JP2004513297A - 燃料噴射弁 - Google Patents

Abstract

本発明は、燃料噴射弁に関する。当該燃料噴射弁は運動可能な弁部材（２０）を有している。該弁部材（２０）は、当該弁の開閉のために、不動な弁座（２７）と協働するようになっている。該弁座（２７）は弁座エレメント（２６）に形成されている。弁座（２７）の下流側には渦流発生板（３０）が配置されている。該渦流発生板（３０）は多層構造を有している。少なくとも１つの入口領域（６５）と出口開口（７９）との間では、通流する燃料が渦流成分で負荷されるようになっている。この場合、第１の渦流発生層（５９）で第１の流れ部分に渦流成分が付与されるようになっているのに対して、第２の流れ部分は、渦流付与された第１の流れ部分とは無関係に渦流付与されずに渦流発生板（３０）の内部で引き続き案内されるようになっており、第２の渦流発生層（６１）では第２の流れ部分にしか渦流成分が付与されないようになっている。
燃料噴射弁は、特に混合気圧縮型の火花点火式の内燃機関の燃焼室内に燃料を直接噴射するために適している。

Description

【０００１】
背景技術
本発明は、請求項１の上位概念部に記載した形式の燃料噴射弁から出発する。
【０００２】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６３７１０３号明細書に基づき、すでに電磁操作可能な燃料噴射弁が公知である。この公知の燃料噴射弁では弁座の下流側に渦流発生手段が設けられている。この渦流発生手段は、燃料の少なくとも２つの流れが発生可能となるように成形されている。両流れは半径方向で互いにずらされて相関的に内外に位置した状態でもしくは取り囲んだ状態で経過していて、互いに異なる方向成分を有している。この互いに異なる方向成分を備えた内側の流れと外側の流れとから形成された噴射噴流を発生させるための装置は、孔付き板に設けられた、ガイドエレメントとして働く流れ羽根もしくは多層の渦流発生積上げ体によってかなり複雑に形成されていて、製作に関して比較的手間がかかる。渦流発生手段は、燃料噴射弁から、渦流付与された中実円錐噴流もしくはフルコーン噴流または渦流付与された中空円錐噴流もしくはホローコーン噴流が流出するように考案されている。
【０００３】
ドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６０７２８８号明細書には、すでに特に燃料噴射弁での使用のために適している孔付き板を製作するための、いわゆる「多層電気めっき」が詳しく説明されている。複数回の電気めっきを用いた、種々異なる構造体の連続した金属析出によって一体の板が付与される板製作のこの製作原理は明らかに本発明の公開内容に所属している。複数の平面もしくは層でのマイクロ電気めっきによる金属析出は、本発明による渦流発生板を製作するためにも使用することができる。
【０００４】
発明の利点
請求項１の特徴部に記載の特徴を備えた本発明による燃料噴射弁は、この燃料噴射弁によって、噴射したい燃料の極めて高い噴霧品質が獲得されるという利点を有している。本発明による燃料噴射弁によって、この燃料噴射弁に組み込まれた渦流発生板で二重渦流発生が可能となる。この場合、流体における２回の渦流発生は同じ方向で行われ、これによって、互いに同心的に内外に位置する２つのホローコーン薄層から成る、極微細に噴霧される中空円錐形のスプレイ噴流が噴射される。結果として、内燃機関の１つの噴射弁で特に内燃機関の排ガスエミッションを低減することができ、燃料消費率の低下も獲得することができる。
【０００５】
従属請求項に記載した手段によって、請求項１に記載した燃料噴射弁の有利な構成および改良が可能となる。
【０００６】
