JPH0944901A - 光ディスク - Google Patents
光ディスクInfo
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- JPH0944901A JPH0944901A JP7212826A JP21282695A JPH0944901A JP H0944901 A JPH0944901 A JP H0944901A JP 7212826 A JP7212826 A JP 7212826A JP 21282695 A JP21282695 A JP 21282695A JP H0944901 A JPH0944901 A JP H0944901A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- guide groove
- recording film
- substrate
- recording
- laser spot
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 媒体雑音を低減し、隣接する非信号記録部か
らのクロストークを防止した光ディスクを提供する。 【解決手段】 基板10の裏面には案内溝の凹凸がスパイ
ラル状に形成され、基板10の裏面と記録膜30の間に記録
膜30との接触面を平坦に形成されて案内溝10の凹凸を打
ち消す平坦化層20が形成された光ディスクD 。基板10の
屈折率がｎ1 、平坦化層20の屈折率がｎ2 、レーザスポ
ットの波長がλ、案内溝の凹凸の高低差がｄのとき、案
内溝の凹部を通る反射光と凸部を通る反射光の光路長差
Δｄが、 Δｄ＝ｄ（ｎ2 −ｎ1 ）≧λ／１０ を満たすように形成された光ディスク。
らのクロストークを防止した光ディスクを提供する。 【解決手段】 基板10の裏面には案内溝の凹凸がスパイ
ラル状に形成され、基板10の裏面と記録膜30の間に記録
膜30との接触面を平坦に形成されて案内溝10の凹凸を打
ち消す平坦化層20が形成された光ディスクD 。基板10の
屈折率がｎ1 、平坦化層20の屈折率がｎ2 、レーザスポ
ットの波長がλ、案内溝の凹凸の高低差がｄのとき、案
内溝の凹部を通る反射光と凸部を通る反射光の光路長差
Δｄが、 Δｄ＝ｄ（ｎ2 −ｎ1 ）≧λ／１０ を満たすように形成された光ディスク。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板表面から入射
され、基板裏面側の記録膜面に合焦されて反射されるレ
ーザスポットの反射光に基づいて、記録情報を再生され
る光ディスクに関する。詳しくは、記録面が平坦な記録
膜を備えた光ディスクに関する。
され、基板裏面側の記録膜面に合焦されて反射されるレ
ーザスポットの反射光に基づいて、記録情報を再生され
る光ディスクに関する。詳しくは、記録面が平坦な記録
膜を備えた光ディスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】光ディスクに於ける情報の記録／再生
は、光ディスクに予め形成されている案内溝に、レーザ
スポットを追従させる（トラッキング）ように制御する
ことで可能となる。この案内溝は、光ディスク基板に、
所定のピッチ（例：コンパクトディスクでは１．６μ
ｍ）で、予めスパイラル状に形成されている凹凸であ
る。なお、案内溝としては、連続なものばかりでなく、
不連続なものもある。
は、光ディスクに予め形成されている案内溝に、レーザ
スポットを追従させる（トラッキング）ように制御する
ことで可能となる。この案内溝は、光ディスク基板に、
所定のピッチ（例：コンパクトディスクでは１．６μ
ｍ）で、予めスパイラル状に形成されている凹凸であ
る。なお、案内溝としては、連続なものばかりでなく、
不連続なものもある。
【０００３】光ディスク基板が樹脂（例：ＰＣ）製であ
る場合、案内溝は、該案内溝に対応する凹凸を備えたデ
ィスク原盤を用いて、溶融樹脂を射出成形することによ
り形成することができる。なお、ディスク原盤の上記凹
凸は、レーザカッティングによって形成することができ
る。
る場合、案内溝は、該案内溝に対応する凹凸を備えたデ
ィスク原盤を用いて、溶融樹脂を射出成形することによ
り形成することができる。なお、ディスク原盤の上記凹
凸は、レーザカッティングによって形成することができ
る。
【０００４】光ディスク基板がガラス製である場合、案
