JPH09506409A - 特に、噴射弁のためのノズルプレート及びノズルプレートを製造するための方法 - Google Patents

特に、噴射弁のためのノズルプレート及びノズルプレートを製造するための方法

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JPH09506409A JP8511245A JP51124596A JPH09506409A JP H09506409 A JPH09506409 A JP H09506409A JP 8511245 A JP8511245 A JP 8511245A JP 51124596 A JP51124596 A JP 51124596A JP H09506409 A JPH09506409 A JP H09506409A
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Abstract

(57)【要約】 本発明に基づくノズルプレートは、流体、特に燃料のための軸線方向の1つの貫通路を有しており、該貫通路が下流の方向で順次にフィルタ(42)、リング室(47)、及び中断されないリング間隙(35)から構成されている。このような構成によって、チューリップ状の連続した1つの噴流薄層(31)を形成することができ、噴流薄層が下流の方向で薄くなり、最小の滴に崩壊する。結果として、内燃機関の排ガスエミッションがさらに減少させられ、かつ燃料消費量が減少させられる。ノズルプレートは特に、混合気圧縮外部点火式の内燃機関の燃料噴射装置の噴射弁に適している。

Description

【発明の詳細な説明】 特に、噴射弁のためのノズルプレート及びノズルプ レートを製造するための方法 本発明は、特に燃料噴射弁のための、請求項1の上位概念に基づくノズルプレ ート、並びにノズルプレートを製造するための、請求項28の上位概念に基づく 方法から出発する。 既にドイツ連邦共和国特許出願公開第2723280号公報により、燃料噴射 弁においてノズル開口の下流側で燃料噴射部材を平らな薄いプレートの形に形成 することは公知であり、プレートが円弧状の狭い多数のスリットを有している。 プレート内にエッチングによって形成された円弧状のスリットは、幾何学形状、 即ち半径方向の幅及び円弧長さによって、小さい滴に崩壊される燃料ヴェール(B rennstoffschleier)を形成するように作用している。それぞれグループに配置さ れた円弧状のスリットは燃料を、スリットの水平面内で規定された幾何学形状に 相応して分裂させるようになっている。個別のスリットグループは、燃料の噴射 を所望の形式で達成するために互いに極めて正確に形成されていなければならな い。燃料噴射部材の軸線方向の距離全体にわたって、円弧状のスリットはそれぞ れコンスタントな開口幅を有している。噴霧は、燃料 噴射部材の平面内のスリットの半径方向に構成された水平な幾何学形状によって のみ改善されたい。グループで形成されたスリットは、燃料の完全に均一な噴霧 を達成できない。 発明の利点 公知技術に対して、請求項1に記載の構成を有する本発明に基づくノズルプレ ートにおいては利点として、付加エネルギを用いることなしに公知のノズルプレ ートに比べて明らかに改善された燃料の均一な微細な噴霧が達成される。このこ とは、ノズルプレートが中断されないリング間隙を有しており、その結果、噴射 する燃料が直接にリング間隙の下流側で連続したリング状の薄層噴流(Strahllam elle)を形成することによって達成される。ノズルプレート若しくはリング間隙 の幾何学形状に基づき、薄層噴流が円錐台状若しくはチューリップ状の形を成す 。このような燃料円錐(Brennstoffkegel)は表面張力によって下流の方向でかつ 直径の増大に伴って燃料フィルム厚さ(Brennstoffilmstaerke)を次第に薄くして 、最も小さな滴に崩壊される。このような微細な滴は、公知技術に比べて減少せ しめられたいわゆるソーター径(Sauter Mean Diameter [SMD])、即ち噴射された 燃料の減少された平均の滴直径を有しており、この場合、<60μmのSMDが得 られる。従って結果として、内燃機関の排ガスエミッションがさらに減少せしめ られ、同じく燃料 消費量の節減が達成される。 本発明に基づく構成によって得られる別の利点として、噴射される燃料が比較 的大きな噴射面に均一に分布される。これによって、崩壊する薄層噴流の後に形 成される燃料スプレー内の低い滴パッキング密度(Troepfchenpackungsdicht)が 得られ、内燃機関の吸い込み空気流との良好な混合が達成される。さらに滴凝結 、即ち大きな滴への再統合のおそれが小さい。 本発明に基づくノズルプレートにおいては、リング間隙の上流側に組み込まれ た細孔のフィルタが特に有利である。フィルタの機能は、燃料内に含まれるリン グ間隙と同じ大きさ若しくはリング間隙よりも大きい汚れ粒子をノズルプレート の入口から遠ざけておくことである。従って、リング間隙が閉塞されない。さら に、フィルタは整流器であり、整流器が到来する燃料を安定させて、乱れ、例え ば流れ変動及び渦巻きを減少させる。微細に崩壊する安定した薄層噴流を形成す るために、ノズルプレート内での乱れの少ない流れが必要である。 軸線方向のリング間隙高さを変化させることによって薄層噴流角(Lamellenwin kel)への影響を可能にすることも利点である。リング間隙高さの変化は流過量変 動をほとんど生ぜしめない。それというのは流れはリング間隙内において片側で 離れているからである。従って、流過量がリング間隙幅を介してかつ薄層噴流角 がリング間隙高さを介して互いに個別に調節される。 従属項に記載の構成によって、請求項1に記載のノズルプレートの有利な改善 が可能である。 本発明に基づくノズルプレートを用いて有利な形式で、中心軸線を弁縦軸線に 対して平行でない薄層噴流も形成され、傾斜噴流弁(Schiefstrahlventil)と呼ば れる。傾斜噴流は、円形のリング間隙を弁縦軸線に対して偏心的に構成するか、 若しくはリング間隙を円形から外れた形で構成することによって生ぜしめられる 。傾斜噴流弁は、噴射弁が構造的な理由から内燃機関の吸引管内への組み込みに 適していない場合に有益である。新規なノズルプレートは直接に入口弁に意図さ れている。 別の利点が1つのノズルプレートに2つのリング間隙を用いることによって得 られる。これによって各リング間隙からそれぞれチューリップ形の薄層噴流が流 出する。このようなノズルプレートは多点噴射に関連して、1つの噴射弁によっ て内燃機関のシリンダ当たりそれぞれ2つの入口弁に噴射したい場合に特に適し ている。 流れ技術の観点から、軸線方向のリング間隙ずれを設けると有利である。リン グ間隙ずれは、流れの、リング室の形状によって規定された半径方向速度成分を ほぼ維持するように作用する。即ち、リング間隙の最も狭い横断面での流動経過 距離(Stroemungslau flaenge)が最小に縮小される。リング間隙ずれによって流れの薄膜化のさらなる 改善が達成され、従って薄層噴流内の乱れがさらに減少せしめられ、これによっ て最終的に燃料の改善された噴霧が行われる。さらに有利な形式で、リング間隙 ずれの種類及び大きさに関連して噴射角への大きな影響が得られる。 ノズルプレートを製造するための、請求項28に記載の特徴を備えた本発明に 基づく方法によって得られる利点として、それ自体公知の方法がマイクロ構造の 製造のためのプロセスと組み合わされ、これによって経済的に多数のノズルプレ ートが同時に正確に同じ実施形態で製造可能である。即ち、格子状に配置された 本発明の基づく数百のノズルプレートが同時に製造され、従ってノズルプレート 当たりの作業費用が著しく減少される。 従属項に記載の手段により、請求項28に記載の方法の有利な改善が可能であ る。 本発明に基づくノズルプレートの製造のために、エキシマーレーザによるアブ レーション若しくはダイヤモンド旋削のようなマイクロ構造化の方法を、射出及 び電気めっきの方法と一緒に使用すると、特に有利である。このような製造テク ノロジー(Herstellungstechnologie)は従来知られていない。