JPH0955473A - 半導体装置とその検査方法 - Google Patents

半導体装置とその検査方法

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JPH0955473A
JPH0955473A JP8135378A JP13537896A JPH0955473A JP H0955473 A JPH0955473 A JP H0955473A JP 8135378 A JP8135378 A JP 8135378A JP 13537896 A JP13537896 A JP 13537896A JP H0955473 A JPH0955473 A JP H0955473A
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JP
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potential
semiconductor device
voltage
capacitance
capacitors
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JP8135378A
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English (en)
Inventor
Masashi Asaumi
政司 浅海
Yuji Matsuda
祐二 松田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/148Charge coupled imagers
    • H01L27/14887Blooming suppression

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電圧発生部を半導体装置に内蔵させ、外部か
らの制御によって電圧の最適値を検出するとと共に記憶
させることにより、外部駆動回路の電圧調整を不要とす
る半導体装置とその検査方法を提供する。 【解決手段】 電圧発生部は、一方の電極が共通ノード
29に接続された複数の容量21a〜21eと、これら
の容量の他方の電極が接続される電位をそれぞれの容量
ごとに切り換える電位変更手段と、共通ノード29に生
ずる電圧を入力とするバッファアンプ25とを備え、バ
ッファアンプ25の出力が半導体集積回路に接続され
る。電位変更手段は、電源端子28と各容量21a〜2
1eとの間に接続されたヒューズを切断するか否かによ
って各容量の電極が接続される電位を電源電位またはグ
ランド電位に切り換える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電圧調整可能な電
圧発生部を内蔵した半導体装置とその検査方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の中には、外部から供給され
る電圧の調整を要するものがある。一例として固体撮像
装置を取り上げ、従来の技術について説明する。
【0003】図5(a)に従来の固体撮像装置の構成例
を示す。二次元状に配列されたホトダイオード1は各列
毎に垂直CCD2に接続されている。さらに垂直CCD
2は水平CCD3に接続されている。また水平CCD3
は電荷検出を兼ねた出力アンプ4に接続されている。ホ
トダイオード1で光電変換されて生じた信号電荷は、垂
直CCD2へ、そして水平CCD3へ順次転送され、出
力アンプ4により電圧に変換されて出力される。このよ
うに構成された固体撮像装置では、駆動電圧の調整を要
する部分が2箇所存在する。そのうちの一つはブルーミ
ング抑制電圧であり、他の一つは出力アンプ4における
電荷検出部のリセット電圧である。
【0004】ここで、ブルーミング抑制電圧について説
明する。強い光が入射すると、ホトダイオードで発生し
た信号電子が溢れ出て隣接するホトダイオードや垂直C
CDに流れ込む現象、いわゆるブルーミングが発生す
る。このブルーミングを抑制するために、信号電子が隣
のホトダイオードや垂直CCDに流れ込む前に基板に捨
てる構造(縦型オーバーフロードレイン)や、ホトダイ
オードに隣接して専用ドレインと制御電極を設け、信号
電子が隣のホトダイオードや垂直CCDに流れ込む前に
ドレインに捨てる構造(横型オーバーフロードレイン)
が用いられている。
【0005】縦型オーバーフロードレインについて簡単
