JPH10114605A - 安定化された工業用殺菌剤 - Google Patents
安定化された工業用殺菌剤Info
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- JPH10114605A JPH10114605A JP26951296A JP26951296A JPH10114605A JP H10114605 A JPH10114605 A JP H10114605A JP 26951296 A JP26951296 A JP 26951296A JP 26951296 A JP26951296 A JP 26951296A JP H10114605 A JPH10114605 A JP H10114605A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】イソチアゾロン系錯化合物及びハロシアノアセ
トアミド系化合物共に長期安定性が良好で、取り扱い性
と防腐作用が優れ、好ましくは製紙用スライム防除剤に
使用できる工業用殺菌剤の提供。 【解決手段】１）一般式ａ （Ｘ１はハロゲン、Ｘ２はハロゲン又は水素、Ｒ１は水
素又は低級アルキル基を示す。）のハロシアノアセトア
ミド系化合物と、 ２）一般式ｂ （Ｙ１及びＹ２はハロゲン又は水素、Ｒ２は水素又はＣ
１〜９のアルキル基、Ｍはカチオン、Ｚはアニオン、ａ
は１又は２、ｂはＺがＭの原子価を満たす数を示す。）
のイソチアゾロン系錯化合物と、 ３）一般式ｃ （Ｒ３はＣ１〜６のアルキル基、ｎは２又は３、ｍは１
〜６の整数を示す。）のアルコキシグリコール系化合物
と水とを含有する安定化工業用殺菌剤。
トアミド系化合物共に長期安定性が良好で、取り扱い性
と防腐作用が優れ、好ましくは製紙用スライム防除剤に
使用できる工業用殺菌剤の提供。 【解決手段】１）一般式ａ （Ｘ１はハロゲン、Ｘ２はハロゲン又は水素、Ｒ１は水
素又は低級アルキル基を示す。）のハロシアノアセトア
ミド系化合物と、 ２）一般式ｂ （Ｙ１及びＹ２はハロゲン又は水素、Ｒ２は水素又はＣ
１〜９のアルキル基、Ｍはカチオン、Ｚはアニオン、ａ
は１又は２、ｂはＺがＭの原子価を満たす数を示す。）
のイソチアゾロン系錯化合物と、 ３）一般式ｃ （Ｒ３はＣ１〜６のアルキル基、ｎは２又は３、ｍは１
〜６の整数を示す。）のアルコキシグリコール系化合物
と水とを含有する安定化工業用殺菌剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、安定化された工業
用殺菌剤、詳しくは、有効成分として、ハロシアノアセ
トアミド系化合物とイソチアゾロン系錯化合物とを含有
する、製紙用スライムコントロール剤として好適に用い
られる安定化された工業用殺菌剤に関する。
用殺菌剤、詳しくは、有効成分として、ハロシアノアセ
トアミド系化合物とイソチアゾロン系錯化合物とを含有
する、製紙用スライムコントロール剤として好適に用い
られる安定化された工業用殺菌剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、紙パルプ工業分野における抄紙工
程や各種産業分野における循環冷却水等の種々の用水、
水性塗料、紙用塗工液、接着剤や塗料用の樹脂エマルシ
ョン、ラテックスエマルション、織物エマルション、紡
糸油、切削油、捺染糊および皮革等の製造に用いられる
水は有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低
下、悪臭の発生等の原因となって作業環境を悪化させて
いる。これらの微生物の繁殖の防除や殺菌のために数多
くの工業用殺菌剤が用いられている。
程や各種産業分野における循環冷却水等の種々の用水、
水性塗料、紙用塗工液、接着剤や塗料用の樹脂エマルシ
ョン、ラテックスエマルション、織物エマルション、紡
糸油、切削油、捺染糊および皮革等の製造に用いられる
水は有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低
下、悪臭の発生等の原因となって作業環境を悪化させて
いる。これらの微生物の繁殖の防除や殺菌のために数多
くの工業用殺菌剤が用いられている。
【０００３】これら工業用水における有害微生物の発生
を抑制ないしは防除する薬剤の一つとして、イソチアゾ
ロン系化合物がよく知られている。しかし、このイソチ
アゾロン系化合物は、有機溶媒で溶解した状態であって
も、水が混入すると非常に不安定になり分解しやすく、
このため、イソチアゾロン系化合物に、金属塩等を添加
して錯化合物化し、これによって安定化を図ることが、
例えば、特開昭５９−７８１０２号公報、特開昭５９−
７８１０３号公報、特開昭５９−７８１０４号公報、特
開昭５９−７８１０９号公報等に記載されている。
を抑制ないしは防除する薬剤の一つとして、イソチアゾ
ロン系化合物がよく知られている。しかし、このイソチ
アゾロン系化合物は、有機溶媒で溶解した状態であって
も、水が混入すると非常に不安定になり分解しやすく、
このため、イソチアゾロン系化合物に、金属塩等を添加
して錯化合物化し、これによって安定化を図ることが、
例えば、特開昭５９−７８１０２号公報、特開昭５９−
７８１０３号公報、特開昭５９−７８１０４号公報、特
開昭５９−７８１０９号公報等に記載されている。
【０００４】また、他の有用な工業用殺菌剤の一つとし
て、ハロシアノアセトアミド系化合物がよく知られてい
るところであり、このハロシアノアセトアミド系化合物
と前述したイソチアゾロン系化合物とを併用して使用す
ることにより、抗菌性に相乗効果があることが、例え
ば、特開昭６３−８８１０３号公報等に記載されてい
る。
て、ハロシアノアセトアミド系化合物がよく知られてい
るところであり、このハロシアノアセトアミド系化合物
と前述したイソチアゾロン系化合物とを併用して使用す
ることにより、抗菌性に相乗効果があることが、例え
ば、特開昭６３−８８１０３号公報等に記載されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、イソチアゾロ
ン系化合物は、錯化合物として安定化を図る必要がある
一方で、イソチアゾロン系錯化合物とハロシアノアセト
アミド系化合物とを混合して製剤化しようとすると、例
えば特開昭６１−４４８０４号公報等に記載されている
如く、ハロシアノアセトアミド系化合物が、金属の存在
で極めて容易に分解するので、これら両者を含有し、長
期間安定した状態で保存できる工業用殺菌剤を得ること
は困難であった。
ン系化合物は、錯化合物として安定化を図る必要がある
一方で、イソチアゾロン系錯化合物とハロシアノアセト
アミド系化合物とを混合して製剤化しようとすると、例
えば特開昭６１−４４８０４号公報等に記載されている
如く、ハロシアノアセトアミド系化合物が、金属の存在
で極めて容易に分解するので、これら両者を含有し、長
期間安定した状態で保存できる工業用殺菌剤を得ること
は困難であった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、イソチア
ゾロン系錯化合物とハロシアノアセトアミド系化合物と
を含有する安定化された工業用殺菌剤について鋭意研究
を行なったところ、アルコキシグリコール系化合物と水
とを用いて、両者を溶解したところ、予想外にも、イソ
チアゾロン系錯化合物及びハロシアノアセトアミド系化
合物の両者共に安定性が著しく向上し、取り扱いが容易
で優れた防腐作用を示すことを見出し、本発明を完成す
るに至った。
ゾロン系錯化合物とハロシアノアセトアミド系化合物と
を含有する安定化された工業用殺菌剤について鋭意研究
を行なったところ、アルコキシグリコール系化合物と水
とを用いて、両者を溶解したところ、予想外にも、イソ
チアゾロン系錯化合物及びハロシアノアセトアミド系化
合物の両者共に安定性が著しく向上し、取り扱いが容易
で優れた防腐作用を示すことを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００７】即ち本発明は、 （１） （ａ）一般式
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｘ１はハロゲン原子、Ｘ２はハロ
ゲン原子又は水素原子、Ｒ１は水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。）で表されるハロシアノアセトアミド系化
