JPH09328505A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
付加重可能な化合物、ii)下記式(I)で表される増感
色素およびiii)チタノセン化合物を含有する光重合性組
成物とする。 【化73】 [式(I)中、A1 、A2 =炭素原子またはヘテロ原
子;X1 、X2 =置換カルボニル基またはシアノ基;R
1 、R2 =H、アルキル、アリール;R1 とR2 とで環
形成可能;X1 とX2 とで環形成可能:n=0、1、
2]
Description
するものである。特に可視光領域の光線に対して極めて
高感度であり、例えばAr+ レーザー光、YAG−SH
Gレーザー光に対しても良好な感応性を示す光重合性組
成物に関するものである。
多数知られており、印刷版、プリント回路、塗料、イン
キ、ホログラム記録、3次元造形等の広い分野に用いら
れている。例えば、付加重合可能なエチレン性二重結合
を含む化合物と光重合開始剤、さらに所望により用いら
れる有機高分子結合剤、熱重合禁止剤等からなる光重合
性組成物を、支持体上に皮膜層として設け、所望画像を
像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部分を溶解
除去することにより硬化レリーフ画像を形成する方法、
少なくとも一方が透明である2枚の支持体間に上述の光
重合性組成物の層を設け、透明支持体側より像露光し光
による接着強度の変化を誘起させた後、支持体を剥離す
ることにより画像を形成する方法、光重合性組成物およ
びロイコ色素等の色材料を内容物に有するマイクロカプ
セル層を設けた感光材料を作成し、この感光材料を画像
露光して露光部分のカプセルを光硬化させ、未露光部分
のカプセルを加圧処理、あるいは加熱処理により破壊
し、色材料顕色剤と接触させることにより発色させ、着
色画像を形成する方法、その他、光重合性組成物の光に
よるトナー付着性の変化を利用した画像形成法、光重合
性組成物の光による屈折率の変化を利用した画像形成法
等が知られている。
物の多くは、光重合開始剤として、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノン、アクリ
ジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が用いられてき
た。しかしながら、これらの光重合開始剤は400nm以
下の紫外光に対する光重合開始能力に比較し、400nm
以上の可視光に対する光重合開始能力が顕著に低く、そ
の結果その応用範囲が著しく限定されていた。
域の光線に対し高い感応性を有するフォトポリマーが要
請されている。それは、例えば非接触型の投影露光製版
や可視光レーザー製版等に適合した感光材料である。こ
のような可視光レーザーとしてはAr+ レーザーの48
8nm光、YAG−SHGレーザーの532nm光などが、
有望視されている。
光重合開始系については、従来、多くの提案がなされて
きた。例えば、米国特許2,850,445号に記載のある
種の感応性染料、染料とアミンの複合開始系(特公昭4
4−20189号)、ヘキサアリールビイミダゾールと
ラジカル発生剤と染料との併用系(特公昭45−373
77号)、ヘキサアリールビイミダゾールとp−ジアル
キルアミノベンジリデンケトンの系(特公昭47−25
28号、特開昭54−155292号)、環状シス−α
−ジカルボニル化合物と染料の系(特開昭48−841
83号)、置換トリアジンとメロシアニン色素の系(特
開昭54−151024号)、3−ケトクマリンと活性
剤の系(特開昭52−112681号、特開昭58−1
5503号)、ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオ
ールの系(特開昭59−140203号)、有機過酸化
物と色素の系(特開昭59−140203号、特開昭5
9−189340号)、ローダニン骨格の色素とラジカ
ル発生剤の系(特開平2−244050号)等が挙げら
れる。
効であることは、特開昭59−152396号、特開昭
61−151197号、特開昭63−10602号、特
開昭63−41484号、特開平3−12403号に記
載されており、併用系としての使用例としては、チタノ
センと3−ケトクマリン色素の系(特開昭63−221
110号)、チタノセンとキサンテン色素さらにアミノ
基あるいはウレタン基を含む付加重合可能なエチレン性
不飽和化合物を組み合わせた系(特開平4−22195
8号、特開平4−219756号)、チタノセンと特定
のメロシアニン色素の系(特開平6−295061号)
等を挙げることができる。
可視光線に対し有効であるが、感度が十分でない等の問
題があり、実用に供することができなかった。
の光重合性組成物を提供することである。特に、400
nm以上の可視光線、Ar+ レーザー、YAG−SHGレ
ーザーの出力に対応する488nm、532nmのような光
に対し、感度の高い光重合性組成物を提供することであ
る。
を有する増感色素とこの増感色素との共存下で光照射時
に活性ラジカルを発生しうるチタノセン化合物の併用系
が、400nm以上の可視光線に対し極めて感度が高いこ
とを見出し、下記(1)の本発明に到達したものであ
る。そして、好ましくは下記(2)である。
る付加重合可能な化合物、ii) 下記式(I)で表される
増感色素およびiii)チタノセン化合物を含有する光重合
性組成物。
々炭素原子またはヘテロ原子を表す。Q1 はA1 、A2
およびこれらに隣接する炭素原子とともに複素環を形成
