JPH09502710A - ブテノール−トリアゾリル誘導体、それらの製造及び殺微生物剤としての利用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 Ｘが水素、ハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル又は１〜４個の炭素原子を有するアルコキシであり；Ｚがハロゲン、１〜４個の炭素原子を有するアルキル、１〜４個の炭素原子及び１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲンアルキル、１〜４個の炭素原子を有するアルコキシ、１〜４個の炭素原子及び１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲンアルコキシ、ニトロ、あるいは同一又は異なって一重〜三重にハロゲン置換されていることができるフェニルであり；ｍが０、１、２又は３の数である式（Ｉ）の新規なヒドロキシエチルアゾリル誘導体、ならびにそれらの酸−付加塩類及び金属塩錯体類、新規な材料の製造法、ならびに植物及び材料の保護における殺微生物剤としてのそれらの利用。式（ＩＩ）の新規なブテノール誘導体、式（ＩＩＩ）の新規なオキシラン類、及び式（Ｘ）の新規なケトン類も、それらの製造法及び式（Ｉ）の化合物の合成における中間体としてのそれらの利用と共に開示されている。

Description

【発明の詳細な説明】 ブテノール−トリアゾリル誘導体、それらの製造及び殺微生物剤 としての利用 本発明は新規なヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、それらの製造法、ならび に植物保護及び材料類の保護における殺微生物剤としてのそれらの利用に関する 。 多数のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体が殺菌・殺カビ性を有することはす でに開示された（ＥＰ−ＯＳ（ヨーロッパ公開明細書）０ ２５１ ０８６、Ｗ Ｏ ８９−０５５８１及びＷＯ ９１−１２０００を参照）。例えば２−（２− クロロフェニル）−３−（２，４−ジクロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４− （１，２，４−トリアゾール−１−イル）−ブテ−１−エン及び２−（２−フル オロフェニル）−３−（４−クロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４−（１，２ ，４−トリアゾール−１−イル）−ブテ−１−エンは菌・カビの防除に用いるこ とができる。しかしいくつかの場合にこれらの物質の活性は、低い適用比が用い られると所望の活性に不足である。 今回、式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン原子により一置換ないし三置 換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示す］ の新規なヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、ならびにそれらの酸付加塩類及び 金属塩錯体類が見いだされた。 本発明の物質は非対称的に置換された炭素原子を含む。従ってそれらは光学異 性体の形態で得ることができる。本発明はそれぞれの異性体及びそれらの混合物 にも関する。 さらに、式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、ならびにそれらの酸 付加塩類及び金属塩錯体類は、 ａ）式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有し、 Ｈａｌは塩素又は臭素を示す］ のブテノール誘導体、 あるいは ｂ）式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のオキシラン類 を式 の１，２，４−トリアゾールと、酸−結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で反応 させ、そして適宜、得られる式（Ｉ）の化合物を、続いて酸又は金属塩と付加反 応させると得られることが見いだされた。 最後に、新規な式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、ならびにそれ らの酸付加塩類及び金属塩錯体類は、非常に優れた殺微生物性を有し、植物保護 及び材料類の保護の両方において用いることができることが見いだされた。 驚くべきことに、本発明の物質は植物保護及び材料類の保護の両方において、 同じ作用傾向及びほとんど類似の構成の既知の化合物より優れた殺微生物活性を 有する。かくして本発明の物質は、例えば、２−（２ −クロロフェニル）−３−（２，４−ジクロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４ −（１，２，４−トリアゾール−１−イル）−ブテ−１−エン及び２−（２−フ ルオロフェニル）−３−（４−クロロフェニル）−３−ヒドロキシ−４−（１， ２，４−トリアゾール−１−イル）−ブテ−１−エンと比較して優れた殺菌・殺 カビ性を有する。 式（Ｉ）は本発明のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体の一般的定義を示す。 Ｘは水素、フッ素、塩素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、メ トキシ及びエトキシを示すのが好ましい。 Ｚはフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ −ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、トリクロロメチ ル、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、メトキシ、エトキシ、トリフルオ ロメトキシ、ジフルオロメトキシ、ニトロを示すか、あるいは場合によりフッ素 及び／又は塩素を含む系列からの同一又は異なる置換基により一置換又は二置換 されていることができるフェニルを示すのが好ましい。 ｍは０、１、２又は３の数を示すのが好ましい。ｍが２又は３を示す場合、Ｚ は同一又は異なる基を示すことができる。 本発明の他の好ましい物質は、酸類とＸ、Ｚ及びｍが好ましいとして示されて いる意味を有する式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体の付加生成物で ある。 付加反応を行わせることができる酸類は、好ましくはハロゲン化水素酸類、例 えば塩酸及び臭化水素酸、特に塩酸、さらにリン酸、硝酸、硫酸、一−及び二官 能基性カルボン酸類、ならびにヒドロキシカルボン酸 類、例えば酢酸、マレイン酸、コハク酸、フマル酸、酒石酸、クエン酸、サリチ ル酸、ソルビン酸及び乳酸、ならびに又スルホン酸類、例えばｐ−トルエンスル ホン酸、１，５−ナフタレンジスルホン酸又はカンファースルホン酸、サッカリ ン及びチオサッカリンを含む。 本発明の他の好ましい化合物は、元素の周期表の第ＩＩ〜ＩＶ主族及び第Ｉ及 びＩＩ、ならびにＩＶ〜ＶＩＩＩ亜族からの金属の塩類と、Ｘ、Ｚ及びｍが好ま しいとして示されている意味を有する式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘 導体の付加生成物である。 これに関して特に好ましいのは銅、亜鉛、マンガン、マグネシウム、錫、鉄及 びニッケルの塩類である。これらの塩類の適したアニオン類は、生理学的に許容 し得る付加生成物を生ずる酸類から誘導されるアニオン類である。これに関し、 この種の特に好ましい酸類はハロゲン化水素酸類、例えば塩酸及び臭化水素酸、 さらにリン酸、硝酸及び硫酸である。 式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体の例として挙げることができる 物質は下表に挙げられているものである。 １−クロロ−２−（１−クロロシクロプロピル）−３−（２−フルオロフェニ ル）−ブテ−３−エン−２−オール及び１，２，４−トリアゾールが出発物質と して用いられると、本発明の変法（ａ）の経路は以下の式により示すことができ る： ２−（α−スチリル）−２−（１−クロロ−シクロプロピル）−オキシラン及 び１，２，４−トリアゾールが出発物質として用いられると、本発明の変法（ｂ ）の経路は以下の式により示すことができる： 式（ＩＩ）は本発明の変法（ａ）で出発物質として必要なブテノール誘導体の 一般的定義を示す。この式においてＸ、Ｚ及びｍは、本発明の式（Ｉ）の物質の 説明と関連してこれらの基又はこの指数に好ましいとしてすでに挙げられた意味 を有するのが好ましい。Ｈａｌは塩素又は臭素を示す。 式（ＩＩ）のブテノール誘導体は未知である。それらは式 ［式中、 Ｘ及びＨａｌは上記の意味を有する］ のシクロプロピルトケン類を式 ［式中、 Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ の有機金属化合物と、希釈剤の存在下で反応させることにより製造することがで きる。 上記の方法による式（ＩＩ）のブテノール誘導体の製造のための出発物質とし て必要な式（Ｖ）のシクロプロピルケトン類は既知である（ＥＰ−ＯＳ（ヨーロ ッパ公開明細書）０ ２９７ ３４５を参照）。 式（ＩＩ）のブテノール誘導体の製造のための上記の方法において反応物とし て必要な式（ＶＩ）の有機金属化合物は既知であるか、又は原則的に既知の方法 により製造することができる（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４１ （１９７６），３７２５を参照）。