JPH0956769A - 入浴装置 - Google Patents
入浴装置Info
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- JPH0956769A JPH0956769A JP21183295A JP21183295A JPH0956769A JP H0956769 A JPH0956769 A JP H0956769A JP 21183295 A JP21183295 A JP 21183295A JP 21183295 A JP21183295 A JP 21183295A JP H0956769 A JPH0956769 A JP H0956769A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 身体全体（ほぼ全体）を容易に電解酸性水に
浸すことができるようにする。 【解決手段】 浴槽１０と、電解酸性水製造装置２０に
よって製造された電解酸性水と湯とを混合して浴槽１０
内に導く装置とを有している。
浸すことができるようにする。 【解決手段】 浴槽１０と、電解酸性水製造装置２０に
よって製造された電解酸性水と湯とを混合して浴槽１０
内に導く装置とを有している。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、入浴装置に関す
るものである。
るものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電解酸性水が注目を集めている。
電解酸性水とは、電気分解によってｐＨ３以下程度の酸
性にされた水であり、次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）を含むた
め、消毒等の効用が知られている。
電解酸性水とは、電気分解によってｐＨ３以下程度の酸
性にされた水であり、次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）を含むた
め、消毒等の効用が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
電解酸性水は、スプレー等によって人体の一部の皮膚に
散布されるような方法でしか使用されていなかった。そ
のため、身体全体を電解酸性水に浸すようなことは煩雑
であった。
電解酸性水は、スプレー等によって人体の一部の皮膚に
散布されるような方法でしか使用されていなかった。そ
のため、身体全体を電解酸性水に浸すようなことは煩雑
であった。
【０００４】そこで、本発明は、容易に身体全体（ほぼ
全体）を電解酸性水に浸すことができる装置を提供する
ことを課題とする。
全体）を電解酸性水に浸すことができる装置を提供する
ことを課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
めに、請求項１に係る発明は、浴槽と、電気分解によっ
て得られたｐＨ３以下の電解酸性水であって前記浴槽内
に入れられたものとを有することを特徴とする。
めに、請求項１に係る発明は、浴槽と、電気分解によっ
て得られたｐＨ３以下の電解酸性水であって前記浴槽内
に入れられたものとを有することを特徴とする。
【０００６】また、請求項２に係る発明は、請求項１に
係る発明であって、前記電解酸性水の温度が３５℃〜４
５℃の範囲であることを特徴とする。
係る発明であって、前記電解酸性水の温度が３５℃〜４
５℃の範囲であることを特徴とする。
【０００７】また、請求項３に係る発明は、請求項１又
は請求項２に係る発明であって、常温の電解酸性水と湯
とを混合して前記浴槽内に導く装置が付加されているこ
とを特徴とする。
は請求項２に係る発明であって、常温の電解酸性水と湯
とを混合して前記浴槽内に導く装置が付加されているこ
とを特徴とする。
【０００８】また、請求項４に係る発明は、請求項１〜
請求項３に係る発明であって、前記浴槽内の電解酸性水
中の次亜塩素酸の濃度を測定するセンサと、そのセンサ
の測定結果に基づいて前記浴槽内の電解酸性水中の次亜
塩素酸の濃度が所定の値となるように前記浴槽内への電
解酸性水の流入に関してフィードバック制御する制御装
置が付加されていることを特徴とする。ここで、「浴槽
