JPH0969242A

JPH0969242A - 光ディスク原盤記録方法及びその装置並びに光ディスク

Info

Publication number: JPH0969242A
Application number: JP22215295A
Authority: JP
Inventors: Shigeru Sakuta; 茂佐久田
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 1995-08-30
Filing date: 1995-08-30
Publication date: 1997-03-11

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、情報記録を行う装置の小型化を図
る。【解決手段】光ディスク原盤１２の電歪材料に電界Ｅを
加えて凸形状に変形し、この変形部分を平坦加工機構１
６により平坦化処理し、この後に電界Ｅを取り除いて光
ディスク原盤１２上に凹部を形成し、これをピット信号
として記録する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤へ
の情報の記録を行う光ディスク原盤記録方法及びその装
置、さらにはこれら方法及び装置により作成された光デ
ィスク原盤を基に複製された光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】光ディスク製造の概略は、先ずガラス原
板に対して感光材料であるフォトレジストを塗布し、こ
れを光ディスク原盤とする。次にこの光ディスク原盤の
フォトレジストをレーザビームにより露光し、記録すべ
き情報を凹部として加工し、これをピット信号として記
録する。

【０００３】この後、光ディスク原盤に対する現像など
の処理を行い、続いて光ディスク原盤から情報を写しと
り、これを原盤として光ディスクの複製を行うに必要な
金属スタンパを作成する。

【０００４】そして、この金属スタンパを用いて複製を
行い、最終製品である光ディスクを完成する。このよう
な光ディスクの製造では、光ディスク原盤のフォトレジ
ストにレーザビームを露光して情報の記録を行ってい
る。

【０００５】図１３はかかる光ディスク原盤記録装置の
構成図である。スピンドルモータ１に連結されたステー
ジ２上には、光ディスク原盤３が配置されている。この
光ディスク原盤３は、ガラス原板上に感光材料であるフ
ォトレジストを塗布したものである。

【０００６】一方、ステージ２の上方には、一軸ガイド
４が配置され、そのスライダに露光レーザヘッド５が取
り付けられている。この露光レーザヘッド５は、露光光
学系６から出力されたレーザビームを光ディスク原盤３
上に照射するものとなっている。

【０００７】なお、一軸ガイド４は、露光レーザヘッド
５が取り付けられたスライダを光ディスク原盤３の半径
方向に移動自在となっている。コンピュータ７は、スピ
ンドルモータ１を回転制御するとともに一軸ガイド４を
移動制御し、かつ露光光学系６のレーザビーム出力を制
御する。

【０００８】このような構成であれば、スピンドルモー
タ１の回転により光ディスク原盤３は回転し、この状態
に一軸ガイド４によって露光レーザヘッド５が一軸方向
つまり光ディスク原盤３の半径方向にスライド移動す
る。

【０００９】これにより、露光レーザヘッド５から出射
されたレーザビームは、回転するレジストの塗布された
光ディスク原盤３上に照射され、このときレーザビーム
の照射が情報に応じて制御されると、光ディスク原盤３
上には、ピット、グルーブなどの凹部からなる情報群が
記録される。

【００１０】しかしながら、このような光ディスク原盤
記録装置では、露光レーザヘッド５や露光光学系６、露
光レーザヘッド５を走査する一軸ガイド４、これらを制
御するコンピュータ７などの露光光学ユニット、さらに
は露光光学系を制御するために光軸制御、フォーカス制
御、光量制御、光コリメートなどの機能を備えなければ
ならず、装置の小型化を図ることが困難となっている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】以上のように露光レー
ザヘッド５や露光光学系６、その制御装置を備えなけれ
ばならず、装置の小型化を図ることが困難である。そこ
で本発明は、情報記録を行う装置の小型化が可能な光デ
ィスク原盤を提供することを目的とする。

【００１２】又、本発明は、情報記録を行う装置の小型
化ができる光ディスク原盤記録方法及びその装置を提供
することを目的とする。又、本発明は、情報記録を行う
装置の小型化が可能な光ディスク原盤を用いて複製した
光ディスクを提供することを目的とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１によれば、光デ
ィスク原盤に記録情報を示す凹部を形成する光ディスク
原盤記録方法において、歪み材料により形成された光デ
ィスク原盤の凹部を形成する位置に歪みを付与して凸部
を形成する第１の工程と、第１の工程により歪みを付与
したまま凸部を平坦化処理する第２の工程と、第２の工
程の後に第１の工程による歪みの付加を解除して第１の
工程における凸部を凹部に変形させる第３の工程と、を
有する光ディスク原盤記録方法である。

【００１４】請求項２によれば、請求項１記載の光ディ
スク原盤記録方法において、歪み材料は、電歪材料、磁
歪材料又は光歪材料のいずれかである。請求項３によれ
ば、請求項２記載の光ディスク原盤記録方法において、
電歪材料に対して電界、磁歪材料に対して磁界、光歪材
料に対して光を付与することにより凸部を形成する。

【００１５】請求項４によれば、光ディスク原盤に記録
情報を示す凹部を形成する光ディスク原盤記録装置にお
いて、歪み材料により形成された光ディスク原盤の凹部
形成位置に歪みを付与して凸部を形成する凸部形成手段
と、凸部形成手段により形成されている凸部を平坦化す
る平坦化機構と、凸部形成手段による歪みの付与のタイ
ミングを制御して凹部を形成する記録制御手段と、を備
えた光ディスク原盤記録装置である。

【００１６】請求項５によれば、請求項４記載の光ディ
スク原盤記録装置において、凸部形成手段を光ディスク
原盤の凹部形成面に沿って走査する走査手段を備えてい
る。請求項６によれば、請求項５記載の光ディスク原盤
記録装置において走査手段は、光ディスク原盤を同軸に
保持して回転駆動する回転機構と、回転機構に保持され
ている光ディスク原盤の径方向に平坦化機構を相対的に
移動させるスライド機構と、を備えている。

【００１７】請求項７によれば、請求項４記載の光ディ
スク原盤記録装置において、凸部形成手段は、歪み材料
が電歪材料のとき電界を光ディスク原盤に印加する電界
印加手段であり、かつ歪み材料が磁歪性材料のとき磁界
を光ディスク原盤に印加する磁界印加手段であり、かつ
歪み材料が光歪材料であるのときに光を光ディスク原盤
に照射する投光手段である。

【００１８】請求項８によれば、光ディスク原盤に記録
情報を示す凹部を形成する光ディスク原盤記録方法にお
いて、凹部を、走査型トンネル顕微鏡の探針からの電子
照射又は放電穴加工又はレーザ穴加工により形成する光
ディスク原盤記録方法である。

