JP3737116B2 - 弁、殊に燃料噴射弁 - Google Patents
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Description
本発明は、弁、殊に請求項1の上位概念に記載した燃料噴射弁に関する。ドイツ連邦共和国特許出願公開第2723280号明細書によれば、調量開口の下流で燃料噴射弁に、アーチ状の多数の狭いスリットを有する、同様に薄い円板状の燃料粉砕部材(Brennstoff aufbrechglied)が設けられている。エッチングによって円板に形成された、湾曲されたスリットは、その幾何学形状によって、つまりその半径方向の幅及びアーチ長さによって、小さい液滴に粉砕されるが燃料薄層が形成されるように配慮する。それぞれの群(グループ)で配置されたアーチ状の複数のスリットは、水平方向に形成されたその幾何学形状に応じて燃料を粉砕する。所望の形式で燃料を粉砕するために、各スリット群は互いに非常に正確に配置しなければならない。燃料粉砕部材の軸方向の全長に亙って、アーチ状のスリットはそれぞれ一定の開放幅を有している。スリットの配置によって、液滴が再びくっつきあって大きい液滴になってしまう危険性がある。
発明の利点
請求項1の特徴部に記載した特徴を有する本発明による弁、殊に燃料噴射弁は、付加的なエネルギーを必要とすることなしに燃料を均一にかつ微細に噴霧することができ、噴霧された燃料は質的に非常に高い噴霧状態を有している。これは、燃料噴射弁に設けられたノズルプレートが多数の半径方向に延びるスリットを有していて、噴射しようとする燃料がノズルプレート(半径方向ギャップノズル)の直接下流で、薄い液体層厚を有する多数の扁平流(扁平層流)を形成することによって得られる。表面張力によって、扁平流のすべての円すい形燃料流は、崩壊して最小の液滴になるまで、下流方向で、また直径が大きくなるにつれてその燃料膜厚が常に薄くなる。この微細な液滴は、従来技術に対して減少されたいわゆるザウタ平均粒径“Sauter Mean Diameter (SMD)”を有している。つまり、噴射された燃料の減少された平均的液滴直径を有している。この場合、SMD<60μmが得られる。その結果、特に内燃機関の排ガスエミッションがさらに減少され、消費燃料の減少が得られる。
本発明の装置によれば、さらに別の利点として、比較的大きい噴射面に亙って、噴射された燃料の均一な分布が得られる。これによって、形成された燃料スプレー内にわずかな液滴含有密度が存在し、内燃機関の吸気流との良好な混合が得られる。さらに、液滴が凝固する危険性、つまり液滴が再びくっつき合って大きい液滴になる危険性は小さい。
請求項2以下に記載した手段によって、請求項1に記載した弁特に燃料噴射弁の有利な変化実施例及び改良が可能である。
半径方向ギャップノズルを、スリットの上流に存在する、ノズルプレートの凹部への入口に対して半径方向でずらしたことに基づいて、流体のS字状の流過形状が得られる。これによって、流れは、出口においても失われることのない半径方向速度成分を得る。強い流れの変向を有するいわゆるS字状の流れによって、流れに、噴霧を促す強い乱流(Turbulenz)が加えられる。
図面
本発明の実施例が図面に概略的に示されていて、以下に説明されている。図1には、本発明によるノズルプレートを備えた噴射弁が部分的に示されており、図2には、半径方向のスリットを備えたノズルプレートが示されており、図3〜図8には、マイクロ構造形成法(Mikrostrukturierung)及び電気めっき型取りを法(Galvanoabformung)を用いてノズルプレートを製造するための方法段階が示されている。
実施例の説明
図1には、混合気圧縮外部点火式内燃機関の燃料噴射装置のための噴射弁としての弁の1実施例が示されている。噴射弁は、管状の弁座支持体1を有しており、該弁座支持体1内に、弁縦軸線2に対して同軸的に長手方向開口3が形成されている。長手方向開口3内には例えば管状の弁ニードル5が配置されており、この弁ニードル5は、その下流側の端部6で、例えば球状の弁閉鎖体7に接続されており、該弁閉鎖体7の外周部に例えば5つの扁平部8が設けられている。
噴射弁の操作は公知の形式で例えば電磁石式に行われる。弁ニードル5を軸方向で運動させ、及びひいては噴射弁を図示していない戻しばねばね力に抗して開放若しくは閉鎖させるために、磁石コイル10と可動子11とコア12とを備えた、略示された電磁石回路が使用される。可動子11は、弁ニードル5の、弁閉鎖体7とは反対側の端部に、例えばレーザーによる溶接継ぎ目によって結合されていて、コア12に整列されている。