渦流を２回発生させることができる渦流発生エレメントが、多層の渦流発生板の形で形成されていると有利である。この渦流発生板が、いわゆる「多層電気めっき」によって製作されると特に有利である。渦流発生板の金属的な構成に基づき、このような渦流発生板は破損に対して極めて安全であると共に良好に組付け可能となる。多層電気めっきの使用によって、極めて大きな構造自由度を得ることができる。なぜならば、渦流発生板に設けられる開口領域（入口領域、渦流発生通路、渦流発生室、出口開口）の輪郭が自由に選択可能となるからである。特に結晶軸に基づき、達成可能な輪郭が厳密に設定されている（角錐台形）シリコン板に比べて、このフレキシブルな形状付与は極めて有利である。
【０００７】
金属析出は、特にシリコン板の製作に比べて極めて大きな材料多彩性の利点を有している。種々異なる磁気特性と硬さとを備えた種々異なる金属は、渦流発生板を製作するために使用されるマイクロ電気めっき時に使用することができる。
【０００８】
たとえば４回または５回の電気めっきステップが金属析出のために行われることによって、５つの層から成る渦流発生板が形成されると特に有利である。この場合、上流側の層がカバー層を成している。このカバー層は中間の第１の渦流発生層の渦流発生室を完全にカバーしている。第１の渦流発生層は複数の材料領域によって形成される。これらの材料領域はその輪郭付与と幾何学的な位置とに基づき互いに渦流発生室と渦流発生通路との輪郭を設定している。このことは、中間の第２の渦流発生層にも当てはまる。この第２の渦流発生層は、中間の後続案内層によって第１の渦流発生層から離されて位置しているものの、後続案内層に設けられた流れ開口を介して第１の渦流発生層に流れ接続されている。この場合、後続案内層には、渦流付与された流れ部分だけでなく、この流れ部分とは無関係に渦流付与されていない流れ部分も流入する。この場合、渦流付与されていない流れ部分は第２の渦流発生層に渦流付与のために引き続き案内される。電気めっきプロセスによって、個々の層が分離箇所または継ぎ目箇所なしに、一貫して均質な材料を成すように連続して形成される。この場合、「層」とは仮想補助手段として理解することができる。
【０００９】
渦流発生板において渦流発生層あたり少なくとも２つの、しかし、４つであってもよい渦流発生通路が設けられていると有利である。これらの渦流発生通路によって燃料に渦流成分が付与される。材料領域は渦流発生通路の所望の輪郭付与に相応して極めて種々異なる形状を有していてよい。
【００１０】
実施例の説明
以下に、本発明の実施例を図面につき詳しく説明する。
【００１１】
図１に例示した、混合気圧縮型の火花点火式の内燃機関の燃料噴射装置に用いられる噴射弁の形の電磁操作可能な弁は、電磁コイル１によって少なくとも部分的に取り囲まれた、磁気回路の内側磁極として働く十分に中空円筒形の管状のコア２を有している。燃料噴射弁は、特に燃料を内燃機関の燃焼室内に直接噴射するための高圧噴射弁として適している。
【００１２】
たとえば段付けされた、プラスチックから成るコイル枠体３は電磁コイル１の巻線を収容していて、コア２と、電磁コイル１によって部分的に取り囲まれた環状の非磁気的な中間部材４とに相俟って、噴射弁の特にコンパクトなかつ短い構造を電磁コイル１の領域で可能にしている。
【００１３】
コア２には、一貫して延びる長手方向開口７が設けられている。この長手方向開口７は弁長手方向軸線８に沿って延びている。磁気回路のコア２は燃料入口管片としても働く。この場合、長手方向開口７は燃料供給通路を成している。電磁コイル１の上方のコア２には外側の金属製の（たとえばフェライト製の）ハウジング部分１４が固く結合されている。このハウジング部分１４は外側磁極もしくは外側のガイドエレメントとして磁気回路を閉じていて、電磁コイル１を少なくとも周方向で完全に取り囲んでいる。コア２の長手方向開口７内には流入側で燃料フィルタ１５が設けられている。この燃料フィルタ１５は、その大きさに基づき噴射弁に閉塞または損傷を生ぜしめる恐れのあるような燃料成分を完全に濾過するために働く。