【００１９】請求項９によれば、光ディスク原盤に記録
情報を示す凹部を形成する光ディスク原盤記録装置にお
いて、探針を有する走査型トンネル顕微鏡と、探針を光
ディスク原盤の凹部形成面に沿って走査する走査手段
と、走査型トンネル顕微鏡及び走査手段を制御して光デ
ィスク原盤に対して探針から電子ビームを照射させて凹
部を形成する記録制御手段と、を備えた光ディスク原盤
記録装置である。

【００２０】請求項１０によれば、請求項９記載の光デ
ィスク原盤記録装置において、探針と光ディスク原盤と
の間にトンネル電流を流して光ディスク原盤上に形成さ
れた凹部の形状を測定する形状測定手段を備えている。

【００２１】請求項１１によれば、請求項９記載の光デ
ィスク原盤記録装置において、探針は、光ディスク原盤
に対して電子ビームを照射して凹部を形成する加工用探
針と、光ディスク原盤との間にトンネル電流を流す測定
用探針からなり、形状測定手段は、トンネル電流に基づ
いて加工用探針により形成された凹部の形状を測定す
る。

【００２２】請求項１２によれば、請求項９記載の光デ
ィスク原盤記録装置において、探針は、複数本の加工用
探針と、１本の測定用探針からなる。請求項１３によれ
ば、請求項９記載の光ディスク原盤記録装置において、
記録制御手段は、形状測定手段からの凹部形状測定結果
に基づいて電子ビーム量を制御する。

【００２３】請求項１４によれば、請求項１又は請求項
８のうちいずれかの光ディスク原盤記録方法により情報
記録の行われた光ディスク原盤を用いて複製された光デ
ィスク。

【００２４】

【発明の実施の形態】

(1) 以下、本発明の第１の実施の形態について図面を参
照して説明する。本発明の光ディスク原盤記録方法は、
光ディスク原盤に記録情報を示す凹部を形成する光ディ
スク原盤記録方法において、第１の工程において歪み材
料により形成された光ディスク原盤の前記凹部を形成す
る位置に歪みを付与して凸部を形成し、第２の工程にお
いて第１の工程により歪みを付与したまま凸部を平坦化
処理し、第３の工程において第２の工程の後に第１の工
程による歪みの付加を解除して第１の工程における凸部
を凹部に変形させるものとなっている。

【００２５】この場合、歪み材料としては、例えば電歪
材料、磁歪材料又は光歪材料のいずれかを使用し、これ
ら歪み材料に照射する外界エネルギーとしては、電歪材
料に対して電界、磁歪材料に対して磁界、光歪材料に対
して光を使用する。

【００２６】図１はかかる光ディスク原盤記録方法を適
用した光ディスク原盤記録装置の構成図である。回転機
構としてのスピンドルモータ１０の回転軸にはターンテ
ーブル１１が連結され、このターンテーブル１１上に
は、光ディスク原盤１２が、例えば吸引機構や機械的な
機構により固定されている。

【００２７】この光ディスク原盤１２は、電歪材料、例
えばＰＺＴ（Ｐｂ（ＺｒＴｉ）Ｏ₃）により形成されて
いる。一方、走査手段としての一軸ガイド１３には、コ
字形状の移動アーム１４が移動自在に設けられている。
この一軸ガイド１３は、移動アーム１４の移動軸方向を
ターンテーブル１１の半径方向、つまり光ディスク原盤
１２の半径方向に配置している。

【００２８】この移動アーム１４の下部には、先端が尖
鋭に形成された電極１５が設けられ、かつこの移動アー
ム下部に対向する移動アーム上部には平坦加工機構１６
が設けられている。

【００２９】この平坦加工機構１６は、回転駆動源とし
てのモータ１７の回転軸に平坦化ヘッド１８、例えばダ
イヤモンド砥石が取り付けられたものとなっている。
又、電圧制御ユニット１９は、光ディスク原盤１２と電
極１５との間に電圧を印加し、光ディスク原盤１２に対
して外界エネルギーとして電界Ｅを加える機能を有して
いる。

【００３０】コンピュータ２０は、スピンドルモータ１
０を回転動作制御するとともに一軸ガイド１３を移動制
御し、かつ光ディスク原盤１２に記録すべき情報に応じ
て光ディスク原盤１２と電極１５との間に電圧を印加す
る機能を有している。

【００３１】又、このコンピュータ２０は、光ディスク
原盤１２と電極１５との間に電圧を印加して光ディスク
原盤１２に電界Ｅを加えている状態に、平坦加工機構１
６を動作し、この後に光ディスク原盤１２と電極１５と
の間に印加している電圧をしゃ断する機能を有してい
る。

【００３２】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。コンピュータ２０に記録情報が入力され
ると、このコンピュータ２０は、スピンドルモータ１０
を所定の速度で回転するように動作制御し、かつ一軸ガ
イド１３上の移動アーム１４をスライド移動させる。

【００３３】これにより、光ディスク原盤１２は所定の
速度で回転し、この回転している光ディスク原盤１２の
半径方向に対し、電極１５及び平坦加工機構１６が走査
するものとなる。

【００３４】これと共にコンピュータ２０は、光ディス
ク原盤１２に記録すべき記録情報に応じた記録信号を電
圧制御ユニット１９に送る。この電圧制御ユニット１９
は、入力した記録信号に従って光ディスク原盤１２と電
極１５との間に電圧を印加する。この電圧により光ディ
スク原盤１２には、電界Ｅが加わる。

【００３５】このように光ディスク原盤１２に電界Ｅが
加わると、この電界Ｅの加わった光ディスク原盤１２の
部分は、この光ディスク原盤１２が電歪材料により形成
されていることから図２(a) に示すように凸形状に変形
する。

【００３６】このとき、例えば電圧定数ε＝５００×１
０^-12 ｍ／Ｖ、光ディスク原盤１２の厚さｔ＝１０ｍ
ｍ、印加電圧Ｖo ＝１０００Ｖとすると、光ディスク原
盤１２に形成された凸形状の高さｈは、ｈ＝ε・（Ｖo ／ｔ）×ｔ＝ε・Ｖo ＝５００ｎｍ …(1) となる。

【００３７】次にコンピュータ２０は、光ディスク原盤
１２と電極１５との間に電圧を印加して電界Ｅの加わっ
た状態とし、平坦加工機構１６に平坦化動作の指令を送
出する。

