JPH0982619A - 防塵装置及び露光装置 - Google Patents

防塵装置及び露光装置

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JPH0982619A
JPH0982619A JP7241651A JP24165195A JPH0982619A JP H0982619 A JPH0982619 A JP H0982619A JP 7241651 A JP7241651 A JP 7241651A JP 24165195 A JP24165195 A JP 24165195A JP H0982619 A JPH0982619 A JP H0982619A
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dust
exhaust
dustproof
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substrate
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JP7241651A
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Inventor
Hisashi Yamazaki
久史 山崎
Kanefumi Nakahara
兼文 中原
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 駆動部からの発塵を効果的に防止する。 【解決手段】 本装置は、複数の駆動部をそれぞれ覆う
複数の防塵カバーと、その複数の防塵カバーにそれぞれ
接続される複数の排気管を介して前記防塵カバー内の排
気を行う排気手段を備えており、複数の排気管をそれぞ
れ独立に開閉できる開閉手段により、発塵のおそれのあ
る駆動部が収納された防塵カバーを選択的に排気手段と
連通させることにより、小さな容量の排気手段により効
果的に駆動部からの発塵を防止できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置や
液晶用基板製造装置などに実装される防塵装置に係り、
特にマスク上のパターンの像で感光基坂を露光する露光
装置に実装される防塵装置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体や液晶用基板などの製造プロセス
は多くの工程から構成されており、ウェハやガラス基板
などの基板を各処理装置間、あるいは基板保管装置と処
理装置間で頻繁に移動させる必要がある。また、例え
ば、マスク(レチクル)上に形成されたパターンの像を
感光基板に転写する露光装置では、複数種類のレチクル
を使用するので、複数のレチクルが収納されたレチクル
保管装置とレチクルステージとの間で頻繁にレチクルを
搬送する必要がある。そのため、半導体や液晶用基板な
どの製造工程では、要所要所に、搬送アームなどにより
基板を支持して搬送する搬送装置が設けられている。な
お、本明細書においては、単に「基板」と称した場合に
は、特に言及しない限り、搬送装置により搬送される感
光基板やレチクルなどの搬送対象をすべて含むものとす
る。
【0003】ところで、半導体や液晶用基板などの製造
プロセスにおいては、歩留まりを向上させるために防塵
対策が重要な技術的課題である。例えば、レチクル上に
形成されたパターンの像をレジストなどが塗布されたウ
ェハやガラス基板などの感光基板に転写するリソグラフ
ィ工程において、レチクルに塵埃が付着すると、その塵
埃が基板上に転写されて、回路パターンに欠陥が生じる
という問題がある。
【0004】従って、露光装置などの処理装置は、通常
は、塵埃が除去され、所定の空気清浄度に保持された清
浄空間、いわゆるクリーンルーム内に設置されて、外部
から進入した塵埃がレチクルや基板に付着しないように
対策が施されている。特に露光装置は、HEPAフィル
タを有する空調装置が接続されたチャンバ内に収納され
て、クリーンルーム内に設置されている。しかし、処理
装置には、それ自体が発塵の原因となる部材が多く含ま
れている。特に、上述の搬送装置は、搬送アームを駆動
するモータなどから構成される駆動部を備えており、こ
の駆動部からの発塵を防止することが重要である。
【0005】そこで、従来の装置では、搬送装置の駆動
部を、例えば防塵カバーでで覆い、駆動部からの発塵が
露光装置などの処理装置が設置される清浄空間内に漏れ
るのを防止していた。あるいは、さらに真空ポンプなど
