに流れるの
で、現像液が溜まり部７に溜まるときだけでなく、オー
バーフローする際にもバブルが立ち難い。よってこのバ
ブルに起因する現像欠陥の発生を一層抑制できるものと
なる。したがって、この現像装置１５によれば、液だれ
に起因する現像ばらつきを確実に防止できるとともに現
像液を被処理面１００ａの全方向に確実に供給できるこ
とから、現像均一性を一層向上できる。また同時に、液
だれに起因する現像欠陥を確実に抑えることができかつ
バブルに起因する現像欠陥も抑制することができる。

【００６１】なお、この実施形態では、ガイド部７４が
堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり部
７にひさし７５を設けた場合について述べたが、例えば
図１４（ａ）、（ｂ）の変形例に示すように、流路面７
４ａを有するガイド部７４を備えかつ堰７２の内面７２
ａを凹状に曲率を有した状態に形成した溜まり部７にお
いて、堰７２にひさし７５を設けることも可能である。
この場合には、ノズル６の吐出口６１（図１参照）から
吐出した現像液が流路面７４ａを伝って流れ落ち、その
まま堰７２内の内面７２ａに沿うため、現像液の堰７２
内の内面７２ａへの当たりがさらにソフトになる。した
がって、バブルが立って現像液内に空気が巻き込まれる
のを一層抑制することができるので、さらに現像欠陥の
発生を抑えることができる。

【００６２】また図１４（ｂ）の第２変形例のように、
ひさし７５の先端をさらに下方に延出した状態に形成す
れば、現像液におけるバブルの発生をさらに抑制しつつ
溜まり部７からオーバーフローさせることができる。

【００６３】さらに第６実施形態では、有底円筒形状の
溜まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の有
底四角形状の溜まり部９において、ひさし７５を設ける
ことも可能である。この場合にも、液だれに起因する現
像ばらつきを確実に防止できるとともに被処理面１００
ａに堰９２１の長さに対応した幅に現像液を確実に供給
できることから、現像均一性を一層向上できる。また同
時に、液だれに起因する現像欠陥を確実に抑えることが
できかつバブルに起因する現像欠陥も抑制することがで
きる。

【００６４】次に、第１の発明の薬液処理装置に係る第
７の例である第７実施形態の現像装置を図１５を用いて
説明する。第７実施形態の現像装置１６において、第１
実施形態の現像装置１と相違するところは、溜まり部７
の底面７１ａに突条部７６が設けられていることにあ
る。すなわち、この現像装置１６では、溜まり部７の底
面７１ａでかつ堰７２の直下位置に、底面７１ａから下
方に突出した状態で突条部７６が設けられている。突条
部７６は堰７２に沿って設けられており、また突条部７
６における堰７２の外面７２ａ側の面が、その外面７２
ｂとほぼ面一になるように形成されている。

【００６５】このような現像装置１６では、堰７２内に
一旦溜まった現像液堰７２の上端縁７２ｃを越え下方の
被処理面１００ａへと流れ落ちる。その際、溜まり部７
の底面７１ａには、堰７２の外面７２ｂとほぼ面一に堰
７２に沿って突条部７６が設けられているため、たとえ
オーバーフローした現像液が堰７２の外面７２ｂを伝っ
ても、現像液はそのまま突条部７６の面を伝って下方に
流下し、溜まり部７の底面７１ａに回り込まない。この
結果、吐出後に溜まり部７の底面７１ａに現像液が残る
といったことを防止することができる。

【００６６】また溜まり部７の底面７１ａに現像液が回
り込まないため、通常の現像液の供給量であれば、溜ま
り部７を中心にして被処理面１００ａの全方向にほぼ均
一に現像液を供給することができる。したがって、この
現像装置１６によれば、液だれに起因する現像ばらつき
を確実に防止できるとともに現像液を被処理面１００ａ
の全方向に確実に供給できることから、現像均一性を一
層向上できる。また同時に、液だれに起因する現像欠陥
を確実に抑えることができる。

【００６７】なお、この実施形態では、ガイド部７４が
堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり部
７において、その底面７１ａに突条部７６を設けた場合
について述べたが、例えば図１６（ａ）の第１変形例に
示すように、流路面７４ａを有するガイド部７４を備え
た溜まり部７において、その底面７１ａに突条部７６を
設けてもよい。また図１６（ｂ）の第２変形例に示すよ
うに、流路面７４ａを有するガイド部７４を備えかつ堰
７２の内面７２ａを凹状に曲率を有した状態に形成した
溜まり部７において、その底面７１ａに突条部７６を設
けることも可能である。これら第１変形例および第２変
形例の場合にも、第７実施形態と同様の効果を得ること
ができる。

【００６８】さらに第７実施形態では、有底円筒形状の
溜まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の有
底四角形状の溜まり部９において、底９１の底面９１ａ
に突条部７６を設けてもよい。この場合にも、液だれに
起因する現像ばらつきを確実に防止できるとともに被処
理面１００ａに堰９２１の長さに対応した幅に現像液を
確実に供給できることから、現像均一性を一層向上でき
る。また同時に、液だれに起因する現像欠陥を確実に抑
えることができかつバブルに起因する現像欠陥も抑制す
ることができるといった効果が得られる。