軸方向運動中に弁閉鎖体7をガイドするために、弁座体16のガイド開口15が使用される。下流側に位置する、コア12とは反対側に向けられた、弁座支持体1の端部内で、弁縦軸線2に対して同心的に延びる長手方向開口内に、例えば円筒形の弁座体16が溶接によって気密に取り付けられている。弁座体16は、弁閉鎖体7とは反対側に向けられた下側の端面側17で、例えば鉢状に構成された支持円板21に、同心的に堅固に結合されており、この支持円板21は、弁座体16に直接当接している。支持円板21は、公知の鉢状の噴射孔付き円板と同様の形状を有しており、この場合、支持円板21の中央の領域には、段付きの貫通開口22が設けられていて、この貫通開口22内に本発明によるノズルプレート23が受容されるようになっている。
弁座体16と支持円板21との接続は、例えばレーザーによって形成された、環状で気密の第1の溶接継ぎ目25によって行われる。このような形式の組み付けによって、支持円板21が、貫通開口22を備えたその中央の領域内で及びひいてはこの貫通開口22内に組み込まれたノズルプレート23が不都合に変形する危険性は避けられる。支持円板21はさらに、弁座支持体1内に形成された長手方向開口3の壁部に、例えば環状の気密な第2の溶接継ぎ目30によって結合されている。
弁座体16と鉢状の支持円板21とノズルプレート23とから成る弁座部分が、長手方向開口3内に侵入する侵入深さは、弁ニードル5のストロークの大きさを規定する。何故ならば弁ニードル5の一方の終端位置は、磁石コイル10が励磁されていない状態で、弁閉鎖体7が弁座体16の弁座面29に当接することによって規定されるからである。弁ニードル5の他方の終端位置は、磁石コイル10の励磁された状態で、例えば可動子11がコア12に当接することによって規定される。これによって弁ニードル5のこれら2つの終端位置の間の経路がストロークを形成する。
球状の弁閉鎖体7は、流過方向で円錐台形に先細りする、弁座体16の弁座面29と協働し、この弁座面29は、軸方向で、弁座体16の下側の端面側17とガイド開口15との間に形成されている。
図2には、ノズルプレート23が単独の構成部材として拡大して示されている。ノズルプレート23は、平らで扁平で円形の円板として構成されており、この場合、円環状の外側領域35は、軸方向で、内側の円形の噴射領域36よりも厚く構成されている。噴射領域36を完全に取り囲む外側領域35は、噴射領域36の2倍の厚さ例えば0.2mmの厚さを有している。ノズルプレート23は支持円板21内でセンタリングされて位置している。ノズルプレート23を噴射弁特に弁座体16に固定する作業は、支持円板21の輪郭形状に基づいて可能である緊締によって行われる。このように、ノズルプレート23を弁座体16に間接的に固定する緊締によれば、溶接又ははんだ付け等の方法とは異なり、微細な噴射幾何学形状が温度の影響を受けて変化することは完全に避けられる。支持円板21内に形成された段付けされた貫通開口22は、ノズルプレート33が、緊張されることなしに著しく正確に受容されるように、寸法的に正確に製造されている。扁平な外側輪郭の代わりに、ノズルプレート23は軸方向で段付けされた外側輪郭を有していてもよい。しかしながら支持円板21は、ノズルプレート23を固定するためのだけの条件を有しているわけではない。固定の可能性は本発明にとって重要ではないので、溶接、はんだ付け又は接着等のその他の公知の接続形式を参照されたい。組み付けた状態で、ノズルプレート23の外側領域35の上側の端面38は、弁座体16の下側の端面側17に当接し、一方、噴射領域36と弁座体16との間には、凹状に構成された噴射領域36に基づいて中空室が形成されている。
ノズルプレート23の扁平な噴射領域36は、小さいスリット幅若しくはギャップ幅を有する半径方向に延びる星形に配置された多数のスリット40を備えている。燃料が噴射されるスリット40は、内側の噴射領域36の外周部に均一に分配されており、これによって噴射された燃料スプレーの噴射量分布は均一で、できるだけわずかな空間的な液滴含有密度を有している。半径方向のスリット40は、円板中心まで延びてはいない。何故ならばそうでなければ、スリット40と円板中心との交差点から集約された紐状の噴射流が噴出するからである。ノズルプレート23から流体が流出した後で、表面張力によって、粗悪な噴霧作用を有する紐状の噴射流が中央で生じる。空間的な少ない液滴含有密度が得られるように、噴霧されたスプレー横断面を大きくするために、スリット40は、噴射領域36のできるだけ大きい直径まで延びている。スリット40は、交差点つまり共通の出発点を有していないので、ノズルプレート23の中央には、スリットのない中央の領域41が存在している。スリット40の制限壁は垂直に延びており、電気めっき型取り技術(MIGA技術:マイクロ構造形成法、電気めっき成形法、型取り法)による安価な製造によって形成されている。