例えばこれらの物質は式 ［式中、 Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のスチレン誘導体を四塩化炭素、クロロホルム又はジクロロメタンなどの希釈剤 の存在下で、０℃〜３０℃の温度において臭素と反応させ、得られる式 ［式中、 Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のブロミド類をトルエン、テトラヒドロフラン又はジオキサンなどの希釈剤の存 在下で、及びジアザビシクロノネン（ＤＢＮ）、ジアザビシクロウンデセン（Ｄ ＢＵ）又は水酸化カリウムなどの塩基の存在下で、相移動触媒の存在下で、０℃ 〜１３０℃の温度において反応させ、得られる式 ［式中、 Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のブロモスチレン誘導体をジエチルエーテル又はテトラヒドロフランなどの希釈 剤の存在下で、０℃〜７０℃の温度においてマグネシウムリボンと反応させるこ とにより得ることができる。 式（ＩＩ）のブテノール誘導体の製造のための上記の方法における適した希釈 剤は、この種の反応に通常用いられるすべての不活性有機溶媒類である。エーテ ル類、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン及びジオキサンを用いるの が好ましい。 式（ＩＩ）のブテノール誘導体の製造のための上記の方法を行う場合、反応温 度はある範囲内で変えることができる。一般に方法は−８０℃〜＋６０℃の温度 において行われる。 式（ＩＩ）のブテノール誘導体の製造のための上記の方法は一般に大気圧下で 行われる。しかし高圧又は減圧下で方法を行うこともできる。 式（ＩＩ）のブテノール誘導体の製造のための上記の方法を行う場合、式（Ｖ ）のシクロプロピルケトンの１モル当たり１〜１．２モルの式（ＶＩ）の有機金 属化合物が用いられ、この有機金属化合物は使用直前に製造され、その場で処理 されるのが良い。仕上げは通常の方法により行われる。一般に混合物を最初に酸 性化し、水で処理し、次いで有機相を分離し、洗浄し、乾燥し、次いで濃縮する 方法が続く。 式（ＩＩＩ）は本発明の変法（ｂ）において出発物質として必要なオキシラン 類の一般的定義を示す。この式においてＸ、Ｚ及びｍは、本発明の式（Ｉ）の物 質の説明と関連してこれらの基又はこの指数に好ましいとしてすでに挙げられた 意味を有するのが好ましい。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類は未知である。それらは ｃ）式 ［式中、 Ｘ、Ｚ、ｍ及びＨａｌは上記の意味を有する］ のブテノール誘導体を希釈剤の存在下で塩基類と反応させる、 あるいは ｄ）式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のケトン類を式 のジメチルスルホニウムメチリドと、希釈剤の存在下で反応させることにより製 造することができる。 上記の方法（ｃ）による式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造に適した塩基類は 、この種の反応に従来適しているすべての無機及び有機塩基類である。以下を用 いるのが好ましい：アルカリ金属炭酸塩類、例えば炭酸ナトリウム及び炭酸カリ ウム、さらにアルカリ金属水酸化物類、例えば水酸化ナトリウム及び水酸化カリ ウム、さらにアルカリ金属アルコレート類、例えばナトリウムメチレート、ナト リウムエチレート、カリウ ムメチレート、カリウムエチレート及びカリウムｔｅｒｔ−ブチレート、ならび にさらに低級第３アルキルアミン類、シクロアルキルアミン類及びアラルキルア ミン類、例えば特にトリエチルアミン。 上記の方法（ｃ）による式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造に適した希釈剤は 、すべての通常の不活性有機溶媒類である。以下を用いるのが好ましい：ニトリ ル類、例えばアセトニトリル、さらに芳香族炭化水素類、例えばベンゼン、トル エン及びジクロロベンゼン、さらにホルムアミド類、例えばジメチルホルムアミ ド、ならびに又極性の強い溶媒類、例えばジメチルスルホキシド及びヘキサメチ ルリン酸トリアミド。 上記の方法（ｃ）により式（ＩＩＩ）のオキシラン類を製造する場合、反応温 度はある範囲内で変えることができる。一般に方法は０℃〜１００℃、好ましく は２０℃〜６０℃の温度で行われる。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｃ）は一般に大気圧 下で行われる。しかし方法を高圧又は減圧下で行うこともできる。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｃ）を行う場合、式 （ＩＩ）のブテノール誘導体の１モル当たり１〜３モルの塩基が用いられる。仕 上げは通常の方法で行われる。 式（Ｘ）は、式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｄ）を 行う場合に出発物質として必要なケトン類の一般的定義を示す。この式において Ｘ、Ｚ及びｍは、本発明の式（Ｉ）の物質の説明と関連してこれらの基又はこの 指数に好ましいとしてすでに挙げられた意味を有するのが好ましい。 式（Ｘ）のケトン類はこれまで未知である。それらは式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のベンジルケトン類を α）式 （ＣＨ₃）₂Ｎ−ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）₂ （ＸＩＩＩ） のビス−（ジメチルアミノ）−メタンと酢酸無水物又は氷酢酸の存在下で、 あるいは β）パラホルムアルデヒド又はホルマリンと触媒の存在下、及び希釈剤の存在下 で 反応させることにより製造することができる。 式（ＸＩＩ）は、上記の方法による式（Ｘ）のケトン類の製造において出発物 質として必要なベンジルケトン類の一般的定義を示す。この式においてＸ、Ｚ及 びｍは、本発明の式（Ｉ）の物質の説明と関連してこれらの基又はこの指数に好 ましいとしてすでに挙げられた意味を有するのが好ましい。 式（ＸＩＩ）のベンジルケトン類は開示されているか、又は原則的に既知の方 法により製造することができる（ＥＰ−ＯＳ［ヨーロッパ公開明細書］０ ４６ １ ４８３及びＥＰ−ＯＳ［ヨーロッパ公開明細書］０ ４６１ ５０２を参照 ）。 上記の方法（ｄ）を行う場合に反応物として必要な物質、すなわち式 （ＸＩＩＩ）のビス−（ジメチル−アミノ）−メタン、及びパラホルムアルデヒ ド又はホルマリン（ホルムアルデヒド含有率が３７％のホルムアルデヒド水溶液 ）は既知である。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（α）を行う場合、反応温度は 実質的範囲内で変えることができる。一般に方法は２０℃〜１２０℃、好ましく は３０℃〜１１０℃の温度で行われる。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（α）及び又（β）を行う場合 、これは一般に大気圧下で行われる。しかし方法を高圧又は減圧下で行うことも できる。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（α）を行う場合、式（ＸＩＩ ）のベンジルケトンの１モル当たり３〜４モルの式（ＸＩＩＩ）のビス−（ジメ チルアミノ）−メタンが一般に用いられる。仕上げは通常の方法により行われる 。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（β）を行うために適した触媒 は、そのような反応に通常用いられるすべての反応促進剤類である。アルカリ金 属水酸化物類、例えば水酸化ナトリウム又は水酸化カリウムを用いるのが好まし い。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（β）を行うのに適した希釈剤 は、そのような反応に通常用いられるすべての不活性有機溶媒類である。好まし くはアルコール類、例えばメタノール又はエタノールを用いることができる。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（β）を行う場合、反応温度は ある範囲内で変えることができる。一般に方法は１０℃〜４０℃、好ましくは室 温で行われる。 式（Ｘ）のケトン類の製造のための上記の変法（β）を行う場合、式（ＸＩＩ ）のベンジルケトンの１モル当たり一般に１．５〜２．５当量のパラホルムアル デヒド又はホルマリン及び当量の触媒が用いられる。仕上げは通常の方法により 行われる。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｄ）を行うための反 応物として必要な式（ＸＩ）のジメチルスルホニウムメチリドは既知である（Ｈ ｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ ８ ３９７（１９７７）を参照）。上記の反応におい てそれは、例えばトリメチルスルホニウムハライド又はトリメチルスルホニウム メチルサルフェートから、例えば水素化ナトリウム、ナトリウムアミド、ナトリ ウムメチレート、カリウムｔｅｒｔ−ブチレート又は水酸化カリウムなどの強塩 基の存在下で、ｔｅｒｔ−ブタノール又はジメチルスルホキシドなどの希釈剤の 存在下で、その場でそれを製造することにより新しく製造された状態で用いられ る。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｄ）を行うために適 した希釈剤は不活性有機溶媒類である。