の排気手段を排気管を介して各防塵カバーに接続し、駆
動部が収納された防塵カバー内を駆動部からの発塵とと
もに排気して、発塵が防塵カバーの隙間などから周囲環
境に漏洩しないように構成していた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
装置のように、搬送装置の駆動部を単に防塵カバーで覆
っただけでは、カバーの継ぎ目などに生じる隙間から発
塵が周囲環境に漏洩し、周囲を汚染することが避けられ
ないという問題があった。また、塵埃の漏洩を防止する
ために、防塵カバーの気密性を高めることにもコストな
どの面から限界があった。
【0007】また、真空ポンプなどの排気手段により防
塵カバー内を排気することは、発塵対策として非常に有
効な手段である。しかし、複数の駆動部を有する装置の
場合には、発塵源となるすべての駆動部から排気を行う
ことは、限られたポンプ容量では負荷が大きすぎて困難
である。すなわち、限られたポンプ容量ですべての駆動
部から排気を行えば、排気による十分な防塵効果が得ら
れない。かかる問題の解決策として、使用する真空ポン
プの容量を大きくすることが考えられるが、ポンプ容量
を大きくすれば、それだけ広い設置スペースが必要とな
り、また消費電力が増大するという新たな問題が生じ
る。さらに、大容量のポンプを駆動すれば、それだけ大
きな振動が発生し、振動を嫌う装置、例えば露光装置な
どでは特に問題であった。
【0008】従って、本発明は、駆動部からの発塵防止
対策上の従来の問題点に鑑みてなされたものであり、個
々の防塵カバーの隙間からの塵埃の漏洩を防止すること
が可能であり、しかも、発塵源となる駆動部が複数ある
場合であっても、最小限の容量の真空ポンプで効率的に
防塵カバー内を排気して発塵を防止することが可能な防
塵装置及びかかる防塵装置を実装する露光装置を提供す
ることを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明では、発塵源となる複数の駆動部をそれぞれ
覆う複数の防塵カバーと、各防塵カバーにそれぞれ接続
される排気管を介して各防塵カバー内の排気を行う真空
ポンプなどの排気手段とを備えた防塵装置に、各排気管
を独立に開閉して複数の防塵カバーの少なくとも1つを
選択的に排気手段と連通させる開閉手段を設けている。
【0010】特に、本発明にかかる防塵装置は、マスク
上のパターンの像で感光基板を露光する装置に実装する
ことが可能であり、マスクや感光基板などの基板を搬送
する搬送手段の複数の駆動部からの発塵を防止するため
に好適に適用することができる。そして、その場合に、
制御器により、搬送手段の複数の駆動部のうち、稼働中
の駆動部のみが排気手段と連通するように、基板の搬送
シーケンスに応じて開閉手段を制御することが好まし
い。
【0011】さらに、発塵源となる複数の駆動装置を有
する搬送手段を、空調手段により温度制御された清浄な
気体が循環するチャンバ内に収納することが好ましい。
【0012】
【発明の実施の形態】以下に添付図面を参照しながら、
本発明にかかる防塵装置およびその防塵装置を実装した
露光装置の基板搬送装置の実施の一形態について詳細に
説明する。まず、図1及び図2を参照しながら本発明に
かかる防塵装置の基本的なコンセプトについて、従来例
との比較しながら説明する。なお、図1は本実施の形態
にかかる防塵装置の構成を示し、図2は従来の防塵装置
の構成を示している。なお、本明細書及び図面におい
て、実質的に同一の機能構成を有する構成部材について
は、同一の参照番号を付することにより重複説明を省略
している。
【0013】図1に示すように、本実施の形態にかかる
防塵装置は、発塵源となる複数の駆動部M1,M2,
…,Mn(nは任意の整数)からの発塵を対象とするも
のである。図示のように、複数の駆動部M1,M2,…
Mnは、それぞれ対応する防塵カバーC1,C2,…,
Cnにより覆われており、各駆動部M1,M2,…,M
nにおいて発生した塵埃が外部に容易に漏洩しないよう
になっている。さらに、本実施の形態では、各防塵カバ
ーC1,C2,…,Cnを、排気管E1,E2,…,E
nを介して真空ポンプなどの排気手段Pに接続し、各駆
動部M1,M2,…,Mnにおいて発生した塵埃を空気
とともに排出して、塵埃の周囲雰囲気への漏洩を防止す
ることで、より高い清浄度が要求される環境にも対応す
ることができる。
【0014】かかる排気系接続の構成については、図2
に参考例として示す従来の排気系を有する防塵装置と同
様である。しかしながら、図2に示すように、従来の防
塵装置では、各防塵カバーC1,C2,…,Cnが排気