合物と、（ｂ）一般式
ゲン原子又は水素原子、Ｒ１は水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。）で表されるハロシアノアセトアミド系化
合物と、（ｂ）一般式
【００１０】
【化５】
【００１１】（式中、Ｙ１及びＹ２はハロゲン原子又は
水素原子、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル
基、Ｍはカチオン、Ｚはアニオン、ａは１又は２、ｂは
ＺがＭの原子価を満たす数を示す。）で表されるイソチ
アゾロン系錯化合物と、（ｃ）一般式
水素原子、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル
基、Ｍはカチオン、Ｚはアニオン、ａは１又は２、ｂは
ＺがＭの原子価を満たす数を示す。）で表されるイソチ
アゾロン系錯化合物と、（ｃ）一般式
【００１２】
【化６】
【００１３】（式中、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基
を、ｎは２又は３の整数を、ｍは１〜６の整数を示
す。）で表されるアルコキシグリコール系化合物と水と
を含有することを特徴とする安定化された工業用殺菌
剤、 （２） （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化合物の
式中のＭＺｂが、工業用殺菌剤の全量中０．５〜６重量
％である（１）記載の安定化された工業用殺菌剤、 （３） （ａ）で表されるハロシアノアセトアミド系化
合物の式中、Ｘ２がハロゲン原子であり、Ｒ１が水素原
子である（１）又は（２）記載の安定化された工業用殺
菌剤、 （４） ハロシアノアセトアミド系化合物が、ジブロモ
シアノアセトアミドである（１）又は（２）記載の安定
化された工業用殺菌剤、 （５） （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化合物の
式中、Ｙ１及びＹ２が塩素原子又は水素原子であり、Ｒ
２がメチル基である（１）又は（２）記載の安定化され
た工業用殺菌剤、 （６） （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化合物の
式中、ＭＺｂが硝酸マグネシウム及び／又は塩化マグネ
シウムである（１）又は（２）記載の安定化された工業
用殺菌剤、 （７） イソチアゾロン系錯化合物が、２−メチル−４
−イソチアゾリン−３−オンマグネシウムナイトレート
及び／又は５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オンマグネシウムナイトレートである（１）又
は（２）記載の安定化された工業用殺菌剤、 （８） （ｃ）で表されるアルコキシグリコール系化合
物の式中、Ｒ３がメチル基又はエチル基であり、ｍが１
又は２である（１）又は（２）記載の安定化された工業
用殺菌剤、 （９） アルコキシグリコール系化合物が、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル及び／又はジエチレング
リコールモノエチルエーテルである（１）又は（２）記
載の安定化された工業用殺菌剤、 （１０） 製紙用スライムコントロール剤として用いら
れる（１）又は（２）記載の安定化された工業用殺菌剤
に関する。
を、ｎは２又は３の整数を、ｍは１〜６の整数を示
す。）で表されるアルコキシグリコール系化合物と水と
を含有することを特徴とする安定化された工業用殺菌
剤、 （２） （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化合物の
式中のＭＺｂが、工業用殺菌剤の全量中０．５〜６重量
％である（１）記載の安定化された工業用殺菌剤、 （３） （ａ）で表されるハロシアノアセトアミド系化
合物の式中、Ｘ２がハロゲン原子であり、Ｒ１が水素原
子である（１）又は（２）記載の安定化された工業用殺
菌剤、 （４） ハロシアノアセトアミド系化合物が、ジブロモ
シアノアセトアミドである（１）又は（２）記載の安定
化された工業用殺菌剤、 （５） （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化合物の
式中、Ｙ１及びＹ２が塩素原子又は水素原子であり、Ｒ
２がメチル基である（１）又は（２）記載の安定化され
た工業用殺菌剤、 （６） （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化合物の
式中、ＭＺｂが硝酸マグネシウム及び／又は塩化マグネ
シウムである（１）又は（２）記載の安定化された工業
用殺菌剤、 （７） イソチアゾロン系錯化合物が、２−メチル−４
−イソチアゾリン−３−オンマグネシウムナイトレート
及び／又は５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オンマグネシウムナイトレートである（１）又
は（２）記載の安定化された工業用殺菌剤、 （８） （ｃ）で表されるアルコキシグリコール系化合
物の式中、Ｒ３がメチル基又はエチル基であり、ｍが１
又は２である（１）又は（２）記載の安定化された工業
用殺菌剤、 （９） アルコキシグリコール系化合物が、ジエチレン
グリコールモノメチルエーテル及び／又はジエチレング
リコールモノエチルエーテルである（１）又は（２）記
載の安定化された工業用殺菌剤、 （１０） 製紙用スライムコントロール剤として用いら
れる（１）又は（２）記載の安定化された工業用殺菌剤
に関する。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明において、一般式（ａ）
【００１５】
【化７】
【００１６】（式中、Ｘ１はハロゲン原子、Ｘ２はハロ
ゲン原子又は水素原子、Ｒ１は水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。）で表されるハロシアノアセトアミド系化
合物の式中、Ｘ１、Ｘ２のハロゲン原子としては、例え
ば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。これ
らＸ１、Ｘ２は、互いに同一であってもよく、また異な
っていてもよい。好ましくは臭素が挙げられ、Ｘ１、Ｘ
２がともに臭素であることがさらに好ましい。
ゲン原子又は水素原子、Ｒ１は水素原子又は低級アルキ
ル基を示す。）で表されるハロシアノアセトアミド系化
合物の式中、Ｘ１、Ｘ２のハロゲン原子としては、例え
ば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等が挙げられる。これ
らＸ１、Ｘ２は、互いに同一であってもよく、また異な
っていてもよい。好ましくは臭素が挙げられ、Ｘ１、Ｘ
２がともに臭素であることがさらに好ましい。
【００１７】また、式中Ｒ１の低級アルキル基として
は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、is
o −プロピル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、 ter
t −ブチル基、iso −ブチル基等の炭素数１〜４のアル
キル基等が挙げられる。Ｒ１として好ましくは、水素原
子、メチル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子
が挙げられる。
は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、is
o −プロピル基、ｎ−ブチル基、sec −ブチル基、 ter
t −ブチル基、iso −ブチル基等の炭素数１〜４のアル
キル基等が挙げられる。Ｒ１として好ましくは、水素原
子、メチル基が挙げられ、さらに好ましくは、水素原子
が挙げられる。
【００１８】このような、ハロシアノアセトアミド系化
合物として、具体的には、モノクロロシアノアセトアミ
ド、モノブロモシアノアセトアミド、ジクロロシアノア
セトアミド、ジブロモシアノアセトアミド、モノクロロ
モノブロモシアノアセトアミド、Ｎ−メチルジブロモシ
アノアセトアミド等が挙げられ、好ましくはジブロモシ
アノアセトアミドが挙げられる。
合物として、具体的には、モノクロロシアノアセトアミ
ド、モノブロモシアノアセトアミド、ジクロロシアノア
セトアミド、ジブロモシアノアセトアミド、モノクロロ