内溝は、フォトレジストでマスクした反応性イオンエッ
チングで形成することができる。「光磁気ディスク製造
ハンドブック・（株）サイエンスフォーラム発行・１９
９１・第１版・１３１〜１３６頁」には、フォトレジス
トを塗布したガラス基板に、案内溝のパターンの透光部
を有するマスクを密着させて該マスク側から露光した
後、現像し、これに反応性イオンエッチングを施すこと
で、案内溝を形成する技術が開示されている。
内溝は、フォトレジストでマスクした反応性イオンエッ
チングで形成することができる。「光磁気ディスク製造
ハンドブック・（株）サイエンスフォーラム発行・１９
９１・第１版・１３１〜１３６頁」には、フォトレジス
トを塗布したガラス基板に、案内溝のパターンの透光部
を有するマスクを密着させて該マスク側から露光した
後、現像し、これに反応性イオンエッチングを施すこと
で、案内溝を形成する技術が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】樹脂基板の光ディスク
では、案内溝の凹凸を射出成形によりディスク原盤から
転写しているため、案内溝の縁部をディスク面に対して
垂直に形成することが困難である。このため、案内溝側
のディスク基板面上に形成される記録膜も案内溝の縁部
に於いてディスク面に対して垂直にならないで傾斜面と
なる。光磁気ディスクの記録膜では、磁化の方向が垂直
であるか否かで信号が記録される。このため、上述の如
く傾斜面を有する場合、該傾斜面からの反射光にノイズ
が含まれてしまい、ゆらぎによる媒体雑音が増加すると
いう問題がある。また、凹凸のエッジ部にて記録膜に亀
裂が生じ易く、信頼性が低下するという問題もある。
では、案内溝の凹凸を射出成形によりディスク原盤から
転写しているため、案内溝の縁部をディスク面に対して
垂直に形成することが困難である。このため、案内溝側
のディスク基板面上に形成される記録膜も案内溝の縁部
に於いてディスク面に対して垂直にならないで傾斜面と
なる。光磁気ディスクの記録膜では、磁化の方向が垂直
であるか否かで信号が記録される。このため、上述の如
く傾斜面を有する場合、該傾斜面からの反射光にノイズ
が含まれてしまい、ゆらぎによる媒体雑音が増加すると
いう問題がある。また、凹凸のエッジ部にて記録膜に亀
裂が生じ易く、信頼性が低下するという問題もある。
【０００６】ガラス基板の光ディスクでは、反応性イオ
ンエッチングにより案内溝を形成しているため、案内溝
の縁部をディスク面に対して垂直に形成することや、案
内溝の深さを厳密に制御することが困難である。このた
め、上述の樹脂基板の光ディスクの場合と同様の問題が
ある。
ンエッチングにより案内溝を形成しているため、案内溝
の縁部をディスク面に対して垂直に形成することや、案
内溝の深さを厳密に制御することが困難である。このた
め、上述の樹脂基板の光ディスクの場合と同様の問題が
ある。
【０００７】本発明は、媒体雑音を抑えた光ディスクを
提供することを目的とする。
提供することを目的とする。
【０００８】光ディスクでは、信号記録部位にレーザス
ポットを照射することにより、信号が読み出される。レ
ーザの有効スポット径は、レーザの波長や対物レンズの
ＮＡによって定まり、例えば、０．９μｍ程度（波長：
７８０ｎｍ，ＮＡ：０．６の場合）である。信号記録部
位のサイズは、トラックピッチによって定まり、例え
ば、１．６μｍ程度（コンパクトディスクの場合）であ
る。なお、レーザの有効スポット径やトラックピッチ
は、記録密度を高めたいという要請から小さい方が望ま
しく、このため、上記の如く設定されている。
ポットを照射することにより、信号が読み出される。レ
ーザの有効スポット径は、レーザの波長や対物レンズの
ＮＡによって定まり、例えば、０．９μｍ程度（波長：
７８０ｎｍ，ＮＡ：０．６の場合）である。信号記録部
位のサイズは、トラックピッチによって定まり、例え
ば、１．６μｍ程度（コンパクトディスクの場合）であ
る。なお、レーザの有効スポット径やトラックピッチ
は、記録密度を高めたいという要請から小さい方が望ま
しく、このため、上記の如く設定されている。
【０００９】信号記録部位のサイズと記録信号を読み出
すためのレーザスポット径とが同程度のサイズであり、
余裕が無いため、再生用レーザスポットの周辺部が隣接
する非信号記録部に照射されて、クロストークノイズと
なることがある。同様の理由から、記録再生型の光ディ
スクでは、隣接部分にノイズ成分が記録されてしまうこ