利点として、マイ クロ構造部分としての極めて正確に製造された原型を用いて電気めっきによって 、高い精度を有するエン ボス父型が成形可能であり、これによってノズルプレートが変わらない品質で少 なくとも一万回製造可能である。 図面 本発明の実施例が図面を用いて詳細に述べてあり、図1は本発明に基づくノズ ルプレートを備えた噴射弁を部分的に示しており、図2Aはリング間隙における 噴霧の物理的原理を示しており、図2Bはリング間隙ノズルによって形成された 薄層噴流の原理的な形を示しており、図3は第1の実施例のノズルプレートの部 分縦断面図であり、図4は蜂巣状の細孔を有するフィルタを備えたノズルプレー トの平面図であり、図5はノズルプレートの領域の流れ状態を示しており、図6 は第2の実施例のノズルプレートの部分縦断面図であり、図7は第3の実施例の ノズルプレートの部分縦断面図であり、図7A乃至図7Eはリング間隙ずれの5 つの実施例を示しており、図8は第4の実施例のノズルプレートの部分縦断面図 であり、図9は図8のノズルプレートの上面(左側)及び下面(右側)を組み合 わせて示しており、図10は第5の実施例のノズルプレートの部分縦断面図であ り、図11は第6の実施例のノズルプレートの部分的な下面図であり、図12は 第7の実施例のノズルの部分的な下面図であり、図13は図11及び図12の線 XIII−XIIIに沿った縦断面図であり、図14は第8の実施例のノズルプレートの 下面 図であり、図15は半径方向スリットを備えたフィルタを示しており、及び図1 6乃至図32は図3のノズルプレートの製造のための方法段階を示している。 実施例の説明 図1には実施例として弁が、混合気圧縮外部点火式の内燃機関の燃料噴射装置 の噴射弁の形で部分的に示してある。噴射弁は管状の弁座支持体1を有しており 、弁座支持体内に弁縦軸線2に対して同心的に縦孔3が形成されている。縦孔3 内に例えば管状の弁ニードル5を配置してあり、弁ニードルが下流側の端部6で 、例えば球状の弁閉鎖体7に結合されており、弁閉鎖体の周囲に例えば5つの面 取り部8が設けられている。 噴射弁の操作は公知の形式で、例えば電磁式に行われる。弁ニードル5の軸線 方向の運動のため、ひいては噴射弁の戻しばね(図示せず)のばね力に抗した開 放若しくは閉鎖のために、マグネットコイル10、可動子11及びコア12を備 えた電磁式の回路が用いられる。可動子11は例えばレーザを用いた溶接継ぎ目 (Schweissnaht)によって弁ニードル5の、弁閉鎖体7と逆の側の端部に結合され て、コア12に向けられている。 軸線方向運動中の弁閉鎖体7の案内のために、弁座部材16の案内孔15が用 いられている。弁座支持体1の、コア12と逆の側の下流側の端部で弁縦軸線2 に対して同心的な縦孔3内に、円筒形の弁座部材16が溶接によって密接に組み 込まれている。弁座部材16は弁閉鎖体7と逆の側の下側の端面17で、例えば 小鉢状の支持円板(topffoermige Stuetzscheibe)21に同心的に堅く結合されて おり、従って支持円板が直接に弁座部材16に接触している。支持円板21はこ の場合、既に公知の小鉢状の噴射孔円板と類似の形を有しており、支持円板21 の中央の領域が本発明に基づくノズルプレート23を受容するために段付きの貫 通孔22を備えている。 弁座部材16と支持円板21との結合が、例えばレーザーを用いて形成された 環状の密接な第1の溶接継ぎ目25によって行われている。このような組立形式 によって、貫通孔22及び該貫通孔内に埋め込まれたノズルプレート23を備え る中央の領域での支持円板21の不都合な円形のおそれが避けられる。支持円板 21はさらに弁座支持体1の縦孔3の壁に、例えば環状の密接な第2の溶接継ぎ 目30によて結合されている。 弁座部材16及び小鉢状の支持円板21から成る弁座部分の、縦孔3内への押 し込み深さは、弁ニードル5の行程の大きさを規定しており、それというのは弁 ニードル5の一方の終端位置が、マグネットコイル10の非励起状態で弁閉鎖体 7と弁座部材16の弁座面29との接触によって規定されているからである。弁 ニードル5の他方の終端位置がマグネットコイル10の励起状態で例えば可動子 11とコア12との接触によって規定される。このようにして、弁ニードル5の 両方の終端位置間の距離が行程を形成している。 球形の弁閉鎖体7は弁座部材16の流れ方向で円錐形に先細の弁座面29と協 働するようになており、弁座面は軸線方向で弁座部材16の案内孔15と下側の 端面17との間に形成されている。 支持円板21の貫通孔22内に配置されかつ支持円板21によって直接に弁座 部材16の端面17に保持されたノズルプレート23は、図1には簡単に実施例 として示してあり、別の図面を用いて詳細に説明する。 図2Aにはまず、リング間隙ノズル32におけるリング状の薄層噴流(Lamelle )の発生及び物理的な飛散原理(Zerstaeubungsprinzip)が概略的に示してあり、 図2Bには、リング間隙ノズル32によって形成されたチューリップ形の薄層噴 流31の原理的な形が示してある。流体の薄層噴流形成の原理は、例えば公知の 中空円錐形ノズルから本発明に基づくノズルプレート23内に配置されたリング 間隙ノズル32に極めて簡単に転用可能である。本発明は、滴全表面(Troepfche ngesamtoberflaeche)のできるだけ大きな燃料スプレー(Brennstoffspray)を形成 する原理に基づいている。大きな滴全表面は、燃料量のできるだけ多 くの小さな滴での分布と同義である。大きな滴全表面を形成するために、存在す る流動エネルギ(ノズルの燃料出口の運動エネルギ)のできるだけ多くが、流出 する燃料噴流の表面張力に変換されねばならない。表面張力は、流体噴流の自由 な表面を小さく保とうとする。 燃料当たりの大きな表面の噴流幾何学形状(Strahlgeometrie)は、特に図2B に明瞭に示してあるように、できるだけ薄い中空液体薄層噴流(fluessigkeitsho hllamelle)31にある。このような薄層噴流31は本発明に基づくノズルプレー ト23において出口で、できるだけ大きな直径の狭いリング間隙35によって形 成される。下流の方向で、薄層噴流31の薄膜化が薄層噴流周囲のチュリップ形 状に基づく相応の増大によって助成される。これによって、自由な噴流表面(Str ahloberflaeche)がさらに増大され、薄層噴流31が相応に小さい滴38に崩壊 される。さらに、空間的な滴密度(raeumliche Troepfchenpakungsdichte)は大き な薄層噴流横断面では小さくなり、これによって、燃料スプレー内における大き な滴への滴再結合(滴再凝集[Troepfchenkoagulation])はおおよそ低い。薄層噴 流崩壊はリング間隙35に対する規定された軸方向距離で生じる。薄層噴流31 を取り囲むガスとの空気力の相互作用(aerodynamische Wechselwirkung)によっ て、薄層噴流表面がノズルプ レート23に対する距離の増大に伴って次第に強く波打ち(テイラー振動[Taylo rsche Schwingung]36)、この場合、振動36は図2Aには誇張して示してあ る。薄層噴流31内の不安定性(Instabilitaet)はリング間隙35からの距離の 増大に伴って次第に所定の点37まで増大し、この点で最小の燃料滴38への急 激な崩壊が生じる。このような配置における利点として、薄層噴流31内に生じ る波打ちのほかに別の乱れが生じることはない。従って、例えば下流に向かって 薄くなる薄層噴流31内で不都合な局所的な厚み部(Verdickung)、いわゆる房状 部(Straehne)が避けられる。リング間隙35におけるよりも大きな直径への円錐 形の薄層噴流拡大にも拘わらず、スプレー円錐角(Spraykegelwinkel)αが比較的 小さく実現可能である。その理由はチューリップ形の薄層噴流拡散にある。スプ レー円錐角αは、半径方向の薄層噴流拡散を反映する全角(Vollwinkel)であり、 薄層噴流拡散はノズルプレート23からの所定の距離X(例えば100mm)で の滴38の仮想の衝突面39で終わる。これに対して薄層噴流31の、直接にリ ング間隙プレート32で生じる角度が噴射角βと呼ばれる。薄層噴流31のチュ ーリップ形に基づき、噴射角βがスプレー円錐角αよりも常に大きくなっている 。