【００３８】この平坦加工機構１６は、平坦化動作の指
令を受けると、モータ１７を回転動作させて平坦化ヘッ
ド１８を回転し、図２(b) に示すように光ディスク原盤
１２の凸形状部分に接触させて平坦化処理する。

【００３９】この平坦化処理の後、コンピュータ２０か
ら電圧制御ユニット１９に対して電圧しゃ断の指令が発
せられると、電圧制御ユニット１９は、光ディスク原盤
１２と電極１５との間の電圧を印加をしゃ断する。

【００４０】これにより光ディスク原盤１２に加わって
いる電界Ｅが取り除かれるので、光ディスク原盤１２に
おいて平坦化処理された部分は、図２(c) に示すように
凹部に形成される。

【００４１】この凹部の部分は、上記の如く電界Ｅの印
加により高さｈ＝５００ｎｍの凸形状を平坦化したもの
であれば、その深さ５００ｎｍに成形される。なお、こ
の凹部の形成の横方向の分解能は、電極１５の尖鋭度、
電歪材料の特性、例えばヤング率、ポワソン比、圧電定
数に依存する。

【００４２】従って、光ディスク原盤１２には、微小な
凹部が形成され、これがピット信号として記録される。
このようにして光ディスク原盤１２の記録領域全体に対
する情報の記録が終了すると、この後、光ディスク原盤
１２から情報が写しとられ、これを原盤として光ディス
クの複製を行うに必要な金属スタンパが作成される。

【００４３】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第１の実施の形態においては、光ディスク原盤
１２の電歪材料に電界Ｅを加えて凸形状に変形し、この
変形部分を平坦加工機構１６により平坦化処理し、この
後に電界Ｅを取り除いて光ディスク原盤１２上に凹部を
形成し、これをピット信号として記録するようにしたの
で、情報の記録に大きなスペースをとる露光レーザヘッ
ド５や露光光学系６などを備える必要はなく、装置の小
型化を図れる。例えば露光レーザヘッド５は、そのサイ
ズが１２４８×１５０×１４９ｍｍであり、これを備え
る必要がなくなる。

【００４４】又、電極１５の尖鋭度、電歪材料の特性、
例えばヤング率、ポワソン比、圧電定数を変形すること
により、凹部の形成の横方向の分解能を向上できる。さ
らに、この光ディスク原盤記録方法により作成された光
ディスク原盤１２に基づいて複製される最終製品の光デ
ィスクであれば、小型化を図った装置により高密度に情
報記録が行われたものとなる。 (2) 次に本発明の第２の実施の形態について図面を参照
して説明する。なお、図１と同一部分には同一符号を付
してその詳しい説明は省略する。

【００４５】図３は本発明の光ディスク原盤記録方法を
適用した光ディスク原盤記録装置の構成図である。光デ
ィスク原盤２１は、磁歪材料、例えばＴｄ−Ｄｙ−Ｆｅ
系合金により形成されている。

【００４６】一方、移動アーム１４の下部には、外界エ
ネルギー源としての磁極２２が設けられている。この磁
極２２は、例えば鉄心にコイルを巻回した構成となって
いる。

【００４７】磁性制御ユニット２３は、磁極２２に対す
る電流制御を行い、磁極２２から所定の磁界の強さの磁
界Ｈを発生させる機能を有している。コンピュータ２４
は、スピンドルモータ１０を回転動作制御するとともに
一軸ガイド１３を移動制御し、かつ光ディスク原盤２１
に記録すべき情報に応じて磁極２２から磁界Ｈを発生さ
せる機能を有している。

【００４８】又、このコンピュータ２４は、光ディスク
原盤２１に磁界Ｈを加えている状態に、平坦加工機構１
６を動作し、この後に光ディスク原盤２１に加えている
磁界Ｈを無くす機能を有している。

【００４９】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。コンピュータ２０に記録情報が入力され
ると、このコンピュータ２０は、スピンドルモータ１０
を所定の速度で回転するように動作制御し、かつ一軸ガ
イド１３上の移動アーム１４をスライド移動させる。

【００５０】これにより、光ディスク原盤２１は所定の
速度で回転し、この回転している光ディスク原盤２１の
半径方向に対し、磁極２２及び平坦加工機構１６が走査
するものとなる。

【００５１】これと共にコンピュータ２０は、光ディス
ク原盤２１に記録すべき記録情報に応じた記録信号を磁
性制御ユニット２３に送る。この磁性制御ユニット２３
は、入力した記録信号に従って磁極２２に電流を供給
し、磁極２から磁界Ｈを発生させる。この磁界Ｈは、光
ディスク原盤２１に加わる。

【００５２】このように光ディスク原盤２１に磁界Ｈが
加わると、この磁界Ｈの加わった光ディスク原盤２１の
部分は、この光ディスク原盤２１が磁歪材料により形成
されていることから例えば凸形状に変形する。

【００５３】次にコンピュータ２４は、光ディスク原盤
２１に磁界Ｈの加わった状態に、平坦加工機構１６に平
坦化動作の指令を送出する。この平坦加工機構１６は、
平坦化動作の指令を受けると、モータ１７を回転動作さ
せて平坦化ヘッド１８を回転し、光ディスク原盤２１の
凸形状部分に接触させて平坦化処理する。

【００５４】この平坦化処理の後、コンピュータ２４か
ら磁性制御ユニット２３に対して磁界しゃ断の指令が発
せられると、磁性制御ユニット２３は、磁極２２に供給
する電流をしゃ断し、光ディスク原盤２１に加わる磁界
Ｈを無くす。

【００５５】これにより光ディスク原盤２１に加わって
いる磁界Ｈが取り除かれるので、光ディスク原盤２１に
おいて平坦化処理された部分は、に凹部に形成される。
このようにして光ディスク原盤２１の記録領域全体に対
する情報の記録が終了すると、この後、光ディスク原盤
２１から情報が写しとられ、これを原盤として光ディス
クの複製を行うに必要な金属スタンパが作成される。

【００５６】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第２の実施の形態においては、光ディスク原盤
２１の磁歪材料に磁界Ｈを加えて凸形状に変形し、この
変形部分を平坦加工機構１６により平坦化処理し、この
後に磁界Ｈを取り除いて光ディスク原盤２１上に凹部を
形成し、これをピット信号として記録するようにしたの
で、情報の記録に大きなスペースをとる露光レーザヘッ
ド５や露光光学系６などを備える必要はなく、装置の小
型化を図れる。 (3) 次に本発明の第３の実施の形態について図面を参照
して説明する。なお、図１と同一部分には同一符号を付
してその詳しい説明は省略する。