に説明する。図5(b)に図5(a)のA−A’線に沿
った、縦型オーバーフロードレイン方式のホトダイオー
ド及び隣接する垂直CCDの断面構造を示す。また、図
5(c)に図5(b)のB−B´−B”線に沿ったポテ
ンシャル図を示す。ホトダイオード7で入射光量に比例
した信号電子15が蓄積される。ポテンシャル12に示
すように、P形領域6のポテンシャルが、ホトダイオー
ド7と垂直CCD10との間の障壁ポテンシャル(図5
(c)の9,6)より低いと、ホトダイオード7に蓄積
された信号電子15の一部が垂直CCD10に流れ込ん
でしまう。ポテンシャル14に示すように、シリコン基
板5に印加する電圧16を高くするとP形領域6のポテ
ンシャルが高くなり、信号電子15が垂直CCD10に
オーバーフローする前に基板に排出される。以上からわ
かるように、基板5に印加する電圧16を高くしていく
とブルーミング抑制能力は高くなるが、ダイオード7に
蓄積できる信号電子15の量すなわち飽和信号が減少す
る。したがって、図5(c)に示すポテンシャル13
が、ブルーミングを抑制しながら飽和信号(蓄積量)を
最大にする最適設定となる。なお図5(b)において、
8及び9はP形領域であり、11は電極である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体装置には、以下のような問題があった。まず、上
述の固体撮像装置におけるブルーミング抑制のように、
最適な電圧を基板や制御電極に印加する際、製造工程の
ばらつき等に起因して、チップ毎に最適電圧が異なるた
め、外部回路で電圧調整を行う必要がある。また、従来
の半導体装置の検査方法では、外部からの印加電圧を変
えながら最適電圧を検出することはできるが、得られた
最適電圧の情報を半導体装置の内部に残すことができな
い。
【0007】本発明は、上記のような従来の課題を解決
するために、電圧発生部を半導体装置に内蔵させ、外部
からの制御によって電圧の最適値を検出するとと共に記
憶させることにより、外部駆動回路の電圧調整を不要と
する半導体装置とその検査方法を提供することを目的と
する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置は、
半導体集積回路とその動作に必要な電圧発生部とが同一
基板上に形成された半導体装置であって、前記電圧発生
部は、一方の電極が共通ノードに接続された複数の容量
と、これらの容量の他方の電極が接続される電位をそれ
ぞれの容量ごとに切り換える電位変更手段と、前記共通
ノードに生ずる電圧を入力とするバッファアンプとを備
え、前記バッファアンプの出力が前記半導体集積回路に
接続されていることを特徴とする。
【0009】上記の構成によれば、半導体集積回路の動
作に必要な電圧が半導体装置内部で作り出され、しか
も、その電圧を電位変更手段によって調整することがで
きるので、外部回路で電圧調整を行う必要がない。すな
わち、複数の容量の接続先を各容量ごとに、例えば電源
電位またはグランド電位に切り換えることにより、複数
の容量の共通ノードに得られる電圧は電源電位からグラ
ンド電位まで変化する。
【0010】前記半導体集積回路は、例えば、信号電荷
を蓄積する光電変換部とそれに隣接して過剰電荷を排出
する手段を有する固体撮像装置の回路であり、前記バッ
ファアンプの出力がダイオードを介して前記過剰電荷排
出手段に接続される。この構成により、過剰電荷排出手
段に定常的に直流電圧を印加しつつ、外部からパルス電
圧を印加する駆動(いわゆる電子シャッター駆動)が行
われる。
【0011】あるいは、前記半導体集積回路が、信号検
出手段とその電位をリセットする手段とを有する固体撮
像装置の回路であり、前記バッファアンプの出力がダイ
オードを介して前記リセット手段に接続される。この構
成によれば、リセット手段に定常的に直流電圧を印加し
つつ、外部からパルス電圧を印加する通常のリセット動
作が行われる。
【0012】好ましくは、前記容量の個数がn個であ
り、これらの容量の容量値が1:2:4:………:2
n-1 となるように設定される。容量の接続先が各容量ご
とに電源電位またはグランド電位に切り換える場合、電
源・グランド間の電圧を(2n−1) 等分した電圧ステ
ップで、2n 通りの電圧が得られる。
【0013】さらに好ましくは、前記容量の個数がn+
2m個であり、そのうち、n個の容量の容量値が1:
2:4:………:2n-1 となるように設定され、2m個
の容量はm種類の容量値の容量を2組備えたものであ