【００１４】
上側のハウジング部分１４には、密にかつ固く下側の管状のハウジング部分１８が続いている。このハウジング部分１８は、たとえば可動鉄心もしくはプランジャ１９とロッド状の弁ニードル２０とから成る軸方向に運動可能な弁部材もしくは長く延ばされた弁座支持体２１を取り囲んでいるかもしくは収容している。両ハウジング部分１４，１８は、たとえば全周にわたって延びる溶接シームによって互いに固く結合されている。ハウジング部分１８と弁座支持体２１との間のシールは、たとえばシールリング２２によって行われている。
【００１５】
弁座支持体２１の、同時に燃料噴射弁全体の下流側の終端部をも成す下側の端部は、貫通開口２４内に嵌め込まれた、たとえば下流側で円錐台形に先細りにされた弁座面２７を備えた板状の弁座エレメント２６を取り囲んでいる。貫通開口２４内には弁ニードル２０が配置されている。この弁ニードル２０はその下流側の端部に弁閉鎖区分２８を有している。たとえば円錐形に先細りにされたこの弁閉鎖区分２８は公知の形式で弁座面２７と協働する。この弁座面２７の下流側では弁座エレメント２６に渦流発生板３０の形の渦流発生エレメントが続いている。渦流発生板３０は、たとえば多層電気めっきによって製作されていて、連続してもしくは重なり合って析出された金属製の５つの層を有している。
【００１６】
噴射弁の操作は公知の形式で、たとえば電磁的に行われる。弁ニードル２０を軸方向に運動させ、これによって、コア２の長手方向開口７内に配置された戻しばね３３のばね力に抗して噴射弁を開放するか、もしくは噴射弁を閉鎖するためには、電磁コイル１と、コア２と、両ハウジング部分１４，１８と、プランジャ１９とを備えた電磁回路が働く。弁ニードル２０をその軸方向運動の間にプランジャ１９と共に弁長手方向軸線８に沿って案内するためには、一方では弁座支持体２１の、プランジャ１９に面した側の端部に設けられた案内開口３４が働き、他方では弁座エレメント２６の上流側に配置された、寸法通りの案内開口３６を備えた板状の案内エレメント３５が働く。
【００１７】
電磁回路の代わりに、励起可能な別のアクチュエータ、たとえばピエゾスタックを、匹敵し得る燃料噴射弁に使用することができるかもしくは軸方向で運動可能な弁部材の操作をハイドロリック圧またはサーボ圧によって行うことができる。
【００１８】
コア２の長手方向開口７内に押し込まれたかまたは圧入されたかまたはねじ込まれた調整スリーブ３８は、センタリング片３９を介して上流側で調整スリーブ３８に接触している戻しばね３３のばね予荷重もしくはばねプレロードを調整するために働く。この戻しばね３３は反対の側でプランジャ１９に支持されている。このプランジャ１９には、孔に類似の１つまたはそれ以上の流れ通路４０が設けられている。この流れ通路４０を通って燃料は、コア２に設けられた長手方向開口７から、流れ通路４０の下流側に形成された、弁座支持体２１に設けられた案内開口３４の近くの接続通路４１を介して貫通開口２４内にまで到達することができる。
【００１９】
弁ニードル２０の行程は弁座エレメント２６の組付け位置によって設定される。弁ニードル２０の一方の終端位置は、電磁コイル１が励磁されていない場合に弁座面２７への弁閉鎖区分２８の当付けによって規定されるのに対して、弁ニードル２０の他方の終端位置は、電磁コイル１が励磁されている場合にコア２の下流側の端面へのプランジャ２９の当付けによって得られる。
【００２０】