内の電解酸性水中の次亜塩素酸の濃度を測定するセン
サ」とは、次亜塩素酸の濃度を直接的に測定するセンサ
でもよいし、間接的に測定するセンサでもよい。すなわ
ち、次亜塩素酸の濃度と酸化還元電位との間には所定の
相関関係があるため、その酸化還元電位を測定するセン
サでもよい。
請求項３に係る発明であって、前記浴槽内の電解酸性水
中の次亜塩素酸の濃度を測定するセンサと、そのセンサ
の測定結果に基づいて前記浴槽内の電解酸性水中の次亜
塩素酸の濃度が所定の値となるように前記浴槽内への電
解酸性水の流入に関してフィードバック制御する制御装
置が付加されていることを特徴とする。ここで、「浴槽
内の電解酸性水中の次亜塩素酸の濃度を測定するセン
サ」とは、次亜塩素酸の濃度を直接的に測定するセンサ
でもよいし、間接的に測定するセンサでもよい。すなわ
ち、次亜塩素酸の濃度と酸化還元電位との間には所定の
相関関係があるため、その酸化還元電位を測定するセン
サでもよい。
【０００９】
【作用・効果】請求項１に係る発明によれば、使用者
は、浴槽内につかることによって、全身（ほぼ全身）を
電解酸性水に浸すことが可能となり、容易に健康増進の
効果を得ることができる。
は、浴槽内につかることによって、全身（ほぼ全身）を
電解酸性水に浸すことが可能となり、容易に健康増進の
効果を得ることができる。
【００１０】また、請求項２に係る発明によれば、電解
酸性水の温度が３５℃〜４５℃であるため、請求項１に
係る発明の作用効果に加え、通常の風呂として快適につ
かることができるという効果がある。
酸性水の温度が３５℃〜４５℃であるため、請求項１に
係る発明の作用効果に加え、通常の風呂として快適につ
かることができるという効果がある。
【００１１】また、請求項３に係る発明によれば、請求
項１又は請求項２に係る発明の作用効果に加え、通常の
水等を加熱して得られる湯を電解酸性水に混合させるこ
とによって、所望の温度の電解酸性水を容易に得ること
ができる。ここで、電解酸性水を直接的に加熱装置で加
熱する場合は、通常の水の場合よりも加熱装置が錆びや
すい。加熱装置がステンレスによって形成されている場
合はそれほどではないが、加熱装置が銅によって形成さ
れている場合には錆びやすく、また、ステンレスの場合
はコスト高となる。しかし、この発明では電解酸性水を
直接的には加熱しないため、かかる事態を防止すること
ができるのである。
項１又は請求項２に係る発明の作用効果に加え、通常の
水等を加熱して得られる湯を電解酸性水に混合させるこ
とによって、所望の温度の電解酸性水を容易に得ること
ができる。ここで、電解酸性水を直接的に加熱装置で加
熱する場合は、通常の水の場合よりも加熱装置が錆びや
すい。加熱装置がステンレスによって形成されている場
合はそれほどではないが、加熱装置が銅によって形成さ
れている場合には錆びやすく、また、ステンレスの場合
はコスト高となる。しかし、この発明では電解酸性水を
直接的には加熱しないため、かかる事態を防止すること
ができるのである。
【００１２】また、請求項４に係る発明によれば、請求
項１〜請求項３に係る発明の作用効果に加え、次の作用
効果がある。すなわち、浴槽内に入れられた電解酸性水
の消毒力は、その中に含まれる次亜塩素酸の濃度により
左右される。一方、その浴槽内に入れられた電解酸性水
については、その電解酸性水が長時間浴槽内に入れられ
たままにされたり、入浴に使用されることによって、次
亜塩素酸が気化又は分解していってその濃度が減少して
いき、消毒力が低くなっていく。しかしながら、この発
明では、センサによる次亜塩素酸の濃度の測定結果に基
づいて、制御装置によって電解酸性水の浴槽内への流入
がフィードバック制御されて、浴槽内の電解酸性水中の
次亜塩素酸の濃度が所定の値に保たれる。このため、電
解酸性水の消毒力が所定のものに保たれるのである。
項１〜請求項３に係る発明の作用効果に加え、次の作用
効果がある。すなわち、浴槽内に入れられた電解酸性水
の消毒力は、その中に含まれる次亜塩素酸の濃度により
左右される。一方、その浴槽内に入れられた電解酸性水
については、その電解酸性水が長時間浴槽内に入れられ
たままにされたり、入浴に使用されることによって、次
亜塩素酸が気化又は分解していってその濃度が減少して