【００６９】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第８
の例である第８実施形態の現像装置を図１７を用いて説
明する。第８実施形態の現像装置１７において、第１実
施形態の現像装置１と相違するところは、溜まり部７の
堰７２の外面７２ｂと溜まり部７の底面７１ａとがなす
角度が鋭角に形成されていることにある。すなわち、こ
の現像装置１７では、溜まり部７の底面７１ａが溜まり
部７の略中心側で略水平に形成されている一方、略中心
から底面７１ａの周縁に向けて斜め下方に傾斜した状態
に形成されている。堰７２は略水平な溜まり部７の底面
７１ａ対して略垂直に立ち上がっており、したがって堰
７２の外面７２ｂと溜まり部７の底面７１ａとがなす角
度が鋭角になっている。

【００７０】このような現像装置１７においても、堰７
２内に一旦溜まった現像液が堰７２をオーバーフローし
て下方の被処置面１００ａへと流れ落ちる。このとき、
堰７２の外面７２ｂと溜まり部７の底面７１ａとがなす
角度が鋭角になっているため、たとえオーバーフローし
た現像液が堰７２の外面７２ｂを伝っても、溜まり部７
の底面７１ａに回り込むことなく、溜まり部７を中心に
して被処理面の全方向にほぼ均一に供給される。また現
像液が溜まり部７の底面７１ａに回り込まないため、吐
出後に溜まり部７の底面７１ａに現像液が残らない。し
たがって、この現像装置１７によっても、第７実施形態
と同様の効果、つまり液だれおよび現像液の供給量の不
均一に起因する現像ばらつきを確実に防止でき、かつ液
だれに起因する現像欠陥を防止できるという効果を得る
ことができる。

【００７１】なお、この実施形態では、ガイド部７４が
堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり部
７において、その底面７１ａと堰７２の外面７２ｂとの
なす角度が鋭角である場合について述べたが、この例に
限定されない。例えば図１８（ａ）の変形例に示すよう
に、流路面７４ａを有するガイド部７４を備えた溜まり
部７において、その底面７１ａと堰７２の外面７２ｂと
のなす角度を鋭角とすることも可能である。また図１８
（ｂ）の変形例に示すように、流路面７４ａを有するガ
イド部７４を備えかつ堰７２の内面７２ａを凹状に曲率
を有した状態に形成した溜まり部７において、その底面
７１ａと堰７２の外面７２ｂとのなす角度を鋭角として
もよいのはもちろんである。これら変形例においても、
第８実施形態と同様の効果を得られるのは言うまでもな
い。

【００７２】また第８実施形態では、有底円筒形状の溜
まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の有底
四角形状の溜まり部９において、底９１の底面９１ａと
堰９２１の外面９２１ｂとのなす角度を鋭角としてもよ
い。この場合にも、前述した突条部７６を設けた第８実
施形態と同様の効果を得ることができる。

【００７３】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第９
の例である第９実施形態の現像装置を図１９を用いて説
明する。第９実施形態の現像装置１８において、第１実
施形態の現像装置１と相違するところは、溜まり部７の
堰７２の下端部にある。すなわち、溜まり部７には、堰
７２の下端部から略水平方向に外側に延出した延出部７
７が堰７２に沿って設けられている。また延出部７７
は、その上面７７ａが堰７２の下部から斜め下方に傾斜
した状態に形成されている。

【００７４】このような現像装置１８では、堰７２内に
一旦溜まった現像液が堰７２よりオーバーフローする
と、延出部７７の上面７７ａに落ちる。そして、この上
面７７ａを伝って延出部７７の先端から流下し、その結
果、現像液が被処理面１００ａに供給される。したがっ
て、オーバーフローした現像液の流れの勢いが延出部７
７の上面７７ａで緩和されるので、オーバーフローした
現像液がそのまま被処理面１００ａのレジストに供給さ
れる場合に比較して一層ソフトに被処理面１００ａに現
像液を供給することができる。つまり、現像液により被
処理面１００ａ上のレジストが受ける物理的アタックを
さらに低減することができる。

【００７５】また常に現像液が延出部７７の上面７７ａ
を伝って被処理面１００ａに供給されることになるた
め、現像液が溜まり部７を中心にして被処理面１００ａ
の全方向により均一に供給されることになる。したがっ
て、この現像装置１８によれば、現像液による物理的ア
タックや供給量の不均一さに起因する現像ばらつきをよ
り低減できるので、現像均一性を一層向上させることが
できる。

【００７６】なお、この実施形態では、堰７２が堰７２
内の底部７３に対して略垂直に設けられている場合につ
いて述べたが、例えば図２０（ａ）の変形例に示すよう
に堰７２の内面７２ａをその下端部から上端部に向けて
外側に傾斜した状態に設けてもよい。この場合には、堰
７２よりオーバーフローした現像液が確実に延出部７７
の上面７７ａに到達するため、現像液により被処理面１
００ａ上のレジストが受ける物理的アタックを確実に低
減できる。また同時に、現像液の供給をさらに均一に供
給することができる。