好ましくは以下を用いることができる： アルコール類、例えばｔｅｒｔ−ブタノール、エーテル類、例えばテトラヒドロ フラン又はジオキサン、さらに脂肪族及び芳香族炭化水素類、例えばベンゼン、 トルエン又はキシレン、ならびに又極性の強い溶媒類、例えばジメチルスルホキ シド。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｄ）を行う場合、反 応温度は実質的範囲内で変えることができる。一般に方法は０℃〜１００℃、好 ましくは１０℃〜６０℃の温度で行われる。 式（ＩＩＩ）のオキシラン類の製造のための上記の方法（ｄ）を行う場合、式 （Ｘ）のケトンの１モル当たり一般に１〜３モルの式（ＸＩ） のジメチルスルホニウムメチリドが用いられる。仕上げは通常の方法により行わ れる。 本発明の方法を行うために適した酸−結合剤類はすべての通常の無機及び有機 塩基類である。以下を用いるのが好ましい：アルカリ金属炭酸塩類、例えば炭酸 ナトリウム及び炭酸カリウム、さらにアルカリ金属水酸化物類、例えば水酸化ナ トリウム及び水酸化カリウム、さらにアルカリ金属アルコレート類、例えばナチ リウムメチレート、ナトリウムエチレート、カリウムメチレート、カリウムエチ レート及びカリウムｔｅｒｔ−ブチレート、ならびにさらに低級第３アルキルア ミン類、シクロアルキルアミン類及びアラルキルアミン類、例えば特にトリエチ ルアミン。 本発明の方法を行うために適した希釈剤類はすべての通常の不活性有機溶媒類 である。好ましくは以下を用いることができる：ニトリル類、例えばアセトニト リル、さらに芳香族炭化水素類、例えばベンゼン、トルエン及びジクロロベンゼ ン、さらにホルムアミド類、例えばジメチルホルムアミド、ならびに又極性の強 い溶媒類、例えばジメチルスルホキシド及びヘキサメチルリン酸トリアミド。 本発明の方法を行う場合、反応温度は実質的範囲内で変えることができる。一 般に方法は０℃〜１３０℃、好ましくは４０℃〜１２０℃の温度において行われ る。 この場合も本発明の方法は一般に大気圧下で行われる。しかし高圧又は減圧下 で方法を行うこともできる。 本発明の方法を行う場合、式（ＩＩ）のブテノール誘導体又は式（ＩＩＩ）の オキシランの１モル当たり、一般に１〜４モルの式（ＩＶ）の１，２，４−トリ アゾール及び０．３〜３モルの酸−結合剤が用いられ る。仕上げは通常の方法により行われる。一般に反応混合物を濃縮し、残る残留 物を水とほとんど混和性でない有機溶媒中に取り上げ、混合物を水で洗浄し、乾 燥し、次いで濃縮する方法が続く。適宜、残る生成物をさらなる精製法に供する ことができる。 本発明の式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体は、酸付加塩類又は金 属塩錯体類に変換することができる。 式（Ｉ）の化合物の酸付加塩類の製造に適した酸類は、本発明の酸付加塩類の 説明と関連して好ましい酸類であるとしてすでに挙げられた酸類が好ましい。 式（Ｉ）の化合物の酸付加塩類は通常の塩生成法による簡単な方法で、例えば 適した不活性溶媒に式（Ｉ）の化合物を溶解し、例えば塩酸などの酸を加えるこ とにより得ることができ、それらは既知の方法で、例えば濾過により、及び適宜 、不活性有機溶媒を用いた洗浄により単離することができる。 好ましくは式（Ｉ）の化合物の金属塩錯体類の製造に適した塩類は、本発明の 金属塩錯体類の説明と関連して好ましい金属塩類であるとしてすでに挙げられた 金属塩類が好ましい。 式（Ｉ）の化合物の金属塩錯体類は通常の方法による簡単なやり方で、例えば 金属塩を例えばエタノールなどのアルコールに溶解し、溶液を式（Ｉ）の化合物 に加えることにより得ることができる。金属塩錯体類は既知の方法で、例えば濾 過により単離することができ、適宜それらは再結晶により精製することができる 。 本発明の活性化合物は強力な殺微生物活性を有し、植物保護において、及び材 料類の保護において望ましくない微生物類、例えば菌・カビ及び バクテリアの防除のために用いることができる。 殺菌・殺カビ剤は植物保護において、ネコブカビ類（Ｐｌａｓｍｏｄｉｏｐｈ ｏｒｏｍｙｃｅｔｅｓ）、卵菌類（Ｏｏｍｙｃｅｔｅｓ）、ツボカビ類（Ｃｈｙ ｔｒｉｄｉｏｍｙｃｅｔｅｓ）、接合菌類（Ｚｙｇｏｍｙｃｅｔｅｓ）、子嚢菌 類（Ａｓｃｏｍｙｃｅｔｅｓ）、担子菌類（Ｂａｓｉｄｉｏｍｙｃｅｔｅｓ）及 び不完全菌類（Ｄｅｕｔｅｒｏｍｙｃｅｔｅｓ）の防除のために用いられる。 上記の属名に含まれる、菌・カビ性及びバクテリア性疾患を引き起こすいくつ かの生物を例として挙げることができるが、制限のためではない： キサントモナス（Ｘａｎｔｈｏｍｏｎａｓ）種、例えばキサントモナス； シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）種、例えばシュードモナス・ラクリ マンス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ｌａｃｈｒｙｍａｎｓ）； エルウィニア（Ｅｒｗｉｎｉａ）種、例えばエルウィニア・アミロボラ（Ｅｒｗ ｉｎｉａ ａｍｙｌｏｖｏｒａ）； ピチウム（Ｐｙｔｈｉｕｍ）種、例えばピチウム・ウルチマム（Ｐｙｔｈｉｕｍ Ｕｌｔｉｍｕｍ）； フィトフトラ（Ｐｈｙｔｏｐｈｔｈｏｒａ）種、例えばフィトフトラ・インフェ スタンス（Ｐｈｙｔｈｏｐｈｔｈｏｒａ ｉｎｆｅｓｔａｎｓ）； シュードペロノスポラ（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ）種、例えばシュ ードペロノスポラ・ヒュミリ（Ｐｓｅｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｈｕｍｉ ｌｉ）又はシュードペロノスポラ・クベンシス（Ｐｓｅ ｕｄｏｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｃｕｂｅｎｓｉｓ）； プラスモパラ（Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ）種、例えばプラスモパラ・ヴィチコラ（ Ｐｌａｓｍｏｐａｒａ ｖｉｔｉｃｏｌａ）； ペロノスポラ（Ｐｅｒｏｎｏｓｐｏｒａ）種、例えばペロノスポラ・ピシ（Ｐｅ ｒｏｎｏｓｐｏｒａ ｐｉｓｉ）又はＰ．ブラシカエ（Ｐ．ｂｒａｓｓｉｃａｅ ）； エリシフェ（Ｅｒｙｓｉｐｈｅ）種、例えばエリシフェ・グラミニス（Ｅｒｙｓ ｉｐｈｅ ｇｒａｍｉｎｉｓ）； スフェロテカ（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ）種、例えばスフェロテカ・フリギネ ア（Ｓｐｈａｅｒｏｔｈｅｃａ ｆｕｌｉｇｉｎｅａ）； ポドスフェラ（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ）種、例えばポドスフェラ・ロイコトリ チャ（Ｐｏｄｏｓｐｈａｅｒａ ｌｅｕｃｏｔｒｉｃｈａ）； ヴェンチュリア（Ｖｅｎｔｕｒｉａ）、例えばヴェンチュリア・インエクアリス （Ｖｅｎｔｕｒｉａ ｉｎａｅｑｕａｌｉｓ）； ピレノフォラ（Ｐｙｒｅｎｏｐｈｏｒａ）種、例えばピレノフォラ・テレス（Ｐ ｕｒｅｎｏｐｈｏｒａ ｔｅｒｅｓ）又はＰ．グラミネア（Ｐ．ｇｒａｍｉｎｅ ａ）（分生子（Ｃｏｎｉｄｉａ）型：ドレチュスレラ（Ｄｒｅｃｈｓｌｅｒａ） 、ｓｙｎ:ヘルミントスポリウム（Ｈｅｌｍｉｎｔｈｏｓｐｏｒｉｕｍ））； コクリオボラス（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ）種、例えばコクリオボラス・サチ バス（Ｃｏｃｈｌｉｏｂｏｌｕｓ ｓａｔｉｖｕｓ）（分生子（Ｃｏｎｉｄｉａ ）型：ドレチュスレラ（Ｄｒｅｃｈｓｌｅｒａ）、ｓｙｎ:ヘルミントスポリウ ム（Ｈｅｌｍｉｎｔｈｏｓｐｏｒｉｕｍ））； ウロミセス（Ｕｒｏｍｙｃｅｓ）種、例えばウロミセス・アペンディク ラツス（Ｕｒｏｍｙｃｅｓ ａｐｐｅｎｄｉｃｕｌａｔｕｓ）； プクシニア（Ｐｕｃｃｉｎｉａ）種、例えばプクシニア・レコンディタ（Ｐｕｃ ｃｉｎｉａ ｒｅｃｏｎｄｉｔａ）； チレチア（Ｔｉｌｌｅｔｉａ）種、例えばチレチア・カリエス（Ｔｉｌｌｅｔｉ ａ ｃａｒｉｅｓ）； ウスチラゴ（Ｕｓｔｉｌａｇｏ）種、例えばウスチラゴ・ヌダ（Ｕｓｔｉｌａｇ ｏ ｎｕｄａ）又はウスチラゴ・アヴェナエ（Ｕｓｔｉｌａｇｏ ａｖｅｎａｅ ）； ペリクラリア（Ｐｅｌｌｉｃｕｌａｒｉａ）種、例えばペリクラリア・ササキイ （Ｐｅｌｌｉｃｕｌａｒｉａ ｓａｓａｋｉｉ）； ピリクラリア（Ｐｙｒｉｃｕｌａｒｉａ）種、例えばピリクラリア・オリザエ（ Ｐｙｒｉｃｕｌａｒｉａ ｏｒｙｚａｅ）； フサリウム（Ｆｕｓａｒｉｕｍ）種、例えばフサリウム・クルモルム（Ｆｕｓａ ｒｉｕｍ ｃｕｌｍｏｒｕｍ）； ハイイロカビ（Ｂｏｔｒｙｔｉｓ）種、例えばボツリチス・シネレア（Ｂｏｔｒ ｙｔｉｓ ｃｉｎｅｒｅａ）； セプトリア（Ｓｅｐｔｏｒｉａ）種、例えばセプトリア・ノドルム（Ｓｅｐｔｏ ｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍ）； レプトスフェリア（Ｌｅｐｔｏｓｐｈａｅｒｉａ）種、例えばレプトスフェリア ．ノドルム（Ｌｅｐｔｏｓｐｈａｅｒｉａ ｎｏｄｏｒｕｍ）； セルコスポラ（Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ）種、例えばセルコスポラ・カネセンス（ Ｃｅｒｃｏｓｐｏｒａ ｃａｎｅｓｃｅｎｓ）； アルテルナリア（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ）種、例えばアルテルナリア・ ブラシカエ（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｂｒａｓｓｉｃａｅ）及びシュードセルコ スポレラ（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ）種、例えばシュードセル コスポレラ・ヘルポトリコイデス（Ｐｓｅｕｄｏｃｅｒｃｏｓｐｏｒｅｌｌａ ｈｅｒｐｏｔｒｉｃｈｏｉｄｅｓ）。 