とがある。なお、レーザスポット径に対する信号記録サ
イズに余裕を持たせることは、記録密度を高めたいとい
う要請に反するため、採用できない。
すためのレーザスポット径とが同程度のサイズであり、
余裕が無いため、再生用レーザスポットの周辺部が隣接
する非信号記録部に照射されて、クロストークノイズと
なることがある。同様の理由から、記録再生型の光ディ
スクでは、隣接部分にノイズ成分が記録されてしまうこ
とがある。なお、レーザスポット径に対する信号記録サ
イズに余裕を持たせることは、記録密度を高めたいとい
う要請に反するため、採用できない。
【００１０】本発明は、トラックピッチが小さくても、
隣接する非信号記録部からのクロストークノイズが小さ
い光ディスクを提供することを目的とする。
隣接する非信号記録部からのクロストークノイズが小さ
い光ディスクを提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板の表面か
ら入射され裏面側の記録膜面に合焦されるレーザスポッ
トの反射光に基づいて記録情報を再生される光ディスク
であって、前記基板の裏面には案内溝がスパイラル状に
形成され、前記基板の裏面と前記記録膜の間には該記録
膜との接触面を平坦に形成されて前記案内溝の凹凸を打
ち消す平坦化層が形成されて成る、光ディスクである。
ら入射され裏面側の記録膜面に合焦されるレーザスポッ
トの反射光に基づいて記録情報を再生される光ディスク
であって、前記基板の裏面には案内溝がスパイラル状に
形成され、前記基板の裏面と前記記録膜の間には該記録
膜との接触面を平坦に形成されて前記案内溝の凹凸を打
ち消す平坦化層が形成されて成る、光ディスクである。
【００１２】基板の裏面側に平坦化層が形成される。こ
の平坦化層の裏面（記録膜と接する側の面）は、平坦と
なるように形成される。このため、平坦化層の裏面上に
成膜される記録膜の記録面（平坦化層に接する側の面）
は平坦となる。記録膜の記録面が平坦に形成されるた
め、反射光に傾斜面からのノイズが含まれて媒体雑音と
なる不具合や、記録膜に亀裂が生ずる不具合が防止され
る。
の平坦化層の裏面（記録膜と接する側の面）は、平坦と
なるように形成される。このため、平坦化層の裏面上に
成膜される記録膜の記録面（平坦化層に接する側の面）
は平坦となる。記録膜の記録面が平坦に形成されるた
め、反射光に傾斜面からのノイズが含まれて媒体雑音と
なる不具合や、記録膜に亀裂が生ずる不具合が防止され
る。
【００１３】本発明は、前記基板の屈折率がｎ1 、前記
平坦化層の屈折率がｎ2 、前記レーザスポットの波長が
λ、前記案内溝の凹凸の高低差がｄであるとき、前記案
内溝の凹部を通る反射光と凸部を通る反射光の光路長差
Δｄが、 Δｄ＝ｄ（ｎ2 −ｎ1 ）≧λ／１０ を満たすように形成された光ディスクである。また、前
記レーザスポットが前記案内溝の凹部を通る場合の検出
光量と、凸部を通る場合の検出光量のうち、検出光量が
大きくなる部分に対応する前記記録膜の部位を信号記録
部とされる光ディスクである。
平坦化層の屈折率がｎ2 、前記レーザスポットの波長が
λ、前記案内溝の凹凸の高低差がｄであるとき、前記案
内溝の凹部を通る反射光と凸部を通る反射光の光路長差
Δｄが、 Δｄ＝ｄ（ｎ2 −ｎ1 ）≧λ／１０ を満たすように形成された光ディスクである。また、前
記レーザスポットが前記案内溝の凹部を通る場合の検出
光量と、凸部を通る場合の検出光量のうち、検出光量が
大きくなる部分に対応する前記記録膜の部位を信号記録
部とされる光ディスクである。
【００１４】図３のように、レーザスポットが案内溝の
凹部を通って反射されて光ピックアップの光検出器で検
出される場合LB1 と、凸部を通って反射されて検出され
る場合LB2 とでは、Δｄの光路長差が生ずる。この光路
長差Δｄが上述の範囲となるように基板10の屈折率
ｎ1 、平坦化層20の屈折率ｎ2 、レーザスポットLBの波
長λ、案内溝の凹凸の高低差ｄを選ぶと、凹部を通る反
射光LB1 と凸部を通る反射光LB2 のうち、何れか一方の
反射光の検出光量が大きくなり、何れか他方の反射光の
検出光量が十分に小さくなる。このため、検出光量が大
きくなる方（凹部又は凸部）に対応する記録膜20の部位
を信号記録部とすると、非信号記録部からのクロストー
クノイズが低減される。
凹部を通って反射されて光ピックアップの光検出器で検
出される場合LB1 と、凸部を通って反射されて検出され