図2にはノズルプレート23が示されており、このノズルプレート23は、均一に8つに分割された、つまりそれぞれ45°の角度間隔を保って配置された8つのスリット40を有している。5.5mmの外径において、ノズルプレート23は例えば直径4.2mmの噴射領域36を有しており、これによって0.65mmの外側領域35の幅が得られる。噴射領域36内に存在するスリット40は、例えば0.9mmの長さを有しており、この場合スリット40は例えば、内径1.6mmと外径3.4mmとの間の噴射領域36内に延びている。スリット幅は、約25μmである。これらのノズルプレート23の寸法及びその他の、明細書に記載した寸法は、本発明を理解し易くするためのものであって、本発明はこれに限定されるものではない。同様に、スリット40の所定の数も、1例を示すだけのものである。何故ならば、いずれの場合でも、例えば4つ、12個又は16個のスリット40が考えられるからである。
スリット40の上流側には、より厚い構成の外側領域35によって中空室が得られるので、噴射領域36はノズルプレート23の凹部の底部を成している。この凹部は、部分的に弁座体16によって外部から覆われ、この場合、スリット40は、その半径方向の延び全体若しくはその全長に亙って覆われていなければならない。これによっていわゆるS字状の流体流が得られ、この流体流によって、特に、付加的なエネルギーなしで流体の均一で微細な噴霧が可能である。流れ変向を伴うS字状の流れによって、流れに、噴霧を促す強い乱流が加えられる。スリット40が覆われることによって、流れは強制的に外方の半径方向成分を得る。この半径方向流成分は、半径方向に延びるスリット40を貫流する際にも維持される。これによって、各スリット40から吐出する扁平流は、斜め外方に噴射される。従って、全体的に、所望の大きさの直径を有する円錐形のスプレーが、半径方向ギャップノズルから噴射される。スプレー円錐形角度は、種々異なる手段によって変化させることができる。従って、弁座からスリット40までの間隔、弁座体16が噴射領域36を覆う程度、並びにスリット40の半径方向配置、スプレー円錐形の大きさに影響を与えることができる。
図示していない実施例によれば、例えば、構造的にノズルプレート23に直接所属する第2の円板位置が設けられていることによって、ノズルプレート23自体によって予めスリット40を覆う状態が得られる。
図3から図8によれば、ノズルプレート23を製造するために特に適した有利な製造方法が詳しく示されている。この場合、図面には、図2に示したノズルプレート23の実施例は正確に示されておらず、製造原理を示す配置だけが図示されている。構造的寸法及び噴射ノズルの精度に関する高い要求に基づいて、マイクロ構造化方法は、今日ではその技術的に高度な製造のために、次第に大きくなりつつある。この方法の特徴は、大きい面状の寸法において構造の高い精度が保証されるので、非常に大きい数の大量生産のために理想的に適用される。ウエーハ上に多数のノズルプレート23が同時に形成される。
この方法のための出発点は、例えば珪素、ガラス又はセラミックより成る扁平で頑丈な基板50である。この基板50の一般的な厚さは、0.5mmから2mmの間である。基板50を洗浄した後で、まず少なくとも1つの補助層51が基板50上に電気めっきされる。この場合、例えば電気めっき開始層(例えばCu)が使用される。この開始層は、後で行う電気めっきのための電気的な導体のために必要である。この補助層51は、後でノズルプレート23をエッチングによって簡単に個別化するのを可能にするために、後続のマイクロ構造化法のための停止層として若しくは犠牲層として使用される。次いで補助層51上に、マイクロ構造化可能な層52が全面的に被着される。このために、特に熱可塑性に変形可能なプラスチック(例えばポリメチルメタクリレート;Polymethylmethacrylat PPM)の被着層が提供される。次いでこの被着層は、補助層51上にシート状に載せられる。