【００５７】図４は本発明の光ディスク原盤記録方法を
適用した光ディスク原盤記録装置の構成図である。光デ
ィスク原盤２５は、光歪材料、例えばＰＬＺＴ（Ｐｂ，
Ｌａ）（Ｚｅ，ＴO ）Ｏ３により形成されている。

【００５８】一方、移動アーム１４の下部には、光源２
６が設けられている。この光源２６は、例えばレーザ発
振器となっている。光源制御ユニット２７は、光源２６
を点灯・消灯してその光を光ディスク原盤２５に照射す
る機能を有している。

【００５９】コンピュータ２８は、スピンドルモータ１
０を回転動作制御するとともに一軸ガイド１３を移動制
御し、かつ光ディスク原盤２５に記録すべき情報に応じ
て光源２６から光を発生させる機能を有している。

【００６０】又、このコンピュータ２８は、光ディスク
原盤２５に光を照射している状態に、平坦加工機構１６
を動作し、この後に光ディスク原盤２５に照射している
光を消灯する機能を有している。

【００６１】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。コンピュータ２８に記録情報が入力され
ると、このコンピュータ２８は、スピンドルモータ１０
を所定の速度で回転するように動作制御し、かつ一軸ガ
イド１３上の移動アーム１４をスライド移動させる。

【００６２】これにより、光ディスク原盤２５は所定の
速度で回転し、この回転している光ディスク原盤２５の
半径方向に対し、光源２６及び平坦加工機構１６が走査
するものとなる。

【００６３】これと共にコンピュータ２８は、光ディス
ク原盤２５に記録すべき記録情報に応じた記録信号を光
源制御ユニット２７に送る。この光源制御ユニット２７
は、入力した記録信号に従って光源２６を点灯・消灯制
御し、この光源２６から放射される光を光ディスク原盤
２５に照射する。

【００６４】このように光ディスク原盤２５に光が照射
されると、この光の照射された光ディスク原盤２５の部
分は、この光ディスク原盤２５が光歪材料により形成さ
れていることから例えば凸形状に変形する。

【００６５】次にコンピュータ２８は、光ディスク原盤
２５に光の照射された状態に、平坦加工機構１６に平坦
化動作の指令を送出する。この平坦加工機構１６は、平
坦化動作の指令を受けると、モータ１７を回転動作させ
て平坦化ヘッド１８を回転し、光ディスク原盤２５の凸
形状部分に接触させて平坦化処理する。

【００６６】この平坦化処理の後、コンピュータ２８か
ら光源制御ユニット２７に対して光しゃ断の指令が発せ
られると、光源制御ユニット２７は、光源２６に供給す
る電力をしゃ断し、光ディスク原盤２５に照射される光
を消灯する。

【００６７】これにより光ディスク原盤２５に加わって
いる光が無くなるので、光ディスク原盤２５において平
坦化処理された部分は、凹部に形成される。このように
して光ディスク原盤２５の記録領域全体に対する情報の
記録が終了すると、この後、光ディスク原盤２５から情
報が写しとられ、これを原盤として光ディスクの複製を
行うに必要な金属スタンパが作成される。

【００６８】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第３の実施の形態においては、光ディスク原盤
２５の光歪材料に光を照射して凸形状に変形し、この変
形部分を平坦加工機構１６により平坦化処理し、この後
に光を無くして光ディスク原盤２５上に凹部を形成し、
これをピット信号として記録するようにしたので、情報
の記録に大きなスペースをとる露光レーザヘッド５や露
光光学系６などを備える必要はなく、装置の小型化を図
れる。 (4) 次に本発明の第４の実施の形態について図面を参照
して説明する。

【００６９】図５は本発明の光ディスク原盤記録装置の
構成図である。スピンドルモータ３０には、ターンテー
ブル３１載置され、このターンテーブル３１上に光ディ
スク原盤３２が載置されている。このターンテーブル３
１は、光ディスク原盤３２を吸着又は機械的な固定機構
により固定するものとなっている。

【００７０】光ディスク原盤３２は、ガラス原板を本体
とするもので、フォトレジスト等は塗布されていない。
一方、ターンテーブル３１の上方には、一軸ガイド３３
が配置され、そのスライダ３４には、Ｚステージ３５を
介して微細加工機構としての走査型トンネル顕微鏡の探
針（ＳＴＭ探針）３６が取り付けられている。なお、Ｚ
ステージ３５は、圧電素子により形成されている。

【００７１】一軸ガイド３３は、ＳＴＭ探針３６が取り
付けられたスライダ３４を光ディスク原盤３２の半径方
向に移動自在となっている。なお、ターンテーブル３１
及びスライダ３４の系統により走査手段が形成されてい
る。

【００７２】ＳＴＭ探針３６は、その先端から電子ビー
ムを放射し、この電子ビームを光ディスク原盤３２に照
射してＳＴＭ加工を行い、凹部を形成するものである。
このＳＴＭ探針３６と光ディスク原盤３２との間には、
バイアス電源３７が接続されるとともに電圧制御ユニッ
ト３８が接続されている。

【００７３】このうち電圧制御ユニット３８は、ＳＴＭ
探針３６と光ディスク原盤３２との間に印加する電圧を
制御して、ＳＴＭ探針３６から照射される電子ビーム量
を制御する機能を有している。

【００７４】コンピュータ３９は、スピンドルモータ３
０を回転動作制御するとともに一軸ガイド３３を移動制
御し、かつ電圧制御ユニット３８を介して光ディスク原
盤３２に記録すべき情報に応じてＳＴＭ探針３６から電
子ビームを照射させる加工制御手段としての機能を有し
ている。

【００７５】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。コンピュータ３９からスピンドルモータ
３０及び一軸ガイド３３に対してそれぞれ動作指令が発
せられると、スピンドルモータ３０は回転し、これに応
動して光ディスク原盤３２も回転する。

【００７６】これと共に一軸ガイド３３は、スライダ３
４をスライド移動し、これによりＳＴＭ探針３６は光デ
ィスク原盤３２の半径方向にスライド走査する。又、コ
ンピュータ３９は、光ディスク原盤３２への記録情報に
応じてＳＴＭ探針３６から電子ビームを照射させる記録
信号を電圧制御ユニット３８に送出する。

【００７７】このようにしてＳＴＭ探針３６に電圧が加
わると、ＳＴＭ探針３６から電子ビームが照射され、こ
の電子ビームが光ディスク原盤３２に照射される。この
ように光ディスク原盤３２上に電子ビームが照射される
と、光ディスク原盤３２上に直接凹部が形成される。