【００７７】また上記第９実施形態では、ガイド部７４
が堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり
部７において、堰７２の下端部に延出部７７を設けた場
合について述べたが、例えば図２０（ｂ）の変形例に示
すように、流路面７４ａを有するガイド部７４を備えた
溜まり部７において、堰７２の下端部に延出部７７を設
けてもよい。さらに図２０（ｃ）の変形例のように、堰
７２の内面７２ａがその下端部から上端部に向けて外側
に傾斜した状態に設けられ、流路面７４ａを有するガイ
ド部７４を備えた溜まり部７において、堰７２の下端部
に延出部７７を設けることもできる。また図２０（ｄ）
の変形例に示すように、流路面７４ａを有するガイド部
７４を備えかつ堰７２の内面７２ａを凹状に曲率を有し
た状態に形成した溜まり部７において、堰７２の下端部
に延出部７７を設けてもよい。これら変形例によって
も、第９実施形態と同様の効果を得ることができるのは
もちろんである。

【００７８】さらに第９実施形態では、有底円筒形状の
溜まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の有
底四角形状の溜まり部９において、堰９２１の下端部に
延出部７７を設けることも可能である。この場合にも、
現像均一性を一層向上できるのは第９実施形態と同様で
ある。

【００７９】次に第１の発明の薬液処理装置に係る第１
０の例である第１０実施形態の現像装置を図２１を用い
て説明する。第１０実施形態の現像装置１９において、
第１実施形態の現像装置１と相違するところは、溜まり
部７の堰７２の上端部および堰７２の内面７２ａ側の形
状にある。すなわち、堰７２の上端部が堰７２内側斜め
上方に向いた状態に形成されており、また堰７２の内面
７２ａが凹状に曲率を有した状態に形成されている。

【００８０】この現像装置１９では、堰７２の内面７２
ａが凹状に曲率を有した状態に形成されているため、ノ
ズル６の吐出口６１から吐出した現像液が溜まり部７に
溜まる際に、堰７２内の内面７２ａでソフトに当たって
跳ね返り難い。さらに、堰７２の上端部が堰７２内側斜
め上方に向いているため、現像液が溜まり部７に溜まる
際の跳ねを防止することができるとともに、現像液がオ
ーバーフローして被処理面１００ａに供給される際の流
速を下げることができる。

【００８１】よって、堰７２内の内面７２ａで現像液が
ソフトに当たるため、現像液にバブルが立ちにくく、現
像液内に空気が巻き込まれ難い。同時に現像液がオーバ
ーフローして被処理面１００ａに供給される際の流速を
下げられることから、現像液により被処理面１００ａ上
のレジストが受ける物理的アタックをより低減できる。
また現像液の跳ねを防止できるため、跳ねた現像液が被
処理面１００ａに達することに起因する現像欠陥の発生
を防ぐことができる。したがってこの現像装置１９によ
れば、現像液内への空気の巻き込みおよび現像液の跳ね
に因る現像欠陥の発生を防止できるとともに、第１実施
形態に比較して物理的アタックによる現像ばらつきを一
層低減でき、より現像均一性の向上を図ることができ
る。

【００８２】なお、この実施形態では、ガイド部７４が
堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり部
７において、堰７２の上端部が内側斜め上方に傾いた場
合について述べたが、この例に限定されない。例えば図
２２（ａ）に示す変形例のように、流路面７４ａを有す
るガイド部７４を備えかつ堰７２の内面７２ａが凹状に
曲率を有した状態に形成された溜まり部７において、堰
７２の上端部を内側斜め上方に傾いた状態に形成しても
よい。また図２２（ｂ）の変形例に示すように、流路面
７４ａを有するガイド部７４を備えかつ堰７２の内面７
２ａが凹状に曲率を有した状態に形成され、さらに底面
７１ａと堰７２の外面７２ｂとのなす角度が鋭角に形成
された溜まり部７において、堰７２の上端部を内側斜め
上方に傾いた状態に形成してもよい。また図２２（ｃ）
の変形例のように、流路面７４ａを有するガイド部７４
を備えかつ堰７２の内面７２ａが凹状に曲率を有した状
態に形成され、さらに底面７１ａに突条部７６を有する
溜まり部７において、堰７２の上端部を内側斜め上方に
傾いた状態に形成することも可能である。

【００８３】さらに第１０実施形態では、有底円筒形状
の溜まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の
有底四角形状の溜まり部９において、堰９２１の上端部
を内側斜め上方に傾いた状態に形成してもよい。この場
合にも、より現像均一性を向上できるのは第１０実施形
態と同様である。