いき、消毒力が低くなっていく。しかしながら、この発
明では、センサによる次亜塩素酸の濃度の測定結果に基
づいて、制御装置によって電解酸性水の浴槽内への流入
がフィードバック制御されて、浴槽内の電解酸性水中の
次亜塩素酸の濃度が所定の値に保たれる。このため、電
解酸性水の消毒力が所定のものに保たれるのである。
【００１３】
＜第１実施形態＞次に、本発明の第１実施形態を図１に
基づいて説明する。この入浴装置は、浴槽１０を有して
いる。浴槽１０は、１人の人が入れる程度の大きさから
数十人以上入れる大きさまで種々のものが適応され得
る。
基づいて説明する。この入浴装置は、浴槽１０を有して
いる。浴槽１０は、１人の人が入れる程度の大きさから
数十人以上入れる大きさまで種々のものが適応され得
る。
【００１４】この浴槽１０に対して、次のような装置が
設けられている。すなわち、上流側から、電解酸性水製
造装置２０，タンク２２，ポンプ２４，ヒータ２６がパ
イプ３０によって直列的に接続されており、その下流側
に浴槽１０が接続されているのである。
設けられている。すなわち、上流側から、電解酸性水製
造装置２０，タンク２２，ポンプ２４，ヒータ２６がパ
イプ３０によって直列的に接続されており、その下流側
に浴槽１０が接続されているのである。
【００１５】電解酸性水製造装置２０の内部は、イオン
を透過し得る隔膜によってプラス電極室とマイナス電極
室に二分されており、プラス電極室にプラス電極が配設
され、マイナス電極室にマイナス電極が配設されてい
る。そして、その電解酸性水製造装置２０に水道水（又
はそれに若干の食塩が添加されたもの）が導かれて、次
のような電気分解が行われる。すなわち、プラス電極室
内では、次式のように、水中の水酸イオン（ＯＨ- ）及
び食塩（ＮａＣｌ）による塩素イオン（Ｃｌ- ）がプラ
ス電極に引き寄せられて酸素（Ｏ2 ），水（Ｈ2 Ｏ），
塩素ガス（Ｃｌ2 ）が生成され、さらに塩素ガス（Ｃｌ
2 ）の一部が水に溶解して次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）が生
成される。 ４ＯＨ- →Ｏ2 ＋２Ｈ2 Ｏ＋４ｅ- ２Ｃｌ- →Ｃｌ2 ＋２ｅ- Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→ＨＣｌ＋ＨＣｌＯ こうして、水酸イオン（ＯＨ- ）が消費され、プラス電
極室内のｐＨが下がり、電解酸性となる。ｐＨは３以下
のものが適切である。また、マイナス電極室内では、次
式のように、水中の水素イオン（Ｈ+ ）がマイナス電極
板に引き寄せられて電子（ｅ- ）と結合して水素
（Ｈ2 ）が生成される。 ２Ｈ+ ＋２ｅ- →Ｈ2 こうして、水素イオン（Ｈ+ ）が消費され、マイナス電
極室内のｐＨが上がってアルカリ性となり、それは外部
へ排出される。なお、各イオンは、隔膜を経て透過可能
であるため、プラス電極室内のイオンがマイナス電極板
へ到達したり、その逆の現象も生じるのである。
を透過し得る隔膜によってプラス電極室とマイナス電極
室に二分されており、プラス電極室にプラス電極が配設
され、マイナス電極室にマイナス電極が配設されてい
る。そして、その電解酸性水製造装置２０に水道水（又
はそれに若干の食塩が添加されたもの）が導かれて、次
のような電気分解が行われる。すなわち、プラス電極室
内では、次式のように、水中の水酸イオン（ＯＨ- ）及
び食塩（ＮａＣｌ）による塩素イオン（Ｃｌ- ）がプラ
ス電極に引き寄せられて酸素（Ｏ2 ），水（Ｈ2 Ｏ），
塩素ガス（Ｃｌ2 ）が生成され、さらに塩素ガス（Ｃｌ
2 ）の一部が水に溶解して次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）が生
成される。 ４ＯＨ- →Ｏ2 ＋２Ｈ2 Ｏ＋４ｅ- ２Ｃｌ- →Ｃｌ2 ＋２ｅ- Ｃｌ2 ＋Ｈ2 Ｏ→ＨＣｌ＋ＨＣｌＯ こうして、水酸イオン（ＯＨ- ）が消費され、プラス電
極室内のｐＨが下がり、電解酸性となる。ｐＨは３以下
のものが適切である。また、マイナス電極室内では、次
式のように、水中の水素イオン（Ｈ+ ）がマイナス電極
板に引き寄せられて電子（ｅ- ）と結合して水素
（Ｈ2 ）が生成される。 ２Ｈ+ ＋２ｅ- →Ｈ2 こうして、水素イオン（Ｈ+ ）が消費され、マイナス電