電磁コイル１の電気的なコンタクト形成ひいては電磁コイル１の励磁はコンタクトエレメント４３を介して行われる。このコンタクトエレメント４３は、コイル枠体３の外側へのプラスチックの射出成形によってコイル枠体３を取り囲むように形成されたプラスチック被覆体４４を備えていて、接続ケーブル４５よりも長く延びている。プラスチック被覆体４４は燃料噴射弁の別の構成部材（たとえば両ハウジング部分１４，１８）にわたって延在していてもよい。
【００２１】
貫通開口２４に設けられた第１の段部４９は、たとえばコイル状の圧縮ばね５０のための当付け面として働く。第２の段部５１によって、３つの板状のエレメント３５，２６，３０のための拡大された組付け室が形成される。弁ニードル２０を取り囲む圧縮ばね５０は案内エレメント３５を弁座支持体２１内に緊締している。なぜならば、圧縮ばね５０が、段部４９とは反対の側で案内エレメント３５を押圧しているからである。弁座面２７の下流側では弁座エレメント２６に流出開口５３が加工成形されている。この流出開口５３を、弁の開放時に弁座面２７に沿って流れた燃料が通流し、その後、渦流発生板３０内に流入する。この渦流発生板３０は、たとえば板状の保持エレメント５５の凹設部５４内に付与されている。この場合、保持エレメント５５は、たとえば溶接、接着または緊定によって弁座支持体２１に固く結合されている。保持エレメント５５には中央の出口開口５６が形成されている。この出口開口５６を通って、渦流付与された燃料が燃料噴射弁をあとにする、つまり、燃料噴射弁から噴射される。
【００２２】
図２には、渦流発生板３０の断面図が示してあるのに対して、図３〜図７には、図２に示した渦流発生板３０の個々の層の仮想平面図が示してある。
【００２３】
渦流発生板３０は、電気めっきにより連続して析出された５つの平面もしくは層から形成される。したがって、これらの層は、組み付けられた状態で軸方向で連続して続いている。以下に、渦流発生板３０の５つの層、つまり、カバー層５８、第１の渦流発生層５９、後続案内層６０、第２の渦流発生層６１およびボトム層６２の機能を説明する。上側のカバー層５８は、たとえば渦流発生板３０内への燃料のより良好な流入の理由に基づき、他の全ての層５９，６０，６１，６２よりも小さな外径を有している。
【００２４】
こうして、燃料がカバー層５８に接触しながら外向きに流れ、したがって、第１の渦流発生層５９に設けられた、たとえば４つの渦流発生通路６６の外側の入口領域６５に妨害されずに流入できることが保証されている。上側のカバー層５８は、閉じられた金属製の層を成している。この層は通流のための開口領域を有していない。第１の渦流発生層５９には複雑な開口輪郭が設けられている。この開口輪郭は、第１の渦流発生層５９の軸方向の全厚さにわたって延びている。この層５９の開口輪郭は、内側の渦流発生室６８と、この渦流発生室６８に開口した多数（たとえば２つ、４つ、６つまたは８つ）の渦流発生通路６６とによって形成される。図示の実施例では、渦流発生板３０が４つの渦流発生通路６６を有している。これらの渦流発生通路６６は接線方向で渦流発生室６８に開口している。
【００２５】
渦流発生室６８はカバー層５８によって完全にカバーされているのに対して、渦流発生通路６６は部分的にしかカバーされていない。なぜならば、渦流発生室６８とは反対の側の外側の端部が、上方に向かって開いた入口領域６５を形成しているからである。下流側に続く中間の後続案内層６０の領域では、流れが、２つに分割されて第１の流れ部分と第２の流れ部分とで付与される。なぜならば、後続案内層６０には中心の流れ開口７０に対して付加的に外側の別の貫通開口７１が設けられているからである。この貫通開口７１は、渦流発生通路６６に対応する数で入口領域６５のすぐ下方に下流側で延びている。貫通開口７１を流れの第２の部分が通流する。この第２の部分は、上方に位置する渦流発生層５９に設けられた渦流発生通路６６を介する経路をとっていない。第１の流れ部分は渦流発生通路６６を渦流発生室６８にまで通流し、かなり小さな直径を有する流れ開口７０に向かって流れる。この場合、燃料に付与されたねじれ衝撃は、後続案内層６０の中心の流れ開口７０内でも維持され続ける。