る場合LB2 とでは、Δｄの光路長差が生ずる。この光路
長差Δｄが上述の範囲となるように基板10の屈折率
ｎ1 、平坦化層20の屈折率ｎ2 、レーザスポットLBの波
長λ、案内溝の凹凸の高低差ｄを選ぶと、凹部を通る反
射光LB1 と凸部を通る反射光LB2 のうち、何れか一方の
反射光の検出光量が大きくなり、何れか他方の反射光の
検出光量が十分に小さくなる。このため、検出光量が大
きくなる方（凹部又は凸部）に対応する記録膜20の部位
を信号記録部とすると、非信号記録部からのクロストー
クノイズが低減される。
【００１５】本発明の光ディスクの記録膜は、例えば、
光磁気記録膜であるが、これに限定されず、相変化型の
記録膜や、その他の公知の記録膜を用いることができ
る。
光磁気記録膜であるが、これに限定されず、相変化型の
記録膜や、その他の公知の記録膜を用いることができ
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】図１は本発明の光ディスクを示
す。（ａ）は上面図であり、（ｂ）は（ａ）の細破線円
内を細一点鎖線で切ってＢ方向から見た模式的断面図で
ある。
す。（ａ）は上面図であり、（ｂ）は（ａ）の細破線円
内を細一点鎖線で切ってＢ方向から見た模式的断面図で
ある。
【００１７】本発明の光ディスクD は、ディスク基板10
と記録膜30の間に平坦化層20を設けて成る。平坦化層20
は、記録膜との接触面を平坦に形成されたもので、これ
により、ディスク基板10の裏面に形成されている案内溝
の凹凸を、記録膜30に対して打ち消している。つまり、
記録膜30の記録面（平坦化層20と接触する面）を平坦に
している。また、平坦化層20により記録膜30の記録面が
平坦にされた結果、凹凸や傾斜面が存在しないため、傾
斜面に起因する媒体雑音を防止できる。
と記録膜30の間に平坦化層20を設けて成る。平坦化層20
は、記録膜との接触面を平坦に形成されたもので、これ
により、ディスク基板10の裏面に形成されている案内溝
の凹凸を、記録膜30に対して打ち消している。つまり、
記録膜30の記録面（平坦化層20と接触する面）を平坦に
している。また、平坦化層20により記録膜30の記録面が
平坦にされた結果、凹凸や傾斜面が存在しないため、傾
斜面に起因する媒体雑音を防止できる。
【００１８】ディスク基板10は、本例ではガラス製であ
るが、ポリカーボネート（ＰＣ）製であってもよい。記
録膜30は、例えば、光磁気記録膜であるが、これに限定
されず、相変化型の記録膜であってもよい。その他の公
知の記録膜でもよい。
るが、ポリカーボネート（ＰＣ）製であってもよい。記
録膜30は、例えば、光磁気記録膜であるが、これに限定
されず、相変化型の記録膜であってもよい。その他の公
知の記録膜でもよい。
【００１９】次に、本発明の光ディスクの製造工程を説
明する。
明する。
【００２０】ガラス製ディスク基板10は、図２の工程に
従って製造される。 （ａ）ガラス基板10の表面に、フォトレジスト40が塗布
される。 （ｂ）フォトレジスト層40の表面に、マスク60が密着し
て設けられる。マスク60は、案内溝に対応するスパイラ
ル状のパターンでタンタルＴａの遮光部60a を埋め込み
形成されたものである。このマスク60の上方から紫外線
が照射される。マスク60の非遮光部は、露光波長（ここ
では紫外線波長）に対して透光性を有する材料で形成さ
れている。 （ｃ）次に、フォトレジスト層40が現像されて、紫外線
により露光されなかった部分のみがガラス基板10上に残
される。即ち、紫外線により露光された部分ではガラス
基板10の表面が露出される。 （ｄ）フォトレジスト現像後のガラス基板は、次に、反
応性イオンエッチング処理を施される。これにより、案
内溝に対応する凹部が形成される。 （ｅ）凹部の形成後、ガスが切り換えられて、残留フォ
トレジスト層40が除去されて、案内溝を有するディスク
基板10が得られる。
従って製造される。 （ａ）ガラス基板10の表面に、フォトレジスト40が塗布
される。 （ｂ）フォトレジスト層40の表面に、マスク60が密着し
て設けられる。マスク60は、案内溝に対応するスパイラ
ル状のパターンでタンタルＴａの遮光部60a を埋め込み
形成されたものである。このマスク60の上方から紫外線
が照射される。マスク60の非遮光部は、露光波長（ここ
では紫外線波長）に対して透光性を有する材料で形成さ