極室内のｐＨが上がってアルカリ性となり、それは外部
へ排出される。なお、各イオンは、隔膜を経て透過可能
であるため、プラス電極室内のイオンがマイナス電極板
へ到達したり、その逆の現象も生じるのである。
【００１６】タンク２２内には、電解酸性水製造装置２
０によって生成された電解酸性水が溜められる。そし
て、タンク２２内に溜められた電解酸性水がポンプ２４
によって下流側へ導かれ、ヒータ２６によって加熱され
る。ヒータ２６は、電気によって加熱するものやガスを
使用するもの等種々のものが適用される。ヒータ２６に
は、ヒータ２６の出力を制御する制御装置２８が設けら
れている。また、ヒータ２６の下流側には温度センサ３
８が設けられ、温度センサ３８は制御装置２８に接続さ
れている。そして、温度センサ３８の測定結果（電解酸
性水の温度）に基づいて、フィードバック制御によりヒ
ータ２６の出力が調整され、浴槽１０に流入する電解酸
性水が所定の設定温度になるようにされている。
０によって生成された電解酸性水が溜められる。そし
て、タンク２２内に溜められた電解酸性水がポンプ２４
によって下流側へ導かれ、ヒータ２６によって加熱され
る。ヒータ２６は、電気によって加熱するものやガスを
使用するもの等種々のものが適用される。ヒータ２６に
は、ヒータ２６の出力を制御する制御装置２８が設けら
れている。また、ヒータ２６の下流側には温度センサ３
８が設けられ、温度センサ３８は制御装置２８に接続さ
れている。そして、温度センサ３８の測定結果（電解酸
性水の温度）に基づいて、フィードバック制御によりヒ
ータ２６の出力が調整され、浴槽１０に流入する電解酸
性水が所定の設定温度になるようにされている。
【００１７】また、浴槽１０には酸化還元電位センサ１
２が設けられており、酸化還元電位センサ１２はポンプ
２４に設けられている制御装置２５に電気的に接続され
ている。そして、浴槽１０内の電解酸性水の酸化還元電
位（次亜塩素酸の濃度と相関関係がある）が酸化還元電
位センサ１２によって測定され、その測定結果に基づい
て、浴槽１０内の電解酸性水の酸化還元電位（次亜塩素
酸濃度）が所定のものとなるように、制御装置２５によ
ってポンプ２４の出力（浴槽１０内への電解酸性水の流
入量）がフィードバック制御されるようにされている。
２が設けられており、酸化還元電位センサ１２はポンプ
２４に設けられている制御装置２５に電気的に接続され
ている。そして、浴槽１０内の電解酸性水の酸化還元電
位（次亜塩素酸の濃度と相関関係がある）が酸化還元電
位センサ１２によって測定され、その測定結果に基づい
て、浴槽１０内の電解酸性水の酸化還元電位（次亜塩素
酸濃度）が所定のものとなるように、制御装置２５によ
ってポンプ２４の出力（浴槽１０内への電解酸性水の流
入量）がフィードバック制御されるようにされている。
【００１８】次に、この装置の作用効果について説明す
る。電解酸性水製造装置２０に水道水（又はそれに若干
の食塩が添加されたもの）が導かれて、その装置内にお
いて電解酸性水が生成され、その電解酸性水がタンク２
２に溜められ、制御装置２８の制御下にヒータ２６によ
って所定の温度とされ、浴槽１０に導かれる。このた
め、入浴者がその浴槽１０内に全身をつかることによっ
て、入浴者の身体全身（ほぼ全身）を電解酸性水に浸す
ことができ、健康増進を図ることができるのである。
る。電解酸性水製造装置２０に水道水（又はそれに若干
の食塩が添加されたもの）が導かれて、その装置内にお
いて電解酸性水が生成され、その電解酸性水がタンク２
２に溜められ、制御装置２８の制御下にヒータ２６によ
って所定の温度とされ、浴槽１０に導かれる。このた
め、入浴者がその浴槽１０内に全身をつかることによっ
て、入浴者の身体全身（ほぼ全身）を電解酸性水に浸す
ことができ、健康増進を図ることができるのである。
【００１９】また、酸化還元電位センサ１２の測定結果
に基づく制御装置２５の制御の下にポンプ２４の出力が
調整されるようにされているために、浴槽１０内の酸化
還元電位（次亜塩素酸濃度）が所定のものに保たれ、所
望の消毒効果を得ることができるのである。
に基づく制御装置２５の制御の下にポンプ２４の出力が
調整されるようにされているために、浴槽１０内の酸化