【００８４】次に、第１の発明の薬液処理装置に係る第
１１の例である第１１実施形態の現像装置を図２３を用
いて説明する。第１１実施形態の現像装置２０におい
て、第１実施形態の現像装置１と相違するところは、溜
まり部７の堰７２内にこの堰７２に沿って中間堰７８が
設けられていることにある。この場合、中間堰７８の上
端縁７８ａが、堰７２の上端縁７２ｃよりも高い位置と
なるように中間堰７８が形成されている。

【００８５】この現像装置２０では、堰７２と中間堰７
８とで二重に堰が設けられていることから、上記したよ
うにノズル６の吐出口６１から吐出された現像液が中間
堰７８内で一旦溜まってオーバーフローした後、中間堰
７８と堰７２との間に溜まり、さらに堰７２をオーバー
フローして被処理面１００ａへと流れ落ちる。よって、
２回オーバーフローを経た後に被処理面１００ａへと供
給されるので、被処理面１００ａに供給される際の現像
液の流速が抑えられることになるとともに、現像液がよ
り均一に供給されることになる。さらに、ノズル６から
の現像液が中間堰７８内に一旦溜まる際の跳ねを防止す
ることができる。

【００８６】この結果、現像液がオーバーフローして被
処理面１００ａに供給される際の流速を下げられること
から、現像液により被処理面１００ａ上のレジストが受
ける物理的アタックをより低減できる。また被処理面１
００ａに現像液をより均一に供給できるので、現像ばら
つきをさらに低減することができる。また現像液の跳ね
を防止できるため、跳ねた現像液が被処理面１００ａに
達することに起因する現像欠陥の発生を防ぐことができ
る。したがってこの現像装置２０によれば、現像均一性
を一層向上させることができる。

【００８７】なお、この実施形態では、ガイド部７４が
堰７２内の底部７３から略垂直に立ち上がった溜まり部
７において中間堰７８を設けた場合について述べた、例
えば図２４（ａ）に示す変形例のように、流路面７４ａ
を有するガイド部７４を備えた溜まり部７において、中
間堰７８を設けることもできる。また図２４（ｂ）の変
形例のように、流路面７４ａを有するガイド部７４を備
えかつ底面７１ａと堰７２の外面７２ｂとのなす角度が
鋭角である溜まり部７において中間堰７８を設けてもよ
く、図２４（ｃ）の第３変形例のように、流路面７４ａ
を有するガイド部７４を備えかつ底面７１ａに突条部７
６を有する溜まり部７において中間堰７８を設けること
も可能である。これらの変形例においても、中間堰７８
により現像均一性を一層向上できるのは第１１実施形態
の現像装置２０と同様である。

【００８８】また第１１実施形態では、有底円筒形状の
溜まり部７について述べたが、第２、第４実施形態の有
底四角形状の溜まり部９において、中間堰７８を設けて
もよい。この場合にも、第１１実施形態と同様の効果を
得ることができる。

【００８９】次に、第２の発明の薬液処理装置の一例で
ある第１２実施形態の現像装置を図２５を用いて説明す
る。この現像装置３０は、図９を用いて述べた第４実施
形態に係る現像装置１３において、溜まり部９を図２５
に示す分散部３１に替えたものである。分散部３１は、
図９に示す溜まり部９の堰９２１を有しない構造のもの
である。

【００９０】すなわち、分散部３１は、ノズル８の吐出
口側から下側側方に延びて形成された平面視略長方形の
流路面３１２を二面備えたガイド部３１１を有してい
る。これら流路面３１２は、凹状の曲率を有した状態で
形成されているとともに互いに外側を向いた状態で対向
して配置されており、それぞれの下端縁３１２ａが水平
方向に幅を有した状態に形成されている。また分散部３
１の長さ、つまり流路面３１２の下端縁３１２ａの長さ
は、例えばウエハ１００の半径程度の長さに形成されて
いる。さらに各流路面３１２の側縁３１２ｂには、これ
から上方に立ち上がった側板３１３が設けられている。
そしてこのような分散部３１は、ガイド部３１１の上端
側がノズル８の吐出口内に挿入された状態でノズル８の
吐出口側に設けられている。なお、分散部３１は、現像
液に対して耐薬品性を有する材料、例えばフッ素系の材
料やステンレス等で形成されている。

【００９１】このように構成された現像装置３０では、
ノズル８の吐出口から吐出された現像液は各流路面３１
２を伝って流れ、下端縁３１２ａから下方のウエハ１０
０の被処理面１００ａへと供給される。この際、下端縁
３１２ａが水平方向に幅を有しているため、通常の現像
液の供給量であれば、下端縁３１２ａの幅に応じた幅で
被処理面１００ａに現像液を均一に供給することができ
る。よって、現像液が供給される部分が一部に限定され
ない。また、流路面３１２を伝って流れることによりガ
スが取り除かれた現像液を被処理面１００ａに形成され
ているレジストに供給することができる。この結果、従
来のように現像液内に溶け込んでいるガスが被処理面１
００ａでマイクロバブルになることに因る現像欠陥の発
生を防止することができる。

【００９２】また、ノズル８から吐出された現像液が被
処理面１００ａのレジストに直に供給されないので、被
処理面１００ａに供給する全体の現像液の量を増加させ
ても、現像液によるレジストへの物理的アタックが強く
ならず、レジスト上に現像液をソフトに盛ることができ
る。さらに現像装置３０では、二つの流路面３１２の下
端縁３１２ａが間隔をあけて設けられており、よって下
端縁３１２ａから流れ落ちた現像液同士がつながること
なく被処理面１００ａに供給される。このため、流れ落
ちる現像液の間に空気が巻き込まれて、分散部３１と現
像液と被処理面１００ａとにより空気溜まりが形成さ
れ、これによって被処理面１００ａにバブルが形成され
るのを防止できる。よって、バブルの発生による現像ば
らつきや現像欠陥の発生を防ぐことができる。

【００９３】したがって、この現像装置３０によれば、
現像液による物理的アタックや供給量の不均一さに起因
する現像ばらつきを低減でき、かつバブルの発生による
現像ばらつきや現像欠陥の発生を防ぐことができるた
め、現像均一性の向上および現像欠陥の低減を図ること
ができる。

【００９４】次に、上記現像装置３０を用いたレジスト
の現像方法に基づき、第２の発明に係る薬液処理方法の
一実施形態を説明する。まず、表面にレジストが塗布さ
れ、パターン露光、熱処理が行われたウエハ１００をメ
インアームによって載置台３の載置面３ａ上に載置し、
チャック機構によって保持させる（図１参照）。次いで
ウエハ１００を３０ｒｐｍ程度の回転数で回転させなが
ら、ノズルアーム５によってウエハ１００の上方でかつ
被処理面１００ａの略中心位置にノズル８および分散部
３を移動させる。つまり、ノズル８の吐出口側に分散部
３の二つの流路面３１２を傾斜した状態に配置する。

【００９５】そして、ノズル８から吐出された現像液を
各流路面３１２に流し、下端縁３１２ａから下方のウエ
ハ１００の被処理面１００ａに供給する。次いで、現像
液の供給を停止するとともにウエハ１００の回転を停止
し、被処理面１００ａに現像液を盛った状態を所定時
間、例えば６０秒程度保持する。この間に、被処理面１
００ａのレジストが現像される。その後、ウエハ１００
を１０００ｒｐｍ程度の回転数で回転させながら、純水
の供給手段によって被処理面１００ａに純水を供給して
水洗いし、現像液を除去する。このことによりレジスト
の現像が停止する。

【００９６】そして純水の供給を停止し、ウエハ１００
の回転数を４０００ｒｐｍまで上昇させて純水を振り切
り被処理面１００ａを乾燥させる。乾燥後、ウエハ１０
０の回転を停止させ、メインアームによってウエハ１０
０を載置台３から次の工程に搬送する（図１参照）。以
上の工程によって、被処理面１００ａのレジストの現像
処理を終了する。

【００９７】このように現像装置３０を用いた現像方法
では、ノズル８からの現像液を流路面３１２に流した
後、被処理面１００ａに供給する。このため、現像液が
直に被処理面１００ａに供給される従来に比較して、現
像液により被処理面１００ａ上のレジストが受ける物理
的アタックを低減することができる。したがって、この
現像方法によれば、被処理面１００ａに現像液をソフト
にかつ均一に盛ることができるので、前述した現像装置
３０と同様に、現像均一性を向上させることができる。

【００９８】また、流路面３１２の下端縁３１２ａの幅
に対応した幅に現像液を供給でき、よって現像液が直線
状に形成されるため、流れ落ちる現像液の間に空気が巻
き込まれることに起因する、被処理面１００ａでのバブ
ルの発生を防止できる。よって、バブルの発生による現
像ばらつきや現像欠陥の発生を防ぐことができる。よっ
て、第１２実施形態の現像装置３０および現像方法によ
れば、設計寸法が同一のレジストパターンを被処理面１
００ａ内にて均一な寸法に形成することができ、かつ現
像欠陥を低減できるため、半導体装置の製造歩留りの向
上を図ることが可能になる。

【００９９】ここで、上記実施形態の現像方法では、ウ
エハ１００の上方にノズル８および分散部３１を位置さ
せた後、ノズル８を動かすことなく現像液の供給を行っ
たが、回転しているウエハ１００面に対してノズル８お
よび分散部３０をスキャンさせながら、またはノズル８
および分散部３０をノズル８の略中心を軸にして回転さ
せながら現像液を供給してもよい。この場合には、さら
に被処理面１００ａ全体に均一に現像液を供給できるた
め、現像ばらつきを一層低減することができる。また被
処理面１００ａ上に生じる現像液中のガスによるマイク
ロバブルも取り除くことができるので、マイクロバブル
による現像欠陥を低減できるといった効果も得られる。
またさらに上記現像方法では、ウエハ１００を回転させ
ながら現像液２００を供給したが、ウエハ１００を停止
した状態でウエハ１００の被処理面１００ａに対してノ
ズル６および溜まり部７をスキャンさせながら、または
ノズル６および溜まり部７をノズル６を中心にして回転
させながら現像液２００を供給してもよい。