モノブロモシアノアセトアミド、Ｎ−メチルジブロモシ
アノアセトアミド等が挙げられ、好ましくはジブロモシ
アノアセトアミドが挙げられる。
【００１９】本発明において、（ｂ）一般式
【００２０】
【化８】
【００２１】（式中、Ｙ１及びＹ２はハロゲン原子又は
水素原子、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル
基、Ｍはカチオン、Ｚはアニオン、ａは１又は２、ｂは
ＺがＭの原子価を満たす数を示す。）で表されるイソチ
アゾロン系錯化合物とは、上記式の通り、イソチアゾロ
ン系化合物にＭＺｂで表される金属塩などを加えて形成
されるイソチアゾロン系化合物の金属コンプレックスを
いうが、本発明においては必ずしも金属コンプレックス
を形成しているか否かを問わず、イソチアゾロン系化合
物にＭＺｂで表される金属塩などが加えられている状態
のものであれば、これらのものを広く含むものとする。
水素原子、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル
基、Ｍはカチオン、Ｚはアニオン、ａは１又は２、ｂは
ＺがＭの原子価を満たす数を示す。）で表されるイソチ
アゾロン系錯化合物とは、上記式の通り、イソチアゾロ
ン系化合物にＭＺｂで表される金属塩などを加えて形成
されるイソチアゾロン系化合物の金属コンプレックスを
いうが、本発明においては必ずしも金属コンプレックス
を形成しているか否かを問わず、イソチアゾロン系化合
物にＭＺｂで表される金属塩などが加えられている状態
のものであれば、これらのものを広く含むものとする。
【００２２】上記の式中、Ｙ１及びＹ２のハロゲン原子
としては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素等
が挙げられ、好ましくは、塩素が挙げられる。これら、
Ｙ１及びＹ２は、互いに同一であってもよく、また異な
っていてもよい。また、式中、Ｒ２の炭素数１〜９のア
ルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec −ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ
−オクチル、イソオクチル、sec −オクチル、tert−オ
クチル、ノニル等の直鎖状または分枝状の炭素数１〜９
のアルキル基等が挙げられ、また、シクロヘキサン等の
炭素数１〜９のシクロアルキルをも挙げることができ
る。
としては、例えば、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素等
が挙げられ、好ましくは、塩素が挙げられる。これら、
Ｙ１及びＹ２は、互いに同一であってもよく、また異な
っていてもよい。また、式中、Ｒ２の炭素数１〜９のア
ルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、sec −ブチ
ル、tert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、ｎ
−オクチル、イソオクチル、sec −オクチル、tert−オ
クチル、ノニル等の直鎖状または分枝状の炭素数１〜９
のアルキル基等が挙げられ、また、シクロヘキサン等の
炭素数１〜９のシクロアルキルをも挙げることができ
る。
【００２３】好ましくは、メチル、エチル、プロピル、
ブチル等の炭素数１〜４の低級アルキル基およびｎ−オ
クチル、tert−オクチル等の炭素数７〜９のアルキル基
等が、より好ましくは、メチル、エチル及びｎ−オクチ
ル等が挙げられる。さらに、Ｍのカチオンとしては、金
属カチオン又はアンモニウム、Ｚは錯化合物を形成する
アニオン、ａは１又は２、ｂはアニオンＺがカチオンＭ
の原子価を満たす数であり、ＭＺｂの具体的な例として
は、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、硝酸亜鉛、酢酸
亜鉛、塩化銅、臭化銅、硝酸銅、塩化ニッケル、塩化カ
ルシウム、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム、塩化
鉄、塩化マンガン、塩化ナトリウム、塩化バリウム、塩
化アンモニウム等が挙げられる。好ましくは、硝酸マグ
ネシウム、塩化マグネシウム塩、硫酸銅、塩化銅等が挙
げられる。
ブチル等の炭素数１〜４の低級アルキル基およびｎ−オ
クチル、tert−オクチル等の炭素数７〜９のアルキル基
等が、より好ましくは、メチル、エチル及びｎ−オクチ
ル等が挙げられる。さらに、Ｍのカチオンとしては、金
属カチオン又はアンモニウム、Ｚは錯化合物を形成する
アニオン、ａは１又は２、ｂはアニオンＺがカチオンＭ
の原子価を満たす数であり、ＭＺｂの具体的な例として
は、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛、硝酸亜鉛、酢酸
亜鉛、塩化銅、臭化銅、硝酸銅、塩化ニッケル、塩化カ
ルシウム、塩化マグネシウム、硝酸マグネシウム、塩化
鉄、塩化マンガン、塩化ナトリウム、塩化バリウム、塩
化アンモニウム等が挙げられる。好ましくは、硝酸マグ
ネシウム、塩化マグネシウム塩、硫酸銅、塩化銅等が挙
げられる。
【００２４】このようなイソチアゾロン系錯化合物の具
体的な例としては、例えば、５−クロロ−２−メチル−
４−イソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソ
チアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチ
アゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オク
チル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−エチル−４
−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−
シクロヘキシル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−
クロロ−２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オン、
５−クロロ−２−ｔ−オクチル−４−イソチアゾリン−
３−オン等と上記したＭＺｂとの錯化合物を挙げること
ができ、好ましくは、５−クロロ−２−メチル−４−イ
ソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾ
リン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−
４−イソチアゾリン−３−オン等と上記したＭＺｂとの
錯化合物を挙げることができ、より好ましくは、５−ク
ロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２
−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン等と上記した
ＭＺｂとの錯化合物、例えば、２−メチル−４−イソチ
アゾリン−３−オンマグネシウムナイトレート、５−ク
ロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンマグ
ネシウムナイトレートを挙げることができる。
体的な例としては、例えば、５−クロロ−２−メチル−
４−イソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソ
チアゾリン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチ
アゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オク
チル−４−イソチアゾリン−３−オン、２−エチル−４
−イソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−
シクロヘキシル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−
クロロ−２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オン、
５−クロロ−２−ｔ−オクチル−４−イソチアゾリン−