するのに必要な非金属原子団を表す。R1 およびR2 は
各々水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。R
1 とR2 とは互いに結合して環を形成してもよい。X1
およびX2 は各々シアノ基または置換カルボニル基を表
し、X1 とX2 とは互いに結合して環を形成してもよ
い。nは0、1または2である。]
セン化合物を含有する光重合性開始系が、さらに下記
(a)〜(h)からなる群から選ばれた少なくとも1種
の化合物を含有する上記(1)の光重合性組成物。
れる芳香族基を表し、R10およびR11は各々水素原子ま
たはアルキル基を表し、R10とR11は互いに結合して炭
素原子とともに環を形成してもよく、R10とR11と炭素
原子とによって形成される環はカルボニル基とモルホリ
ノ基とを連結する二価基となっていてもよい。
っていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキ
ル基、アルケニル基、アリール基、水酸基、アルコキシ
基、−S−R18、−SO−R18または−SO2 −R
18(ここでR18は水素原子、アルキル基またはアルケニ
ル基を表す。)を表す。L1 は単なる結合またはアルキ
レン基を表す。ただし、L1 が単なる結合であるとき、
R12〜R16のうち少なくとも1個は−S−R18または−
SO−R18である。
基を表す。Y1 は水素原子または下記式で表される置換
カルボニル基を表す。
けるものと同義のものである。)] (c)下記式(III )で表されるケトオキシム化合物
各々同一であっても異なるものであってもよく、脂肪族
炭化水素基、芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
R21およびR22は各々同一であっても異なるものであっ
てもよく、水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水
素基、複素環基、ヒドロキシ基、置換オキシ基、メルカ
プト基または置換チオ基を表す。R23およびR24は各々
水素原子、脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素基または
置換カルボニル基を表す。R23とR24とは互いに結合し
て炭素原子数2〜8の環を形成してもよく、環の連結主
鎖中には、−O−、−NR23−(R23は上記と同義)、
−O−CO−、−NH−CO−、−S−および−SO2
−のうちの少なくとも1個を含んでいてもよい。]
たはアリール基を表し、R26は水素原子またはアルキル
基を表す。また、R25とR26とは互いに結合して炭素原
子および窒素原子とともに縮合環を有していてもよい複
素環を完成するのに必要な原子群となってもよい。]
に説明する。
飽和二重結合を少なくとも1個有する付加重合可能な化
合物と、光重合性開始系としてii) 式(I)[上記化2
に掲載]で表される増感色素およびiii)チタノセン化合
物とを含有する。
合可能な化合物は、末端エチレン性不飽和結合を少なく
とも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれ
る。例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、
3量体およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならび
にそれらの共重合体などの化学的形態をもつものであ
る。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和
カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド等が
挙げられる。
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオ
キシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔p−(メタクリルオキシエトキ
シ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、
1,4−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。
リコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジ
クロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、
ソルビトールテトラジクロトネート等がある。
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等がある。
も挙げることができる。
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。
08号公報中に記載されている1分子に2個以上のイソ
シアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下
記式(V)で示される水酸基を含有するビニルモノマー
を付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含
有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−
64183号、特公昭49−43191号、特公昭52