植物の病気の防除に必要な濃度における活性化合物に対する、植物による優れ た耐性の故に、植物の地上部分、成長増殖茎及び種、ならびに土壌を処理するこ とができる。 特に本発明の活性化合物は、稲におけるピリクラリア・オリザエ及びペリクラ リア・ササキイの防除、ならびに穀類の病気、例えばレプトスフェリア・ノドル ム、コクリオボラス・サチバス、ピレノフォラ・テレス、シュードセルコスポレ ラ・ヘルポトリコイデス、エリシフェ及びフサリウム種の防除に適している。さ らに本発明の物質は非常に優れた、及び広い試験管内活性を示す。 材料類の保護において、本発明の物質は望ましくない微生物類による攻撃及び 破壊に対して工業材料類を保護するために用いることができる。 本発明に関して工業材料類は、工業において用いるために製造された無生物材 料類（ｎｏｎ−ｌｉｖｅ ｍａｔｅｒｉａｌｓ）を意味すると理解されるべきで ある。微生物類による変化又は破壊に対して本発明の活性化合物により保護され るべき工業材料類の例は、接着剤類（ｇｌｕｅｓ）、サイズ剤類（ｓｉｚｅｓ） 、紙及びボード、布、革、木材、塗料及びプラスチック製品類、冷却潤滑剤類（ ｃｏｏｌｉｎｇ ｌｕｂｒｉｃａｎｔｓ）、ならびに微生物類により攻撃され、 分解され得る他の材料類である。微生物類の繁殖により悪影響を受け得る製造プ ラントの部品類、例えば冷却水回路も保護されるべき材料類の範囲内に挙げるこ とができる。好ましくは本発明の範囲内に挙げることができる工業材料類は接着 剤類、サイズ剤類、紙及びボード、革、木材、塗料、冷却潤滑剤類、及び熱交換 液類、特別に好ましくは木材である。 工業材料類の分解又は変化を引き起こし得る微生物類の例はバクテリア、菌・ カビ、酵母、藻類、粘液生物類である。好ましくは本発明の化合物は菌・カビ、 特にカビ類、木材−変色及び木材−破壊性菌・カビ（担子菌類）に対して、なら びに粘液生物類及び藻類に対して活性である。 挙げることができる例は、以下の属からの微生物類である： アルテルナリア（Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ）、例えばアルテルナリア・テニウス（ Ａｌｔｅｒｎａｒｉａ ｔｅｎｉｕｓ）、 アスペルギルス（Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ）、例えばアスペルギルス・ニゲル（ Ａｓｐｅｒｇｉｌｌｕｓ ｎｇｅｒ）、 カエトミウム（Ｃｈａｅｔｏｍｉｕｍ）、例えばカエトミウム・グロボスム（Ｃ ｈａｅｔｏｍｉｕｍ ｇｌｏｂｏｓｕｍ）、 コニオフォラ（Ｃｏｎｉｏｐｈｏｒａ）、例えばコニオフォラ・プエタナ（Ｃｏ ｎｉｏｐｈｏｒａ ｐｕｅｔａｎａ）、 レンチヌス（Ｌｅｎｔｉｎｕｓ）、例えばレンチヌス・チグリヌス（Ｌｅｎｔｉ ｎｕｓ ｔｉｇｒｉｎｕｓ）、 ペニシリウム（Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ）、例えばペニシリウム・グラウクム（ Ｐｅｎｉｃｉｌｌｉｕｍ ｇｌａｕｃｕｍ）、 ポリポルス（Ｐｏｌｙｐｏｒｕｓ）、例えばポリポルス ベルシコロル（Ｐｏｌ ｙｐｏｒｕｓ ｖｅｒｓｉｃｏｌｏｒ）、 アウレオバシジウム（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ）、例えばアウレオバシジウ ム・プルランス（Ａｕｒｅｏｂａｓｉｄｉｕｍ ｐｕｌｌｕｌ ａｎｓ）、 スクレロフォマ（Ｓｃｌｅｒｏｐｈｏｍａ）、例えばスクレロフォマ・ピチオフ イラ（Ｓｃｌｅｒｏｐｈｏｍａ ｐｉｔｙｏｐｈｉｌａ）、 トリコデルマ（Ｔｒｉｃｈｏｄｅｒｍａ）、例えばトリコデルマ・ビリデ（Ｔｒ ｉｃｈｏｄｅｒｍａ ｖｉｒｉｄｅ）、 エシェリキア（Ｅｓｃｈｅｒｉｃｈｉａ）、例えばエシェリキア・コリ（Ｅｓｃ ｈｅｒｉｃｈｉａ ｃｏｌｉ）、 シュードモナス（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ）、例えばシュードモナス・アエルギ ノサ（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ ａｅｒｕｇｉｎｏｓａ）、 スタフィロコックス（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ）、例えばスタフィロコッ クス・アウレウス（Ｓｔａｐｈｙｌｏｃｏｃｃｕｓ ａｕｒｅｕｓ）。 本発明の物質は通常の調剤、例えば溶液、乳液、懸濁液、粉剤、泡剤、塗布剤 、顆粒、エアゾール、ポリマー物質中及び種子用のコーティング組成物中の微細 カプセル、ならびにＵＬＶ調剤に変換することができる。 これらの調剤は既知の方法で、例えば活性化合物を伸展剤類、すなわち液体溶 媒類、加圧下で液化された気体類、及び／又は固体担体類と、場合により界面活 性剤類、すなわち乳化剤類及び／又は分散剤類及び／又は発泡剤類を用いて混合 することにより製造される。伸展剤として水を使用する場合、例えば有機溶媒類 を補助溶媒類として使用できる。液体溶剤類として適しているのは主に：キシレ ン、トルエン又はアルキルナフタレン類などの芳香族化合物、クロロベンゼン類 、クロロエチレン類、又はメチレンクロリドなどの塩素化芳香族化合物、又は塩 素化脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、又は鉱油留分を例とするパラフィン類 などの脂肪族炭化水素類、ブタノール又はグリコールなどのアルコール類及びそ のエーテル類ならびにエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ ブチルケトン又はシクロヘキサノンなどのケトン類、ジメチルホルムアミドやジ メチルスルホキシドなどの極性の強い溶媒類及び水であり、液化された気体の伸 展剤類又は担体類は周囲温度及び大気圧下で気体状である液体、例えばエアゾー ルプロペラント、例えばブタン、プロパン、窒素及び二酸化炭素を意味し；固体 担体として適したものは：例えばカオリン類、粘土類、タルク、チョーク、石英 、アタパルジャイト、モントモリロナイト又はケイソウ土などの粉砕された天然 鉱石、及び高分散性シリカ、アルミナ及びケイ酸塩類などの粉砕された合成鉱石 であり；顆粒に適した固体担体は：例えば方解石、大理石、軽石、海泡石、及び 白雲石などの粉砕され分別された天然鉱石、ならびに無機及び有機粉末の合成顆 粒、ならびにおが屑、ココヤシの殻、とうもろこしの穂軸及びタバコの茎のよう な有機材料類の顆粒であり；乳化剤類及び／又は発泡剤類として適しているのは ：例えばポリオキシエチレン脂肪酸エステル類、アルキルアリールポリグリコー ルエーテル類を例とするポリオキシエチレン脂肪族アルコールエーテル類、アル キルスルホネート類、アリールスルホネート類などの非イオン性及びアニオン性 乳化剤類ならびにアルブミン加水分解生成物であり；分散剤として適しているの は：例えばリグニン−亜硫酸塩廃液及びメチルセルロースである。 カルボキシメチルセルロース、ならびに粉末、顆粒又はラテックスの形態の天 然及び合成ポリマー類、例えばアラビアゴム、ポリビニルアルコール及び酢酸ポ リビニル、ならびにセファリン類、レシチン類のよう な天然リン脂質類、ならびに合成リン脂質類などの接着剤も調剤中で用いること ができる。他に添加剤として鉱物及び植物油が可能である。 着色料、例えば酸化鉄、酸化チタン及びプルシアンブルーなどの無機顔料類、 ならびにアリザリン染料類、アゾ染料類及び金属フタロシアニン染料類などの有 機染料類、ならびに鉄、マンガン、ほう素、銅、コバルト、モリブデン及び亜鉛 の塩類などの微量栄養素を使用することもできる。 調剤中は一般に０．１〜９５重量％、好ましくは０．５〜９０％の活性化合物 を含む。 植物の保護において用いられる場合、そのままの、又はその調剤の形態の本発 明の活性化合物を既知の殺菌・殺カビ剤類、殺バクテリア剤類、殺ダニ剤類、殺 線虫剤類又は殺虫剤類との混合物の形態で用い、例えば作用範囲を広げるか、又 は耐性の確立を予防することができる。いくつかの場合には相乗的効果が観察さ れ、それは混合物の活性が個別の成分の活性の合計より大きいことを意味する。 混合物における成分の例は以下の物質である： 殺菌・殺カビ剤類： ２−アミノブタン；２−アニリノ−４−メチル−６−シクロプロピルピリミジン ；２’，６’−ジブロモ−２−メチル−４’−トリフルオロメトキシ−４’−ト リフルオロ−メチル−１，３−チアゾール−５−カルボキシアニリド；２，６− ジクロロ−Ｎ−（４−トリフルオロメチルベンジル）−ベンズアミド；（Ｅ）− ２−メトキシイミノ−Ｎ−メチル−２−（２−フェノキシフェニル）アセトアミ ド；８−ヒドロキシキノリンサルフェート；（Ｅ）−２−｛２−［６−（２−シ アノ−フェノキシ） −ピリミジン−４−イルオキシ］フェニル｝−３−メトキシアクリル酸メチル； （Ｅ）−メトキシイミノ［アルファ−（ｏ−トリルオキシ）−ｏ−トリル］−酢 酸メチル；２−フェニルフェノール（ＯＰＰ）、アルジモルフ、アンプロピルフ ォス、アニラジン、アザコナゾール、ベナラキシル、ベノダニル、ベノミル、ビ ナパクリル、ビフェニル、ビテルタノル、ブラスチシジン−Ｓ、ブロムコナゾー ル、ブピリメート、ブチオベート、カルシウムポリスルフィド、カプタフォル、 カプタン、カルベンダジン、カルボキシン、キノメチオネート、クロロネブ、ク ロロピクリン、クロロタロニル、クロゾリネート、クフラネブ、シモキサニル、 シプロコナゾール、シプロフラム、ジクロロフェン、ジクロブトラゾール、ジク ロフルアニド、ジクロメジン、ジクロラン、ジエトフェンカルブ、ジフェノコナ ゾール、ジメチリモル、ジメトモルフ、ジニコナゾール、ジノカブ、ジフェニル アミン、ジピリチオン、ジタリムフォス、ジチアノン、ドジン、ドラゾキソロン 、エジフェンフォス、エポキシコナゾール、エチリモル、エトリジアゾール、フ ェナリモル、フェンブコナゾール、フェンフラム、フェニトロパン、フェンピク ロニル、フェンプロピジン、フェンプロピモルフ、フェンチンアセテート、フェ ンチンヒドロキシド、フェルバム、フェリムゾン、フルアジナム、フルジオキソ ニル、フルオロミド、フルキンコナゾール、フルシラゾール、フルスルファミド 、フルトラニル、フルトリアフォル、フォルペト、フォセチルアルミニウム、フ タリド、フベリダゾール、フララキシル、フルメシクロクス、グアザチン、ヘキ サクロロベンゼン、ヘキサコナゾール、ヒメキサゾール、イマザジル、イミベン ソナゾール、イミノクタジン、イプロベンフォス（ＩＢＰ）、イプロジオン、イ ソプロチオラン、カスガマ イシン、銅調剤、例えば水酸化銅、ナフテン酸銅、銅オキシクロリド、硫酸銅、 酸化銅、オキシン銅及びボルドー液、マンコッパー、マンコゼブ、マネブ、メパ ニピリム、メプロニル、メタラキシル、メトコナゾール、メタスルフォカルブ、 メツフロキサム、メチラム、メトスルフォバクス、ミクロブタニル、ニッケルジ メチルジチオカルバメート、ニトロタル−イソプロピル、ヌアリモル、オフレー ス、オキサジキシル、オキサモカルブ、オキシカルボキシン、ペルフラゾエート 、ペンコナゾール、ペンシクロン、フォスジフェン、ピマリシン、ピペラリン、 ポリオキシン、プロベナゾール、プロクロラツ、プロシミドン、プロパモカルブ 、プロピコナゾール、プロピネブ、ピラゾフォス、ピリフェノクス、ピリメタニ ル、ピロキロン、キントゼン（ＰＣＮＢ）、硫黄及び硫黄調剤、テブコナゾール 、テクロフタラム、テクナゼン、テトラコナゾール、チベンダゾール、チシオフ ェン、チオファネート−メチル、チラム、トルクロフォス−メチル、トリルフル アニド、トリアジメフォン、トリアジメノル、トリアゾキシド、トリクロラミド 、トリシクラゾール、トリデモルフ、トリフルミゾール、トリフォリン、トリチ コナゾール、バリダマイシン Ａ、ビンクロゾリン、ジネブ、ジラム。 殺バクテリア剤類： ブロノポル、ジクロロフェン、ニトラピリン、ニッケルジメチルジチオカルバメ ート、カスガマイシン、オクチリノン、フラネカルボン酸、オキシテトラサイク リン、プロベナゾール、ストレプトマイシン、テクロフタラム、硫酸銅及び他の 銅調剤。 殺虫剤類／殺ダニ剤類／殺線虫剤類 アバメクチン、アバメクチン、ＡＣ ３０３ ６３０、アセフェート、 アクリナツリン、アラニカルブ、アルジカルブ、アルファメツリン、アミトラツ 、アベルメクチン、ＡＺ ６０５４１、アザジラクチン、アジンフォス Ａ、ア ジンフォス Ｍ、アゾシクロチン、バシルス・ツリンギエンシス、ベンジオカル ブ、ベンフラカルブ、ベンスルタプ、ベタシルツリン、ビフェンツリン、ＢＰＭ Ｃ、ブロフェンプロクス、ブロモフォス Ａ、ブフェンカルブ、ブプロフェジン 、ブトカルボキシン、ブチル−ピリダベン、カズサフォクス、カルバリル、カル ボフラン、カルボフェノチオン、カルボスルファン、カルタプ、ＣＧＡ １５７ ４１９、ＣＧＡ １８４６９９、クロエトカルブ、クロレトキシフォス、クロ ルフェンビンフォス、クロルフルアズロン、クロルメフォス、クロルピリフォス 、クロルピリフォス Ｍ、シスレスメツリン、クロシツリン、クロフェンテジン 、シナフォス、シクロプロツリン、シフルツリン、シハロツリン、シヘキサチン 、シペルメツリン、シロマジン、デルタメツリン、デメトン Ｍ、デメトン Ｓ 、デメトン−Ｓ−メチル、ジアフェンチウロン、ジアジノン、ジクロフェンツオ ン、ジクロルボス、ジクリフォス、ジクロトフォス、ジエチオン、ジフルベンズ ロン、ジメトエート、ジメチルビンフォス、ジオキサチオン、ジスルフォトン、 エジフェンフォス、エマメクチン、エスフェンバレレート、エチオフェンカルブ 、エチオン、エトフェンプロクス、エトプロフォス、エトフェンプロクス、エト リムフォス、フェナミフォス、フェナザクイン、フェンブタチンオキシド、フェ ニトロチオン、フェノブカルブ、フェノチオカルブ、フェノキシカルブ、フェン プロパツリン、フェンピラド、フェンピロキシメート、フェンチオン、フェンバ レレート、フィプロニル、フルアジナム、フルシクロクスロン、フルシツリネー ト、フルフェノクスロン、フルフェンプロ クス、フルバリネート、フォノフォス、フォルモチオン、フォスチアゼート、フ ブフェンプロクス、フラチオカルブ、ＨＣＨ、ヘプテノフォス、ヘキサフルムロ ン、ヘキシチアゾクス、イミダクロプリド、イプロベンフォス、イサゾフォス、 イソフェンフォス、イソ−プロカルブ、イソキサチオン、イベメクチン、ラムダ −シハロツリン、ルフェヌロン、マラチオン、メカルバム、メアビンフォス、メ スルフェンフォス、メタルデヒド、メタクリフォス、メタミドフォス、メチダチ オン、メチオカルブ、メトミル、メトルカルブ、ミルベメクチン、モノクロトフ ォス、モキシデクチン、ナレド、ＮＣ １８４、ＮＩ ２５、ニテンピラム、オ メトエート、オキサミル、オキシデメトン Ｍ、オキシデプロフォス、パラチオ ン Ａ、パラチオン Ｍ、ペルメツリン、フェントエート、フォレート、フォサ ロン、フォスメト、フォスファム；ドン、フォキシム、ピリミカルブ、ピリミフ ォス Ｍ、ピリミフォス Ａ、プロフェノフォス、プロメカルブ、プロパフォス 、プロポクスル、プロチオフォス、プロトエート、ピメトロジン、ピラクロフォ ス、ピラダフェンチオン、ピレスメツリン、ピレツルム、ピリダベン、ピリミジ フェン、ピリプロキシフェン、キナルフォス、ＲＨ ５９９２、サリチオン、セ ブフォス、シラフルオフェン、スルフォテプ、スルプロフォス、テブフェノジド 、テブフェンピラド、テブピリムフォス、テフルベンズロン、テフルツリン、テ メフォス、テルバム、テルブフォス、テトラクロルビンフォス、チアフェノクス 、チオジカルブ、チオファノクス、チオメトン、チオナジン、ツリンギエンシン 、トラロメツリン、トリアラテン、トリアゾフォス、トリアズロン、トリクロル フォン、トリフルムロン、トリメタカルブ、バミドチオ、ＸＭＣ、キシリルカル ブ、ゼタメツリン。 他の既知の活性化合物、例えば除草剤又は肥料及び成長調節剤との混合物も可 能である。 活性化合物はそのままで、又はそれらの調剤の形態で、あるいはそれらから調 製された使用形態、例えば調製済み溶液、懸濁液、水和剤、塗布剤、可溶性粉剤 、粉剤及び顆粒として使用できる。これらは通常の方法で、例えば、液剤散布、 液剤噴霧、噴霧、粒剤散布、粉剤散布、泡剤適用、ハケ塗りなどにより使用され る。さらに活性化合物を超低容量法により適用したり、活性化合物の調剤又は活 性化合物そのものを土壌中に注入することもできる。植物の種も処理できる。 植物部分の処理の場合、使用形態における活性化合物濃度は実質的範囲内で変 えることができ：それらは一般に１〜０．０００１重量％、好ましくは０．５〜 ０．００１重量％である。 種子の処理の場合、種子の１キログラム当たり０．００１〜５０ｇ、好ましく は０．０１〜１０ｇの活性化合物の量が必要である。 土壌の処理のために、０．００００１〜０．１重量％、好ましくは０．０００ １〜０．０２重量％の活性化合物濃度が作用の場所において必要である。 工業材料類の保護に用いられる組成物は一般に１〜９５％、好ましくは１０〜 ７５％の活性化合物を含む。 本発明の活性化合物の使用濃度は、防除されるべき微生物類の性質及び存在、 ならびに保護されるべき材料の組成に依存する。最適適用比は系列試験により決 定することができる。一般に使用濃度は保護されるべき材料に対して０．００１ 〜５重量％、好ましくは０．０５〜１．０重量％の範囲内である。 材料類の保護において本発明に従って用いられるべき活性化合物、あるいはこ れらの活性化合物を用いて製造することができる組成物、濃厚液、又は非常に一 般的に調剤の作用の活性及び範囲は、適宜、他の殺微生物的活性化合物、殺菌・ 殺カビ剤類、殺バクテリア剤類、除草剤類、殺虫剤類、あるいは作用範囲を広げ るための、又は特定の効果、例えば昆虫に対する追加の保護を達成するための他 の活性化合物を加えることにより強化することができる。これらの混合物は、本 発明の化合物より広い作用範囲を有することができる。 多くの場合これは相乗的効果を生じ、すなわち混合物の活性が個別の成分の活 性を越える。混合物において特に有利な成分の例は以下の化合物である： スルフェンアミド類、例えばジクロルフルアニド（エウパレン）、トリフルアニ ド（メチルエウパレン）、フォルペト、フルオルフォルペト； チオシアナート類、例えばチオシアナートメチルチオベンゾチアゾール（ＴＣＭ ＴＢ）、メチレンビスチオシアナート（ＭＢＴ）； 第４アンモニウム化合物、例えばベンジルジメチルテトラデシルアンモニウムク ロリド、ベンジル−ジメチル−ドデシルアンモニウムクロリド、ドデシル−ジメ チル−アンモニウムクロリド； モルホリン誘導体、例えばＣ₁₁−Ｃ_14-4−アルキル−２，６−ジメチル−モルホ リン同族体（トリデモルフ）、（±）−シス−４−［ｔｅｒｔ−ブチルフェニル ）−２−メチルプロピル］−２，６−ジメチルモルホリン（フェンプロピモルフ ）、ファリモルフ； フェノール類、例えばｏ−フェニルフェノール、トリブロモフェノール、 テトラクロロフェノール、ペンタクロロフェノール、３−メチル−４−クロロフ ェノール、ジクロロフェン、クロロフェン又はそれらの塩類； アゾール類、例えばトリアジメフォン、トリアジメノル、ビテルタノル、テブコ ナゾール、プロピコナゾール、アザコナゾール、ヘキサコナゾール、プロクロラ ツ、シプロコナゾール、１−（２−クロロフェニル）−２−（１−クロロシクロ プロピル）−３−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）−プロパン−２−オ ール又は１−（２−クロロフェニル）−２−（１，２，４−トリアゾール−１− イル−メチル）−３，３−ジメチル−ブタン−２−オール。 