れている。 （ｃ）次に、フォトレジスト層40が現像されて、紫外線
により露光されなかった部分のみがガラス基板10上に残
される。即ち、紫外線により露光された部分ではガラス
基板10の表面が露出される。 （ｄ）フォトレジスト現像後のガラス基板は、次に、反
応性イオンエッチング処理を施される。これにより、案
内溝に対応する凹部が形成される。 （ｅ）凹部の形成後、ガスが切り換えられて、残留フォ
トレジスト層40が除去されて、案内溝を有するディスク
基板10が得られる。
【００２１】このように製造されたディスク基板10の裏
面（案内溝の形成された面）に、ＴＥＯＳ（Tetra ethy
lor tho silicate Si(OC2H3)4)の平坦化層20がＣＶＤ法
によって成膜される。例えば、Ｎ2 をキャリアガスとす
る５％Ｏ3 の雰囲気中で、ＴＥＯＳを４００℃の条件で
ＣＶＤ形成すると、１００ｎｍ／ｍｉｎの成膜速度が得
られる。したがって、１０分間の成膜により、１μｍの
平坦化層20が形成される。なお、ディスク基板10の裏面
に形成されている案内溝は６０〜７０ｎｍ程度の高低差
であるため、平坦化層20を１μｍ程度に成膜すること
で、該平坦化層20の裏面（記録膜30に接するべき側の
面) は、十分に平坦となる。
面（案内溝の形成された面）に、ＴＥＯＳ（Tetra ethy
lor tho silicate Si(OC2H3)4)の平坦化層20がＣＶＤ法
によって成膜される。例えば、Ｎ2 をキャリアガスとす
る５％Ｏ3 の雰囲気中で、ＴＥＯＳを４００℃の条件で
ＣＶＤ形成すると、１００ｎｍ／ｍｉｎの成膜速度が得
られる。したがって、１０分間の成膜により、１μｍの
平坦化層20が形成される。なお、ディスク基板10の裏面
に形成されている案内溝は６０〜７０ｎｍ程度の高低差
であるため、平坦化層20を１μｍ程度に成膜すること
で、該平坦化層20の裏面（記録膜30に接するべき側の
面) は、十分に平坦となる。
【００２２】こうして平坦化層20が形成されると、その
上に、記録膜30が成膜される。例えば、ＴｂＦｅＣｏ等
の光磁気記録膜が成膜される。このようにして、本発明
の光ディスクが製造される。
上に、記録膜30が成膜される。例えば、ＴｂＦｅＣｏ等
の光磁気記録膜が成膜される。このようにして、本発明
の光ディスクが製造される。
【００２３】本発明の光ディスクと、従来の光ディスク
（平坦化層20が無く、記録膜の記録面に案内溝に対応す
る凹凸の有る光ディスク）のカーヒステリシスループ
を、図４に示す。図示のように、本発明の光ディスク
は、保磁力は従来の光ディスクよりも若干劣るが、カー
回転角は従来の光ディスクより改善されている。
（平坦化層20が無く、記録膜の記録面に案内溝に対応す
る凹凸の有る光ディスク）のカーヒステリシスループ
を、図４に示す。図示のように、本発明の光ディスク
は、保磁力は従来の光ディスクよりも若干劣るが、カー
回転角は従来の光ディスクより改善されている。
【００２４】
【発明の効果】本発明では、案内溝が形成されている基
板の裏面側に平坦化層が設けられ、この平坦化層の平坦
な裏面上に記録膜が成膜されるため、記録膜の記録面は
平坦となる。このため、反射光に傾斜面からのノイズが
含まれて媒体雑音となる不具合や、記録膜に亀裂が生ず
る不具合を防止できるという効果がある。
板の裏面側に平坦化層が設けられ、この平坦化層の平坦
な裏面上に記録膜が成膜されるため、記録膜の記録面は
平坦となる。このため、反射光に傾斜面からのノイズが
含まれて媒体雑音となる不具合や、記録膜に亀裂が生ず
る不具合を防止できるという効果がある。
【００２５】また、検出光量が大きくなる方の部分（凹
部又は凸部）に対応する記録膜の部位を信号記録部とす
ると、信号の非記録部からのクロストークノイズを低減
することができるという効果がある。
部又は凸部）に対応する記録膜の部位を信号記録部とす
ると、信号の非記録部からのクロストークノイズを低減
することができるという効果がある。
【図１】本発明の光ディスクの平面図（ａ）と、（ａ）
の破線円内のＢ−Ｂ線での模式的な断面図（ｂ）。
の破線円内のＢ−Ｂ線での模式的な断面図（ｂ）。
【図２】ガラス製のディスク基板に案内溝を形成する工
程を示す説明図。
程を示す説明図。
【図３】案内溝の凹凸の高低差と光路長差とを示す説明
図。
図。
【図４】本発明と従来の光ディスクの各カーヒステリシ
スループを示す特性図。
スループを示す特性図。