−30490号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. 20、No. 7、300〜30
8ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、任意であるが、好ましく
は、組成物全成分に対して好ましくは5〜80重量%、
より好ましくは5〜55重量%、よりさらに好ましくは
10〜55重量%、特に好ましくは10〜50重量%、
より特に好ましくは10〜40重量%である。また、こ
れらは単独で用いても2種以上併用してもよい。
として含有させるii) 増感色素は式(I)[上記化2に
掲載]で表されるものである。
A2 は各々炭素原子またはヘテロ原子を表し、これらは
同一でも異なるものであってもよい。Q1 はA1 、A2
および炭素原子とともに複素環を形成するのに必要な原
子群を表す。
およびアルキル基やアリール基等の置換基のうちの1個
または2個が結合したものである。
子、硫黄原子、窒素原子等であり、窒素原子は水素原子
およびアルキル基やアリール基等の置換基のうちの1個
が結合したものであってもよい。
ロ原子であることが好ましく、とりわけ、A1 、A2 の
うちの少なくとも一方はNR3 またはSであることが好
ましい。ここで、R3 は水素原子、アルキル基、置換ア
ルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルコキ
シカルボニル基、アリール基、置換アリール基、アルキ
ニル基、置換アルキニル基を表す。
子数が1〜20の直鎖状、分岐状または環状のアルキル
基を挙げることができ、その具体例としては、メチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘ
キシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサ
デシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピ
ル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、イ
ソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、
イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘ
キシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2−
ノルボニル基を挙げることができる。これらの中では、
炭素原子数1〜12の直鎖状、炭素原子数3〜12の分
岐状、ならびに炭素原子数5〜10の環状のアルキル基
がより好ましい。特には炭素原子数1〜12の直鎖状の
アルキル基が好ましい。
しては、水素を除く一価の非金属原子団が用いられ、好
ましい例としては、ハロゲン原子(−F、−Br、−C
l、−I)、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロ
キシ基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、
N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ基、
N−アリールアミノ基、N,N−ジアリールアミノ基、
N−アルキル−N−アリールアミノ基、アシルオキシ
基、カルバモイルオキシ基、N−アルキルカルバモイル
オキシ基、N−アリールカルバモイルオキシ基、N,N
−ジアルキルカルバモイルオキシ基、N,N−ジアリー
ルカルバモイルオキシ基、N−アルキル−N−アリール
カルバモイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリー
ルスルホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、N−
アルキルアシルアミノ基、N−アリールアシルアミノ
基、ウレイド基、N’−アルキルウレイド基、N’,
N’−ジアルキルウレイド基、N’−アリールウレイド
基、N’,N’−ジアリールウレイド基、N’−アルキ
ル−N’−アリールウレイド基、N−アルキルウレイド
基、N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N−ア
ルキルウレイド基、N’−アルキル−N−アリールウレ
イド基、N’,N’−ジアルキル−N−アルキルウレイ
ド基、N’,N’−ジアルキル−N−アリールウレイド
基、N’−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−
アリール−N−アリールウレイド基、N’,N’−ジア
リール−N−アルキルウレイド基、N’,N’−ジアリ
ール−N−アリールウレイド基、N’−アルキル−N’
−アリール−N−アルキルウレイド基、N’−アルキル
−N’−アリール−N−アリールウレイド基、アルコキ
シカルボニルアミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ
基、N−アルキル−N−アルコキシカルボニルアミノ
基、Nーアルキル−N−アリーロキシカルボニルアミノ
基、N−アリール−N−アルコキシカルボニルアミノ
基、N−アリール−N−アリーロキシカルボニルアミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアル
キルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、
N,N−ジアリールカルバモイル基、N−アルキル−N
−アリールカルバモイル基、アルキルスルフィニル基、
アリールスルフィニル基、アルキルスルホニル基、アリ
ールスルホニル基、スルホ基(−SO3 H)およびその
共役塩基基(スルホナト基と称す。金属塩も含む)、ア
ルコキシスルホニル基、アリーロキシスルホニル基、ス
ルフィナモイル基、N−アルキルスルフィナモイル基、
N,N−ジアルキルスルフィイナモイル基、N−アリー
ルスルフィナモイル基、N,N−ジアリールスルフィナ
モイル基、N−アルキル−N−アリールスルフィナモイ
ル基、スルファモイル基、N−アルキルスルファモイル
基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N−アリー
ルスルファモイル基、N,N−ジアリールスルファモイ
ル基、N−アルキル−N−アリールスルファイル基、ホ
スフォノ基(−PO3 H2 )およびその共役塩基基(ホ
スフォナト基と称す。金属塩も含む)、ジアルキルホス
フォノ基(−PO3 (alkyl )2 :alkyl =アルキル
基、以下同)、ジアリールホスフォノ基(−PO3 (ar
yl)2 :aryl=アリール基、以下同)、アルキルアリー
ルホスフォノ基(−PO3 (alkyl )(aryl))、モノ
アルキルホスフォノ基(−PO3 (alkyl ))およびそ
の共役塩基基(アルキルホスフォナト基と称す。金属塩
も含む)、モノアリールホスフォノ基(−PO3 H(ar
yl))およびその共役塩基基(アリールホスフォナト基
と称す。金属塩も含む)、ホスフォノオキシ基(−OP
O3 H2 )およびその共役塩基基(アリールホスフォナ
ト基と称す。金属塩も含む)、ホスフォノオキシ基(−
OPO3 H2 )およびその共役塩基基(ホスフォナトオ
キシ基と称す。金属塩も含む)、ジアルキルホスフォノ
オキシ基(−OPO3 (alkyl )2 )、ジアリールホス
フォノオキシ基(−OPO3 (aryl)2 )、アルキルア
リールホスフォノオキシ基(−OPO3 (alkyl )(ar
yl))、モノアルキルホスフォノオキシ基(−OPO3
H(alkyl )およびその共役塩基基(アルキルホスフォ
ナトオキシ基と称す。金属塩も含む)、モノアリールホ
スフォノオキシ基(−OPO3 H(aryl))およびその
共役塩基基(アリールフォスホナトオキシ基と称す。金
属塩も含む)、シアノ基、ニトロ基、アリール基、アル
ケニル基、アルキニル基等が挙げられる。
るアルキル基の具体例としては、前述のアルキル基が挙
げられ、アリール基の具体例としては、フェニル基、ビ
フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシ
チル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、クロロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル
基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノ
キシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキ
シフェニル基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフ
ェニル基、メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフ
ェニル基、アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェ
ニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシフェ
ニルカルボニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、
N−フェニルカルバモイルフェニル基、シアノフェニル
基、スルホフェニル基、スルホナトフェニル基、ホスフ
ォノフェニル基、ホスフォナトフェニル基等が挙げるこ
とができる。
アルケニル基の例としては、ビニル基、1−プロペニル
基、1−ブテニル基、シンナミル基、2−クロロ−1−
エテニル基等が挙げられ、アルキニル基の例としては、
エチニル基、1−プロピニル基、1−ブチニル基、トリ
メチルシリルエチニル基等が挙げられる。アシル基(G
1 CO−)におけるG1 としては、水素、ならびに上記
のアルキル基、アリール基を挙げることができる。これ
ら置換基のうちさらにより好ましいものとしてはハロゲ
ン原子(−F、−Br、−Cl、−I)、アルコキシ
基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、N−アルキルアミノ基、N,N−ジアルキルアミノ
基、アシルオキシ基、N−アルキルカルバモイルオキシ
基、N−アリールカルバモイルオキシ基、アシルアミノ
基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カルバモ
イル基、N−アルキルカルバモイル基、N,N−ジアル
キルカルバモイル基、N−アリールカルバモイル基、N
−アルキル−N−アリールカルバモイル基、スルホ基、
スルホナト基、スルファモイル基、N−アルキルスルフ
ァモイル基、N,N−ジアルキルスルファモイル基、N