ヨードプロパルギル誘導体、例えばヨードプロパルギルブチルカルバメート（Ｉ ＰＢＣ）、ヨードプロパルギルクロロフェニルホルマール、ヨードプロパルギル フェニルカルバメート、ヨードプロパルギルヘキシルカルバメート、ヨードプロ パルギルシクロヘキシルカルバメート及びヨードプロパルギルオキシエチルフェ ニルカルバメート； ヨウ素誘導体、例えばジヨードメチル−ｐ−アリールスルホン類；例えばジヨー ドメチル−ｐ−トリルスルホン； 臭素誘導体、例えばブロモポル； イソチアゾリン類、例えばＮ−メチルイソチアゾリン−３−オン、５−クロロ− Ｎ−メチルイソチアゾリン−３−オン、４，５−ジクロロ−Ｎ−オクチルイソチ アゾリン−３−オン、Ｎ−オクチルイソチアゾリン−３−オン（オクチリノン） ；ベンズイソチアゾリノン、シクロペンテンイソチアゾリン； ピリジン類、例えば１−ヒドロキシ−２−ピリジンチオン（ならびにそれらのナ トリウム、鉄、マンガン及び亜鉛塩類）、テトラクロロ−４− メチルスルホニルピリジン； 金属石鹸類、例えばナフテン酸錫、オクタン酸錫、２−エチルヘキサン酸錫、オ レイン酸錫、リン酸錫、安息香酸錫、ナフテン酸銅、オクタン酸銅、２−エチル ヘキサン酸銅、オレイン酸銅、リン酸銅、安息香酸銅、ナフテン酸亜鉛、オクタ ン酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、オレイン酸亜鉛、リン酸亜鉛及び安息香 酸亜鉛、ならびに酸化物類、例えばＴＢＴＯ、Ｃｕ₂Ｏ、ＣｕＯ、ＺｎＯ； 有機錫化合物、例えばトリブチル錫ナフテネート及びトリブチル錫オキシド； ジアルキルジチオカルバメート、例えばジアルキルジチオカルバメート類のナト リウム及び亜鉛塩類、テトラメチルチウラムジサルフィド（ＴＭＴＤ）； ニトリル類、例えば２，４，５，６−テトラクロロイソフタロニトリル（クロロ タロニル）及び活性化ハロゲン基を有する他の殺微生物剤類、例えばＣｌ−Ａｃ 、ＭＣＡ、テクタメル、ブロモポル、ブロミドクス； ベンゾチアゾール類、例えば２−メルカプトベンゾチアゾール；上記のダゾメト を参照； キノリン類、例えば８−ヒドロキシキノリン； ホルムアルデヒド−遊離化合物、例えばベンジルアルコールモノ（ポリ）ヘミホ ルマール、オキサゾリジン類、ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン類、Ｎ−メチロー ルクロロアセトアミド； トリス−Ｎ−（シクロヘキシルジアゼニウムジオキシ）−アルミナウム、Ｎ−（ シクロヘキシルジアゼニウムジオキシ）−トリブチル錫又はカリウム塩類、ビス −（Ｎ−シクロヘキシル）ジアジニウム−（ジオキシ− 銅又はアルミニウム）。 加えるのが好ましい殺虫剤類は： リン酸エステル類、例えばアジンフォス−エチル、アジンフォス−メチル、１− （４−クロロフェニル）−４−（Ｏ−エチル、Ｓ−プロピル）−ホスホリルオキ シピラゾール（ＴＩＡ−２３０）、クロルピリフォス、クマフォス、デメトン、 デメトン−Ｓ−メチル、ジアジノン、ジクロルフォス、ジメトエート、エトプロ フォス、エトリムフォス、フェニトロチオン、フェンチオン、ヘプテノフォス、 パラチオン、パラチオン−メチル、フォサロン、フォキシム、ピリミフォス−エ チル、ピリミフォス−メチル、プロフェノフォス、プロチオフォス、スルプロフ ォス、トリアゾフォス及びトリクロルフォン、 カルバメート類、例えばアルジカルブ、ベンジオカルブ、ＢＭＰＣ（２−（１− メチルプロピル）フェニルメチルカルバメート）、ブトカルボキシム、ブトキシ カルボキシム、カルバリル、カルボフラン、カルボスルファン、プロメカルブ、 プロポキシル及びチオジカルブ、 ピレスロイド類、例えばアレツリン、アルファメツリン、ビオレスメツリン、ビ フェンツリン（ＦＭＣ ５４８００）、シクロプロツリン、シフルツリン、デカ メツリオン、シハロツリン、シペルメツリン、デルタメツリン、アルフィ−シア ノ−３−フェニル−２−メチルベンジル−２，２−ジメチル−３−（２−クロロ −２−トリフルオロメチルビニル）シクロプロパンカルボキシレート、フェンプ ロパツリン、フェンフルツリン、フェンバレレート、フルシツリネート、フルメ ツリン、フルバリネート、ペルメツリン及びレスメツリン；ニトロイミノ化合物 及びニトロメチレン化合物、例えば１−［（６−クロロ−３−ピリジニル）−メ チ ル］−４，５−ジヒドロ−Ｎ−ニトロ−１Ｈ−イミダゾール−２−アミン（イミ ダクロプリド）、 オルガノシリコン化合物、好ましくはジメチル（フェニル）−シリルメチル３ −フェノキシベンジルエーテル類、例えばジメチル−（４−エトキシフェニル） −シリルメチル３−フェノキシベンジルエーテル又はジメチル（フェニル）−シ リルメチル２−フェノキシ−６−ピリジルメチルエーテル類、例えばジメチル（ ９−エトキシフェニル）−シリルメチル２−フェノキシ−６−ピリジルメチルエ ーテル、あるいは（フェニル［３−（３−フェノキシフェニル）プロピル］（ジ メチル）−シラン類、例えば（４−エトキシフェニル）−［３−（４−フルオロ −３−フェノキシフェニル）−プロピル］ジメチルシラン である。 適している他の活性化合物は、殺藻剤類、殺軟体動物剤及び、例えば船底の塗 料を開拓する水中動物に対する活性化合物である。 本発明の物質の製造及び利用を下記の実施例により例示する。製造実施例 実施例１ ５０ｍｌのジメチルホルムアミド中の５．２ｇ（２０ミリモル）の１−クロロ −２−（１−クロロシクロプロピル）−３−フェニル−ブテ− ３−エン−２−オール、５．２ｇ（７５ミリモル）の１，２，４−トリアゾール 及び３．４ｇ（３０ミリモル）のカリウムｔｅｒｔ−ブチレートの溶液を８０℃ において８時間撹拌する。次いで減圧下における溶媒のストリッピングにより反 応混合物を濃縮する。残る残留物を酢酸エチル中に取り上げ、水で洗浄し、有機 相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、減圧下における溶媒のストリッピングにより 濃縮する。残る残留物を、溶離剤として酢酸エチル：シクロヘキサン＝２：１を 用いたシリカゲル上のクロマトグラフィーにかける。溶離液を濃縮すると１．７ ｇ（理論値の３０％）の２−フェニル−３−（１−クロロシクロプロピル）−３ −ヒドロキシ−４−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）−ブテ−１−エン が得られる。¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ） δ＝０．２−０．５（ｍ，２Ｈ）；０．７５−０．９５（ｍ，２Ｈ）；４．４３ （ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１Ｈ）；４．９（ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１Ｈ）；５．３６（ ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ）；５．６５ｄ，Ｊ＝２Ｈｚ，１Ｈ），７．３−７．５（ ｍ，５Ｈ），８．０（ｓ，１Ｈ），８．２２（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ。 出発物質の製造： １０ｍｌの無水ジエチルエーテル中の５ｇ（２５ミリモル）のα−ブロモスチ レンの溶液を０．７ｇ（３０ミリモル）のマグネシウムリボン及び１０ｍｌのジ エチルエーテルの混合物にアルゴン雰囲気下で、及び 室温において撹拌しながら滴下する。滴下の終了後、反応混合物を１時間還流さ せる。得られるグリニヤル溶液を１０ｍｌのジエチルエーテル中の３ｇ（２０ミ リモル）の１−クロロシクロプロピルクロロメチルケトンの溶液に室温で撹拌し ながら滴下する。滴下の終了後、混合物をさらに４時間還流させる。反応混合物 を続いて塩化アンモニウム飽和水溶液で処理し、得られる混合物を水中に注ぎ、 この混合物をジエチルエーテルを用いて繰り返し抽出する。合わせた有機相を塩 化ナトリウム飽和水溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで減圧下に おける溶媒のストリッピングにより濃縮する。５．０ｇ（理論値の９７％）の１ −クロロ−２−（１−クロロシクロプロピル）−３−フェニル−ブテ−３−エン −２−オールが得られる。実施例２ １００ｍｌのジメチルホルムアミド中の５９ｇ（０．２５モル）の１−（１− クロロ−シクロプロプ−１−イル）−１−［３−（２−フルオロ−フェニル）− プロペ−１−エン−２−イル］−オキシランの溶液を５００ｍｌのジメチルホル ムアミド中の５２ｇ（０．７５モル）の１，２，４−トリアゾール及び８．４ｇ （０．０７５モル）のカリウムｔｅｒｔ−ブチレートの溶液に、８０℃で撹拌し ながら滴下する。滴下の終了後、撹拌を８０℃で１８時間続ける。続いて反応混 合物を減圧下で濃 縮し、水で処理する。得られる混合物を酢酸エチルで数回抽出する。合わせた有 機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、次いで減圧下で濃縮する。残る残留物を酢酸 エチル：シクロヘキサン＝２：１を溶離剤として用いたシリカゲル上のクロマト グラフィーにかける。溶離液を減圧下で濃縮し、４０ｇ（理論値の５２％）の２ −（２−フルオロフェニル）−３−（１−クロロ−シクロプロピル）−３−ヒド ロキシ−４−（１，２，４−トリアゾール−１−イル）−ブテ−１−エンを得る 。¹ Ｈ−ＮＭＲスペクトル（２００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ₃、ＴＭＳ） δ＝０．３−０．５（ｍ，２Ｈ）；０．８−１．０（ｍ，２Ｈ）；４．４６（ｄ ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１Ｈ）；５．０（ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１Ｈ）；５．３９（ｄ， Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．