チューリップ形は、周囲ガスで満たされた中央の薄層噴流中空室40内の負圧 コア(Unterdruckkern)によって生じる。薄層噴流 31によってガス内に「ヒル渦(Hillschen Vortex)」の形の運動が生ぜしめられ る。このような渦巻き運動が負圧を生ぜしめ、負圧が薄層噴流31を下流の方向 でリューリップ形に内側へ引っ張る。 重要なことは、薄層噴流31が周囲にわたって中断されずに形成されているこ とである。そうでない場合には1つの薄層噴流裂け目箇所に自由な2つの薄層噴 流端部を生ぜしめ、該薄層噴流端部が表面張力の物理現象に基づき太い膨らみに 集結する。その結果、薄層噴流裂け目箇所で大きな滴若しくは房状部が生じる。 さらに、薄層噴流中断の場合にはチューリップ形の薄層噴流経過(Lamellenverla uf)も妨げられる。従って、薄層噴流31は円錐形に相応に大きなスプレー角α で経過する。 周囲にわたって中断されない薄層噴流31は、ノズルプレート23に設けられ た中断されないリング間隙35によって得られる。著しく狭いリング間隙35を 燃料内の汚れ粒子によって閉塞させないために、ノズルプレート23内にフィル タ42を配置すると有利である。さらに最適な薄層噴流31のための要求として 、リング間隙35の流入側で到来する流動パルス(Stroemungsimpuls)を周囲にわ たって均一に分配する必要がある。 閉じられた薄層噴流31が早期に小さい直径で崩壊しないように、リング間隙 内の流れがノズルプレート 23から薄板状に流出しなければならない。流れ変動は、不安定な薄層噴流31 を早期に崩壊振動(Zerfallsschwingung)させないために避けられねばならない。 ここに数え上げた要求は、中断されない少なくとも1つのリング間隙35及び少 なくとも1つのフィルタ42を含む本発明に基づくノズルプレート23によって 満たされる。 図3にはノズルプレート23が部分的に軸線に沿った縦断面して、噴射弁内に 組み込まれた状態で示してある。ノズルプレート23は、周囲に例えば軸線方向 で段付けされた円形の扁平な平らな円板として構成されている。支持円板21内 にノズルプレート23をセンタリングして配置してある。噴射弁、特に弁座部材 16へのノズルプレート23の固定が、例えば支持円板21の輪郭に基づき可能 な締め付けによって行われる。ノズルプレート23を弁座部材16に間接的に固 定するこのような緊締には、溶接若しくははんだ付けのような方法と対称的に微 細なリング間隙の温度に起因する変形を完全に避けるという利点がある。支持円 板21の段付けされた貫通孔22は、ノズルプレート23を極めて正確に応力な しに受容するために著しく正確に製造されている。ノズルプレート23は段付け された外側輪郭の代わりに軸線方向で完全に平らな外側輪郭を有していてよい。 ノズルプレート23を製造するための本発明に基づ く方法によって、軸線方向に互いに隣接して並ぶ2つの区分44,45で構成さ れた構造が得られる。上側の区分44は弁閉鎖体7及び弁座部材16に向けて構 成されているのに対して、下側の区分45はノズルプレート23の、弁閉鎖体7 と逆の下流側の端部を成している。実施例では下側の区分45よりもわずかに大 きな直径を有する上側の区分44内にフィルタ42が設けられている。これに対 してノズルプレート23の下側の区分45は、下流に向かって収斂する側面によ って形成されたリング室47及びリング間隙35を有している。ノズルプレート 23の外側の周囲輪郭に対応して支持円板21の貫通孔22も形成されている。 このために、支持円板は21は少なくとも、半径方向に向かって貫通孔22に直 接続く締め付け領域48でノズルプレート23と同じ厚さを有している。そのほ かの所では支持円板21は薄く、例えば締め付け領域48の厚さの三分の二で形 成されている。ノズルプレート23は直径5mmの場合、例えば350μmの厚 さを有しており、この場合、上側の区分44が例えば150μmの厚さであり、 下側の区分45が200μmの厚さである。ノズルプレート23の寸法のこのよ うな値及び明細書に述べる別のすべての尺度は理解を容易にするために用いられ ているものであって、発明を決して限定するものではない。 燃料から成る中断されないチューリップ形の薄層噴 流31を得るための既に前に述べた要求は、ノズルプレート23の次に述べる特 徴によって満たされ: −ノズルプレート23の上側の区分44内のフィルタ42の微細孔構造、 −フィルタ42の細孔間の小さな壁厚、 −下側の区分45内に周囲にわたって中断されることなく形成されていて流れ方 向で連続的に先細になる環状のリング室47、 −リング室47の下流側の終端部としての中断されることのない環状のリング間 隙35。 実施例では円形のフィルタ42は、完全に周方向でノズルプレート23のリン グ状の外側領域50及び内側の円形の内側領域51によって取り囲まれるように 上側の区分44内に配置されている。上側の区分44の外側領域50及び内側領 域51は軸線方向の厚さの一様な寸法を有していて、下側の区分45に続き、そ こで変化する輪郭によってリング室47を形成している。本発明に基づくノズル プレート23の平面図としての図4に、上側の区分44内の内側領域51と外側 領域50との間へのフィルタ42の配置が明瞭に示してある。フィルタ42の微 細孔性(Feinporigkeit)は、例えば弁縦軸線2に対して平行に延びて薄いウエブ( Steg)によって互いに分離された多数の細孔53を設けることによって得られる 。図4では細孔53は蜂の巣状に6角形の横断面で示してある。六角形の細孔5 3を備えるフィルタ42の蜂の巣状の構造の他に、三角形、四角形、五角形若し くは多角形、円形若しくは楕円形の横断面を有する細孔も考えられる。リング間 隙35の大きさ若しくは開口幅bに関連して、フィルタ42の個別の細孔53の 開口幅は例えば35μmであるのに対して、細孔53間の壁厚は例えば10μm である。 図示してない別の変化例として、半径方向に延びかつ円形に配置されるウエブ が著しく短い距離で繰り返し交差しており、これによってフィルタ42の格子状 の模様が形成される。これといくらか異なる構造を、図15のフィルタ42が有 しており、該フィルタは直径の異なる円形の2つのフィルタリング43から形成 されており、この場合、直径の小さい方のフィルタリング43が直径の大きい方 の外側のフィルタリング43によって完全に取り囲まれており、両方のフィルタ リング43が円形の1つのフィルタウエブ(Filtersteg)46を介して互いに結合 されている。各フィルタリング43は多数の半径方向スリット53′を有してお り、半径方向スリットが別の実施例の細孔53に対応していて、それぞれ狭いウ エブによって互いに仕切られている。 フィルタ42の機能は、燃料内に含まれる開口幅(リング間隙幅)bよりも大 きい汚れ粒子をノズルプレート内に侵入させないように遠ざけておくことにある 。これによって、リング間隙35が閉塞されない。このために、リング間隙の5 0μmの開口幅bにおいては、フィルタ42内の直径35μmの開口幅の細孔5 3が有効である。さらに、フィルタ42は整流装置として作用し、弁座面29か ら到来する液体流を安定させて、流れ変動のような乱れ(Turbulenz)及び渦巻き( Wirbel)を減少させる。できるだけ乱れのない層状の流れがリング間隙出口にお いて微細に崩壊する安定的な液体薄層噴流31の形成のために必要である。整流 作用に関連して特に有利には、細孔53の軸線方向の長さと開口幅との寸法比が 4:1であり、ノズルプレート23の上側の区分44の150μmの厚さ(これ は細孔53の軸線方向の長さに対応する)において、既に前に述べた直径35μ mの開口幅が得られる。フィルタ42は前述の機能のほかに安定性機能(Stabili taetsfunktion)を有しており、それというのはフィルタは外側領域50と内側領 域51との間の唯一の結合部であり、これによってノズルプレート23をまとめ ているからである。そうでない場合には、ノズルプレート23は個別の2つの部 分から成っていて、該部分は分離して噴射弁に取り付けられることになる。 図5には、弁座面29とリング間隙35との間、とりわけリング室47内の流 れ状態が拡大して示してある。多数のフィルタ細孔53を通ってリング室47内 に流入する個別流(Einzelstrom)は直接にフィルタ4 2の下流で互いに分離している。