【００２６】
後続案内層６０には第２の渦流発生層６１が続いている。この第２の渦流発生層６１は第１の渦流発生層５９に極めて類似して形成されている。ただし、入口領域７５と渦流発生通路７６との方向付けは第１の渦流発生層５９に対して変化させられていてよい。しかし、特別な点は、特に第２の渦流発生層６１の渦流発生室７８が第１の渦流発生層５９の渦流発生室６８よりも大きな開口幅を有していることにある。第２の渦流発生層６１は、貫通開口７１を介して流入した第２の流れ部分が全て渦流発生通路７６内に流入するように形成されている。流れは全て下側のボトム層６２の中心の出口開口７９を通って渦流発生板３０から流出する。
【００２７】
第２の渦流発生層６１を通過した第２の流れは、広幅な中空円錐薄層もしくはホローコーン薄層として出口開口７９を通って流出する。この外側のホローコーン薄層内には内側のホローコーン薄層が流入する。この内側のホローコーン薄層は、第１の渦流発生層５９で発生させられた、狭幅な流れ開口７０を通って小さな直径にもたらされた渦流によって形成される。すなわち、渦流発生板３０によって、互いに内外に位置する同心的な２つのホローコーン薄層が発生可能となる。両ホローコーン薄層は、拡大されたスプレイ表面に基づき特に微細に噴霧される。この場合、最適な噴霧のための条件は、後続案内層６０の流れ開口７０の直径が渦流発生室７８の直径よりも小さく寸法設定されているだけでなく、ボトム層６２の出口開口７９の直径よりも小さく寸法設定されていることである。理想的には、第１の渦流発生層５９の渦流発生通路６６は第２の渦流発生層６１の渦流発生通路７６よりも大きな横断面を有している。これによって、内側のホローコーン薄層のコーン角度を外側のホローコーン薄層に比べて小さく保つことができる。
【００２８】
渦流発生板３０は、たとえば電気めっきによる析出によって金属製の複数の層で形成される（多層電気めっき）。深いリソグラフィによる電気めっき技術的な製作に基づき、輪郭付与に関する特別な特徴が提供されている。ここに、これらの特徴のうちの幾つかを簡単にまとめて説明する：
−層が板面にわたって一定の厚さを備えている；
−深いリソグラフィによる構造化によって、それぞれ通流される中空室を形成する層に十分に鉛直な切込みが設けられている（最適に鉛直な壁に比べて約３゜の、製造技術的に制限された偏差が生ぜしめられてよい）；
−個々に構造化された金属層の多層構造による所望のアンダカットおよび切込みの所望の重なりが提供されている；
−切込みが、軸線に対して十分に平行な壁を有する任意の横断面形状を備えている；
−個々の金属析出が直接連続して行われるので、渦流発生板が一体に形成される。
【００２９】
以下の段落には、渦流発生板３０を製作するための方法を単に簡単に説明する。孔付き板を製作するための、電気めっきによる金属析出の全ての方法ステップは、すでにドイツ連邦共和国特許出願公開第１９６０７２８８号明細書に詳しく説明されている。フォトリソグラフィのステップ（紫外線を用いた深いリソグラフィ）と後続のマイクロ電気めっきとを連続的に使用する方法に対しては、この方法が大規模でも構造体の高い精度を保証していて、これによって、理想的には、極めて大きな個数による大量生産（高いバッチ能）のために使用可能であることが特徴付けられている。１つのパネル（Ｎｕｔｚｅｎ）またはウェーハには、多数の渦流発生板３０を同時に製造することができる。
【００３０】