還元電位（次亜塩素酸濃度）が所定のものに保たれ、所
望の消毒効果を得ることができるのである。
【００２０】なお、浴槽１０内に入れられる電解酸性水
の温度は、一般の入浴に適した３５℃〜４５℃の範囲が
考えられる。また、いわゆる水風呂を希望する際には、
ヒータ２６を作動させないようにして、常温の電解酸性
水を入れて使用することもできる。
の温度は、一般の入浴に適した３５℃〜４５℃の範囲が
考えられる。また、いわゆる水風呂を希望する際には、
ヒータ２６を作動させないようにして、常温の電解酸性
水を入れて使用することもできる。
【００２１】＜第２実施形態＞次に、本発明の第２実施
形態を、図２に基づいて、第１実施形態との相違点を中
心に説明する。ポンプ２４の下流側においては、パイプ
３０は二股に分岐しており、一方にはヒータ５０が設け
られ、他方には流量調整弁５２が設けられ、その下流側
の合流部５６において両者は合流している。また、合流
部５６の下流側に設けられた温度センサ５８は、流量調
整弁５２に設けられた制御装置５４に接続されている。
形態を、図２に基づいて、第１実施形態との相違点を中
心に説明する。ポンプ２４の下流側においては、パイプ
３０は二股に分岐しており、一方にはヒータ５０が設け
られ、他方には流量調整弁５２が設けられ、その下流側
の合流部５６において両者は合流している。また、合流
部５６の下流側に設けられた温度センサ５８は、流量調
整弁５２に設けられた制御装置５４に接続されている。
【００２２】そして、この装置では、ヒータ５０の出力
調整は行われず、温度センサ５８によって測定された温
度に基づいて、制御装置５４によって流量調整弁５２の
開き具合が調整され、流量調整弁５２を経て流れる電解
酸性水（この温度は常温である）の量（割合）が調整さ
れることによって、浴槽１０へ流入する電解酸性水の温
度が調整される。
調整は行われず、温度センサ５８によって測定された温
度に基づいて、制御装置５４によって流量調整弁５２の
開き具合が調整され、流量調整弁５２を経て流れる電解
酸性水（この温度は常温である）の量（割合）が調整さ
れることによって、浴槽１０へ流入する電解酸性水の温
度が調整される。
【００２３】＜第３実施形態＞次に、本発明の第３実施
形態を、図３に基づいて、第１実施形態等との相違点を
中心に説明する。この装置では、上流側から、電解酸性
水製造装置２０，タンク２２，ポンプ２４，流量調整弁
７２が、パイプ（メインパイプ）３０によって浴槽１０
に向かって直列的に接続されている。一方、水道水の流
入するサブパイプ８０に流量調整弁８１及びヒータ８２
が設けられ、サブパイプ８０は合流部７６においてメイ
ンパイプ３０に合流している。そして、流入した水道水
がヒータ８２によって高温とされ、メインパイプ３０を
流れる常温の電解酸性水と合流部７６において混合する
のである。また、メインパイプ３０における合流部７６
よりも下流側に設けられた温度センサ７８は、流量調整
弁７２に設けられた制御装置７４に接続されている。そ
して、温度センサ７８によって測定された温度に基づい
て、制御装置７４によって流量調整弁７２の開き具合が
調整されて、流量調整弁７２を経て流れる電解酸性水
（常温）の量（割合）が調整され、浴槽１０へ流入する
電解酸性水の温度が調整されるのである。
形態を、図３に基づいて、第１実施形態等との相違点を
中心に説明する。この装置では、上流側から、電解酸性
水製造装置２０，タンク２２，ポンプ２４，流量調整弁
７２が、パイプ（メインパイプ）３０によって浴槽１０
に向かって直列的に接続されている。一方、水道水の流
入するサブパイプ８０に流量調整弁８１及びヒータ８２
が設けられ、サブパイプ８０は合流部７６においてメイ
ンパイプ３０に合流している。そして、流入した水道水
がヒータ８２によって高温とされ、メインパイプ３０を
流れる常温の電解酸性水と合流部７６において混合する
のである。また、メインパイプ３０における合流部７６
よりも下流側に設けられた温度センサ７８は、流量調整
弁７２に設けられた制御装置７４に接続されている。そ
して、温度センサ７８によって測定された温度に基づい
て、制御装置７４によって流量調整弁７２の開き具合が
調整されて、流量調整弁７２を経て流れる電解酸性水
（常温）の量（割合）が調整され、浴槽１０へ流入する