個別流は、リング室47によって理想的な形で 与えられる混合距離を必要とする。リング室47は主として内側のゆるやかな壁 54と外側の急傾斜(例えば垂直)の壁55によって形成されている。内側の壁 54が直接にフィルタ42の下流に構成されていて、個別流が内側の壁54の方 向に向けられているので、壁54は衝突面、転向面、若しくは流過面として役立 っている。これに対して、急傾斜の壁55はフィルタ42に対して半径方向にず らして形成されて、リング室47の外径を制限している。 従ってリング室47の横断面にわたって流れが均質化される。即ち、リング間 隙35内に均質な流れが流入して、これによって、微粒に崩壊する一様な液体層 流(Fluessigkeitslamelle)31が房状部を形成することなしにリング室から流出 する。層流31内の不都合な房状部は、フィルタ42によって形成された個別流 がリング間隙35内まで押し進む(vordringen)場合に生じる。従って、内側の壁 54とが下流の方向に向かって互いに接近しつつリング間隙35まで延びており 、これによって連続的な横断面先細(Querschnittsverjuengung)が生ぜしめられ ており、その結果、流体が次第に加速される。このような流動加速によって付加 的に流れの乱れが消滅せしめられる。リング室47の幾何学形状により、流れの 大部分が内側のゆるやか な壁54に接触し、若しくは該壁に沿って案内される。従って流れがリング間隙 35の方向での高い割合の半径方向速度を得る。次いで製作技術(MIGI・技術[M IGI-Technik])に基づき垂直な、即ち弁縦軸線2に対して平行に延びるリング間 隙35にも拘わらず、流出する薄層噴流31は半径方向速度を有する。このよう な半径方向速度は、薄層噴流31の直径をノズルプレート23の下流側でチュー リップ状に拡大するために必要である。 中断されないリング間隙35はリング室47の出口開口を成している。リング 間隙直径dはできるだけ大きく選ばれていて、図3及び図5に示してあるように 、実施例ではフィルタ42の外径よりも大きくなっている。通常は、リング間隙 直径dは0.5mmと5mmとの間である。十分に薄い流体薄層噴流31及び十 分に微細な噴霧のために、リング間隙幅bは50μmを越えてはならない。リン グ間隙幅bのための下側の限界はほぼ25μmである。リング間隙幅bはリング 間隙直径dと一緒に許容の限界内でそのつど与えられた流過量に合わせて設定さ れ、それというのはリング間隙横断面積は流過量と密接な関係にあるからである 。リング間隙35の軸線方向の距離、即ちリング間隙高さhはリング間隙幅bよ りも小さくなっており(h<b)、従ってリング室47から到来する流れが垂直 な軸線方向への過度な方向転換によって半径方向速度 成分を完全に失うことはない。リング間隙高さhとリング間隙幅bとの比によっ て薄層噴流31のスプレー円錐角αが意図的に変えられ、スプレー円錐角はh: bの比が小さければ小さいほど大きい。即ち、薄層噴流31の噴射角β、ひいて はスプレー円錐角αの変化が可能である。リング間隙幅bの一定な状態でのリン グ間隙高さhの変化はほとんど貫流変化を生ぜしめず、それというのは流れがリ ング間隙35内でリング室47の内側の壁55の幾何学形状に基づき片側で、そ れもリング間隙35の内側の壁54の側面で離されているからである。リング間 隙35からの燃料の流出直後では、薄層噴流31は2/3bの厚さ若しくはフイ ルム厚さであるのに対して、点37の近くで小さい滴38への崩壊の際には1< 2bの厚さである。 図3に示す実施例では、回転対称的なチューリップ状の中空円錐噴流(薄層噴 流31)が生ぜしめられる。このような噴流経過は、内燃機関のシリンダ毎の入 口弁へ噴射する噴射弁のために特に適している。リング間隙35は比較的大きな 直径dを有しており、これによって狭いリング間隙35において靜力学的な大き な流過量が得られる。フィルタ42がリング間隙35よりも小さな直径を有して いるので、外側領域50が流入側のリング間隙覆い部(Ringspaltverdeckug)を生 ぜしめており、リング間隙覆い部は流れがリング室47内でリング間隙35の方 向での半径方向力成分を増 大するように作用している。 ノズルプレート23の別の実施例が図6に示してあり、該実施例は図3に示し た実施例と主としてノズルプレート23の軸線方向の厚さを縮小することによっ て異なっている。下側の区分45は例えば上側の区分44と同じ厚さを有してお り、若しくは区分44よりも薄くなっている。これによってリング室47、特に 内側の壁54がさらにゆるやかであり、これによって薄層噴流31のスプレー円 錐角αが増大される。さらに、フィルタ42からリング室37内に流入する個別 流をより強い転向によって互いに一様に均質な1つの流れに混合することも可能 である。ノズルプレート23が第1の実施例よりも薄くなっているので、該ノズ ルプレートは同じ支持円板21の場合に支持円板21の貫通孔22内に深く位置 している。これによって、感度の高いリング間隙出口幾何学形状が、外部の機械 的な作用から良好に保護されている。垂直な完全に平らな外側輪郭を有するノズ ルプレート23においては、支持円板21が符号56の箇所でノズルプレート2 3の下側に部分的に係合しており、従って支持円板21の貫通孔22が該領域で ノズルプレート23よりも小さくなっている(鎖線で示唆)。 図7はリング間隙直径dの小さいノズルプレート23の実施例を示している。 このような構成は靜力学的な小さな流過量にとってリング間隙幅bの下側の限界 値を下回らないために必要である。リング間隙35がもはやフィルタ42に対し てずらされているのではなく、直接に個別の細孔53の下流側に設けられており 、その結果、流れがわずかな半径方向転向でリング間隙35内に流入する。これ によってスプレー円錐角αが小さすぎる場合には、直接にリング間隙35の上流 に覆い部が設けられ、従ってリング間隙35が流入側で再び覆われて、流れが小 さな直径でリング室47内に流入する。 フィルタ42の直接下流にリング間隙35を形成してある場合には、軸線方向 のリング間隙ずれ(Ringspaltversatz)がある、即ち外側領域50の下流側の制限 面と内側領域51の下流側の制限面52′との間に軸線方向の距離が存在してい ると特に有利である。このようなリング間隙ずれは、図7に示す実施例ではリン グ室47の内側の壁54からリング間隙35の1つの側面への移行部が外側の急 傾斜、例えば垂直な壁55からリング間隙35の別の側面への移行部よりも下流 に位置することによって形成されている。外側領域50に対する内側領域51の このような軸線方向のずれ(Verschiebung)は、例えば内側の壁54からリング間 隙35の側面への移行部が外側領域50の下流側の制限面52と同じ平面内に位 置する程度に大きい。リング間隙ずれは、フィルタ42の直接下流へのリング間 隙35の配置に基づき減少せしめられた流れの半 径方向速度力成分を再び増大させるように作用する。さらに流れのより良好な薄 膜性が得られ、薄膜性は燃料の改善された噴霧にとって決定的である。さらに、 有利な形式でリング間隙ずれの大きさに関連して噴射角βに大きな影響を及ぼす ことができる。 流れ技術的な観点から、軸線方向のリング間隙ずれを設けることが特に有利で ある。つまり、リング間隙35の狭い横断面内での流れ経過距離(Stroemungslau flaenge)が最小に縮小されており、それというのはリング間隙35の側面がもは やリング間隙高さhにわたって直接相対していないからである。リング間隙ずれ の5つの例が図7A乃至7Eに簡単に示してある。図7A乃至図7Cにおいては 両方の壁54,55が、これまでの図面に示してあるように互いに逆向きの傾き である。図7Aのノズルプレート23と、これまで述べたノズルプレート23と の主な相違点が、両方の制限面52,52′をリング間隙側面h′だけ軸線方向 で互いに離して配置してあることにある。従ってリング間隙35の両側に垂直な 側面が残されていて、該側面内へ壁54,55が移行している。図7Bに示す実 施例においては、内側領域51のみがリング間隙側面高さh′の垂直な側面を有 しているのに対して、外側領域50の外側の壁55は側面なしに直接に制限面5 2内に移行している。