【０１００】また上記第１２実施形態では、分散部３０
の長さ（下端縁３１２ａの長さ）がウエハ１００の半径
程度の長さに形成されている場合について述べたが、こ
れに限定されない。例えばウエハ１００の直径程度の長
さに形成することも可能である。下端縁３１２ａの長さ
がウエハ１００の直径程度の長さに形成されていれば、
より被処理面１００ａ全体に均一に現像液を供給できる
ため、現像ばらつきをより一層低減することができる。
また、第１２実施形態の現像装置３０では、分散部３１
が二つの流路面３１２を備えている場合について述べた
が、例えば図２６に示す変形例のように一つの流路面３
１２を備えた分散部３１としてもよい。

【０１０１】さらに図２７の第１３実施形態の現像装置
４０に示すように、分散部３１が下端縁３１２ａに連続
する略水平な底面３１４を有していれば、その下端縁３
１２ａに沿って下方に突出した突条部３１５を設けても
よい。突条部３１５を設けることにより、下端縁３１２
ａから流下する現像液が底面３１４に回り込むのを防止
することができる。よって、吐出終了後のノズルアーム
５の移動時に、分散部７の底面３１４に残っていた現像
液が被処理面１００ａに落ちるといった液だれを確実に
防止することができる。また分散部７の底面３１４にに
現像液が回り込まないため、通常の現像液の供給量であ
れば、流路面３１２の下端縁３１２ａの幅に対応した幅
にほぼ均一に現像液を供給することができる。

【０１０２】したがって、この現像装置４０によれば、
液だれに起因する現像ばらつきを確実に防止できるとと
もに現像液を被処理面１００ａに直線状に確実に供給で
きることから、現像均一性を一層向上できる。また同時
に、液だれに起因する現像欠陥を確実に抑えることがで
きる。

【０１０３】また図２８の第１４実施形態の現像装置４
１に示すように、分散部３１が流路面３１２の下端縁３
１２ａから垂下した状態で形成された端面３１６を有し
ており、これに連続する略水平な底面３１４を有してい
れば、端面３１６と底面３１４とのなす角度を鋭角に形
成することもできる。この場合にも、下端縁３１２ａか
ら流下する現像液が端面３１６と伝って底面３１４に回
り込むのを防止することができるので、上記した第１３
実施形態と同様の効果が得られる。

【０１０４】なお、上記したいずれの実施形態において
も、本発明を現像装置および現像方法に適用した例を述
べたが、本発明はこの他、洗浄処理装置および洗浄処理
方法、ウエットエッチング装置およびウエットエッチン
グ方法など、様々な薬液処理装置および薬液処理方法に
適用できるのはもちろんである。

【０１０５】

【発明の効果】以上説明したように第１の発明に係る薬
液処理装置によれば、ノズルの吐出口側に設けられた溜
まり部を介して薬液が供給されるようになっているの
で、被処理面に薬液をソフトに盛ることができる。また
ノズルの吐出口の径に多少のばらつきがあっても薬液の
供給量をほぼ均一にすることができ、しかも薬液が溜ま
り部の筒状体の上端縁からオーバーフローして被処理面
に供給されるので、被処理面の薬液が供給される部分が
一部に限定されない。したがって、この薬液処理装置が
例えば現像装置であれば、現像液からなる薬液による物
理的アタックや供給量の不均一さに起因する現像ばらつ
きを低減できるので、現像均一性を向上させることがで
きる。またノズルの製造が非常に容易になるので、生産
性の向上を図ることができる。

【０１０６】第２の発明の薬液処理装置によれば、ノズ
ルの吐出口から吐出された薬液が流路面を伝って流れ、
水平方向に幅を有する下端縁から下方に配置される被処
理面へと供給されるので、下端縁の幅に応じた幅で被処
理面に薬液を均一に供給することができ、かつ被処理面
にソフトに盛ることができる。また、薬液が流路面を伝
って流れることにより内部に溶け込んでいるガスが取り
除かれた薬液を被処理面に供給できるので、薬液内に溶
け込んでいるガスが被処理面でマイクロバブルになるこ
とに因る現像欠陥の発生を防止することができる。した
がって、この薬液処理装置が例えば現像装置であれば、
現像液からなる薬液による物理的アタックや供給量の不
均一さに起因する現像ばらつきを低減でき、かつバブル
の発生による現像ばらつきや現像欠陥の発生を防ぐこと
ができるため、現像均一性の一層の向上および現像欠陥
の低減を図ることができる。

【０１０７】第１の発明の薬液処理方法によれば、ノズ
ルから吐出された薬液を一旦溜め、溜めた薬液をオーバ
ーフローさせて被処理面に供給してノズルから薬液を被
処理面に直に供給しないようにするため、被処理面に薬
液をソフトに盛ることができる。また、ノズルの吐出口
の径に多少のばらつきがあっても、ほぼ均一な供給量で
薬液を供給することができる。よって、この薬液処理方
法によって現像処理を行えば、現像液からなる薬液によ
る物理的アタックや供給量の不均一さに起因する現像ば
らつきを低減でき、現像均一性を向上させることができ
る。