【００７８】この凹部の寸法は、例えば直径２〜１０ｎ
ｍ、深さ０．７ｎｍ程度である。従って、電子ビームの
照射により形成される光ディスク原盤３２上の凹部が、
光ディスク原盤３２上に記録ピットの情報として記録さ
れる。

【００７９】このようにして光ディスク原盤３２の記録
領域全体に対する情報の記録が終了すると、この後、光
ディスク原盤３２から情報が写しとられ、これを原盤と
して光ディスクの複製を行うに必要な金属スタンパが作
成される。

【００８０】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第４の実施の形態においては、光ディスク原盤
３２に対してＳＴＭ探針３６を用いた微細加工機構によ
り微小径の穴加工を行って情報の記録を行うようにした
ので、情報の記録に露光レーザヘッド５や露光光学系６
などを備える必要はなく、装置の小型化が図れる。

【００８１】又、ＳＴＭ探針３６を用いた凹部は、ｎｍ
オーダで加工することが可能であり、高精度でピット信
号を記録でき、しかも高密度で情報を記録できる。例え
ば、ＳＴＭ探針３６を用いた加工では、ピットの穴径を
４ｎｍ程度、精度を１ｎｍ程度、ピット間のピッチを１
０ｎｍ程度、スループットを１ピット／μｓ（グラファ
イトに対し）に加工できる。

【００８２】なお、上記第４の実施例は、ＳＴＭ探針３
６をＺステージ３５を介して取り付けているが、これに
限らず、例えばスピンドルモータの回転軸にｙ軸ステー
ジを介してＳＴＭ探針３６を取り付けてもよい。

【００８３】このように構成すれば、ＳＴＭ探針３６を
回転させて加工ができる。ＳＴＭ探針３６は、光ディス
ク原盤３２に対して小型・軽量なので、回転精度を出し
やすい。 (5) 次に本発明の第５の実施の形態について説明する。
なお、図５と同一部分には同一符号を付してその詳しい
説明は省略する。

【００８４】図６は光ディスク原盤記録装置の構成図で
ある。この光ディスク原盤記録装置は、微細加工機構と
して放電加工の加工電極４０をＺステージ３５に取り付
けたものである。

【００８５】コンピュータ４１は、スピンドルモータ３
０を回転動作制御するとともに一軸ガイド３３を移動制
御し、かつ電圧制御ユニット３８を介して光ディスク原
盤３２に記録すべき情報に応じて加工電極４０に所定の
電圧を印加する機能を有している。

【００８６】このような構成であれば、スピンドルモー
タ３０が回転し、一軸ガイド３３がスライド動作してい
るときに、コンピュータ３９から電圧制御ユニット３８
を介して加工電極４０に所定の電圧が印加されると、光
ディスク原盤３２は放電加工されて凹部が形成され、こ
れが光ディスク原盤３２上に記録ピットの情報として記
録される。

【００８７】このようにして光ディスク原盤３２の記録
領域全体に対する情報の記録が終了すると、この後、光
ディスク原盤３２から情報が写しとられ、これを原盤と
して光ディスクの複製を行うに必要な金属スタンパが作
成される。

【００８８】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第５の実施の形態によれば、上記第４の実施例
と同様に、装置の小型化を図ることができる。

【００８９】なお、微細加工機構としては、ＳＴＭ加工
や放電加工に限らず、レーザ加工、マイクロドリル加
工、プレス加工を用いてもよい。 (6) 次に本発明の第６の実施の形態について説明する。

【００９０】図７は本発明の光ディスク原盤記録装置の
構成図である。スピンドルモータ４０の回転軸には、タ
ーンテーブル４１が連結され、このターンテーブル４１
上に光ディスク原盤３２が載置されている。このターン
テーブル４１は、光ディスク原盤３２を吸着又は機械的
な固定機構により固定するものとなっている。

【００９１】光ディスク原盤３２は、ガラス原板を本体
とするもので、感光材料であるフォトレジストは塗布さ
れていない。一方、ターンテーブル４１の上方には、一
軸ガイド４３が配置され、そのスライダ４４には、圧電
素子等を用いた微動アクチュエータ４５を介してＳＴＭ
探針４６が取り付けられている。

【００９２】なお、ターンテーブル４１及びスライダ４
４の系統により走査手段が形成されている。一軸ガイド
４３は、ＳＴＭ探針４６が取り付けられたスライダ４４
を光ディスク原盤３２の半径方向に移動自在となってい
る。

【００９３】ＳＴＭ探針４６は、その先端から電子ビー
ムを放射し、この電子ビームを光ディスク原盤３２に照
射してＳＴＭ加工を行い、凹部を形成するものである。
又、このＳＴＭ探針４６は、光ディスク原盤３２との間
にトンネル電流を流して光ディスク原盤３２の形状測定
を行うものとなっている。

【００９４】すなわち、このＳＴＭ探針４６は、ＳＴＭ
加工用とＳＴＭ測定用との兼用となっている。なお、Ｓ
ＴＭ探針４６と光ディスク原盤３２との間には、所定の
バイアス電圧が印加されている。

【００９５】コンピュータ４７は、スピンドルモータ４
０を回転動作制御するとともに一軸ガイド４３を移動制
御する機能を有している。このコンピュータ４７は、光
ディスク原盤３２に記録すべき情報に応じてＳＴＭ探針
４６への印加するパルス電圧ｖを制御し、ＳＴＭ探針３
６から照射する電子ビーム量を制御して光ディスク原盤
３２にピット信号となる凹部を形成する記録制御手段４
８としての機能を有している。

【００９６】又、コンピュータ４７は、一軸ガイド４３
を動作制御してＳＴＭ探針４６を光ディスク原盤３２の
上方においてスキャンさせ、ＳＴＭ探針４６と光ディス
ク原盤３２との間にトンネル電流ｉを流し、光ディスク
原盤３２上に形成された凹部を測定する形状測定手段４
９としての機能を有している。

【００９７】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。コンピュータ４７からスピンドルモータ
４０及び一軸ガイド４３に対してそれぞれ動作指令が発
せられると、スピンドルモータ４０は回転し、これに応
動して光ディスク原盤３２も回転する。

【００９８】これと共に一軸ガイド４３は、スライダ４
４をスライド移動し、これによりＳＴＭ探針４６は、図
８(a) に示すように光ディスク原盤３２の半径方向にス
ライド走査する。

【００９９】又、コンピュータ４７は、光ディスク原盤
３２への記録情報に応じてＳＴＭ探針４６から電子ビー
ムを照射させるために、ＳＴＭ探針４６に対してパルス
電圧を印加する。