１０ 基板 ２０ 平坦化層 ３０ 記録膜 ４０ フォトレジスト ６０ マスク
Claims (4)
- 【請求項１】 基板の表面から入射され裏面側の記録膜
面に合焦されるレーザスポットの反射光に基づいて記録
情報を再生される光ディスクであって、 前記基板の裏面には案内溝がスパイラル状に形成され、 前記基板の裏面と前記記録膜の間には該記録膜との接触
面を平坦に形成されて前記案内溝の凹凸を打ち消す平坦
化層が形成されて成る、 光ディスク。 - 【請求項２】 請求項１に於いて、 前記基板の屈折率がｎ1 、前記平坦化層の屈折率が
ｎ2 、前記レーザスポットの波長がλ、前記案内溝の凹
凸の高低差がｄであるとき、前記案内溝の凹部を通る反
射光と凸部を通る反射光の光路長差Δｄが、 Δｄ＝ｄ（ｎ2 −ｎ1 ）≧λ／１０ を満たすように形成されて成る光ディスク。 - 【請求項３】 請求項１、請求項２に於いて、 前記記録膜は、前記レーザスポットが前記案内溝の凹部
を通る場合の検出光量と、凸部を通る場合の検出光量の
うち、検出光量が大きくなる部分に対応する部位を信号
記録部とされる、 光ディスク。 - 【請求項４】 請求項１〜請求項３に於いて、 前記記録膜は光磁気記録膜である、 光ディスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7212826A JPH0944901A (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | 光ディスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7212826A JPH0944901A (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | 光ディスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0944901A true JPH0944901A (ja) | 1997-02-14 |
Family
ID=16629007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7212826A Pending JPH0944901A (ja) | 1995-07-28 | 1995-07-28 | 光ディスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0944901A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070900A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Fujifilm Corporation | Optical recording medium, optical recording method and optical reproducing method |
| WO2006109894A1 (en) * | 2005-04-13 | 2006-10-19 | Fujifilm Corporation | Optical recording medium, optical recording method and optical reproduction method |
-
1995
- 1995-07-28 JP JP7212826A patent/JPH0944901A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006070900A1 (en) * | 2004-12-27 | 2006-07-06 | Fujifilm Corporation | Optical recording medium, optical recording method and optical reproducing method |
| WO2006109894A1 (en) * | 2005-04-13 | 2006-10-19 | Fujifilm Corporation | Optical recording medium, optical recording method and optical reproduction method |
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