電解酸性水の温度が調整されるのである。
【００２４】また、浴槽１０内の酸化還元電位を測定す
る酸化還元電位センサ１２は、制御装置２７に電気的に
接続され、制御装置２７は、ポンプ２４及び流量調整弁
８１に電気的に接続されている。そして、酸化還元電位
センサ１２による測定結果に基づいて、ポンプ２４の出
力（浴槽１０内への電解酸性水の流入量）や流量調整弁
８１の開き具合（浴槽１０内への水道水の流入量）がフ
ィードバック制御されて、浴槽内の電解酸性水の酸化還
元電位（次亜塩素酸濃度）が所望のものになるようにさ
れている。
る酸化還元電位センサ１２は、制御装置２７に電気的に
接続され、制御装置２７は、ポンプ２４及び流量調整弁
８１に電気的に接続されている。そして、酸化還元電位
センサ１２による測定結果に基づいて、ポンプ２４の出
力（浴槽１０内への電解酸性水の流入量）や流量調整弁
８１の開き具合（浴槽１０内への水道水の流入量）がフ
ィードバック制御されて、浴槽内の電解酸性水の酸化還
元電位（次亜塩素酸濃度）が所望のものになるようにさ
れている。
【００２５】以上のように、この装置では、制御装置７
４による流量調整弁７２の制御、及び制御装置２７によ
る流量調整弁８１及びポンプ２４の制御によって、浴槽
１０内の電解酸性水の温度及び次亜塩素酸濃度が所望の
ものになるように制御されるのである。
４による流量調整弁７２の制御、及び制御装置２７によ
る流量調整弁８１及びポンプ２４の制御によって、浴槽
１０内の電解酸性水の温度及び次亜塩素酸濃度が所望の
ものになるように制御されるのである。
【００２６】そして、この装置では、ヒータ８２によっ
て加熱されるものが電解酸性水ではなく水道水であるた
め、ヒータ８２が銅等からなるものであっても電解酸性
水によって錆びてしまうようなおそれはないことから、
高コストのステンレス製のものにする必要がなく、コス
トの低減化が図られる。
て加熱されるものが電解酸性水ではなく水道水であるた
め、ヒータ８２が銅等からなるものであっても電解酸性
水によって錆びてしまうようなおそれはないことから、
高コストのステンレス製のものにする必要がなく、コス
トの低減化が図られる。
【００２７】なお、この装置では、電解酸性水製造装置
２０から供給される電解酸性水が、サブパイプ８０から
流入する湯によって薄められるため、浴槽１０内の電解
酸性水を所望のｐＨにするには（例えばｐＨ３以下）、
電解酸性水製造装置２０によって製造される電解酸性水
はその分ｐＨの低いものになるようにする必要がある。
２０から供給される電解酸性水が、サブパイプ８０から
流入する湯によって薄められるため、浴槽１０内の電解
酸性水を所望のｐＨにするには（例えばｐＨ３以下）、
電解酸性水製造装置２０によって製造される電解酸性水
はその分ｐＨの低いものになるようにする必要がある。
【００２８】また、以上の実施形態の変形例として、電
解酸性水製造装置２０は設けられず、タンク２２が最も
上流側の部材として形成され、別の場所で製造された電
解酸性水を運搬してそのタンク２２に入れて使用するよ
うにされていてもよい。
解酸性水製造装置２０は設けられず、タンク２２が最も
上流側の部材として形成され、別の場所で製造された電
解酸性水を運搬してそのタンク２２に入れて使用するよ
うにされていてもよい。
【００２９】
【図１】本発明の第１実施形態を示すブロック図であ
る。
る。
【図２】本発明の第２実施形態を示すブロック図であ
る。
る。
【図３】本発明の第３実施形態を示すブロック図であ
る。
る。
１０ 浴槽 １２ 電解酸化還元センサ ２０ 電解酸性水製造装置 ２５ ２７ 制御装置 ２６ ５０ ８２ ヒータ ２８ ５４ ７４ 制御装置 ５２ ７２ 流量調整弁 ８１ 流量調整弁
Claims (4)
- 【請求項１】 浴槽と、 電気分解によって得られたｐＨ３以下の電解酸性水であ
って前記浴槽内に入れられたものとを有することを特徴
とする入浴装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載の入浴装置であって、前
記電解酸性水の温度が３５℃〜４５℃の範囲であること
を特徴とする入浴装置。 - 【請求項３】 請求項１又は請求項２に記載の入浴装置