８４（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ），７．０−７．４（ｍ ，４Ｈ），８．０（ｓ，１Ｈ），８．２９（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ。 出発物質の製造： ４００ｍｌのジメチルスルホキシド中の６６ｇ（０．３３モル）のトリメチル スルホニウムヨーダイドの溶液を９．８ｇ（０．３３モル）の水素化ナトリウム 、４００ｍｌのジメチルスルホキシド及び４００ｍｌのテトラヒドロフランの混 合物に０℃において滴下する。滴下の終了後、０℃において撹拌を５分間続け、 次いで１００ｍｌのジメチルスルホキシド中の７０ｇ（０．２５モル）の２−（ ２−フルオロフェニル）−３−（１−クロロ−シクロプロプ−１−イル）−プロ ペ−１−エン−３− オンを加える。反応混合物を０℃において１５分間、次いで室温においてさらに ６時間撹拌する。続いて反応混合物を氷−水中に注ぎ、酢酸エチルを用いて繰り 返し抽出し、合わせた有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下 で濃縮する。この方法で５３ｇ（理論値の９０％）の１−（１−クロロ−シクロ プロプ−１−イル）−１−［３−（２−フルオロ−フェニル）−プロペ−１−エ ン−２−イル］−オキシランが油状の生成物の形態で得られ、追加の精製をせず に、それを続く合成に用いる。 ２５０ｍｌ（２．６５モル）の酢酸無水物を１０６ｇ（０．５モル）の１−ク ロロ−シクロプロピル２’−フルオロ−ベンジルケトン及び２５０ｍｌ（１．８ モル）のビス−（ジメチルアミノ）−メタンの混合物に室温で撹拌しながら滴下 する。滴下の終了後、最初に反応混合物の撹拌を９０℃で１時間続け、次いで混 合物を室温に冷却し、氷−水中に注ぐ。得られる混合物を酢酸エチルを用いて繰 り返し抽出する。合わせた有機相を炭酸水素ナトリウム希水溶液で連続して洗浄 し、次いで硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で濃縮する。この方法で１０７ｇ （理論値の９５％）の２−（２−フルオロフェニル）−３−（１−クロロ−シク ロプロプ−１−イル）プロペ−１−エン−３−オンが油状の生成物の形態で得ら れ、追加の精製をせずに、それを続く合成に用いる。 下表２に挙げる式（Ｉ）の物質も、実施例１及び２に示した方法によ り製造する。 実施例３ δ＝０．３−０．６（ｍ，２Ｈ）；０．８−１．１（ｍ，２Ｈ）；４．４０（ｄ ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；５．０２（ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；５．３７（ｄ ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．９０（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１ Ｈ）；７．０−７．５（ｍ，４Ｈ），７．９７（ｓ，１Ｈ），８．２９（ｓ，１ Ｈ）ｐｐｍ。実施例４ δ＝０．２−０．５（ｍ，２Ｈ）；０．７−０．９（ｍ，２Ｈ）；４．４１（ｄ ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；４．９２（ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；５．３２（ｄ ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．６２（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；７．２−７．５（ ｍ，４Ｈ），８．０１（ｓ，１Ｈ），８．２４（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ。実施例５ δ＝０．３−１．３（ｍ，４Ｈ）；３．６（ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；４．１ （ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；５．２５（ｓ，１Ｈ）；５．３９（ｓ，１Ｈ）； ７．０−７．５（ｍ，４Ｈ）；７．８５（ｓ，１Ｈ）；８．２７（ｓ，１Ｈ）ｐ ｐｍ。実施例６ δ＝０．２−１．３（ｍ，４Ｈ）；４．４（ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１Ｈ）；４．９ ２（ｄ，Ｊ＝１４Ｈｚ，１Ｈ）；５．３４（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．６６ （ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；７．１−７．５（ｍ，４Ｈ）；８．０（ｓ，１Ｈ） ；８．２５（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ。実施例７ δ＝０．３−０．６（ｍ，２Ｈ）；０．７５−１．１（ｍ，２Ｈ）；４．４３（ ｄｄ，Ｊ＝１３及び２Ｈｚ，１Ｈ）；４．６３（ｄｄ，Ｊ＝１３及び２Ｈｚ，１ Ｈ）；５．３２（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．７５（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ） ；７．２−７．４（ｍ，５Ｈ），７．９５（ｓ，１Ｈ），８．０（ｓ，１Ｈ）ｐ ｐｍ。実施例８ δ＝０．２−０．６（ｍ，２Ｈ）；０．７５−１．０５（ｍ，２Ｈ）；４．４９ （ｄｄ，Ｊ＝１３及び２Ｈｚ，１Ｈ）；４．８６（ｄｄ，Ｊ＝１３及び２Ｈｚ， １Ｈ）；５．３５（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．９２（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ ）；７．２−７．５（ｍ，４Ｈ），７．８９（ｓ，１Ｈ），８．１３（ｓ，１Ｈ ）ｐｐｍ。実施例９ δ＝０．３−０．６（ｍ，２Ｈ）；０．７５−１．０５（ｍ，２Ｈ）；４．４（ ｄｄ，Ｊ＝１３及び２Ｈｚ，１Ｈ）；４．５９（ｄｄ，Ｊ＝１３及び２Ｈｚ，１ Ｈ）；５．３１（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ）；５．７３（ｄ，Ｊ＝１Ｈｚ，１Ｈ） ；７．２−７．４（ｍ，４Ｈ），７．９７（ｓ，１Ｈ），８．０２（ｓ，１Ｈ） ｐｐｍ。実施例１０ δ＝０．４−０．６（ｍ，２Ｈ）；０．７５−０．９５（ｍ，２Ｈ）；４．５（ ｄ，Ｊ＝１５Ｈｚ，１Ｈ）；４．５２（ｓ，１Ｈ）；５．０２（ｄ，Ｊ＝１５Ｈ ｚ，１Ｈ）；５．３２（ｓ，１Ｈ）；５．７１（ｓ，１Ｈ）；６．４４（ｔ，Ｊ ＝７５Ｈｚ，１Ｈ）；７．１−７．４（ｍ，４Ｈ），８．０５（ｓ，１Ｈ），８ ．０３（ｓ，１Ｈ）ｐｐｍ。実施例Ａ レプトスフェリア・ノドルム試験（小麦）／保護 溶媒：１０重量部のＮ−メチルピロリドン 乳化剤：０．６重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適した調剤を製造するために、１重量部の活性化合物を上記の量 の溶媒及び乳化剤と混合し、濃厚液を水で希釈して所望の濃度 とする。 保護活性に関して調べるため、若い植物に活性化合物の調剤を示されている適 用比で噴霧する。噴霧コーティングが乾燥した後、植物にレプトスフェリア・ノ ドルムの胞子懸濁液を噴霧する。 植物は２０℃及び１００％の相対大気湿度においてインキュベーション室に４ ８時間残す。 植物を約１５℃の温度及び約８０％の相対大気湿度において温室に置く。 接種の１０日後に評価を行う。 活性化合物、活性化合物濃度及び試験結果を下記の表に示す。 実施例Ｂ ギベレラ・ゼアエ（Ｇｉｂｂｅｒｅｌｌａ ｚｅａｅ）試験（大麦）／保護 溶媒：１０重量部のＮ−メチルピロリドン 乳化剤：０．６重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適した調剤を製造するために、１重量部の活性化合物を上記の量 の溶媒及び乳化剤と混合し、濃厚液を水で希釈して所望の濃度とする。 保護活性に関して調べるため、若い植物に活性化合物の調剤を示されている適 用比で噴霧する。噴霧コーティングが乾燥した後、植物にギベレラ・ゼアエの分 生子懸濁液を噴霧する。 植物を約２０℃及び約１００％の相対大気湿度において、光透過性インキュベ ーションケージ下で温室に置く。 接種の４日後に評価を行う。 活性化合物、適用比及び試験結果を下記の表に示す。 実施例Ｃ ポドスフェラ試験（リンゴ）／保護 溶媒：４．７重量部のアセトン 乳化剤：０．３重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適した調剤を製造するために、１重量部の活性化合物を上記の量 の溶媒及び乳化剤と混合し、濃厚液を水で希釈して所望の濃度とする。 保護活性に関して調べるため、若い植物に活性化合物の調剤を、滴で濡れるま で噴霧する。噴霧コーティングが乾燥した後、植物にリンゴベトカビの原因とな る生物の分生子を散布することにより接種する（ポドスフェラ・ロイコトリチャ ）。 次いで植物を２３℃及び約７０％の相対大気湿度において、温室に置く。 接種の１０日後に評価を行う。 活性化合物、適用比及び試験結果を下記の表に示す。 実施例Ｄ ピリクラリア試験（稲）／保護 溶媒：１２．５重量部のアセトン 乳化剤：０．３重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適した調剤を製造するために、１重量部の活性化合物を上記の量 の溶媒及び乳化剤と混合し、濃厚液を水で希釈して所望の濃度とする。 