３−オン等と上記したＭＺｂとの錯化合物を挙げること
ができ、好ましくは、５−クロロ−２−メチル−４−イ
ソチアゾリン−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾ
リン−３−オン、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オン、４，５−ジクロロ−２−ｎ−オクチル−
４−イソチアゾリン−３−オン等と上記したＭＺｂとの
錯化合物を挙げることができ、より好ましくは、５−ク
ロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、２
−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン等と上記した
ＭＺｂとの錯化合物、例えば、２−メチル−４−イソチ
アゾリン−３−オンマグネシウムナイトレート、５−ク
ロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンマグ
ネシウムナイトレートを挙げることができる。
【００２５】これらのイソチアゾロン系錯化合物は単独
又は２種類以上併用してもよく、例えば、上記の２−メ
チル−４−イソチアゾリン−３−オンマグネシウムナイ
トレートと５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オンマグネシウムナイトレートとの混合物とし
て用いてもよい。この場合には、２−メチル−４−イソ
チアゾリン−３−オンマグネシウムナイトレート１重量
部に対し、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オンマグネシウムナイトレートを２〜４重量部
の割合で用いることが好ましい。
又は２種類以上併用してもよく、例えば、上記の２−メ
チル−４−イソチアゾリン−３−オンマグネシウムナイ
トレートと５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オンマグネシウムナイトレートとの混合物とし
て用いてもよい。この場合には、２−メチル−４−イソ
チアゾリン−３−オンマグネシウムナイトレート１重量
部に対し、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オンマグネシウムナイトレートを２〜４重量部
の割合で用いることが好ましい。
【００２６】本発明の（ｃ）一般式
【００２７】
【化９】
【００２８】（式中、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基
を、ｎは２又は３の整数を、ｍは１〜６の整数を示
す。）で表されるアルコキシグリコール系化合物の式
中、Ｒ３で示される炭素数１〜６のアルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec −ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６の直鎖状また
は分枝状のアルキル基を挙げることができ、好ましく
は、炭素数１〜４の低級アルキル基、さらに好ましく
は、メチル基又はエチル基を挙げることがきる。
を、ｎは２又は３の整数を、ｍは１〜６の整数を示
す。）で表されるアルコキシグリコール系化合物の式
中、Ｒ３で示される炭素数１〜６のアルキル基として
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、sec −ブチル、tert−ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル等の炭素数１〜６の直鎖状また
は分枝状のアルキル基を挙げることができ、好ましく
は、炭素数１〜４の低級アルキル基、さらに好ましく
は、メチル基又はエチル基を挙げることがきる。
【００２９】また、ｎは２又は３の整数であり、ｎが２
であるときは、オキシエチレン基を挙げることができ、
ｎが３であるときは、オキシイソプロピレン基、オキシ
-n-プロピレン基を挙げることができる。好ましくは、
ｎが２であるオキシエチレン基を挙げることができる。
さらに、ｍは１〜６の整数であり、好ましくは、ｍは、
１〜２、さらに好ましくは、２を挙げることができる。
であるときは、オキシエチレン基を挙げることができ、
ｎが３であるときは、オキシイソプロピレン基、オキシ
-n-プロピレン基を挙げることができる。好ましくは、
ｎが２であるオキシエチレン基を挙げることができる。
さらに、ｍは１〜６の整数であり、好ましくは、ｍは、
１〜２、さらに好ましくは、２を挙げることができる。
【００３０】このようなアルコキシグリコール系化合物
の具体的な例としては、例えば、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレング
リコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコール
モノアルキルエーテル、例えば、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル、例えば、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル
などのジエチレングリコールモノアルキルエーテル、例
えば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノブチルエーテルなどのジプロピレングリコール
モノアルキルエーテル、例えば、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルエー
テル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルなど
のトリエチレングリコールモノアルキルエーテル、例え
ば、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ト
リプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノイソプロピルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノブチルエーテルなどのトリプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル等を挙げるこができ
る。これらは、単独又は２種類以上併用してもよく、ま
た、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、例
えば、ｍが４〜６のポリエチレングリコールモノメチル
エーテル（商品名：ＥＸＰ−Ｍ−４５、東邦化学株式会
社製）などを単独又は併せて用いてもよい。
の具体的な例としては、例えば、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチ
レングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレング
リコールモノブチルエーテルなどのエチレングリコール
モノアルキルエーテル、例えば、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、プロピレングリコールモノイソプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテルなどのプロピ
レングリコールモノアルキルエーテル、例えば、ジエチ
レングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプ
ロピルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル
などのジエチレングリコールモノアルキルエーテル、例
えば、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノイソプロピルエーテル、ジプロピレングリコ
ールモノブチルエーテルなどのジプロピレングリコール
モノアルキルエーテル、例えば、トリエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエ
チルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエ
ーテル、トリエチレングリコールモノイソプロピルエー
テル、トリエチレングリコールモノブチルエーテルなど
のトリエチレングリコールモノアルキルエーテル、例え
ば、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、ト
リプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロ
ピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノイソプロピルエーテル、トリプロピレ
ングリコールモノブチルエーテルなどのトリプロピレン
グリコールモノアルキルエーテル等を挙げるこができ
る。これらは、単独又は２種類以上併用してもよく、ま
た、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、例
えば、ｍが４〜６のポリエチレングリコールモノメチル
エーテル（商品名：ＥＸＰ−Ｍ−４５、東邦化学株式会
社製）などを単独又は併せて用いてもよい。
【００３１】これらのうち、好ましくは、エチレングリ
コールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルを挙げることができ、さらに好まし
くは、取扱性の点より、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
を挙げることができる。本発明における、ハロシアノア
セトアミド系化合物、イソチアゾロン系化合物、アルコ
キシグリコール系化合物、水及びイソチアゾロン系化合
物と錯化合物を形成するＭＺｂのそれぞれの使用割合
は、本発明の工業用殺菌剤の全量中、ハロシアノアセト
アミド系化合物が５〜３０重量％、好ましくは１０〜２
０重量％、イソチアゾロン系化合物が０．５〜７重量
％、好ましくは１〜６重量％、アルコキシグリコール系
化合物が１０〜９０重量％、好ましくは４０〜６０重量
％、水が４〜６０重量％、好ましくは１０〜２０重量％
の範囲において、その用途等により適宜選択して用いら
れ、また、イソチアゾロン系化合物と錯化合物を形成す
るＭＺｂは、工業用殺菌剤の全量中０．５〜６重量％、
好ましくは４〜５．５重量％の範囲で用いられる。ＭＺ
ｂの含有量が０．５重量％に満たないときは、イソチア
ゾロン系化合物の安定性が損なわれ、また、６重量％を
越えると、ハロシアノアセトアミド系化合物の安定性が
損なわれる場合がある。
コールモノアルキルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノアルキルエーテルを挙げることができ、さらに好まし
くは、取扱性の点より、ジエチレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル
を挙げることができる。本発明における、ハロシアノア
セトアミド系化合物、イソチアゾロン系化合物、アルコ
キシグリコール系化合物、水及びイソチアゾロン系化合
物と錯化合物を形成するＭＺｂのそれぞれの使用割合
は、本発明の工業用殺菌剤の全量中、ハロシアノアセト
アミド系化合物が５〜３０重量％、好ましくは１０〜２
０重量％、イソチアゾロン系化合物が０．５〜７重量
％、好ましくは１〜６重量％、アルコキシグリコール系
化合物が１０〜９０重量％、好ましくは４０〜６０重量
％、水が４〜６０重量％、好ましくは１０〜２０重量％
の範囲において、その用途等により適宜選択して用いら
れ、また、イソチアゾロン系化合物と錯化合物を形成す
るＭＺｂは、工業用殺菌剤の全量中０．５〜６重量％、
好ましくは４〜５．５重量％の範囲で用いられる。ＭＺ
ｂの含有量が０．５重量％に満たないときは、イソチア
ゾロン系化合物の安定性が損なわれ、また、６重量％を
越えると、ハロシアノアセトアミド系化合物の安定性が
損なわれる場合がある。
【００３２】また、ハロシアノアセトアミド系化合物と
イソチアゾロン系化合物との重量比が、イソチアゾロン
系化合物１重量部に対し、ハロシアノアセトアミド系化
合物が４〜８重量部、好ましくは、５〜７重量部である
ときには非常に優れた防腐作用を示し、さらには、アル
コキシグリコール系化合物と水との重量比が、水１重量
部に対し、アルコキシグリコール系化合物が２〜７重量
部、好ましくは３〜６重量部であるときには、さらに優
れた安定性を示す。
イソチアゾロン系化合物との重量比が、イソチアゾロン
系化合物１重量部に対し、ハロシアノアセトアミド系化
合物が４〜８重量部、好ましくは、５〜７重量部である
ときには非常に優れた防腐作用を示し、さらには、アル
コキシグリコール系化合物と水との重量比が、水１重量
部に対し、アルコキシグリコール系化合物が２〜７重量
部、好ましくは３〜６重量部であるときには、さらに優
れた安定性を示す。
【００３３】そして、本発明の工業用殺菌剤において、
本発明の工業用殺菌剤を調製するにあたっては、それ
ぞれの成分を所定量にて、撹拌機等を用いて完全に均一
になるまで適宜撹拌混合すればよく、例えば、水溶液中
でイソチアゾロン系化合物に、錯化合物を形成するＭＺ
ｂを加えた後、これに、ハロシアノアセトアミド系化合
物を溶解したアルコキシグリコール系化合物を加えるこ
とにより調製するのが好ましい。
本発明の工業用殺菌剤を調製するにあたっては、それ
ぞれの成分を所定量にて、撹拌機等を用いて完全に均一
になるまで適宜撹拌混合すればよく、例えば、水溶液中
でイソチアゾロン系化合物に、錯化合物を形成するＭＺ
ｂを加えた後、これに、ハロシアノアセトアミド系化合
物を溶解したアルコキシグリコール系化合物を加えるこ
とにより調製するのが好ましい。
【００３４】また、すでに市販されているイソチアゾロ
ン系錯化合物、例えば、ケーソンＷＴ（ロームアンドハ
ース社製：５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オン：２−メチル−４−イソチアゾリン−３−
オン ３：１（重量比）の混合物約１４重量％、硝酸マ
グネシウム約２０〜３０重量％の水溶液）、ゾーネンＣ
（市川合成株式会社製：ケーソンＷＴとほぼ同等の組
成）等を使用してもよい。
ン系錯化合物、例えば、ケーソンＷＴ（ロームアンドハ
ース社製：５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリ
ン−３−オン：２−メチル−４−イソチアゾリン−３−
オン ３：１（重量比）の混合物約１４重量％、硝酸マ
グネシウム約２０〜３０重量％の水溶液）、ゾーネンＣ
（市川合成株式会社製：ケーソンＷＴとほぼ同等の組
成）等を使用してもよい。
【００３５】本発明の工業用殺菌剤は、その他、その目
的、用途等において、本発明の優れた効果を阻害しない
範囲において、公知の添加剤、例えば、他の殺菌剤、界
面活性剤、酸化防止剤等を添加してもよい。該殺菌剤と
しては、1,2-ベンツイソチアゾリン-3- オン、2-ブロモ
-2- ニトロプロパン-1,3- ジオール、3-ヨード-2- プロ
ピニル- ブチルカーバメイト、メチル-2- ベンツイミダ
ゾールカーバメイト及びその塩（例えば、塩酸塩、メタ
ンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩など）、2,
2-ジブロモ-2- ニトロエタノール、4,5-ジクロロ-1,2-
ジチオール-3- オン、メチレンビスチオシアネート、2-
メチル -4,5-トリメチレン- イソチアゾリン-3- オンな
どが挙げられる。
的、用途等において、本発明の優れた効果を阻害しない
範囲において、公知の添加剤、例えば、他の殺菌剤、界
面活性剤、酸化防止剤等を添加してもよい。該殺菌剤と
しては、1,2-ベンツイソチアゾリン-3- オン、2-ブロモ
-2- ニトロプロパン-1,3- ジオール、3-ヨード-2- プロ
ピニル- ブチルカーバメイト、メチル-2- ベンツイミダ
ゾールカーバメイト及びその塩（例えば、塩酸塩、メタ
ンスルホン酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩など）、2,
2-ジブロモ-2- ニトロエタノール、4,5-ジクロロ-1,2-
ジチオール-3- オン、メチレンビスチオシアネート、2-
メチル -4,5-トリメチレン- イソチアゾリン-3- オンな
どが挙げられる。
【００３６】該界面活性剤としては、石鹸類、ノニオン
系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面