【０１００】このようにしてＳＴＭ探針４６にパルス電
圧が加わると、ＳＴＭ探針４６から電子ビームが照射さ
れ、この電子ビームが光ディスク原盤３２に照射され
る。このように光ディスク原盤３２上に電子ビームが照
射されると、図８(b) に示すように例えば直径２〜１０
ｎｍ、深さ０．７ｎｍ程度の凹部が形成される。

【０１０１】従って、電子ビームの照射により形成され
る光ディスク原盤３２上の凹部が、光ディスク原盤３２
上に記録ピットの情報として記録される。この光ディス
ク原盤３２上における記録ピットの形成の後、コンピュ
ータ４７は、図８(c) に示すように微動アクチュエータ
４５を動作制御してＳＴＭ探針４６を光ディスク原盤３
２の上方においてスキャンさせ、かつＳＴＭ探針４６と
光ディスク原盤３２との間にトンネル電流ｉを流す。

【０１０２】そして、コンピュータ４７は、ＳＴＭ探針
４６と光ディスク原盤３２との間のトンネル電流ｉから
光ディスク原盤３２上に形成された凹部を測定する。な
お、記録ピットの凹部の深さを測定する場合は、ＳＴＭ
探針４６をスキャンさせずに測定を行う。

【０１０３】これ以降、ＳＴＭ探針４６から電子ビーム
を照射して記録ピットの記録を行い、この後にＳＴＭ探
針４６からトンネル電流を流して記録ピットの形状測定
を行う動作を繰り返すことにより、光ディスク原盤３２
上に記録ピットが記録される。

【０１０４】このようにして光ディスク原盤３２の記録
領域全体に対する情報の記録が終了すると、この後、光
ディスク原盤３２から情報が写しとられ、これを原盤と
して光ディスクの複製を行うに必要な金属スタンパが作
成される。

【０１０５】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第６の実施の形態によれば、光ディスク原盤３
２上に加工及び測定兼用のＳＴＭ探針４６を配置し、こ
のＳＴＭ探針４６から電子ビームを照射して光ディスク
原盤３２上に凹部を加工してこれを記録ピットとして記
録し、かつこのＳＴＭ探針４６と光ディスク原盤３２と
の間にトンネル電流を流して光ディスク原盤３２上に形
成された凹部を測定するので、光ディスク原盤３２上に
記録ピットを記録し、この記録ピットの凹部をオンライ
ンで測定できる。

【０１０６】又、情報の記録に露光レーザヘッド５や露
光光学系６などを備える必要はなく、装置の小型化が図
れる。又、ＳＴＭ探針４６を用いた凹部は、ｎｍオーダ
で加工することが可能であり、高精度でピット信号を記
録でき、しかも高密度で情報を記録できる。

【０１０７】例えば、ＳＴＭ探針４６を用いた加工で
は、ピットの穴径を４ｎｍ程度、精度を１ｎｍ程度、ピ
ット間のピッチを１０ｎｍ程度、スループットを１ピッ
ト／μｓ（グラファイトに対し）に加工できる。

【０１０８】なお、上記第６の実施の形態は、次の通り
変形してもよい。例えば、記録制御部４８は、ＳＴＭ探
針４６による光ディスク原盤３２上の凹部の測定結果に
応じ、ＳＴＭ探針４６から加える電子ビーム量を制御す
るフィードバック機能を備えてもよい。

【０１０９】このような電子ビーム量のフィードバック
制御機能を設けることにより、凹部つまり記録ピットの
形状、深さを高精度に形成できる。 (7) 次に本発明の第７の実施の形態について説明する。
なお、図７と同一部分には同一符号を付してその詳しい
説明は省略する。

【０１１０】図９は本発明の光ディスク原盤記録装置の
構成図である。一軸ガイド４３のスライダ４４には、圧
電素子等を用いた微動アクチュエータ５０を介して加工
用ＳＴＭ探針５１が取り付けられている。

【０１１１】又、一軸ガイド４３のスライダ４４には、
圧電素子等を用いた微動アクチュエータ５２を介して測
定用ＳＴＭ探針５３が取り付けられている。なお、スラ
イダ４４や微動アクチュエータ５０により走査手段が形
成されている。

【０１１２】このうち加工用ＳＴＭ探針５１は、その先
端から電子ビームを放射し、この電子ビームを光ディス
ク原盤３２に照射してＳＴＭ加工を行い、凹部を形成す
るものである。

【０１１３】又、測定用ＳＴＭ探針５３は、光ディスク
原盤３２との間にトンネル電流を流して光ディスク原盤
３２の形状測定を行うものとなっている。なお、各ＳＴ
Ｍ探針５１、５３と光ディスク原盤３２との間には、所
定のバイアス電圧が印加されている。

【０１１４】コンピュータ５４は、スピンドルモータ４
０を回転動作制御するとともに一軸ガイド４３を移動制
御し、かつ各微動アクチュエータ５０、５２を駆動して
加工用又は測定用ＳＴＭ探針５１、５３を退避させる機
能を有している。

【０１１５】このコンピュータ５４は、光ディスク原盤
３２に記録すべき情報に応じて加工用ＳＴＭ探針５１へ
の印加するパルス電圧を制御し、この加工用ＳＴＭ探針
５１から照射する電子ビーム量を制御して光ディスク原
盤３２にピット信号となる凹部を形成する記録制御手段
としての機能を有している。

【０１１６】又、コンピュータ５４は、一軸ガイド４３
を動作制御して測定用ＳＴＭ探針５３を光ディスク原盤
３２の上方においてスキャンさせ、この測定用ＳＴＭ探
針５３と光ディスク原盤３２との間にトンネル電流ｉを
流し、光ディスク原盤３２上に形成された凹部を測定す
る形状測定手段としての機能を有している。

【０１１７】次に上記の如く構成された装置の作用につ
いて説明する。コンピュータ５４からスピンドルモータ
４０及び一軸ガイド４３に対してそれぞれ動作指令が発
せられると、スピンドルモータ４０は回転し、これに応
動して光ディスク原盤３２も回転する。

【０１１８】これと共に一軸ガイド４３は、スライダ４
４をスライド移動し、これにより加工用及び測定用の各
ＳＴＭ探針５１、５３は、光ディスク原盤３２の半径方
向にスライド走査する。

【０１１９】又、コンピュータ５４は、光ディスク原盤
３２への記録情報に応じて加工用ＳＴＭ探針５１から電
子ビームを照射させるために、加工用ＳＴＭ探針５１に
対してパルス電圧を印加する。