この場合にも、両方の制限面52,52′間の軸線方向の 距離は正確にリング間 隙側面高さh′である。 これに対して、図7Cのノズルプレート23の両方の制限面52,52′間の 軸線方向のずれ(Versatz)は、リング間隙側面高さh′及びずれeによって構成 されている。この場合にずれeは、外側領域50の制限面52と内側領域51の 内側の壁54から垂直な側面内への移行部との間の軸線方向の寸法である。 図7D及び図7Eのリング間隙ずれは原理的に図7B及び図7Cの構成に対応 しているが;ノズルプレート23は外側領域50の外側の壁55の傾きで異なっ ている。外側の壁55が既に述べた実施例に対して逆向きの傾きであり、該傾き は内側の壁54の方向に相応しているが、両方の壁54,55は互いに傾斜度、 即ち弁縦軸線2に関する角度で異なっている。同じ方向に向けられた壁54及び 壁55を有するノズルプレート23において流れの半径方向力成分が増大される 。広げられたチューリップ状の薄層噴流31が形成される。薄層噴流31内の乱 れがさらに減少される。ずれeを有するノズルプレート23(図7C及び図7E )の利点は、ずれeのバリエーションによって噴射角βに著しく良好な影響を与 えていることにある。従って流れ技術的な観点からリング間隙ずれの図7Eに示 すバリエーションが最良の解決策である。 図7A及び図7Eには壁54が変更された形式で示してある。ゆるやかに傾け られた壁54のほかに、リ ング室47がフィルタ42の下流で内側流域51の、リング間隙35と逆側の水 平な平らな衝突面54′によっても制限されている。内側領域51のこのような 構成はリング室47内のデッド容積(Totvolumen)を減少させるために役立ち、か つ流れないの渦巻きを低減させるように作用し、その結果、薄層噴流31の層状 性のさらなる改善が得られる。ここに述べたすべてのリング間隙ずれはノズルプ レート23の別の実施例においても考えられる。 本発明に基づくノズルプレート23の別の実施例が図8及び図9に示してあり 、この場合、図8は図9の線VIII−VIIIに沿った断面図である。図9は、ノズル プレート23の平面(左側)及び下面(右側)によって構成された組み合わせ図 である。この場合には特殊な構成として、ノズルプレート23が中断されない2 つのリング間隙35を有しており、図8では1つのリング間隙35しか見えない 。ノズルプレート23は、縦断面図(図8)で見られる弁縦軸線2の両方の側で 同一に形成されており、ノズルプレート23の平面若しくは下面(図9)も対称 軸線57によって同じように見える2つの半部(Haelfte)に区切られている。図 9から明らかなように、リング間隙35は各プレート半部(Plattenhaelfte)で中 断されずに構成されていて、この場合にはゆがめられた楕円の形を有している。 このようなリング間隙配置により、フィルタ42及びリン グ室47が変更した形で構成されねばならない。上側の区分44の断面図から明 らかなように、周囲から見て半径方向で順次に外側領域50、フィルタ42の第 1のフィルタ領域42′、内側領域51、そして内側の第2のフィルタ領域42 ″が続いている。 両方のフィルタ領域42′,42″はもちろん関連して構成されていて、一体 の1つのフィルタ42を成している。外側輪郭で円形のフィルタ42は内部を内 側領域51によって二度中断されており、内側領域もゆがめられた楕円の形を有 していて、フィルタ42によって完全に取り囲まれている。リング室47も変更 した形で形成されており、それというのはリング室がフィルタ42の配置に応じ て同じく、互いに直接接続された外側の領域と内側の領域とを有していなければ ならないからである。主としてこのリング室47は次のことによって特徴付けら れており、即ち外側の領域では、これまで別の実施例で述べてあるように、内側 の壁54及び外側の壁55がフィルタ領域42′から完全にリング間隙35まで 延びているのに対して、リング室47の内側の領域では内側の壁54がフィルタ 42″まで達しておらず、それというのは対称軸線57に沿った対称に基づき両 側で、第2のフィルタ42″を介して流入する燃料が両方のリング間隙35の対 称軸線57に向いた側の区分に分配されねばならないからである。 各リング間隙35から、回転対称的でない中空円錐薄層噴流(Hohlkegellamell e)が流出する。ノズルプレート23、特にリング間隙35の幾何学形状が薄層噴 流31を規定しており、該薄層噴流の中心軸線は弁縦軸線2に対して平行には延 びていない。むしろ弁縦軸線2と薄層噴流31の各中心軸線との間には、規定さ れた発散角(Divergenzwinkel)が存在しており、従って2つの薄層噴流31が下 流の方向に2つの噴流分枝(Strahlast)の形で発散する。このようのノズルプレ ート23は多点噴射(Multi-Point-Einspritzung)に関連して、1つの噴射弁によ って内燃機関のシリンダ当たりそれぞれ2つの入口弁に噴射したい場合に特に適 している。適当な角度によって2つの薄層噴流31が交差しないようになってお り、そうでない場合には個別の薄層噴流の崩壊が早期に、即ち薄層噴流31の不 十分な薄膜状態で生じる。 図10に部分的に示すノズルプレート23の実施例は、これまで述べた平らな 円板形と異なる輪郭を有している。ノズルプレート23は別の実施例と、フィル タ42が軸線方向で一様でない距離を有していることによって異なっている。つ まり、フィルタ42の、弁閉鎖体7に向いたフィルタ面59が凹面状(muldenfoe rmig)に構成されているのに対して、逆の側は上側の区分44と一緒に1つの平 面を成している。凹面状のフィルタ面59は、球状の弁閉鎖体7の半径にほぼ 相応する半径を有している。従って、弁閉鎖体7とノズルプレート23との間に ほぼ平行に延びる狭い中間室が生じ、この中間室はいわゆるデッド容積58であ る。この実施例の構成の根本思想は、弁閉鎖体7とノズルプレート23若しくは 弁座部材16との間のデッド容積58を小さくすることにある。フィルタ42は 弁座部材16の近くの軸線方向の最も厚い箇所で円板状のほんらいの上側の区分 44よりも2倍以上大きな寸法を有している。上側の区分44の外側領域50と 内側領域51とは、フィルタ42のフィルタ面59からの直接的な移行がそれも 外側領域50に向かっては例えば90°の急角度で行われるように構成されてい る。 デッド容積58の大きさは過熱ガソリン問題(Heissbenzinproblematik)にとっ て相応に重要である。大きなデッド容積58は燃料内の蒸気気泡の発生のおそれ を増大させることになり、このようなおそれが本発明に基づく構成によって低下 される。別の利点として、デッド容積58の減少に基づき弁座面29へのノズル プレート23の接近により、ノズルプレート23の上流での燃料の流れの安定性 が得られる。燃料の渦巻きが適当な構成によって明らかに減少する。このような ノズルプレート23の製造は、既に述べたノズルプレート23に比べて難しくな く、それというのは下側の区分45の製造のための工具として全く同じ工 具が用いられ、かつ上側の区分44はフィルタ42と一緒に公知のLIGA・技 術によって容易に製造可能であるからである。 円形のリング間隙35(図3、図6、図7、図10)の代わりに、楕円形のリ ング間隙35がノズルプレート23内に設けられていてよい。円形からのずれの 大きさに相応して、横断面楕円形の扁平噴流(Flachstrahl)が形成される。 図11には、ノズルプレート23の別の実施例の下面が部分的に示してある。 この実施例においては、円形のリング間隙35が弁縦軸線2と同心的に構成され ていない。むしろリング間隙35はフィルタ42によって、フィルタ42の、内 側領域51に接続する内側の縁部の下流でも、さらに180°ずらしてフィルタ 42の、外側領域50に接する外側の縁部の下流でも覆われるように延びている 。相応して、リング間隙35は180°にわたってリング室47の幅(半径方向 の距離)方向に移動する。即ち、リング室47は周方向で形状を連続的に変化さ せ、従って、内側の壁54をゆるやかに構成してかつ外側の壁55を急傾斜に構 成した点から出発して、リング溝35は弁縦軸線2の方向へ内側へ移動して、こ れによって壁54及び55はやがて同じ傾きを有する(出発点から90°の角度 で)。