り、前記m種類の容量値が1:2:4:………2m-1
なるように設定される。この場合、2n 通りの電圧の中
から一旦設定した電圧を、電源・グランド間の電圧を
(2n−1+2m)等分した電圧ステップで微調整するこ
とができる。
【0014】また、前記電位変更手段が、ヒューズを切
断するか否かによって各容量の電極が接続される電位を
切り換えるものであることが好ましい。この場合、簡便
かつ確実に電位変更を行うことができる。さらに具体的
には、電位変更手段を、ヒューズと抵抗とを用いて構成
することができる。例えば、各容量の電極をヒューズを
介して電源に、抵抗を介してグランドにそれぞれ接続す
ればよい。抵抗に代えて、トランジスタを用いてもよ
い。この場合、デプレションタイプのトランジスタを用
いてゲート電位とソース電位とを等しくすれば、トラン
ジスタのオン状態の比較的低い抵抗を利用できるので安
定した動作が得られる。エンハンスメントタイプのトラ
ンジスタを用いてゲート電位をソース電位より所定電圧
だけ高くしても同様の効果が得られる。
【0015】また、前記容量を形成する一対の電極層の
うち、基板に近いほうの電極層を前記電位変更手段を介
して所定の電位に接続することが好ましい。つまり、基
板から遠いほうの電極を共通ノードに接続する。この構
成によって、基板と電極との間に生ずる浮遊容量の悪影
響を抑えることができる。い。
【0016】次に、本発明による、上記のような半導体
装置の検査方法は、外部から与えるバイナリーコードに
応じて前記複数の容量の電極が接続される電位をそれぞ
れの容量ごとに切り換え、前記バイナリーコードを順次
変化させることによって前記バッファアンプの出力電圧
を段階的に変化させ、前記出力電圧が最適値になったと
きのバイナリーコードを記憶しておき、次に、記憶した
バイナリーコードに基づいて、出力電圧の最適値が定常
的に得られるように前記電位変更手段を制御することを
特徴とする。
【0017】上記のような検査方法によれば、半導体装
置に内蔵された電圧発生部の電圧調整と電位変更手段を
制御することによる書き込みとを連続して、かつ、直接
的に行うことができる。この場合、半導体装置に内蔵さ
れた電圧発生部の構成に応じて、出力電圧が最適値にな
ったときのバイナリーコードと同一のバイナリーコー
ド、あるいは、その補数(1の補数)のバイナリーコー
ドを与えて電位変更手段を制御すればよい。これによ
り、最適電圧の書き込みを簡便に行うことができる。
【0018】また、電位変更手段の制御による最適電圧
の書き込みを、前記半導体回路の特性評価の際に行うこ
とにより、正確な電圧設定が行われる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態をいくつ
かの実施例を用いて具体的に説明する。 (実施例1)図1(a)は、本発明を固体撮像装置に適
用した実施例の回路図である。容量21aの一方の電極
を共通ノード29に接続し、他方の電極をトランジスタ
22aを介してグランドに、また、ヒューズ23aを介
して電源端子28に、さらに、パッド24aに接続した
ものを基本回路としている。この基本回路をn個並列接
続し、共通ノード29をバッファアンプ25に入力し、
その出力をダイオードを介して半導体基板などのブルー
ミング制御電極及びパッド27に接続する。図1(a)
はn=5の例を示している。このとき、各容量21a〜
21eの容量値Ca 〜Ce は、次式(数1)の関係を満
たすように設定される。
【0020】
【数1】 16Ca=8Cb=4Cc=2Cd=Ce 容量21a、トランジスタ22a、ヒューズ23a、お
よびパッド24aからなる基本回路の動作を説明する。
まず、ヒューズ23aが接続されている状態では、電源
28からヒューズ23a、トランジスタ22aを介して
グランドに到る回路が形成される。このとき、トランジ
スタ22aはオフ状態であるため、ドレイン・ソース間
抵抗は数MΩの高抵抗値となる。ヒューズ23aは数百
Ωであるため、容量21aのパッド側電極は電源28と
ほぼ同電位となる。
【0021】次に、ヒューズ23aが切断された場合、
この回路は電源から完全に切り離される。したがって、
容量21aのパッド側電極はトランジスタ22aのドレ
イン・ソース間の高抵抗を介してグランド電位になる。
すなわち、ヒューズを切断するか否かによって、容量2
1aのパッド側電極の電位を電源電位またはグランド電
位に設定できる。
【0022】上述のような基本回路が5個並列接続され
た電圧発生部の等価回路は図1(a)のように表すこと