前述した方法に対する出発点は、平らなかつ安定した支持体プレートである。この支持体プレートは、たとえば金属（チタン、鋼）、シリコン、ガラスまたはセラミックスから成っていてよい。支持体プレートには選択的にまず少なくとも１つの補助層が被着される。この補助層は、たとえば電気めっき開始層（たとえばＴｉＣｕＴｉ、ＣｒＣｕＣｒ、Ｎｉ）である。この電気めっき開始層は、後続のマイクロ電気めっきに用いられる電気的な線路のために必要となる。補助層の被着は、たとえばスパッタリングまたは無電解の金属析出によって行われる。支持体プレートのこの前処理の後、補助層にフォトレジスト（感光材料）が全面にわたって被着され、たとえばロールコートされるかまたはスピン塗布される。
【００３１】
この場合、フォトレジストの厚さは、後続の電気めっきプロセスで実現したい金属層の厚さ、すなわち、渦流発生板３０の下側のボトム層６２の厚さに相当していることが望ましい。レジスト層は、光構造化可能なシートの１つの層またはそれ以上の層から成っていてもよいし、液状レジスト（ポリイミド、感光材料）から成っていてもよい。選択的に犠牲層を、のちに形成される感光材料構造体に電気めっきしたい場合には、フォトレジストの厚さが犠牲層の厚さの分だけ増加させられなければならない。実現したい金属構造体はフォトリソグラフィのマスクによってフォトレジストに反転写されることが望ましい。１つの可能性は、フォトレジストを直接マスクにわたって紫外線露光手段（プリント配線板露光器または半導体露光器）によって露光し（紫外線を用いた深いリソグラフィ）、次いで、現像することにある。
【００３２】
最終的にフォトレジストに形成された、渦流発生板３０の後続の層６２のためのネガ型構造体は電気めっきにより金属（たとえばＮｉ、ＮｉＣｏ、ＮｉＦｅ、ＮｉＷ、Ｃｕ）で充填される（金属析出）。この金属は、電気めっきによってネガ型構造体の輪郭に密に付着させられるので、設定された輪郭が、形状を維持した状態でネガ型構造体に再現される。渦流発生板３０の構造体を実現するためには、全てのステップが、補助層の選択的な被着以降、所望の層の数に相応して繰り返されなければならないので、５層の渦流発生板３０の場合には４回（側方からの１回の成長）または５回の電気めっきステップが行われる。渦流発生板３０の各層のためには、種々異なる金属を使用することもできる。しかし、これらの金属はその都度新たな電気めっきステップでしか使用することができない。
【００３３】
上側のカバー層５８の析出後、残りのフォトレジストが金属構造体から湿式化学的な剥離によって完全に溶解される。不動態化された滑らかな支持体プレート（基板）の場合には、渦流発生板３０が基板から解離されかつ個別化され得る。渦流発生板３０の良好な付着を伴った支持体プレートでは、犠牲層が基板と渦流発生板３０とに対して選択的にエッチング除去される。これによって、渦流発生板３０を支持体プレートから持ち上げることができると共に個別化することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】
燃料噴射弁の断面図である。
【図２】
燃料噴射弁に組込み可能な渦流発生板の断面図である。
【図３】
図２に示した渦流発生板のカバー層の仮想平面図である。
【図４】
図２に示した渦流発生板の第１の渦流発生層の仮想平面図である。
【図５】
図２に示した渦流発生板の後続案内層の仮想平面図である。
【図６】
図２に示した渦流発生板の第２の渦流発生層の仮想平面図である。
【図７】
図２に示した渦流発生板のボトム層の仮想平面図である。
【符号の説明】