【０１０８】第２の発明の薬液処理方法によれば、ノズ
ルから吐出された薬液を流路面に流して、その水平方向
に幅を有する下端縁からこの下端縁の幅に応じた幅で被
処理面に薬液を均一に供給することが可能になるので、
被処理面において薬液が供給される部分が一部に限定さ
れるのを防止できる。また、薬液を流路面に流して薬液
に溶け込んでいるガスを取り除いた後に被処理面に供給
するため、薬液内に溶け込んでいるガスが被処理面でマ
イクロバブルになることに因る現像欠陥の発生を防止す
ることができる。さらにノズルから吐出された薬液を流
路面に流した後に被処理面に供給するため、被処理面上
に薬液をソフトに盛ることができる。。したがって、こ
の薬液処理方法によって現像処理を行えば、現像液から
なる薬液による物理的アタックや供給量の不均一さに起
因する現像ばらつきを低減でき、現像均一性を向上させ
ることができるとともに現像欠陥の発生を防止すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る薬液処理装置の第１実施形態の説
明図であり、（ａ）は概略構成図、（ｂ）は要部断面図
である。

【図２】第１実施形態における現像液の流れを示す図で
ある。

【図３】本発明に係る薬液処理装置の第２実施形態を示
す要部斜視図である。

【図４】溜まり部の長さの一例を示す平面図である。

【図５】溜まり部の長さの他の例を示す平面図である。

【図６】第２実施形態の変形例を示す要部斜視図であ
る。

【図７】本発明に係る薬液処理装置の第３実施形態の説
明図であり、（ａ）は要部斜視図、（ｂ）は要部断面図
である。

【図８】第３実施形態における現像液の流れを示す図で
ある。

【図９】本発明に係る薬液処理装置の第４実施形態を示
す要部斜視図である。

【図１０】第４実施形態の変形例を示す要部斜視図であ
る。

【図１１】本発明に係る薬液処理装置の第５実施形態を
示す要部断面図である。

【図１２】第５実施形態の変形例を示す要部断面図であ
る。

【図１３】本発明に係る薬液処理装置の第６実施形態を
示す要部断面図である。

【図１４】（ａ）、（ｂ）は第６実施形態の変形例を示
す要部断面図である。

【図１５】本発明に係る薬液処理装置の第７実施形態を
示す要部断面図である。

【図１６】（ａ）、（ｂ）は第７実施形態の変形例を示
す要部断面図である。

【図１７】本発明に係る薬液処理装置の第８実施形態を
示す要部断面図である。

【図１８】（ａ）、（ｂ）は第８実施形態の変形例を示
す要部断面図である。

【図１９】本発明に係る薬液処理装置の第９実施形態を
示す要部断面図である。

【図２０】（ａ）〜（ｄ）は第９実施形態の変形例を示
す要部断面図である。

【図２１】本発明に係る薬液処理装置の第１０実施形態
を示す要部断面図である。

【図２２】（ａ）〜（ｃ）は第１０実施形態の変形例を
示す要部断面図である。

【図２３】本発明に係る薬液処理装置の第１１実施形態
を示す要部断面図である。

【図２４】（ａ）〜（ｃ）は第１１実施形態の変形例を
示す要部断面図である。

【図２５】本発明に係る薬液処理装置の第１２実施形態
を示す要部斜視図である。

【図２６】第１２実施形態の変形例を示す要部斜視図で
ある。

【図２７】本発明に係る薬液処理装置の第１３実施形態
を示す要部断面図である。

【図２８】本発明に係る薬液処理装置の第１４実施形態
を示す要部断面図である。

【符号の説明】

１、１１〜２０、３０、４０、４１ 現像装置 ６、
８ ノズル ７、９ 溜まり部 ３１ 分散部 ６１ 吐出口
７１、９１ 底 ７１ａ、９１ａ 底面 ７２ 筒状体（堰） ７２
ａ、９２１ａ 内面 ７２ｂ、９２１ｂ 外面 ７２ｃ、９２１ｃ 上端縁
７３、９３ 底部 ７４ａ、９４ａ、３１２ 流路面 ７５ ひさし
７６、３１５突条部 ７７ 延出部 ７７ａ 上面 ７８ 中間堰 ９
２ 筒状体 １００ ウエハ １００ａ 被処理面 ２００ 現
像液 ３１２ａ 下端縁 ９２１ 堰