ができる。この図において、電源側の容量値C1は、図
1の容量21a〜21eのうち、ヒューズが接続された
ままの基本回路の容量の合成値に相当する。一方、グラ
ンド側の容量値C2は、ヒューズが切断された基本回路
の容量の合成値に相当する。このとき、共通ノード29
には次式で表される電圧Voが発生する。
【0023】
【数2】 Vo=VDD×C1/(C1+C2) ここで、C1+C2は容量21a〜21eの全合成値であ
るから、
【0024】
【数3】 C1+C2=Ca+Cb+Cc+Cd+Ce と表すことができる。さらに式(数1)の関係を代入す
ると、式(数2)は次式(数4)のようになる。
【0025】
【数4】 Vo=VDD×C1/31Ca すなわち、電源側の容量値C1に比例した電圧Voが得ら
れる。従って、ヒューズ23a〜23eを選択的に切断
することにより、電源電圧を31等分したステップで所
望の電圧を発生することができる。このようにして発生
した電圧は、バッファアンプ25により低インピーダン
ス化し、更にダイオード26を通してブルーミング制御
電極に印加される。
【0026】図1(c)は図1(a)に示した回路の固
体撮像装置において、ヒューズ23a〜23eを選択的
に切断したときにパッド27に出力される電圧を測定し
た結果を示す。ここで、横軸の数字0〜32はヒューズ
23a〜23eの状態を十進数で表したものであり、各
ヒューズの接続状態を1、切断状態を0とし、またヒュ
ーズ23aをLSB(Least Significant Bit)、2
3eをMSB(MostSignificant Bit)として表現し
たバイナリーコード’00000’〜’11111’に
対応している。また、電源電圧が15Vでの測定値であ
る。
【0027】次に本発明に係る半導体装置の検査方法に
ついて説明する。図1(a)に示した固体撮像装置にお
いて、まず、パッド24a〜24eにプローブを接触さ
せる。次に、これらのプローブから電源電位を1、グラ
ンド電位を0とし、またパッド24aをLSB、パッド
24eをMSBとして表現したバイナリーコード’00
000’〜’11111’に相当する電位を順番に印加
する。このとき、電源端子28は解放状態にしておく。
【0028】パッドに電源電位を与えると、電源端子2
8を電源に接続し、かつ、ヒューズを接続したまま状態
と同等の状態が形成される。一方、パッドにグランド電
位を与えると、ヒューズを切断した状態と同等の状態が
形成される。つまり、ヒューズを実際に切断しなくても
ブルーミング制御電極の電位を変えることができる。こ
のようにして、撮像素子の特性をモニターしながらバイ
ナリーコードを変えてゆき、ブルーミング制御電極の最
適電位を決定することができる。
【0029】次に、最適電位となった時のバイナリーコ
ードの”0”と”1”を入れ換えたコード(補数)を発
生し、プローブから与える電圧を昇圧してヒューズを切
断する。これにより最適電圧が半導体装置に書き込まれ
る。このような一連の操作によって、最適電圧の検出と
書き込みを簡便に、かつ直接的に行うことができる。
【0030】(実施例2)次に、本発明の第二の実施例
を説明する。本実施例も第一の実施例と同様の固体撮像
装置に適用した例であり、その電圧発生部の基本回路が
図2に示されている。第一の実施例における基本回路と
異なるのは、ヒューズ33が容量とグランドとの間に接
続されていること、トランジスタ32のドレインが電源
28に接続されていることである。34はパッドであ
る。この基本回路の動作は第一の実施例と同様である
が、ヒューズ33が接続状態のときに容量31のパッド
側電極はグランド電位となり、ヒューズ33を切断する
と容量31のパッド側電極は電源28と同電位となる。
【0031】この基本回路をn個並列接続し、各基本回
路の容量の容量値を2倍、4倍、…2n-1 倍に設定する
と、第一の実施例と同様にしてグランド電位から電源電
圧までの所望の電圧を得ることができる。
【0032】この半導体装置の検査方法についても、第
一の実施例で説明した方法と同様の方法をとることがで
きる。但し、ヒューズを切断するか否かによって設定さ
れる電極電位が第一の実施例の場合と逆になるので、最
適電位を検出するために与えるバイナリーコードと、ヒ
ューズ切断用のバイナリーコードとが一致する。
【0033】(実施例3)図3(a)に本発明の第三の
実施例の回路図を示す。図1(a)に示した第一の実施
例と異なるのは、基本回路が5個から7個に増え、その
うちの一つの基本回路が第二の実施例で示した構成を有