180°の後に逆転が生じており、即ち内側の壁54がいまや急傾斜であ り、外側の壁55がゆるや かである。リング室47及びリング間隙35のこのような構成により、生じる薄 層噴流31の中心軸線は、ノズルプレート23に対して垂直には延びておらず、 若しくは弁縦軸線2に対して平行には延びていない。従って、傾斜噴流が形成さ れる。傾斜噴流弁は、噴射弁が構造上の理由から内燃機関の吸込管内への組み込 みに適していない場合に役立つ。組み込み傾斜が弁縦軸線2を延長線上で入口弁 に向けるように適合せしめられない場合には、相応に傾斜した傾斜噴流を用いて 、入口弁に直接に当てることが可能である。 図12の別のノズルプレート23の部分的な下面図には、図9と図11とに基 づく実施例の組み合わせが示してある。ノズルプレート23は2つのリング間隙 35を有しており、リング間隙は円形から外れた輪郭を有している。この場合に も、リング室47は周囲にわたって変化した構造で構成されており、従ってリン グ間隙35が同じくリング間隙を覆うフィルタ42の半径方向の幅にわたって移 動する。弁縦軸線2に対して傾けられた2つの傾斜噴流若しくは薄層噴流31が ノズルプレート23の下流側に形成されるので、このような構成は内燃機関のシ リンダ当たり2つの入口弁に噴射するために適している。 図13は図11及び図12の線VIII−VIIIに沿った断面図であり、該断面図に はリング間隙35の壁がフィルタ42に関連したリング間隙35の移動及びリン グ室 37の壁54,55の180°の後の傾きの逆転が示してある。 楕円形若しくは円形のリング間隙35の他に、全く別の、例えばメアンダー状 (maeanderfoermig)のリング間隙経過も考えられる(図14)。この場合も、リ ング間隙35は中断されることなく延びていて、かつ例えば90°の折れ曲がり 有しておらず、そうでない場合にはそこで薄層噴流31が分裂されることになる からである。円形のリング間隙形状の扁平噴流を形成するために、リング間隙3 5の周囲にわたるリング間隙幅変化bの可能性がある。リング間隙35の外径が 例えば一定であり、その結果、リング間隙35の外側の側面が円形に延びており ;これに対して内径が一定でなく、その結果、リング間隙35の内側の側面が楕 円の形を有しており、これによってリング間隙幅bが変化している。1つの側面 の楕円/円の形をそれぞれ別の側面に転換することも考えられる。 図16乃至図32を用いてノズルプレート23、特に図3に示す実施例の製造 方法を明瞭にする。ノズルプレート23の品質に対して、所望の燃料薄層噴流(B rennstofflamelle)31を形成して、該燃料薄層噴流によって生じる著しく小さ い燃料滴38を保証するために、著しく高い要求が課せられる。従って、著しく 滑らかなばりのない表面が流れの乱れを避けるために必要である。さらに狭いリ ング間隙35がリング間隙 幅bを狭い許容誤差にされねばならない。所定のリング間隙幅bからの1μmの 偏差はほぼ3%の流過量偏差を意味する。大きな個品数では流過量は著しくわず かにしかばらつかないようにしなければならない。このような要求は経済的な製 造の目的で大きな個品数、例えば10000個/日で反復可能に満たされたい。 このために、MIGA・技術(マイクロ構造化[Mikrostrukturierung]、電気 めっき成形[Galvanoformung]、型成形[Abformung])が特に有利である。第1の 方法段階(図16)では、原型(Urform)60が後の下側の区分45のネガ型(Neg ativform)として例えば熱可塑的に変形可能なプラスチック(ポリメチルメタク リレート[Polymethylmethacrylat]、短くPMMAが特に適している)で製造さ れ、ネガ型は既にリング間隙35並びに内側の壁54及び外側の壁55に関連し て著しく正確な輪郭を有している。PMMAでの原型60のための製造方法にと って、特に高い精度に基づき機械的なマイクロ加工(Mikrobearbeitung)としての ダイヤモンド旋削(Diamantdrehen)若しくはエクスシーマレーザ(Excimerlaser) による除去が適している。原型60はエンボス父型(Praegestempel)61(図1 8)の製造のために必要とされ、エンボス父型は同じく後の方法段階でノズルプ レート23の製造のために使用される。例えば350μmの厚さ、即ち著しく薄 いシートのマイクロ構造化された部分及び三次 元の構造としての原型60の製造は比較的高価である。従って著しく高い個品数 によって、利益のある製造が可能である。そのために原型60は、原型に合わせ て型成形されたエンボス父型61が変わらない品質で少なくとも一万回使用可能 な程度に精密に加工されたい。 例えば原型60の製造に用いられるエキシマーレーザ(Excimerlaser)は、著し く高い出力密度(Leistungsdichte)及び短い波長(標準的にはλ=193)を有 している。材料のアブレーション(Ablatieren)、即ち爆発的に行われる容積的な 切除(volumenmaessiges Abtragen)がレーザの高い出力密度に基づき可能である 。このように完全に切粉のない切除方法は極端に正確に製造可能な輪郭によって 適している。原型60の材料としてのPMMAの代わりに、材料として銅ベリリ ウムCuBe2も使用可能である。図16に一点鎖線で射出平面65を示してあ り、射出平面はリング間隙35の領域が原型60内のネガとして明らかに増大さ れた高さで構成されていて、引き続く方法段階で簡単な操作が保証されることを 示唆している。 図17に示す次の方法段階では、ネガ型としての原型60に電気槽内で層66 が形成される。この層66は例えばニッケル若しくはニッケル合金、特にNiC oから成っている。層66の電気めっき分離(galva nische Abscheidung)によって層66の生長に基づき表面レリーフを生ぜしめ、 該表面レリーフは原型60の輪郭をなぞっている。層66の層厚さは例えば、最 も厚い箇所で200μmより大きくなっている。層66は電気めっきに基づき原 型60に密接に接触しており、従って生ぜしめられる輪郭、特にリング室47及 びリング間隙35が型に正確に再現される。図17に示す研磨ライン67は、工 具がエンボス父型61の形で平面化されたいところを示している。即ち、層66 から研磨ライン67に沿った適当な加工、例えばフライス加工若しくは研磨によ ってエンボス父型61が形成される。この方法段階はさらに原型60の離型を含 んでいる。図18は研磨及び離型の後のエンボス父型61を示している。原型6 0のPMMAの使用に際して特に溶解のための酢酸エステル(C25OCOCH3 )が適している。離型の別の可能性が機械的な分離である。原型60のために CuBe2を使用する場合には、電気めっき(図17)の前に原型60に金属層 (例えば、クロム)を形成して、原型60とエンボス父型61との機械的な分離 を正確に達成する必要がある。この方法段階の後に形成され図18に示されたエ ンボス父型61は、既に述べたように工具として少なくとも一万回使用されたい 。同時に多数の原型60がマイクロ構造部分として製造されるので、層66の電 気めっき及び続く離型によって同時に多数のエンボ ス父型61が製造される。個別にすることは公知の方法、例えば精密鋸引きによ って行われる。 ノズルプレート23の上側の区分44の製造のために、ポリメチルメタクリレ ート(PMMA)の通常のプレート68から出発する(図19)。図20にエン ボス工具(Praegewerkzeug)69を示してあり、フィルタ42のためにに強うな構 造71、例えば蜂巣構造(Wabenstruktur)を有していて、公知のLIGA・法(LI GA-Verfahren)によって製造されている。この場合には一般に公知の型内で、例 えばシンクロトロン放射(Synchrotronstrahlung)が生ぜしめられる。シンクロト ロン放射が公知のLIGA・技術に基づき用いられ、プラスチックがシンクロト ロン放射で処理され、次いで露光されて、現像され、その結果、プラスチックの シンクロトロン放射で処理されなかった領域が表面構造として用いられる。電気 めっき成形及び離型は、所望のフィルタ構造71が正確に生ぜしめられ、かつ例 えば同じくNiCoから成るエンボス工具69のエンボス面70として役立つ工 具面が正確に平らであるように、正確に行われねばならない。 