Claims (23)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 薬液を被処理物の被処理面に供給するノ
   ズルを備えた薬液処理装置において、 前記ノズルの吐出口側に、有底筒状体の溜まり部が設け
   られていることを特徴とする薬液処理装置。
2. 【請求項２】 前記溜まり部の筒状体は円筒形状をなし
   堰となることを特徴とする請求項１記載の薬液処理装
   置。
3. 【請求項３】 前記溜まり部の筒状体は、四角筒形状を
   なすとともにこの筒状体の四面を構成する四側部のうち
   対向する一対の側部の少なくともとも一方が堰となるこ
   とを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
4. 【請求項４】 前記溜まり部は、前記筒状体内の底部側
   から前記ノズルの吐出口側に向けて立ち上がった流路面
   を備え、 該流路面は、前記吐出口側から前記筒状体内の底部に向
   けて傾斜しかつ該底部に略連続する状態で形成されてい
   ることを特徴とする請求項１記載の薬液処理装置。
5. 【請求項５】 前記溜まり部の堰は、この内面が凹状に
   曲率を有した状態に形成されていることを特徴とする請
   求項２記載の薬液処理装置。
6. 【請求項６】 前記溜まり部の堰は、上端縁から下側側
   方に向けて延出させたひさしを有していることを特徴と
   する請求項２記載の薬液処理装置。
7. 【請求項７】 前記溜まり部の底面には、該底面から下
   方に突出した突条部が前記堰に沿って設けられているこ
   とを特徴とする請求項２記載の薬液処理装置。
8. 【請求項８】 前記溜まり部は、この堰の外面と該溜ま
   り部の底面とがなす角度が鋭角に形成されていることを
   特徴とする請求項２記載の薬液処理装置。
9. 【請求項９】 前記溜まり部は、この堰の下端部から外
   側略水平方向に延出しかつ前記堰に沿って設けられた延
   出部を備え、 該延出部の上面は、前記堰の下端部から斜め下方に傾斜
   した状態に形成されていることを特徴とする請求項２記
   載の薬液処理装置。
10. 【請求項１０】 前記堰の上端部は、前記堰の内側斜め
    上方に向いた状態に形成されていることを特徴とする請
    求項２記載の薬液処理装置。
11. 【請求項１１】 前記溜まり部は、前記堰内に該堰に沿
    って中間堰が設けられていることを特徴とする請求項２
    記載の薬液処理装置。
12. 【請求項１２】 前記堰の上端縁は、凸状に曲率を有し
    た状態に形成されていることを特徴とする請求項２記載
    の薬液処理装置。
13. 【請求項１３】 前記溜まり部の堰は、この内面が凹状
    に曲率を有した状態に形成されていることを特徴とする
    請求項３記載の薬液処理装置。
14. 【請求項１４】 前記堰は、上端縁から下側側方に向け
    て延出させたひさしを有していることを特徴とする請求
    項３記載の薬液処理装置。
15. 【請求項１５】 前記溜まり部の底面には、該底面から
    下方に突出した突条部が前記堰に沿って設けられている
    ことを特徴とする請求項３記載の薬液処理装置。
16. 【請求項１６】 前記溜まり部は、この堰部の外面と該
    溜まり部の底面とがなす角度が鋭角に形成されているこ
    とを特徴とする請求項３記載の薬液処理装置。
17. 【請求項１７】 前記溜まり部は、この堰の下端部から
    外側略水平方向に延出するとともに前記堰に沿って設け
    られた延出部を備え、 該延出部の上面は、前記堰の下端部から斜め下方に傾斜
    した状態に形成されていることを特徴とする請求項３記
    載の薬液処理装置。
18. 【請求項１８】 前記堰の上端部は、前記堰の内側斜め
    上方に向けた状態で形成されていることを特徴とする請
    求項３記載の薬液処理装置。
19. 【請求項１９】 前記溜まり部は、前記堰内に該堰に沿
    って中間堰が設けられていることを特徴とする請求項３
    記載の薬液処理装置。
20. 【請求項２０】 前記堰の上端縁は、凸状に曲率を有し
    た状態に形成されていることを特徴とする請求項３記載
    の薬液処理装置。
21. 【請求項２１】 薬液を被処理物の被処理面に供給する
    ノズルを備えた薬液処理装置において、 前記ノズルの吐出口側から下側側方に延びて形成された
    流路面を有する分散部を備え、 前記流路面の下端縁は水平方向に幅を有して形成されて
    なることを特徴とする薬液処理装置。
22. 【請求項２２】 ノズルから被処理物の被処理面に薬液
    を供給し、該被処理面を薬液処理する薬液処理方法にお
    いて、 前記ノズルから吐出された薬液を一旦溜め、溜めた薬液
    をオーバーフローさせて前記被処理面に供給し、該被処
    理面を薬液処理することを特徴とする薬液処理方法。
23. 【請求項２３】 ノズルから被処理物の被処理面に薬液
    を供給し、該被処理面を薬液処理する薬液処理方法にお
    いて、 前記ノズルの吐出口側に、下端縁が水平方向に幅を有す
    る流路面を形成した分散部を前記流路面が傾斜した状態
    となるように設け、 前記ノズルから吐出された薬液を前記流路面に流してこ
    の下端縁から前記被処理面に供給し、該被処理面を薬液
    処理することを特徴とする薬液処理方法。