活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤等、公
知の界面活性剤が挙げられ、好ましくは、ノニオン系界
面活性剤、アニオン系界面活性剤等が挙げられる。該ノ
ニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシアル
キレンアリールフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ノニルフェニルエーテル、酸化エチレンと酸化プロピレ
ンブロック共重合物等が挙げられる。
系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面
活性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤等、公
知の界面活性剤が挙げられ、好ましくは、ノニオン系界
面活性剤、アニオン系界面活性剤等が挙げられる。該ノ
ニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシアル
キレンアリールフェニルエーテル、ポリオキシエチレン
ノニルフェニルエーテル、酸化エチレンと酸化プロピレ
ンブロック共重合物等が挙げられる。
【００３７】該アニオン系界面活性剤としては、例え
ば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフ
タレンスルホン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性
剤、ジアルキルスルホコハク酸エステル金属塩、ポリオ
キシエチレンジスチレン化フェニルエーテルサルフェー
トアンモニウム塩、リグニンスルホン酸金属塩等が挙げ
られ、金属塩としてはナトリウム塩、カリウム塩、マグ
ネシウム塩等が挙げられる。
ば、アルキルベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフ
タレンスルホン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性
剤、ジアルキルスルホコハク酸エステル金属塩、ポリオ
キシエチレンジスチレン化フェニルエーテルサルフェー
トアンモニウム塩、リグニンスルホン酸金属塩等が挙げ
られ、金属塩としてはナトリウム塩、カリウム塩、マグ
ネシウム塩等が挙げられる。
【００３８】該酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-t
- ブチル-4- メチルフェノール、2,2'- メチレンビス
〔4-メチル-6-t- ブチルフェノール〕などのフェノール
系酸化防止剤、アルキルジフェニルアミン、N,N'- ジ-s
- ブチル-p- フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防
止剤等が挙げられる。これら、添加剤は、本発明の工業
用殺菌剤１００重量部に対して、例えば、０．１〜５重
量部の割合で添加される。
- ブチル-4- メチルフェノール、2,2'- メチレンビス
〔4-メチル-6-t- ブチルフェノール〕などのフェノール
系酸化防止剤、アルキルジフェニルアミン、N,N'- ジ-s
- ブチル-p- フェニレンジアミンなどのアミン系酸化防
止剤等が挙げられる。これら、添加剤は、本発明の工業
用殺菌剤１００重量部に対して、例えば、０．１〜５重
量部の割合で添加される。
【００３９】本発明の工業用殺菌剤を使用するにあたっ
ては、対象、目的などにより異なるが、例えば、滴下
法、間欠添加法、塗布法、噴霧法、浸漬法などの公知の
方法を適宜使用し、対象となる含水組成物に対して有効
成分であるハロシアノアセトアミド系化合物及びイソチ
アゾロン系錯化合物の最終濃度が１０〜５０００ｐｐ
ｍ、好ましくは５０〜１０００ｐｐｍ程度となるように
添加するのが好ましい。
ては、対象、目的などにより異なるが、例えば、滴下
法、間欠添加法、塗布法、噴霧法、浸漬法などの公知の
方法を適宜使用し、対象となる含水組成物に対して有効
成分であるハロシアノアセトアミド系化合物及びイソチ
アゾロン系錯化合物の最終濃度が１０〜５０００ｐｐ
ｍ、好ましくは５０〜１０００ｐｐｍ程度となるように
添加するのが好ましい。
【００４０】そして、工業用殺菌剤としては、好ましく
は、製紙工程における白水、合成高分子エマルション、
顔料、塗料、印刷板用処理液、接着剤、冷却用水、イン
キ、切削油、化粧用品、不織布、紡糸油、皮革などの用
途として用いられ、より好ましくは、製紙工程における
スライムコントロール剤の用途として用いられ、この用
途として使用した場合には、相乗的に菌数を減少させる
ことができる。
は、製紙工程における白水、合成高分子エマルション、
顔料、塗料、印刷板用処理液、接着剤、冷却用水、イン
キ、切削油、化粧用品、不織布、紡糸油、皮革などの用
途として用いられ、より好ましくは、製紙工程における
スライムコントロール剤の用途として用いられ、この用
途として使用した場合には、相乗的に菌数を減少させる
ことができる。
【００４１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の工業用殺菌
剤は、イソチアゾロン系錯化合物及びハロシアノアセト
アミド系化合物の両者共に安定性が著しく良好で、取り
扱いが容易で優れた防腐作用を示し、長期間分解するこ
となく安定的に保存でき、工業用殺菌剤、好ましくは製
紙用スライムコントロール剤として有効に用いることが
できる。
剤は、イソチアゾロン系錯化合物及びハロシアノアセト
アミド系化合物の両者共に安定性が著しく良好で、取り
扱いが容易で優れた防腐作用を示し、長期間分解するこ
となく安定的に保存でき、工業用殺菌剤、好ましくは製
紙用スライムコントロール剤として有効に用いることが
できる。
【００４２】
【実施例】以下に実施例および比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明する。 実施例１ ジブロモシアノアセトアミド15ｇをジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル65g で溶解させた後、ケーソンＷ
Ｔ（ロームアンドハース社製：５−クロロ−２−メチル
−４−イソチアゾリン−３−オン：２−メチル−４−イ
ソチアゾリン−３−オン ３：１（重量比）の混合物約
１４重量％、硝酸マグネシウム約２０〜３０重量％を含
有する水溶液）20g を加えて、100 ｇの本発明の工業用
殺菌剤を得た。
より具体的に説明する。 実施例１ ジブロモシアノアセトアミド15ｇをジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル65g で溶解させた後、ケーソンＷ
Ｔ（ロームアンドハース社製：５−クロロ−２−メチル
−４−イソチアゾリン−３−オン：２−メチル−４−イ
ソチアゾリン−３−オン ３：１（重量比）の混合物約
１４重量％、硝酸マグネシウム約２０〜３０重量％を含
有する水溶液）20g を加えて、100 ｇの本発明の工業用
殺菌剤を得た。
【００４３】実施例2 ジエチレングリコールモノメチルエーテル60g とケーソ
ンＷＴ25g とを用いた以外は、実施例１と同様の操作を
行い、100 ｇの本発明の工業用殺菌剤を得た。 実施例3 ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
エチレングリコールモノエチルエーテルを用いた以外
は、実施例１と同様の操作を行い、100 ｇの本発明の工
業用殺菌剤を得た。
ンＷＴ25g とを用いた以外は、実施例１と同様の操作を
行い、100 ｇの本発明の工業用殺菌剤を得た。 実施例3 ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
エチレングリコールモノエチルエーテルを用いた以外
は、実施例１と同様の操作を行い、100 ｇの本発明の工
業用殺菌剤を得た。
【００４４】実施例4 ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにエ
チレングリコールモノメチルエーテルを用いた以外は、
実施例１と同様の操作を行い、100 ｇの本発明の工業用
殺菌剤を得た。 実施例5 ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにエ
チレングリコールモノエチルエーテルを用いた以外は、
実施例１と同様の操作を行い、100 ｇの本発明の工業用
殺菌剤を得た。
チレングリコールモノメチルエーテルを用いた以外は、
実施例１と同様の操作を行い、100 ｇの本発明の工業用
殺菌剤を得た。 実施例5 ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにエ
チレングリコールモノエチルエーテルを用いた以外は、
実施例１と同様の操作を行い、100 ｇの本発明の工業用
殺菌剤を得た。
【００４５】比較例１ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにエ
チレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様の操
作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。比較例２ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
メチルアセトアミドを用いた以外は、実施例１と同様の
操作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。
チレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様の操
作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。比較例２ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
メチルアセトアミドを用いた以外は、実施例１と同様の
操作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。
【００４６】比較例３ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにN-
メチルピロリドンを用いた以外は、実施例１と同様の操
作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。 比較例４ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにポ
リプロピレングリコール（数平均分子量Ｍｎ＝２００）
を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、100 ｇ
の工業用殺菌剤を得た。
メチルピロリドンを用いた以外は、実施例１と同様の操
作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。 比較例４ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにポ
リプロピレングリコール（数平均分子量Ｍｎ＝２００）
を用いた以外は、実施例１と同様の操作を行い、100 ｇ
の工業用殺菌剤を得た。
【００４７】比較例５ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
プロピレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様
の操作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。 比較例６ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
エチレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様の
操作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。
プロピレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様
の操作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。 比較例６ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにジ
エチレングリコールを用いた以外は、実施例１と同様の
操作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。
【００４８】比較例７ ジブロモシアノアセトアミド15ｇをジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル50g で溶解させた後、ケーソンＬ
Ｘ−ｐｌｕｓ（ロームアンドハース社製：５−クロロ−
２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン：２−メチ
ル−４−イソチアゾリン−３−オン ３：１（重量比）
の混合物約１４重量％、硝酸マグネシウム約２０〜３０
重量％を含有するジプロピレン溶液）20g と水15ｇとを
加えて、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。
ルモノメチルエーテル50g で溶解させた後、ケーソンＬ
Ｘ−ｐｌｕｓ（ロームアンドハース社製：５−クロロ−
２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン：２−メチ
ル−４−イソチアゾリン−３−オン ３：１（重量比）
の混合物約１４重量％、硝酸マグネシウム約２０〜３０
重量％を含有するジプロピレン溶液）20g と水15ｇとを
加えて、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。
【００４９】比較例８ ジエチレングリコールモノメチルエーテルの代わりにエ
チレングリコールを用いた以外は、比較例７と同様の操
作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。 試験例 試験法：上記実施例及び比較例で得られた工業用殺菌剤
をそれぞれガラス容器に入れて密封し、6 ０℃の恒温槽
に入れて７日後に高速液体クロマトグラフィーを用いて
ジブロモシアノアセトアミドの残存率（重量％）及び5-
クロロ-2- メチル-4- イソチアゾリン-3- オンの残存率
（重量％）を測定した。
チレングリコールを用いた以外は、比較例７と同様の操
作を行い、100 ｇの工業用殺菌剤を得た。 試験例 試験法：上記実施例及び比較例で得られた工業用殺菌剤
をそれぞれガラス容器に入れて密封し、6 ０℃の恒温槽
に入れて７日後に高速液体クロマトグラフィーを用いて
ジブロモシアノアセトアミドの残存率（重量％）及び5-
クロロ-2- メチル-4- イソチアゾリン-3- オンの残存率
（重量％）を測定した。
【００５０】結果を表１に示す。
【００５１】
【表１】
【００５２】表１より、実施例１〜５は、ジブロモシア
ノアセトアミド及び5-クロロ-2- メチル-4- イソチアゾ
リン-3- オンの両者とも、９０重量％以上の残存率を示
し、とりわけ、硝酸マグネシウムの含有量が６重量％を
越えない、実施例１及び実施例３〜５については、９５
重量％以上の高い残存率を示している。一方、アルコキ
シグリコール系化合物を含有しない比較例１〜６は、ジ
ブロモシアノアセトアミドの残存率が低く、良好な安定
性が得られていないことがわかる。また、錯化合物を形
成していないケーソンＬＸ−ｐｌｕｓを用いた比較例７
及び８では、たとえ、アルコキシグリコール系化合物を
含有する比較例７であっても、ジブロモシアノアセトア
ミド及び5-クロロ-2- メチル-4- イソチアゾリン-3- オ
ンの両者とも残存率が低く、良好な安定性が得られてい
ないことがわかる。
ノアセトアミド及び5-クロロ-2- メチル-4- イソチアゾ
リン-3- オンの両者とも、９０重量％以上の残存率を示
し、とりわけ、硝酸マグネシウムの含有量が６重量％を
越えない、実施例１及び実施例３〜５については、９５
重量％以上の高い残存率を示している。一方、アルコキ
シグリコール系化合物を含有しない比較例１〜６は、ジ
ブロモシアノアセトアミドの残存率が低く、良好な安定
性が得られていないことがわかる。また、錯化合物を形
成していないケーソンＬＸ−ｐｌｕｓを用いた比較例７
及び８では、たとえ、アルコキシグリコール系化合物を