図21に示す次の方法段階で、即ちエンボスによって、具体的にエンボス工具 69の平らなエンボス面70及びフィルタ構造71をプレート68内に押し込む ことによって電気めっきマスク72が形成される。エンボスは、例えば100バ ールから0バールの圧力及 び130℃から170℃の温度で行われる。これによってPMMA・プレート6 8の十分に高い塑性が得られ、エンボス工具69のエンボス加工すべき構造が受 容される。エンボス工具69の離型が例えば70℃の温度で行われる。電気めっ きマスク72のエンボス加工の後に、図22に示す部分が得られる。電気めっき マスク72への電気めっき及び電気めっきマスク72からの新たに成長された部 分の後の分離を保証するために、電気めっきマスク72のフィルタ構造71の底 面74のみを金属被覆する必要がある。このようないわゆるスタート金属被覆(S tartmetallisierung)は、金属めっきのために用いられる金属性の導体面を生ぜ しめる。金属被覆はスパッタによっては行われず、それというのはフィルタ構造 71がフィルタ構造71の側面に堆積する金属原子に基づき成長することになる からである。 図23に示すように、次の方法段階では、底面74にスタート金属被覆を備え た電気めっきマスク72が電気めっき槽内でフィルタ構造71の側面に、例えば 銅、ニッケル、若しくはニッケル合金、特にNiCoによって電気めっきされる 。これによってエンボス父型61の製造に際して述べたように、電気めっきマス ク72における電気めっきの層の(等方性の)成長に基づき、後でノズルプレー ト23の上側の区分44を成す層76が形成される。このようにして形成された 層76はノズルプレート23のために重要なフィルタ構造71を正確になぞって いる。層76は後続のフライス加工若しくは研磨によって研磨ライン77(図2 4)に沿って平面化され、従って電気めっき中に生じた起伏が取り除かれる。こ のような平面化は選択的に行われる。 次いで支持体としてのPMMAから成る電気めっきマスク72が層76から剥 離され、その結果、該層が薄いシートとして単独に提供される(図25)。離型 が既に述べたように、電気めっきマスク72の分離のための酢酸エステルの使用 によって若しくは機械的な分離方法によって行われる。次いで図26に示すよう に、今やフィルタシート79と呼ばれ、しかし基本的には層76及び後に上側の 区分44を成す部分が、図18で完成されたエンボス父型61上に調節して装着 される。装着はフィルタ42及びリング室47が正確に規定された所望の相対的 な位置を占めるように、正確に行われ行われねばならない。装着の直後に、形成 された中空室81(図27)の排気が行われる。中空室81から空気を排除する ことは、特に、リング室47及び細孔53から成る中空室81内への後続の射出 成形に際して気泡が生じないようにするために役立っている。 このために、フィルタシート79及びエンボス父型61から成る排気された部 分は、既に工具80内に配 置されており、該工具が該部分を研磨ライン67の側からもフィルタシート79 の研磨ライン77に相対する面82の側からも完全に緊締する。例えば300バ ールの圧力で、フィルタシート79とエンボス父型61とが工具80によって互 いに圧着され、その結果、射出材料がフィルタシート79とエンボス父型61と の間の接触面83内に侵入するようなことが確実に阻止される。射出はフィルタ シート79の側から行われる。例えば工具80としてのトランスファープレスを 用いて、中空室81内に細孔53、即ちフィルタ42を介して160℃で液状の PMMAが噴射される。この噴射は、中空室81全体がPMMAで完全に満たさ れるまで行われる。フィルタ42の上側でフィルタシート78の面82の側に工 具80の形によって規定された射出成形プレート85が生じている。 中空室81内のPMMAを例えば70℃以下に冷却した後に、まず工具80が 取り外される。さらにエンボス父型61が極めて容易に外され、しばしが再使用 される。図28には、射出成形プレート85、PMMAで満たされた細孔53を 備えたフィルタシート79、並びにリング室47及びリング間隙35の形を有す るPMMA製のネガ部分87(射出リブ86を含む)から成る部分が工具80及 びエンボス父型61から外された状態で示してある。ネガとしての射出リブ(Spr itzlippe)86は既に、後のリング間隙幅b、例え ば35μm若しくは50μmに正確に相応する幅を有している。図29では、前 述の部分が射出成形プレート85で以て支持プレート88に取り付けられている 。例えばガラス若しくは金属から成る支持プレート88は後の研磨に際して、著 しく薄い前記部分の取り扱いを可能にするために用いられる。 図30は、射出リブ86を備えたネガ部分87の回りに再度の電気めっきを行 って、最終的に下側の区分45を形成する状態を示している。この方法段階では 、ネガ部分87が電気メッキ槽内で、例えば銅ニッケル若しくはニッケル合金、 特にNiCoで取り囲まれている。ネガ部分87を中心としてフイルムシート7 9上で電気めっきの層が成長するすることによって、後の下側の区分45を成す 層90が形成され、該層はフィルタシート79に堅く結合されている。この場合 、層90はネガ部分87を正確になぞっている。次いで、既に図16に示した射 出平面65に沿って層90がフライス若しくは研磨によって平面化される。今や 上側の区分44及び下側の区分45が初めて連続して所望のノズルプレート23 の形で提供され、この場合、リング間隙35も研磨によって初めて所定のリング 間隙高さhを有している(図31)。図32に示す最終的な方法段階で、中空室 81内に存在するPMMAが除去され、かつ射出成形プレート85が剥離される 。このような過程は例えば酢酸エステルを用いて行わ れる。これによって支持プレート88もノズルプレート23から自動的に分離さ れ、ノズルプレートがこの形で図1に部分的に示すように噴射弁に組み込み可能 である。 前述の方法段階により、ノズルプレート23を2つの部分、即ちフィルタシー ト79及び層90から成形することが可能であり、該フィルタシート及び層が最 終的に区分44及び45を形成する。型成形技術(Abformtechnik)の合理的な使 用によって経済的な大量生産が、エンボス工具69を高精密の比較的高価なLI GA・技術によって形成しかつエンボス父型61を高価なマイクロ構造化された 原型60の製造によって成形する場合にも可能である。マイクロ機械的な精度に よって型成形がもっぱらほぼ1μmの許容誤差で可能である。エンボス父型61 は一定のリング間隙幅bの維持された状態で一万回を越えて使用可能な品質、即 ち著しく高い再現性を有している。多数のエンボス父型の同時的な製造、ひいて はこれによって多数のノズルプレート23の同時的な型成形によって、効果の高 い製造方法が実施可能である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ギルベルト メルシュ ドイツ連邦共和国 D―70563 シュツッ トガルト シャルシュトラーセ 28 (72)発明者 デートレフ ノヴァーク ドイツ連邦共和国 D―70435 シュツッ トガルト ブレットハイマー ヴェーク 1 (72)発明者 イェルク ハイゼ ドイツ連邦共和国 D―71706 マルクグ レーニンゲン アイヒェンヴェーク 15