することである。容量21f,21gの容量値Cf,C
gは等しく、他の5個の容量21a〜21eの容量値と
直接的な関係は無いが、説明の便宜上、Cf=Cg=C
aとする。容量21a〜21eに関する機能は第一の実
施例と同じである。すなわち容量21a〜21eによっ
てブルーミング抑制電圧の最適値が設定される。
【0034】この最適値としての出力電圧は、電源電圧
28が変わればそれに応じて変わる。また、図1(a)
の回路では、ヒューズ23a〜23eの選択的切断によ
って決定したブルーミング抑制電圧を後で変えたい場合
に対応することができない。図3(a)で追加された二
つの基本回路は上記のような場合に出力電圧の微調整を
可能にするためのものである。つまり、ヒューズ23f
を切断すると容量21fがグランド側容量C2に加わ
り、ヒューズ23gを切断すると容量21gが電源側容
量C1に加わる。従って、容量21a〜21eで設定し
た電圧に対して、±VDD/33の範囲内で微調整を行う
ことができる。図3(b)は図1(a)に示した出力電
圧に、上記の微調整によって得られる出力電圧を重ねて
表示したものである。
【0035】(実施例4)次に、本発明の第四の実施例
の半導体装置の構造について説明する。図4に示すよう
に、容量部は二層の電極から成り、第一層電極41をヒ
ューズによって電位を切り替える電極とし、第二層電極
42を共通ノード29に接続する。こうすることによっ
て、浮遊容量の影響を低減し、精度の高い電圧発生回路
とすることができる。すなわち、第一層電極41と半導
体基板との間には大きな浮遊容量43が存在する。これ
をノード29に接続したのでは、浮遊容量43がグラン
ド側容量C2に加わり、その結果、電圧調整範囲の最大
値が低下する。そこで、図4に示すように、第一層電極
41を電位切り替え電極とすれば、この電極が電源電位
になってもグランド電位になっても、浮遊容量43が出
力電圧には影響することはない。
【0036】このように、半導体基板に近いほうの第一
層電極をヒューズによって電位を切り替える電極とし、
第二層電極をノード29に接続することにより、浮遊容
量の影響を低減し、発生電圧の範囲を大きくとることが
できる。
【0037】(実施例5)図6に本発明の第五の実施例
の基本回路を示す。51は電源端子、52はパッド、5
3はヒューズ、54は抵抗、55は容量である。この基
本回路は、第一の実施例の基本回路と同様に、ヒューズ
53を切断しないときは容量55のパッド側電極は電源
電位になり、ヒューズ53を切断することによって容量
55のパッド側電極はグランド電位になる。第一の実施
例の基本回路と異なる点は、図1におけるトランジスタ
22aが図6では抵抗54に置き換わっていることであ
る。
【0038】ヒューズ53を切断しないとき、容量55
のパッド側電極はヒューズ53の抵抗成分と抵抗54と
で電源電圧を分割した電圧になる。この電圧を電源電圧
に近づけるために、そして消費電力を抑制するために、
抵抗54の抵抗値は大きいほうがよい。ヒューズ53を
切断したときは、容量55のパッド側電極は抵抗54を
介してグランド電位に接続される。
【0039】(実施例6)図7に本発明の第六の実施例
の基本回路を示す。第一の実施例の基本回路と異なる点
は、図1におけるトランジスタ22aが図7ではデプレ
ションタイプのトランジスタ56に置き換わっているこ
とである。
【0040】ヒューズ53を切断しない場合、トランジ
スタ56はオン状態であり、電源51からヒューズ5
3、トランジスタ56を通してグランドに至る回路が形
成される。容量55のパッド側電極の電位は、トランジ
スタ56のドレイン電流とヒューズ53の抵抗成分によ
って決まる電圧降下分だけ電源電圧より低い電圧とな
る。この電圧を電源電圧に近づけるために、また消費電
流を抑制するために、トランジスタ56の閾値電圧(V
T)はできるだけ0ボルトに近いことが好ましい。
【0041】ヒューズ53を切断すると、この回路は電
源から切り離される。トランジスタ56はオン状態にあ
るので、ドレイン電位はゲート電位より閾値電圧(VT)
だけ低い電圧となる。即ち、容量55のパッド側電極の
電位は、ほぼグランド電位になる。第一の実施例の回路
では、トランジスタのオフ状態での高抵抗を介してグラ
ンド電位に接続されているので、電極電位が不安定にな
るおそれがあるが、本実施例の回路ではトランジスタが
常にオン状態であるので、安定した動作が得られる。
【0042】(実施例7)図8に本発明の第七の実施例