含有する比較例７であっても、ジブロモシアノアセトア
ミド及び5-クロロ-2- メチル-4- イソチアゾリン-3- オ
ンの両者とも残存率が低く、良好な安定性が得られてい
ないことがわかる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ａ０１Ｎ 37:34）
Claims (10)
- 【請求項１】 （ａ）一般式 【化１】 （式中、Ｘ１はハロゲン原子、Ｘ２はハロゲン原子又は
水素原子、Ｒ１は水素原子又は低級アルキル基を示
す。）で表されるハロシアノアセトアミド系化合物と、
（ｂ）一般式 【化２】 （式中、Ｙ１及びＹ２はハロゲン原子又は水素原子、Ｒ
２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル基、Ｍはカチ
オン、Ｚはアニオン、ａは１又は２、ｂはＺがＭの原子
価を満たす数を示す。）で表されるイソチアゾロン系錯
化合物と、（ｃ）一般式 【化３】 （式中、Ｒ３は炭素数１〜６のアルキル基を、ｎは２又
は３の整数を、ｍは１〜６の整数を示す。）で表される
アルコキシグリコール系化合物と水とを含有することを
特徴とする安定化された工業用殺菌剤。 - 【請求項２】 （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化
合物の式中のＭＺｂが、工業用殺菌剤の全量中０．５〜
６重量％である請求項１記載の安定化された工業用殺菌
剤。 - 【請求項３】 （ａ）で表されるハロシアノアセトアミ
ド系化合物の式中、Ｘ２がハロゲン原子であり、Ｒ１が
水素原子である請求項１又は２記載の安定化された工業
用殺菌剤。 - 【請求項４】 ハロシアノアセトアミド系化合物が、ジ
ブロモシアノアセトアミドである請求項１又は２記載の
安定化された工業用殺菌剤。 - 【請求項５】 （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化
合物の式中、Ｙ１及びＹ２が塩素原子又は水素原子であ
り、Ｒ２がメチル基である請求項１又は２記載の安定化
された工業用殺菌剤。 - 【請求項６】 （ｂ）で表されるイソチアゾロン系錯化
合物の式中、ＭＺｂが硝酸マグネシウム及び／又は塩化
マグネシウムである請求項１又は２記載の安定化された
工業用殺菌剤。 - 【請求項７】 イソチアゾロン系錯化合物が、２−メチ
ル−４−イソチアゾリン−３−オンマグネシウムナイト
レート及び／又は５−クロロ−２−メチル−４−イソチ
アゾリン−３−オンマグネシウムナイトレートである請
求項１又は２記載の安定化された工業用殺菌剤。 - 【請求項８】 （ｃ）で表されるアルコキシグリコール
系化合物の式中、Ｒ３がメチル基又はエチル基であり、
ｍが１又は２である請求項１又は２記載の安定化された
工業用殺菌剤。 - 【請求項９】 アルコキシグリコール系化合物が、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル及び／又はジエチ
レングリコールモノエチルエーテルである請求項１又は
２記載の安定化された工業用殺菌剤。 - 【請求項１０】 製紙用スライムコントロール剤として
用いられる請求項１又は２記載の安定化された工業用殺
菌剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26951296A JPH10114605A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 安定化された工業用殺菌剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26951296A JPH10114605A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 安定化された工業用殺菌剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10114605A true JPH10114605A (ja) | 1998-05-06 |
Family
ID=17473448
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26951296A Pending JPH10114605A (ja) | 1996-10-11 | 1996-10-11 | 安定化された工業用殺菌剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10114605A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007033764A3 (de) * | 2005-09-21 | 2007-06-28 | Clariant Produkte Deutschland | Biozide zusammensetzungen |
| WO2008146436A1 (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Chemicrea Inc. | 安定な殺微生物組成物 |
| JP2010090081A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Sumika Enviro-Science Co Ltd | 工業用抗菌組成物 |
| JP2011126866A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Dow Italia Divisione Commerciale Srl | 低温での使用に適する消毒剤配合物 |
| JP2011126867A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Dow Italia Divisione Commerciale Srl | 低温で液体のままである消毒剤配合物 |
| JP2014076985A (ja) * | 2012-09-18 | 2014-05-01 | Fuji Sangyo Co Ltd | 安全性の改善された工業用殺菌剤組成物 |
-
1996
- 1996-10-11 JP JP26951296A patent/JPH10114605A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007033764A3 (de) * | 2005-09-21 | 2007-06-28 | Clariant Produkte Deutschland | Biozide zusammensetzungen |
| US8163784B2 (en) | 2005-09-21 | 2012-04-24 | Clariant Produkte (Deutschland) Gmbh | Biocidal compositions |
| WO2008146436A1 (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-04 | Chemicrea Inc. | 安定な殺微生物組成物 |
| JP2010090081A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Sumika Enviro-Science Co Ltd | 工業用抗菌組成物 |
| JP2011126866A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Dow Italia Divisione Commerciale Srl | 低温での使用に適する消毒剤配合物 |
| JP2011126867A (ja) * | 2009-12-18 | 2011-06-30 | Dow Italia Divisione Commerciale Srl | 低温で液体のままである消毒剤配合物 |
| JP2014076985A (ja) * | 2012-09-18 | 2014-05-01 | Fuji Sangyo Co Ltd | 安全性の改善された工業用殺菌剤組成物 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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