保護活性に関して調べるため、若い稲に活性化合物の調剤を、滴で濡れるまで 噴霧する。噴霧コーティングが乾燥した後、植物にピリクラリア・オラザエの胞 子の水性懸濁液を噴霧することにより接種する。次いで植物を１００％の相対大 気湿度及び２５℃において温室に置く。 接種の４日後に病気の蔓延の評価を行う。 活性化合物、適用比及び試験結果を下記の表に示す。 実施例Ｅ ペリクラリア試験（稲）／保護 溶媒：１２．５重量部のアセトン 乳化剤：０．３重量部のアルキルアリールポリグリコールエーテル 活性化合物の適した調剤を製造するために、１重量部の活性化合物を上記の量 の溶媒と混合し、濃厚液を水及び上記の量の乳化剤で希釈して所望の濃度とする 。 保護活性に関して調べるため、３〜４葉の段階の若い稲に滴で濡れるまで噴霧 する。噴霧コーティングが乾燥するまで植物を温室に残す。次いで植物にペリク ラリア・ササキイを接種し、２５℃及び１００％の相対大気湿度において置く。 接種の５〜８日後に病気の蔓延の評価を行う。 活性化合物、適用比及び試験結果を下記の表に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ Ｃ０７Ｃ 49/563 9049−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 49/563 49/567 9049−4Ｈ 49/567 49/577 9049−4Ｈ 49/577 201/12 9450−4Ｈ 201/12 205/45 9450−4Ｈ 205/45 Ｃ０７Ｄ 303/02 7329−4Ｃ Ｃ０７Ｄ 303/02 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ， ＣＮ，ＣＺ，ＦＩ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，Ｎ Ｏ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＫ，ＵＡ，ＵＳ (72)発明者 ヘンスラー，ゲルト ドイツ連邦共和国デー―51381レーフエル クーゼン・アムアレンツベルク58アー

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン原子により一置換ないし三置 換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示す］ のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、ならびにそれらの酸付加塩類及び金属塩 錯体類。 ２．Ｘが水素、フッ素、塩素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、 メトキシ又はエトキシを示し、 Ｚがフッ素、塩素、臭素、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ− ブチル、ｓｅｃ−ブチル、イソ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、トリクロロメチル 、トリフルオロメチル、ジフルオロメチル、メトキシ、 エトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロメトキシ、ニトロを示すか、ある いは場合によりフッ素及び／又は塩素を含む系列からの同一又は異なる置換基に より一置換又は二置換されていることができるフェニルを示し、 ｍが０、１、２又は３の数を示し、ｍが２又は３を示す場合、Ｚは同一又は異な る基を示すことができる 請求の範囲第１項に記載の式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体。 ３．ａ）式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン置換基により一置換ないし三 置換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示し、 Ｈａｌは塩素又は臭素を示す］ のブテノール誘導体、 あるいは ｂ）式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のオキシラン類 を式 の１，２，４−トリアゾールと、酸−結合剤の存在下及び希釈剤の存在下で反応 させ、そして適宜、得られる式（Ｉ）の化合物を、酸又は金属塩と付加反応させ ることを特徴とする式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、ならびにそれらの酸付加塩類及 び金属塩錯体類の製造法。 ４．請求の範囲第１項に記載の式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、 あるいは式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体の酸付加塩又は金属塩錯 体の少なくとも１種を含むことを特徴とする殺微生物性組成物。 ５．植物の保護及び材料類の保護における殺微生物剤としての請求の範囲第１項 に記載の式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、あるいはそれらの酸付 加塩類及び金属塩錯体類の利用。 ６．請求の範囲第１項に記載の式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、 あるいはそれらの酸付加塩類又は金属塩錯体類を微生物類及び／又はそれらの環 境に適用することを特徴とする、植物保護及び材料類の保護における望ましくな い微生物類の防除の方法。 ７．請求の範囲第１項に記載の式（Ｉ）のヒドロキシエチル−アゾリル誘導体、 あるいはそれらの金属塩錯体類又は酸付加塩類を伸展剤類及び／又は界面活性物 質類と混合することを特徴とする殺微生物性組成物の製造法。 ８．式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン原子により一置換ないし三置 換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示し、 Ｈａｌは塩素又は臭素を示す］ のブテノール誘導体。 ９．式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｈａｌは塩素又は臭素を示す］ のシクロプロピルケトンを式 ［式中、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有す るハロゲノアルコキシ、ニトロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン原 子により一置換から三置換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示す］ の有機金属化合物と、希釈剤の存在下で反応させることを特徴とする式 ［式中、 Ｘ、Ｚ、ｍ及びＨａｌは上記の意味を有する］ のブテノール誘導体の製造法。 １０．式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハ ロゲン原子により一置換から三置換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示す］ のオキシラン類。 １１．ｃ）式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン原子により一置換から三置換 されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示し、 Ｈａｌは塩素又は臭素を示す］ のブテノール誘導体を希釈剤の存在下で塩基類と反応させるか、 あるいは ｄ）式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のケトン類を式 のジメチルスルホニウムメチリドと、希釈剤の存在下で反応させることを特徴と する式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のオキシラン類の製造法。 １２．式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４の アルコキシ、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲ ノアルコキシ、ニトロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン置換基によ り一置換ないし三置換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示す］ のケトン類。 １３．式 ［式中、 Ｘは水素、ハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル又は炭素数が１〜４のアルコキ シを示し、 Ｚはハロゲン、炭素数が１〜４のアルキル、炭素数が１〜４であり且つ１〜５個 のハロゲン原子を有するハロゲノアルキル、炭素数が１〜４のアルコキシ、炭素 数が１〜４であり且つ１〜５個のハロゲン原子を有するハロゲノアルコキシ、ニ トロ、あるいは場合により同一又は異なるハロゲン置換基により一置換から三置 換されていることができるフェニルを示し、 ｍは０、１、２又は３の数を示す］ のベンジルケトン類を α）式 （ＣＨ₃）₂Ｎ−ＣＨ₂−Ｎ（ＣＨ₃）₂ （ＸＩＩＩ） のビス−（ジメチルアミノ）−メタンと、酢酸無水物又は氷酢酸の存在下で、 あるいは β）パラホルムアルデヒド又はホルマリンと、触媒の存在下及び希釈剤の存在下 で 反応させることを特徴とする式 ［式中、 Ｘ、Ｚ及びｍは上記の意味を有する］ のケトン類の製造法。