の基本回路を示す。第一の実施例の基本回路と異なる点
は、エンハンスメントタイプのトランジスタ57のゲー
ト・ソース間に順方向電圧を印加する電源58が備えら
れていることである。この回路は、第六の実施例の回路
と同様の動作を行う。
【0043】(実施例8)図9に本発明の第八の実施例
の基本回路を示す。この基本回路は図2に示した第二の
実施例の基本回路において、トランジスタ32を抵抗
(図9の59)で置き換えたものである。
【0044】ヒューズ53を切断しないとき、容量55
のパッド側電極はヒューズ53の抵抗成分と抵抗54と
で電源電圧を分割した電圧になる。この電圧をグランド
電圧に近づけるために、そして消費電力を抑制するため
に、抵抗59の抵抗値は大きいほうがよい。ヒューズ5
3を切断したときは、容量55のパッド側電極は抵抗5
9を介して電源電位に接続される。
【0045】(実施例9)図10に本発明の第九の実施
例の基本回路を示す。この基本回路は図2に示した第二
の実施例の基本回路において、トランジスタ32をデプ
レションタイプのトランジスタ(図9の60)で置き換
えたものである。
【0046】電圧の切り換え動作は第二の実施例の基本
回路と同様であるが、第六の実施例の回路におけるデプ
レションタイプのトランジスタ56と同じ作用をトラン
ジスタ60が奏するので、安定した動作が得られる。
【0047】(実施例10)図11に本発明の第十の実
施例の基本回路を示す。この基本回路は第九の実施例の
回路におけるデプレションタイプのトランジスタ60
を、エンハンスメントタイプのトランジスタ61と、そ
のゲート・ソース間に順方向電圧を印加する電源58と
で置き換えたものである。動作は第九の実施例の基本回
路と同様である。
【0048】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体装
置によれば、半導体集積回路の動作に必要な電圧が半導
体装置内部で作り出され、しかも、その電圧を電位変更
手段によって調整することができるので、外部回路で電
圧調整を行う必要がない。また、本発明の半導体装置の
検査方法によれば、半導体装置に内蔵された電圧発生部
の電圧調整と電位変更手段を制御することによる書き込
みとを連続して、かつ、直接的に行うことができる。
【0049】なお、上記実施例は、固体撮像装置におけ
るブルーミング抑制電圧に関するものであるが、リセッ
ト電圧の調整に関しても同様の効果が得られる。また、
本発明は固体撮像装置に限らず、種々の半導体装置に適
用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の実施例1に係る半導体装置の
電圧発生部の回路図、(b)はその電圧発生部の等価回
路図、(c)は電圧発生部に与えるバイナリーコードと
出力電圧との関係を示すグラフ
【図2】本発明の実施例2に係る半導体装置の電圧発生
部の基本回路を示す図
【図3】(a)は本発明の実施例3に係る半導体装置の
電圧発生部の回路図、(b)は電圧発生部に与えるバイ
ナリーコードと出力電圧との関係を示すグラフ
【図4】 本発明の実施例4に係る半導体装置の電圧発
生部の電極構造を示す図
【図5】(a)は固体撮像装置の構成を示す平面図、
(b)はその断面図、(c)は固体撮像装置の画素部の
ポテンシャルを示す説明図
【図6】本発明の実施例5に係る半導体装置の電圧発生
部の基本回路を示す図
【図7】本発明の実施例6に係る半導体装置の電圧発生
部の基本回路を示す図
【図8】本発明の実施例7に係る半導体装置の電圧発生
部の基本回路を示す図
【図9】本発明の実施例8に係る半導体装置の電圧発生
部の基本回路を示す図
【図10】本発明の実施例9に係る半導体装置の電圧発
生部の基本回路を示す図
【図11】本発明の実施例10に係る半導体装置の電圧
発生部の基本回路を示す図
【符号の説明】
21a〜21g,31,55 容量 22a〜22g,32,56,57,59,60 トラ
ンジスタ 23a〜23g,33,53 ヒューズ 24a〜24g,27,34,52 パッド 25 バッファアンプ 26 ダイオード 28,51 電源端子 29 共通ノード 41,42 電極層 43 浮遊容量 54,59 抵抗 58 電源
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H04N 5/335

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体集積回路とその動作に必要な電圧