【０１２０】このようにして加工用ＳＴＭ探針５１にパ
ルス電圧が加わると、この加工用ＳＴＭ探針５１から電
子ビームが照射され、この電子ビームが光ディスク原盤
３２に照射される。

【０１２１】このように光ディスク原盤３２上に電子ビ
ームが照射されると、光ディスク原盤３２上に直接凹部
が形成され、これが記録ピットの情報として記録され
る。この光ディスク原盤３２上における記録ピットの形
成の後、コンピュータ５４は、一軸ガイド４３又はスピ
ンドルモータ４０のいずれか一方又は両方を動作制御し
て測定用ＳＴＭ探針５３を光ディスク原盤３２の上方に
おいてスキャンさせ、かつ測定用ＳＴＭ探針５３と光デ
ィスク原盤３２との間にトンネル電流ｉを流す。

【０１２２】そして、コンピュータ５４は、測定用ＳＴ
Ｍ探針５３と光ディスク原盤３２との間のトンネル電流
ｉから光ディスク原盤３２上に形成された凹部を測定す
る。なお、記録ピットの凹部の深さを測定する場合は、
測定用ＳＴＭ探針５３をスキャンさせずに測定を行う。

【０１２３】この測定用ＳＴＭ探針５３による測定動作
のとき、コンピュータ５４は、加工用ＳＴＭ探針５１に
対してパルス電圧を印加し、この加工用ＳＴＭ探針５１
から電子ビームを照射させて光ディスク原盤３２への情
報の記録を行う。なお、この情報の記録は、先に記録し
た部分とは別の部分において行う。

【０１２４】これ以降、加工用ＳＴＭ探針５１から電子
ビームを照射して記録ピットの記録を行い、この後に測
定用ＳＴＭ探針５３からトンネル電流を流して記録ピッ
トの形状測定を行う動作を繰り返すことにより、光ディ
スク原盤３２上に記録ピットが記録される。

【０１２５】このようにして光ディスク原盤３２の記録
領域全体に対する情報の記録が終了すると、この後、光
ディスク原盤３２から情報が写しとられ、これを原盤と
して光ディスクの複製を行うに必要な金属スタンパが作
成される。

【０１２６】そして、この金属スタンパを用いて複製が
行われ、最終製品である光ディスクが完成する。このよ
うに上記第７の実施の形態によれば、加工用ＳＴＭ探針
５１と測定用探針５３とを配置し、このうち加工用ＳＴ
Ｍ探針５１から電子ビームを照射して光ディスク原盤３
２上を凹部に加工して記録を行い、測定用探針５３と光
ディスク原盤３２との間にトンネル電流を流して光ディ
スク原盤３２上に形成された凹部を測定するようにした
ので、光ディスク原盤３２上に記録ピットを記録し、こ
の記録ピットの凹部をオンラインで測定できる。

【０１２７】そのうえ、情報の記録に露光レーザヘッド
５や露光光学系６などを備える必要はなく、装置の小型
化が図れ、かつ加工用ＳＴＭ探針５１を用いた凹部は、
ｎｍオーダで加工することが可能であり、高精度でピッ
ト信号を記録でき、しかも高密度で情報を記録できる。

【０１２８】例えば、加工用ＳＴＭ探針５１を用いた加
工では、ピットの穴径を４ｎｍ程度、精度を１ｎｍ程
度、ピット間のピッチを１０ｎｍ程度、スループットを
１ピット／μｓ（グラファイトに対し）に加工できる。

【０１２９】又、記録ピットの記録とその凹部の測定を
並列して行うことができ、情報記録動作のスループット
を向上できる。なお、上記第７の実施の形態は、次の通
り変形してもよい。

【０１３０】一軸ガイド４３のスライダ４４には、例え
ば、図１０に示すように測定用ＳＴＭ探針５３を１本配
置し、このＳＴＭ探針５３の周囲に複数、例えば４本の
加工用ＳＴＭ探針６０〜６３を配置してもよい。

【０１３１】これら加工用ＳＴＭ探針６０〜６３の配置
関係は、図１１に示すように測定用ＳＴＭ探針５３を中
心として互いに角度９０°の間隔をおいて配置されてい
る。なお、各加工用ＳＴＭ探針６０〜６３は、スライダ
４４に対してそれぞれ微動アクチュエータを介して設け
られている。

【０１３２】このような構成であれば、光ディスク原盤
３２への記録情報に応じて４本の加工用ＳＴＭ探針６０
〜６３にパルス電圧を印加し、これら加工用ＳＴＭ探針
６０〜６３から電子ビームを同時に１点に向けて照射し
て光ディスク原盤３２に１個の凹部を形成し、これを記
録ピットの情報として記録する。

【０１３３】この光ディスク原盤３２上における記録ピ
ットの形成の後、図１２に示すように４本の加工用ＳＴ
Ｍ探針６０〜６３を各微動アクチュエータの駆動により
退避させる。

【０１３４】そして、測定用ＳＴＭ探針５３を光ディス
ク原盤３２の上方においてスキャンさせ、かつ測定用Ｓ
ＴＭ探針５３と光ディスク原盤３２との間にトンネル電
流ｉを流して光ディスク原盤３２上に形成された凹部を
測定する。

【０１３５】このように４本の加工用ＳＴＭ探針６０〜
６３を配置すれば、記録ピットの形状を変化、例えばそ
の径を大きくしたり、深く形成することが容易にでき、
かつスループットを向上できる。

【０１３６】又、コンピュータ５４は、測定用ＳＴＭ探
針５３による光ディスク原盤３２上の凹部の測定結果に
応じ、加工用ＳＴＭ探針５１から照射する電子ビーム量
を制御するフィードバック機能を備えてもよい。このよ
うな電子ビーム量のフィードバック制御機能を設けるこ
とにより、凹部つまり記録ピットの形状、深さを高精度
に形成できる。

【０１３７】

【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、情
報の記録に露光レーザヘッドや露光光学系などを備える
必要はなく、装置の小型化を図れる光ディスク原盤を提
供できる。

【０１３８】又、本発明によれば、情報の記録に露光レ
ーザヘッドや露光光学系などを備える必要はなく、装置
の小型化が図れる光ディスク原盤記録方法を提供でき
る。又、本発明によれば、情報記録を行う装置の小型化
ができる光ディスク原盤記録装置を提供できる。

【０１３９】又、本発明によれば、情報記録を行う装置
の小型化ができ、かつ情報記録とその記録ピットの形状
測定をオンマシンできる光ディスク原盤記録装置を提供
できる。