図示していないマスクを介して層52の構造化が行われる。このマイクロ構造化は、特に高い精度のために、ダイヤモンド切削(Diamantdrehen)によって、又はエキシマレーザー55(図4)による除去によって行われる。例えば層52をマイクロ構造化するために使用されたエキシマレーザー55は、非常に高い効率及び短い波長(典型的にはλ=193mm)を特徴としている。このエキシマレーザーによる処理後に、ガルバニックマスク56がPMMA層52内に残る。次いで電気めっき浴内でガルバニックマスクの周囲に金属57(図5)が電気めっきされる。金属57は、電気めっきによってガルバニックマスク56の輪郭部に密接して施されるので、所定の輪郭部を型くずれすることなく繰り返し製造することができる。一般的に、電気めっきする場合、Ni,NiCo,NiFe又はCuが使用される。
ノズルプレート23の所望の構成に応じて、マイクロ構造化及び電気めっき型取りを繰り返し行うことができる(図6及び図7)。ダッシ(′)を付けた符号は、プロセスが繰り返されたことを表している。電気めっきプロセスの終了後、ガルバニックマスク56,56′は取り除かれる。構造化された層52,52′のためのPMMAを使用する際には特に、溶解除去のために酢酸エチルエステル(Essigsaeureethyester)が適している。溶解除去後に、ノズルプレート23は既に完成された構成として、基板50上に設置される。次いでノズルプレート23の個別化が行われる。このためには、補助層51がエッチングによって除去され、ノズルプレート23が基板50から持ち上げられる。
以上の製造法に非常に類似した別の製造原理によれば、MIGA技術に応じて前記型内で型取り工具が製造され、所望のノズルプレート23に対する正確な逆転(ネガ構造)が形成される。この場合、型取り工具で型取りしようとするノズルプレート23の数が特に多ければ、安価で採算のとれる製造が得られる。このようなノズルプレート23のネガとしての型取り工具は、同じ品質で少なくとも1万回使用できる程度に正確に処理されなければならない。以上述べた方法の代わりに、ノズルプレート23のスリット40を例えば浸食によって形成することもできる。
本発明によるノズルプレート23は、一般的に、液体(例えばラッカーも)を噴霧する際に、細かい液滴を均質で均一に分配したい場合に適している。
Claims (11)
- 弁、殊に内燃機関の燃料噴射装置のための燃料噴射弁であって、弁縦軸線(2)と、弁座面(29)と協働する弁閉鎖体(7)と、弁座面(29)の下流で、吐出開口としての多数の狭いスリット(40)を有するノズルプレート(23)とを有している形式のものにおいて、
ノズルプレート(23)が、半径方向に延びる、噴射幾何学形状を形成する多数のスリット(40)を有しており、これらのスリットが星形に配置されていて、各スリット(40)が接触しないようになっていることを特徴とする、弁。 - 複数のスリット(40)のスリット幅が、20μmと50μmとの間である、請求項1記載の弁。
- ノズルプレート(23)に8つのスリット(40)が設けられており、これらのスリットがそれぞれ互いに45°の角度間隔を保っている、請求項1記載の弁。
- ノズルプレート(23)が内側の噴射領域(36)を有しており、該噴射領域(36)内にスリット(40)が形成されていて、また該噴射流域(36)が外側領域(35)によって完全に取り囲まれている、請求項1記載の弁
- スリット(40)が、ノズルプレート(23)の外側領域(35)の上側の端面(38)に対して低い凹部内に延びている、請求項4記載の弁。
- ノズルプレート(23)のスリット(40)が、組み立てた状態で軸方向で間隔を保って覆われるようになっており、これによって前記凹部内に侵入した媒体流がスリット(40)に向かって半径方向で変向されるようになっている、請求項5記載の弁。
- ノズルプレート(23)が、ガルバニック型取り法とマイクロ構造化法とを組み合わせて製造される、請求項1記載の弁。
- ノズルプレート(23)が特に、マイクロ構造化法としてダイヤモンド切削によって製造される、請求項7記載の弁。
- ノズルプレート(23)が特に、マイクロ構造化法としてエキシマレーザー(55)による除去によって製造される、請求項7記載の弁。
- ガルバニック型取り法において、ガルバニックマスク(56)のための材料としてポリメチルメタクリレート(PMMA)が使用されている、請求項7記載の弁。
- スリット(40)がノズルプレート(23)内で浸食によって製造されている、請求項1記載の弁。
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