    発生部とが同一基板上に形成された半導体装置であっ
    て、前記電圧発生部は、一方の電極が共通ノードに接続
    された複数の容量と、これらの容量の他方の電極が接続
    される電位をそれぞれの容量ごとに切り換える電位変更
    手段と、前記共通ノードに生ずる電圧を入力とするバッ
    ファアンプとを備え、前記バッファアンプの出力が前記
    半導体集積回路に接続されていることを特徴とする半導
    体装置。
  2. 【請求項2】 前記半導体集積回路が、信号電荷を蓄積
    する光電変換部とそれに隣接して過剰電荷を排出する手
    段とを有する固体撮像装置の回路であり、前記バッファ
    アンプの出力がダイオードを介して前記過剰電荷排出手
    段に接続されている請求項1記載の半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記半導体集積回路が、信号検出手段と
    その電位をリセットする手段とを有する固体撮像装置の
    回路であり、前記バッファアンプの出力がダイオードを
    介して前記リセット手段に接続されている請求項1記載
    の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記容量の個数がn個であり、これらの
    容量の容量値が1:2:4:………:2n-1 となるよう
    に設定されている請求項1記載の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記容量の個数がn+2m個であり、そ
    のうち、n個の容量の容量値が1:2:4:………:2
    n-1 となるように設定され、2m個の容量はm種類の容
    量値の容量を2組備えたものであり、前記m種類の容量
    値が1:2:4:………2m-1 となるように設定されて
    いる請求項1記載の半導体装置。
  6. 【請求項6】 前記電位変更手段が、ヒューズを切断す
    るか否かによって各容量の電極が接続される電位を切り
    換えるものである請求項1記載の半導体装置。
  7. 【請求項7】 前記電位変更手段が、ヒューズと抵抗と
    を用いて構成されている請求項6記載の半導体装置。
  8. 【請求項8】 前記電位変更手段が、ヒューズとトラン
    ジスタとを用いて構成されている請求項6記載の半導体
    装置。
  9. 【請求項9】 前記トランジスタがデプレションタイプ
    であり、前記トランジスタのゲート電位とソース電位と
    が等しくされている請求項8記載の半導体装置。
  10. 【請求項10】 前記トランジスタがエンハンスメント
    タイプであり、前記トランジスタのゲート電位がソース
    電位より所定電圧だけ高くされている請求項8記載の半
    導体装置。
  11. 【請求項11】 前記容量を形成する一対の電極層のう
    ち、基板に近いほうの電極層が前記電位変更手段を介し
    て所定の電位に接続されている請求項1記載の半導体装
    置。
  12. 【請求項12】 請求項1記載の半導体装置の検査方法
    であって、外部から与えるバイナリーコードに応じて前
    記複数の容量の電極が接続される電位をそれぞれの容量
    ごとに切り換え、前記バイナリーコードを順次変化させ
    ることによって前記バッファアンプの出力電圧を段階的
    に変化させ、前記出力電圧が最適値になったときのバイ
    ナリーコードを記憶しておき、次に、記憶したバイナリ
    ーコードに基づいて、出力電圧の最適値が定常的に得ら
    れるように前記電位変更手段を制御することを特徴とす
    る半導体装置の検査方法。
  13. 【請求項13】 前記出力電圧が最適値になったときの
    バイナリーコードと同一のバイナリーコードを与えて前
    記電位変更手段を制御する請求項12記載の半導体装置
    の検査方法。
  14. 【請求項14】 前記出力電圧が最適値になったときの
    バイナリーコードの補数のバイナリーコードを与えて前
    記電位変更手段を制御する請求項12記載の半導体装置
    の検査方法。
  15. 【請求項15】 前記電位変更手段の制御を、前記半導
    体回路の特性評価の際に行う請求項12記載の半導体装
    置の検査方法。
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