１　電磁コイル、　２　コア、　３　コイル枠体、　４　中間部材、　７　長手方向開口、　８　弁長手方向軸線、　１４　ハウジング部分、　１５　燃料フィルタ、　１８　ハウジング部分、　１９　プランジャ、　２０　弁ニードル、　２１　弁座支持体、　２２　シールリング、　２４　貫通開口、　２６　弁座エレメント、　２７　弁座面、　２８　弁閉鎖区分、　３０　渦流発生板、　３３　戻しばね、　３４　案内開口、　３５　案内エレメント、　３６　案内開口、　３８　調整スリーブ、　３９　センタリング片、　４０　流れ通路、　４１　接続通路、　４３　コンタクトエレメント、　４４　プラスチック被覆体、　４５　接続ケーブル、　４９　段部、　５０　圧縮ばね、　５１　段部、　５３　流出開口、　５４　凹設部、　５５　保持エレメント、　５６　出口開口、　５８　カバー層、　５９　渦流発生層、　６０　後続案内層、　６１　渦流発生層、　６２　ボトム層、　６５　入口領域、　６６　渦流発生通路、　６８　渦流発生室、　７０　流れ開口、　７１　貫通開口、　７５　入口領域、　７６　渦流発生通路、　７８　渦流発生室、　７９　出口開口

Claims (10)

1. 内燃機関の燃料噴射装置に用いられる、特に燃料を内燃機関の燃焼室内に直接噴射するための燃料噴射弁であって、弁長手方向軸線（８）と、アクチュエータ（１，２，１４，１８，１９）と、運動可能な弁部材（２０）とが設けられており、該弁部材（２０）が、当該弁の開閉のために不動の弁座（２７）と協働するようになっており、該弁座（２７）が、弁座エレメント（２６）に形成されており、さらに、弁座（２７）の下流側に配置された渦流発生板（３０）が設けられており、該渦流発生板（３０）が、多層構造を有していて、少なくとも１つの入口領域（６５）だけでなく、少なくとも１つの出口開口（７９）も有しており、渦流発生板（３０）に設けられた入口開口（６５）と出口開口（７９）との間において、噴射したい流体が、渦流成分によって負荷可能である形式のものにおいて、第１の渦流発生平面（５９）で第１の流れ部分に渦流成分が付与されるようになっており、これに対して、第２の流れ部分が、渦流付与された第１の流れ部分とは無関係に渦流付与されずに渦流発生板（３０）の内部で引き続き案内されるようになっており、第２の渦流発生平面（６１）で第２の流れ部分にしか渦流成分が付与されないようになっていることを特徴とする、燃料噴射弁。
2. 渦流発生板（３０）が、５つの層（５８，５９，６０，６１，６２）を有している、請求項１記載の燃料噴射弁。
3. 渦流発生板（３０）が、電気めっきによる金属析出によって製作可能である、請求項１または２記載の燃料噴射弁。
4. 渦流発生板（３０）が、第１の渦流発生平面（５９）と第２の渦流発生平面（６１）とを備えて形成されており、これによって、流れが、同心的に互いに内外に位置する２つのホローコーン薄層として出口開口（７９）から流出するようになっている、請求項１から３までのいずれか１項記載の燃料噴射弁。
5. 両ホローコーン薄層を形成する流れ部分に同じ方向で渦流が付与されている、請求項４記載の燃料噴射弁。
6. 第１の渦流発生平面（５９）と第２の渦流発生平面（６１）とが、それぞれ渦流発生通路（６６，７６）と渦流発生室（６８，７８）とによって形成されるようになっている、請求項１から５までのいずれか１項記載の燃料噴射弁。
7. 第１の渦流発生平面（５９）の渦流発生室（６８）が、第２の渦流発生平面（６１）の渦流発生室（７８）よりも小さな開口幅を有している、請求項６記載の燃料噴射弁。
8. 第１の渦流発生平面（５９）の渦流発生通路（６６）が、第２の渦流発生平面（６１）の渦流発生通路（７６）よりも大きな横断面を有している、請請求項６または７記載の燃料噴射弁。
9. 第１の渦流発生平面（５９）と第２の渦流発生平面（６１）との間に後続案内層（６０）が設けられており、該後続案内層（６０）に、渦流付与された第１の流れ部分のための流れ開口（７０）と、渦流付与されていない第２の流れ部分のための少なくとも１つの貫通開口（７１）とが加工成形されている、請求項１から８までのいずれか１項記載の燃料噴射弁。
10. 出口開口（７９）が、ボトム層（６２）に加工成形されており、出口開口（７９）が、後続案内層（６０）に設けられた、渦流付与された第１の流れ部分のための流れ開口（７０）よりも大きな直径を有している、請求項９記載の燃料噴射弁。