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.流体のための完全な貫通孔を備えた、特に噴射弁のためのノズルプレート において、貫通孔が少なくとも1つのフィルタ(42)、少なくとも1つのリン グ室(47)、及び中断されない少なくとも1つのリング間隙(35)によって 形成されていることを特徴とするノズルプレート。 2.上側の区分(44)及び下側の区分(45)を有しており、該区分が流体 の流れ方向で直接に互いに前後に続いており、上側の区分(44)が少なくとも 1つのフィルタ(42)を含んでおり、かつ下側の区分(45)が少なくとも1 つのリング室(47)並びに少なくとも1つのリング間隙(35)を含んでいる 請求項1記載のノズルプレート。 3.フィルタ(42)が円形リング状に構成され、かつ外側を周方向で外側領 域(50)によって完全に取り囲まれていて、かつノズルプレート(23)の内 側の円形の内側領域(51)を取り囲んでいる請求項1又は2記載のノズルプレ ート。 4.フィルタ(42)が関連する複数のフィルタ領域(42′,42″)から 成っており、該フィルタ領域間にノズルプレート(23)の複数の内側領域(5 1)が取り囲まれており、フィルタ(42)が外側を周方向で完全に外側領域( 50)によって取り囲まれ ている請求項1又は2記載のノズルプレート。 5.フィルタ(42)が、狭いウエブによって互いに仕切られた多数の細孔( 52)を有するエレメントである請求項3又は4記載のノズルプレート。 6.フィルタ(42)の細孔(53)が横断面六角形で蜂巣状に構成されてい る請求項5記載のノズルプレート。 7.フィルタ(42)の細孔(53)の長さがノズルプレート(23)の上側 の区分(44)の厚さに相応している請求項2又は3記載のノズルプレート。 8.フィルタ(42)が半径方向方向の距離全体にわたってコンスタントな( 軸線方向の)厚さを有している請求項1から7のいずれか1項記載のノズルプレ ート。 9.フィルタ(42)が半径方向の距離にわたって変化した(軸線方向の)厚 さを有している請求項1から6のいずれか1項記載のノズルプレート。 10.少なくとも1つのリング室(47)が半径方向で壁(54,55)によ って制限されており、壁がノズルプレート(23)の軸線方向の垂直な延びに対 して角度を成していて、ひいては半径方向力成分を有している請求項1又は2記 載のノズルプレート。 11.リング室(47)の、ノズルプレート(23)の中心に向いた内側の壁 (54)と外側の壁(55)とが互いに異なる傾き方向に延びている請求項10 記載のノズルプレート。 12.リング室(47)の、ノズルプレート(23)の中心に向いた内側の壁 (54)と外側の壁(55)とが同じ傾き方向に、しかし異なる角度で延びてい る請求項10記載のノズルプレート。 13.内側の壁(54)が外側の壁(55)よりもゆるやかに延びていて、従 って大きな半径方向力成分を有している請求項11若しくは12記載のノズルプ レート。 14.リング室(47)の内側のゆるやかな壁(54)が少なくとも部分的に 直接にフィルタ(42)の下流に配置されており、その結果、フィルタ(42) を通って流れる流体が内側の壁(54)にぶつかり、転向されるようになってい る請求項2及び13記載のノズルプレート。 15.リング室(47)の内側のゆるやかな壁(54)が少なくとも部分的に 、水平な平らな衝突面(54′)によって形成されている請求項10又は14記 載のノズルプレート。 16.リング室(47)の外側の急傾斜の壁(55)が直接にフィルタ(42 )の下流に配置されているのではなく、半径方向のずれを置いて配置されている 請求項2及び13記載のノズルプレート。 17.リング室(47)の壁(54,55)が流れ方向でリング間隙(35) の寸法まで拡散しており、 リング間隙がリング室(47)の下流側の出口である請求項10記載のノズルプ レート。 18.リング間隙(35)の側面がリング室(47)の壁(54,55)から 出発して垂直に延びている請求項17記載のノズルプレート。 19.ノズルプレート(23)がリング間隙(35)によって外側領域(50 )と内側領域(51)とに分割されており、外側領域(50)の下流側の制限面 (52)が少なくともリング間隙(35)の領域で内側領域(51)の下流側の 制限面(52′)に対して軸線方向にずらして位置している請求項1記載のノズ ルプレート。 20.両方の制限面(52,52′)間の軸線方向の間隔がリング間隙(35 )の垂直な側面の高さ(h′)に相応している請求項19記載のノズルプレート 。 21.両方の制限面(52,52′)間の軸線方向の間隔が軸線方向の付加的 なずれ(e)に基づきリング間隙(35)の垂直な側面の高さ(h′)よりの大 きくなっている請求項19記載のノズルプレート。 22.ノズルプレート(23)が互いに独立した2つのリング間隙(35)を 有しており、リング間隙がそれぞれフィルタ(42)の複数のフィルタ領域(4 2′,42″)に接続されている請求項4記載のノズルプレート。 23.中断されない少なくとも1つのリング間隙(35)が円形である請求項 1記載のノズルプレート。 24.中断されない少なくとも1つのリング間隙(35)が、円形から外れた 形状を有している請求項1記載のノズルプレート。 25.中断されない少なくとも1つのリング間隙(35)がコンスタントなリ ング間隙幅(b)を有している請求項1記載のノズルプレート。 26.中断されない少なくとも1つのリング間隙(35)が、リング間隙幅( b)よりも小さい軸線方向のリング間隙高さ(h)を有している請求項1記載の ノズルプレート。 27.リング間隙(35)のリング間隙幅(b)が25μmから50μmであ る請求項23から26のいずれか1項記載のノズルプレート。 28.ノズルプレート、特に請求項1から27に記載のノズルプレートを製造 する方法において、ノズルプレート(23)の上側及び下側の区分(44,45 )をMIGA・技術(マイクロ構造化[Mikrotrukturierung]、電気めっき成形[G alvanoformung]、型成形[Abformung])及びLIGA・技術(リトグラフ[Lithog raphie]、電気めっき成形[Galvanoformung]、型成形[Abformung])のコンビネー ションによって形成することを特徴とする、ノズルプレートを製造する方法。 29.下側の区分(45)の繰り返し製造に用いられるエンボス父型(61) の製造のための原型(60)をマイクロ構造化によって製造する請求項28記載 の方法。 30.原型(60)の製造をダイヤモンド旋削によって行う請求項29記載の 方法。 31.原型(60)の製造をエキシマーレーザによって除去して行う請求項2 9記載の方法。 32.フィルタ(42)を含めてノズルプレート(23)の上側の区分(44 )を製造するために用いるエンボス工具(69)をLIGA・技術によって形成 して、次いでエンボス工具(69)を薄いプレート(68)内に圧刻して、エン ボス工具(69)の構造をネガとしてプレート(68)内に存在させ、次いでエ ンボス工具(69)を離型して、これによってプレート(68)から新たに成形 された電気めっきマスク(72)を形成して、次いで電気めっきマスク(72) に少なくとも部分的なスタート金属被覆を行って、少なくとも部分的に金属被覆 された電気めっきマスク(72)を電気めっきして、層(76)を生長させ、次 いで電気めっきマスク(72)を新たに成形された層(76)から分離して、こ れによって層(76)をフィルタシート(79)として提供する請求項28記載 の方法。 33.フィルタシート(79)を調節して、エンボ ス父型(61)に装着して、エンボス父型(61)及びフィルタシート(79) の内部に中空室(81)を形成して、フィルタシート(79)及びエンボス父型 (61)を工具(80)内に配置して、次いでフィルタシート(79)及びエン ボス父型(61)の中空室(81)を排気して、次いで中空室(81)を射出成 形(ダイカスト)によって満たして、次いで工具(80)を除去し、次いでエン ボス父型(61)をフィルタシート(79)及び噴射成形(ダイカスト)によっ て形成されたネガ部分(87)から取り除き、この場合、中空室(81)内に形 成されたネガ部分(87)がノズルプレート(23)のリング室(47)及びリ ング間隙(35)の輪郭を規定しており、次いでネガ部分(87)の周りに電気 めっきによって層(90)を施して、ノズルプレート(23)の下側の区分(4 5)を成す該層(90)を研磨して、最終的にネガ部分(87)をノズルプレー ト(23)から除去する請求項29及び32記載の方法。 34.電気めっきをNiCoによって行う請求項29、32若しくは33記載 の方法。 35.原型(60)、プレート(68)、ひいては電気めっきマスク(72) 、並びにネガ部分(87)のための材料としてポリエチルメタクリレート(PM MA)を用いる請求項29、32若しくは33記載の方法。 36.PMMAの溶解のために酢酸エチレステルを投入する請求項35記載の 方法。
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