【０１４０】又、本発明によれば、情報記録を行う装置
の小型化ができ、かつ情報記録とその記録ピットの形状
測定をオンマシンでき、そのうえ情報記録の高精度化を
図れる光ディスク原盤記録装置を提供できる。

【０１４１】又、本発明によれば、情報記録を行う装置
の小型化ができ、かつ情報記録とその記録ピットの形状
測定をオンマシンでき、そのうえ光ディスク原盤上に任
意の形状及びその大きさの凹部を形成できる光ディスク
原盤記録装置を提供できる。

【０１４２】又、本発明は、ピット又はグルーブの凹部
の光ディスク原盤上への直接形成が可能となることによ
り、リソグラフィによる凹部形成に比べ格段に生産能率
が格段に向上できる光ディスク原盤記録装置を提供でき
る。又、本発明によれば、上記光ディスク原盤記録方法
及び装置により得られた光ディスク原盤から複製した高
記録密度の光ディスクを提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第１
の実施の形態を示す構成図。

【図２】同装置の記録ピットの形成作用を示す図。

【図３】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第２
の実施の形態を示す構成図。

【図４】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第３
の実施の形態を示す構成図。

【図５】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第４
の実施の形態を示す構成図。

【図６】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第５
の実施の形態を示す構成図。

【図７】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第６
の実施の形態を示す構成図。

【図８】同装置のＳＴＭ探針を用いた加工及び測定の作
用を示す図。

【図９】本発明に係わる光ディスク原盤記録装置の第７
の実施の形態を示す構成図。

【図１０】複数の加工用ＳＴＭ探針を用いたときの配置
図。

【図１１】複数の加工用ＳＴＭ探針の配置関係を示す
図。

【図１２】複数の加工用ＳＴＭ探針の退避を示す図。

【図１３】従来の光ディスク原盤記録装置の構成図。

【符号の説明】

１０，３０，４０…スピンドルモータ、１２，２１，２５，３２…光ディスク原盤、１３，３３…一軸ガイド、１５…電極、１６…平坦加工機構、１９…電圧制御ユニット、２０，２４，２８，３９…コンピュータ、２２…磁極、２３…磁性制御ユニット、２６…光源、２７…光源制御ユニット、３６，４６…ＳＴＭ探針、４０…加工電極、５１…加工用ＳＴＭ探針、５３…測定用ＳＴＭ探針。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光ディスク原盤に記録情報を示す凹部を
形成する光ディスク原盤記録方法において、歪み材料により形成された光ディスク原盤の前記凹部を
形成する位置に歪みを付与して凸部を形成する第１の工
程と、前記第１の工程により歪みを付与したまま前記凸部を平
坦化処理する第２の工程と、前記第２の工程の後に前記第１の工程による歪みの付加
を解除して前記第１の工程における凸部を上記凹部に変
形させる第３の工程と、を有することを特徴とする光デ
ィスク原盤記録方法。
【請求項２】歪み材料は、電歪材料、磁歪材料又は光
歪材料のいずれかであることを特徴とする請求項１記載
の光ディスク原盤記録方法。
【請求項３】電歪材料に対して電界、磁歪材料に対し
て磁界、光歪材料に対して光を付与することにより凸部
を形成することを特徴とする請求項２記載の光ディスク
原盤記録方法。
【請求項４】光ディスク原盤に記録情報を示す凹部を
形成する光ディスク原盤記録装置において、歪み材料により形成された前記光ディスク原盤の凹部形
成位置に歪みを付与して凸部を形成する凸部形成手段
と、前記凸部形成手段により形成されている凸部を平坦化す
る平坦化機構と、前記凸部形成手段による歪みの付与のタイミングを制御
して前記凹部を形成する記録制御手段と、を具備したこ
とを特徴とする光ディスク原盤記録装置。
【請求項５】凸部形成手段を光ディスク原盤の凹部形
成面に沿って走査する走査手段を具備することを特徴と
する請求項４記載の光ディスク原盤記録装置。
【請求項６】走査手段は、光ディスク原盤を同軸に保
持して回転駆動する回転機構と、前記回転機構に保持されている光ディスク原盤の径方向
に平坦化機構を相対的に移動させるスライド機構と、を
具備したことを特徴とする請求項５記載の光ディスク原
盤記録装置。
【請求項７】凸部形成手段は、歪み材料が電歪材料の
とき電界を光ディスク原盤に印加する電界印加手段であ
り、かつ歪み材料が磁歪性材料のとき磁界を前記光ディ
スク原盤に印加する磁界印加手段であり、かつ歪み材料
が光歪材料であるのときに光を前記光ディスク原盤に照
射する投光手段であることを特徴とする請求項４記載の
光ディスク原盤記録装置。
【請求項８】光ディスク原盤に記録情報を示す凹部を
形成する光ディスク原盤記録方法において、前記凹部を、走査型トンネル顕微鏡の探針からの電子照
射又は放電穴加工又はレーザ穴加工により形成すること
を特徴とする光ディスク原盤記録方法。
【請求項９】光ディスク原盤に記録情報を示す凹部を
形成する光ディスク原盤記録装置において、探針を有する走査型トンネル顕微鏡と、前記探針を前記光ディスク原盤の凹部形成面に沿って走
査する走査手段と、前記走査型トンネル顕微鏡及び前記走査手段を制御して
前記光ディスク原盤に対して前記探針から電子ビームを
照射させて前記凹部を形成する記録制御手段と、を具備
したことを特徴とする光ディスク原盤記録装置。
【請求項１０】探針と光ディスク原盤との間にトンネ
ル電流を流して前記光ディスク原盤上に形成された凹部
の形状を測定する形状測定手段を具備することを特徴と
する請求項９記載の光ディスク原盤記録装置。
【請求項１１】探針は、光ディスク原盤に対して電子
ビームを照射して凹部を形成する加工用探針と、前記光ディスク原盤との間にトンネル電流を流す測定用
探針からなり、形状測定手段は、前記トンネル電流に基
づいて前記加工用探針により形成された凹部の形状を測
定することを特徴とする請求項９記載の光ディスク原盤
記録装置。
【請求項１２】探針は、複数本の加工用探針と、１本
の測定用探針からなることを特徴とする請求項９記載の
光ディスク原盤記録装置。
【請求項１３】記録制御手段は、形状測定手段からの
凹部形状測定結果に基づいて電子ビーム量を制御するこ
とを特徴とする請求項９記載の光ディスク原盤記録装
置。
【請求項１４】請求項１又は請求項８のうちいずれか
の光ディスク原盤記録方法により情報記録の行われた光
ディスク原盤を用いて複製されたことを特徴とする光デ
ィスク。