管E1,E2,…,Enを介して排気手段Pに直接接続
されているため、防塵対象となる駆動部M1,M2,
…,Mnの数が多い場合には、通常の小さい容量の真空
ポンプでは十分な排気効果が得られず、これに対して、
大きい容量の真空ポンプでは設置スペースの増大、高い
ランニングコスト、振動の発生といった各種問題が生じ
ていた。なかんずく、図2に示す如き構成では、排気管
E1,E2,…,Enにより接続されているすべての防
塵カバーC1,C2,…,Cnから同時に排気を行って
いるため、稼働していない駆動部(従って、発塵が生じ
ない駆動部)が収納された防塵カバーについても排気が
行われ、大きなエネルギーロスが生じていた。
【0015】この点、本実施の形態にかかる防塵装置で
は、図1に示すように、各防塵カバーC1,C2,…,
Cnを排気管E1,E2,…,Enを介して排気手段P
に直接接続するのではなく、中継部Iを介して間接的に
接続している。この中継部Iは、例えば電磁弁ボックス
のようなもので、各防塵カバーC1,C2,…,Cnに
接続される各排気管E1,E2,…,Enを個別独立に
開閉することができる複数の電磁弁(開閉手段)を備え
ている。従って、制御器Cntからの制御信号により、
対応する電磁弁を開放または閉止することにより、開放
された排気管に接続された防塵カバーのみを真空ポンプ
Pに連通させることができる。
【0016】本願発明者は、発塵源となる駆動部を複数
有する装置であっても、実際の処理シーケンスにおいて
は、すべての駆動部が同時に稼働する機会は無い、ある
いはあっても希であるという事実に着目して、本発明に
想到したものである。従って、本発明を基板搬送装置に
適用した実施の一形態によれば、搬送シーケンスに応じ
て制御器から中継部Iに信号を送り、実際に稼働してい
る駆動部(従って、実際に発塵のおそれがある駆動部)
が収納された防塵カバーのみを排気系(真空ポンプP)
に連通させその内部を排気し、他の防塵カバーは排気系
から切り離してやることで、必要最小限の容量の真空ポ
ンプを用いて、最大の防塵効果を得ることができる。
【0017】次に、図3を参照しながら、本発明にかか
る防塵装置を露光装置の基板搬送装置に適用した実施の
一形態について詳細に説明する。図3に示す基板搬送装
置は、基板保管部102とレチクルステージ138との
間で基板(レチクルR)を移動させるための基板搬送部
として、搬送アーム104と、キャリア106と、ロー
ドアーム108と、アンロードアーム110を備えてい
る。
【0018】基板保管部102はレチクルRを収納した
基板ケース112を複数個保管する。搬送アーム104
は、駆動機構114を備えたスライダ116を介してY
方向に移動可能である。また搬送アーム104は、駆動
機構118を備えたスライダ120を介してZ方向にも
移動可能である。そして搬送アーム104は、駆動機構
114、118によりスライダ116、120をX方向
あるいはZ方向に駆動して、搬送アーム104により基
板保持部102内の基板ケース112からレチクルRの
みを取り出し、レチクルRを受渡し位置CA1まで搬送
する。なお、受渡し位置CA1は搬送アーム104から
キャリア106へレチクルRを受渡す位置である。搬送
アーム104には不図示の真空吸着孔が設けられてお
り、不図示の真空ポンプのON、OFFによりレチクル
Rを保持、解除する。
【0019】キャリア106は駆動機構122を備えた
スライダ124を介してX方向に移動可能である。そし
てキャリア106はその下部に真空吸着孔を有してお
り、不図示の真空ポンプのON、OFFによりレチクル
Rを保持、解除する。またキャリア106は4つの基準
辺を有するプリアライメント機構を有しており、この4
辺を基準に直交する2方向からレチクルRを挟み込んで
プリアライメントする。キャリア106は、駆動機構1
22によりスライダ124を駆動して、レチクルRをプ
リアライメントすると共に、レチクルRをX方向に位置
CA1から位置CA2まで搬送する。なお、位置CA2
は、レチクルRをキャリア106からロードアーム10
8に、あるいはアンロードアーム110からキャリア1
06に受け渡す位置である。
【0020】ロードアーム108は駆動機構126を備
えたスライダ128を介してY方向に移動可能であり、
アンロードアーム110は駆動機構130を備えたスラ
イダ132を介してY方向に移動可能である。またロー
ドアーム108とアンロードアーム110は駆動機構1
34を備えたスライダ136を介してZ方向にも移動可
能である。そしてロードアーム108とアンロードアー
ム110とはY方向については個別に移動可能であり、