であって、 常温の電解酸性水と湯とを混合して前記浴槽内に導く装
置が付加されていることを特徴とする入浴装置。 - 【請求項４】 請求項１〜請求項３に記載の入浴装置で
あって、 前記浴槽内の電解酸性水中の次亜塩素酸の濃度を測定す
るセンサと、 そのセンサの測定結果に基づいて前記浴槽内の電解酸性
水中の次亜塩素酸の濃度が所定の値となるように前記浴
槽内への電解酸性水の流入に関してフィードバック制御
する制御装置が付加されていることを特徴とする入浴装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21183295A JPH0956769A (ja) | 1995-08-21 | 1995-08-21 | 入浴装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21183295A JPH0956769A (ja) | 1995-08-21 | 1995-08-21 | 入浴装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0956769A true JPH0956769A (ja) | 1997-03-04 |
Family
ID=16612338
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21183295A Pending JPH0956769A (ja) | 1995-08-21 | 1995-08-21 | 入浴装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0956769A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001080789A1 (fr) * | 2000-04-24 | 2001-11-01 | Thermedix Co.,Ltd. | Dispositif de thermotherapie |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5275084A (en) * | 1975-12-17 | 1977-06-23 | Kondo Shigenori | Bathing device by electrolysis hot water |
| JPH06218022A (ja) * | 1993-01-27 | 1994-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 給湯装置 |
| JPH0751670A (ja) * | 1993-08-12 | 1995-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電解水生成器 |
-
1995
- 1995-08-21 JP JP21183295A patent/JPH0956769A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5275084A (en) * | 1975-12-17 | 1977-06-23 | Kondo Shigenori | Bathing device by electrolysis hot water |
| JPH06218022A (ja) * | 1993-01-27 | 1994-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 給湯装置 |
| JPH0751670A (ja) * | 1993-08-12 | 1995-02-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 電解水生成器 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2001080789A1 (fr) * | 2000-04-24 | 2001-11-01 | Thermedix Co.,Ltd. | Dispositif de thermotherapie |
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