Z方向については一体に移動する構成となっている。ロ
ードアーム108とアンロードアーム110とには搬送
アーム104と同様に真空吸着孔が設けられており、真
空ポンプ(不図示)のON、OFFによりレチクルRの
吸着保持、解除が可能となっている。従って、レチクル
Rは、駆動機構126、130、134により、往路で
は、ロードアーム108により受け渡し位置CA2から
レチクルステージ138まで搬送され、復路では、アン
ロードアーム110によりレチクルステージ138から
位置CAまで搬送される。
【0021】レチクルステージ138はレチクルRを搭
載するステ−ジであり、投影光学系PLの上に設けられ
ている。レチクルRはレチクルステージ138上に搬送
され、投影光学系PLの光軸AXとレチクルRの中心が
一致するように、位置決め(アライメント)される。投
影光学系PLの下方には、2次元移動可能なウェハステ
ージ140が設置されている。そして、不図示の照明光
学系より、所定の露光光(i線、g線)をレチクルRに
照射して、レチクルRに形成されたパターンの像を投影
光学系PLを介してウェハステージ140上に載置され
たウェハWなどの感光基板上に転写することができる。
【0022】以上のように、図3に示す基板搬送装置で
は、複数の基板搬送部、すなわち搬送アーム104、キ
ャリア106、ロードアーム108、アンロードアーム
110を用いて、基板(レチクルR)を基板保管部10
2とレチクルステージ138との間で移動している。そ
して、各基板搬送部は、それぞれ基板を搬送するための
動力を供給するために、ステッピングモータのような駆
動部(不図示)を備えた駆動機構114、118、12
2、126、130、134を備えている。各駆動部
は、稼働時に発生する塵埃が周囲環境に漏洩して、基板
を汚染するのを防止するために、防塵カバー114a、
118a、122a、126a、130a、134aで
覆われている。さらに各防塵カバーには、排気管114
b、118b、122b、126b、130b、134
bが接続されており、後述する中継部140(I)や真
空ポンプ142(P)などから成る排気系により、稼働
時に駆動部から生じた発塵を真空排気することができる
ように構成されている。
【0023】中継部140は、図1に関連して説明した
ような電磁弁ボックスのようなもので、複数の防塵カバ
ー114a、118a、122a、126a、130
a、134aに連通する複数の入力(排気管)に対し
て、真空ポンプ142に連通する単一の出力(排気管)
144を備えている。そして、中継部140には、接続
される各排気管114b、118b、122b、126
b、130b、134bに対応する複数の電磁弁(不図
示)が収納されている。各電磁弁は、制御器150(C
nt)からの制御信号に応じて、個別にON、OFF制
御可能であり、ON信号が送られた排気管のみを開放
し、それ以外の排気管を閉止することができる。かかる
構成により、稼働している駆動部(従って、発塵のおそ
れがある駆動部)が収納されている防塵カバーのみを、
真空ポンプ142に連通させて、真空排気することがで
きる。その結果、従来のように、停止中の駆動部(従っ
て、発塵のおそれのない駆動部)が収納された防塵カバ
ーからも真空排気するような無駄が省けるので、必要最
小限の容量のポンプで最大の防塵効果を得ることができ
る。
【0024】以下、図3に示す基板搬送装置の基板交換
シーケンスに応じて、本実施の形態にかかる防塵装置を
駆動する動作について説明する。まず、基板交換動作が
開始すると、まず、レチクルRを基板保管部102から
取り出すために搬送アーム104を駆動する際には、排
気管114b、118bを開放し、搬送アーム104を
駆動するための駆動機構114、118を排気系に接続
する(ただし、他の駆動機構(稼働していない駆動機
構)は排気系から切り離されている。)。その結果、搬
送ア−ム104により基板保管庫102から取り出され
たレチクルR1を位置CA1まで搬送する間に、駆動機
構114、118から生じる発塵の周囲環境への漏洩が
防止できる。この間、停止中の駆動機構と排気系とは切
り離されているため、排気系(真空ポンプ)に対して余
分な負荷をかけることがない。
【0025】次いで、搬送ア−ム104は、位置CA1
でキャリア106へレチクルRを受渡す。受渡しは、キ
ャリア106の真空をON、搬送アーム104の真空を
OFFすることにより行われる。そして、制御器150
は、所定の指令信号を中継部140に送り、排気管12
2bを開放して、キャリア106の駆動機構122を排
気系に接続するとともに、排気管114b、118bを
閉止することにより、稼働が停止した駆動機構114、
118を排気系から切り離す。もちろん、排気管114
b、118bの開閉は、駆動機構114、118の稼働
停止に応じて行われるので、レチクルRの受け渡し後
に、搬送アーム104を開始位置にまで戻す必要がある
場合には、駆動機構114、118を排気系に接続した
ままにしておく。
【0026】次に、キャリア106はレチクルRを位置
CA1から位置CA2まで搬送するとともに、レチクル
Rをプリアライメントする。その間、キャリア106の
駆動機構122は排気系に接続されているので、駆動機
構122の駆動部からの発塵の周囲環境への漏洩が防止
される。さらに、位置CA2において、ロードアーム1
08はキャリア106からレチクルRを受け取る。受渡
しはロードアーム108の真空をON、キャリア106
の真空をOFFすることにより行われる。
【0027】次いで、後続の動作を行うロードアーム1
08の駆動機構126が排気系に連通されるとともに、
動作が停止したキャリア106の駆動機構122が排気
系から切り離される。その後、ロードア−ム108は、
Y方向に沿ってレチクルステージ138まで移動し、レ
チクルRをレチクルステージ138に受渡す。そして、
レチクルステージ138の真空吸着をON、ロ−ドア−
ム108の真空吸着をOFFすることによって、レチク
ルRがロードアーム108からレチクルステージ138
に受け渡される。なお、ロードアーム108をZ方向に
移動させる必要がある場合には、駆動機構134も排気
系に連通させる必要がある。受渡し後、ロードアーム1
08を露光を妨げない位置まで退避させた後、ロードア
ーム108の運動を停止し、ロードアーム108の駆動
機構126を排気系から切り離す。そして、露光処理が
行われ、レチクルRのパターン像が投影光学系PLを介
してウェハW上に転写される。
【0028】露光が終了した後、アンロードアーム10
6の駆動機構130、134を排気系に接続する。そし
て、アンロードアーム110は、交換するレチクルRを
受取可能な位置まで移動して、レチクルステージ138
よりレチクルRを受け取る。さらに、アンロードアーム
110は交換するレチクルRをキャリア106に受渡し
可能な位置CA2まで搬送する。次いで、キャリア10
6の駆動機構122を排気系に連通するとともに、停止
したアンロードアーム106の駆動機構130、134
を排気系から切り離した後、キャリア106により交換
するレチクルRを搬送アーム104に受け渡し可能な位
置CA1まで搬送する。次いで、停止したキャリア10
6の駆動機構122を排気系から切り離すとともに、搬
送アーム104の駆動機構114、118を排気系に接
続する。そして、交換するレチクルRをキャリア106
から受け取った後、基板保管部102にまで搬送し、所
定のレチクルカセット112にレチクルRを収納する。
そして、搬送アーム104は、後続の露光処理に使用さ
れるレチクルRを基板保管部102から取り出して、再
び基板交換シーケンスを反復する。
【0029】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、基板交換シーケンスに従って、搬送装置のうち稼働
している駆動機構のみが排気系に接続されて、停止して
いる駆動機構は排気系から切り離されているので、必要
最小限の容量の真空ポンプにより効果的に駆動機構から
の発塵を効果的に真空排気することができる。なお、以
上説明した基板交換シーケンスは、一例であり、本発明
がかかる例に限定されないことは言うまでもない。特
に、本実施の形態では、稼働している駆動機構のみを排
気系に接続しているので、例えば、処理のスループット
を向上させるために、搬送系に一時保管部を設置し、搬
送処理を多重的に行うような場合にも、処理シーケンス
に応じて、各駆動機構と排気系との接続/切り離しを制
御することにより、必要最小限の排気系の容量で最大の
防塵効果を得ることができる。
【0030】また、上記実施の形態では、レチクル搬送
系を例に挙げて説明したが、本発明はかかる形態に限定
されず、ウェハやLCD基板などの基板搬送系に対して
も当然に適用することが可能である。さらに、各駆動機
構と排気系との接続/切り離しのタイミングについて
は、上記実施の形態と同様に、駆動部のON動作と同時
に防塵カバーを排気系に接続し、駆動部のOFF動作と
同時に防塵カバーを排気系を切り離しても良いが、例え
ば、排気管の長さが長く排気するまでに時間を要する場
合には、駆動部のON動作を行う所定時間前に防塵カバ
ーを排気系に接続することができる。あるいは、駆動部
のOFF動作後にも防塵カバー内に塵埃が浮遊している
ような場合には、停止動作後の所定時間にわたり防塵カ
バー内を排気し、その後排気系から切り離すように構成
して、防塵効果を高めることもできる。
【0031】さらに、本発明は、必ずしも駆動部の稼働
/停止に応じて、防塵カバーと排気系とを接続/切り離
しする必要はなく、例えば、防塵カバー内にダストモニ
タ(例えば、パーティクルカウンタ)を設置して、防塵
カバー内のダスト量を常時監視して、ダスト量が所定値
を越えた場合にのみ、防塵カバーと排気系とを接続し、
防塵カバー内のダスト量が所定値以下の場合には、防塵
カバーと排気系とを切り離すように構成することもでき
る。
【0032】さらに防塵効果を高めるために、搬送手段
自体をチャンバ内に収納し、適当な空調手段により、こ
のチャンバ内に温度制御された清浄な気体を循環させる
構成を採用することにより、基板の搬送環境を常に清浄
な雰囲気に保持することができる。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
複数の駆動部のうち、発塵が生じるおそれのある駆動部
が収納された防塵カバー内のみを排気手段に接続して、
防塵カバー内に浮遊する塵埃を排気することができるの
で、最小限の容量の排気手段により大きな防塵効果を得
ることができる。従って、排気手段の設置スペース及び
消費電力を小さくすることができる。さらに小さな容量
の排気手段を用いることにより、振動も小さくすること
ができ、振動を嫌う露光装置などに適用した場合に、さ
らに大きな効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる防塵装置の基本的概念を示す構
成図である。
【図2】従来の防塵装置の基本的概念を示す構成図であ
る。
【図3】本発明にかかる防塵装置を適用可能な露光装置
の一実施の形態を示す略見取図である。
【符号の説明】
M 駆動部 C 防塵カバー E 排気管 I 中継部(開閉手段) P 真空ポンプ(排気手段) Cnt 制御器

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の駆動部をそれぞれ覆う複数の防塵
    カバーと;前記複数の防塵カバーにそれぞれ接続される
    複数の排気管を介して前記防塵カバー内の排気を行う排
    気手段と;前記複数の排気管をそれぞれ独立に開閉し
    て、前記複数の防塵カバーの少なくとも1つを選択的に
    前記排気手段と連通させる開閉手段と、を備えたことを
    特徴とする、防塵装置。
  2. 【請求項2】 マスク上のパターンの像で感光基坂を露
    光する装置において前記マスクまたは前記感光基板を搬
    送する搬送手段と;前記搬送手段の複数の駆動部をそれ
    ぞれ覆う複数の防塵カバーと;前記複数の防塵カバーに
    それぞれ接続される複数の排気管を介して前記防塵カバ
    ー内の排気を行う排気手段と;前記複数の排気管をそれ
    ぞれ独立に開閉して、前記複数の防塵カバーの少なくと
    も1つを選択的に前記排気手段と連通させる開閉手段と
    を備えたことを特徴とする、露光装置。
  3. 【請求項3】 前記複数の駆動部のうち、稼働中の駆動
    部のみが前記排気手段と連通するように、前記マスクま
    たは前記感光基板の搬送シーケンスに応じて前記開閉手
    段を制御する制御器を更に備えることを特徴とする、請
    求項2に記載の装置。
  4. 【請求項4】 前記搬送手段を収納するチャンバと、該
    チャンバ内で温度制御された清浄な気体を循環させる空
    調手段とを更に備えていることを特徴とする、請求項2
    又は3に記載の装置。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010262214A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Nuflare Technology Inc マスク検査装置及びマスク検査装置の管理方法

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JP2010262214A (ja) * 2009-05-11 2010-11-18 Nuflare Technology Inc マスク検査装置及びマスク検査装置の管理方法

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