−アリールスルファモイル基、N−アルキル−N−アリ
ールスルファモイル基、ホスフォノ基、ホスフォナト
基、ジアルキルホスフォノ基、ジアリールホスフォノ
基、モノアルキルホスフォノ基、アルキルホスフォナト
基、モノアリールホスフォノ基、アリールホスフォナト
基、ホスフォノオキシ基、ホスフォナトオキシ基、アリ
ール基、アルケニル基が挙げられる。
基としては前述の炭素数1〜20のアルキル基上の水素
原子のいずれか1つを除し、2価の有機残基としたもの
を挙げることができ、好ましくは炭素原子数1〜12の
直鎖状、炭素原子数3〜12の分岐状ならびに炭素原子
数5〜10の環状のアルキレン基を挙げることができ
る。このような置換基とアルキレン基を組み合わせるこ
とで得られるR3 で表される置換アルキル基の具体例と
しては、クロロメチル基、ブロモメチル基、2−クロロ
エチル基、トリフルオロメチル基、メトキシメチル基、
メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、ア
リルオキシエチル基、フェノキシメチル基、メチルチオ
メチル基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル
基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプロピル
基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル
基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、
N−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセチルア
ミノエチル基、N−メチルベンゾイルアミノプロピル
基、2−オキソエチル基、2−オキソプロピル基、カル
ボキシメチル基、カルボキシプロピル基、メトキシカル
ボニルエチル基、アリルオキシカルボニルブチル基、ク
ロロフェノキシカルボニルメチル基、ヘキシルオキシカ
ルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、N−メチル
カルバモイルエチル基、N,N−ジプロピルカルバモイ
ルメチル基、N−(メトキシフェニル)カルバモイルエ
チル基、N−メチル−N−(スルホフェニル)カルバモ
イルメチル基、スルホブチル基、スルホナトエチル基、
スルホナトブチル基、スルファモイルブチル基、N−エ
チルスルファモイルメチル基、N,N−ジプロピルスル
ファモイルプロピル基、N−トリルスルファモイルプロ
ピル基、N−メチル−N−(ホスフォノフェニル)スル
ファモイルオクチル基、ホスフォノブチル基、ホスフォ
ナトヘキシル基、ジエチルホスフォノブチル基、ジフェ
ニルホスフォノプロピル基、メチルホスフォノブチル
基、メチルホスフォナトブチル基、トリルホスフォノヘ
キシル基、トリルホスフォナトヘキシル基、ホスフォノ
オキシプロピル基、ホスフォナトオキシブチル基、ベン
ジル基、フェネチル基、α−メチルベンジル基、1−メ
チル−1−フェニルエチル基、p−メチルベンジル基、
シンナミル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2
−ブテニル基、2−メチルアリル基、2−メチルプロペ
ニルメチル基、2−プロピニル基、2−ブチニル基、3
−ブチニル基等を挙げることができる。
3個のベンゼン環が縮合環を形成したもの、またはベン
ゼン環と5員不飽和環が縮合環を形成したものから誘導
される基を挙げることができる。具体例としては、フェ
ニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル
基、インデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基
を挙げることができ、これらのなかでは、フェニル基、
ナフチル基がより好ましい。
前述のアリール基の環形成炭素原子上に置換基として、
水素を除く一価の非金属原子団を有するものが用いられ
る。好ましい置換基の例としては前述のアルキル基、置
換アルキル基、ならびに、先に置換アルキル基における
置換基として示したものを挙げることができる。このよ
うな、置換アリール基の好ましい具体例としては、ビフ
ェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニ
ル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロ
フェニル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメ
チルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェ
ニル基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフ
ェニル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル
基、トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、
ジエチルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、ア
セチルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル
基、N−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル
基、N−フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセ
チルアミノフェニル基、N−メチルベンゾイルアミノフ
ェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニル
フェニル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロ
ロフェノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェ
ニル基、N−メチルカルバモイルフェニル基、N,N−
ジプロピルカルバモイルフェニル基、N−(メトキシフ
ェニル)カルバモイルフェニル基、N−メチル−N−
(スルホフェニル)カルバモイルフェニル基、スルホフ
ェニル基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェ
ニル基、N−エチルスルファモイルフェニル基、N,N
−ジプロピルスルファモイルフェニル基、N−トリルス
ルファモイルフェニル基、N−メチル−N−(ホスフォ
ノフェニル)スルファモイルフェニル基、ホスフォノフ
ェニル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォ
ノフェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチ
ルホスフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル
基、トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナト
フェニル基、アリル基、1−プロペニルメチル基、2−
ブテニル基、2−メチルアリルフェニル基、2−メチル
プロペニルフェニル基、2−プロピニルフェニル基、2
−ブチルフェニル基、3−ブチニルフェニル基等を挙げ
ることができる。
素原子数1〜20の直鎖状、分岐状または環状のアルケ
ニル基を挙げることができる。
換基としては、置換アルキル基で述べた置換基を挙げる
ことができる。
ルケニル基の具体例としては、ビニル基、1−プロペニ
ル基、1−ブテニル基、1−メチル−1−プロペニル
基、スチリル基、2−ペンテニル基、2−シクロヘキシ
ニル基などを挙げることができる。
素数1〜20の直鎖状、分岐状のアルキニル基を挙げる
ことができる。
換基としては、置換アルキル基で述べた置換基を挙げる
ことができる。
ルキニル基の具体例としては、エチニル基、2−フェニ
ルエチニル基、1−ブチニル基等を挙げることができ
る。
しては、炭素原子数1〜10の直鎖状、分岐状または環
状のアルキル基がオキシカルボニル基に結合した残基を
挙げることができ、その具体例としては、メトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基、sec−ブトキシカルボ
ニル基、tert−ブトキシカルボニル基を挙げること
ができる。
いてはアルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置
換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基が好
適で有り、特に無置換の直鎖状のアルキル基およびアル
コキシ基、カルボキシル基、スルホナト基、アルコキシ
カルボニル基等で置換された置換アルキル基が好適であ
る。
る。Q1 は上述のA1 、A2 およびこれらの隣接炭素原
子と共同して、複素環を形成するのに必要な非金属原子
団を表す。このような複素環としては5、6、7員の含
窒素、あるいは含硫黄複素環が挙げられ、好ましくは
5、6員の複素環がよい。
ker et at.,J.Am.Chem.Soc.,73,5326-5358(1951)および
参考文献に記載されるメロシアニン色素類における塩基
性核を構成するものとして知られているものをいずれも
好適に用いることができる。具体例としては、チアゾー
ル類(例えば、チアゾール、4−メチルチアゾール、4
−フェニルチアゾール、5−メチルチアゾール、5−フ
ェニルチアゾール、4,5−ジメチルチアゾール、4,
5−ジフェニルチアゾール、4,5−ジ(p−メトキシ
フェニルチアゾール)、4−(2−チエニル)チアゾー
ル等)、ベンゾチアゾール類(例えば、ベンゾチアゾー
ル、4−クロロベンゾチアゾール、5−クロロベンゾチ
アゾール、6−クロロベンゾチアゾール、7−クロロベ
ンゾチアゾール、4−メチルベンゾチアゾール、5−メ
チルベンゾチアゾール、6−メチルベンゾチアゾール、
5−ブロモベンゾチアゾール、4−フェニルベンゾチア
ゾール、5−フェニルベンゾチアゾール、4−メトキシ
ベンゾチアゾール、5−メトキシベンゾチアゾール、6
−メトキシベンゾチアゾール、5−ヨードベンゾチアゾ
ール、6−ヨードベンゾチアゾール、4−エトキシベン
ゾチアゾール、5−エトキシベンゾチアゾール、テトラ
ヒドロベンゾチアゾール、5,6−ジメトキシベンゾチ
アゾール、5,6−ジオキシメチレンベンゾチアゾー
ル、5−ヒドロキシベンゾチアゾール、6−ヒドロキシ
ベンゾチアゾール、6−ジメチルアミノベンゾチアゾー
ル、5−エトキシカルボニルベンゾチアゾール等)、ナ
フトチアゾール類(例えば、ナフト[1,2]チアゾー
ル、ナフト[2,1]チアゾール、5−メトキシナフト
[2,1]チアゾール、5−エトキシナフト[2,1]
チアゾール、8−メトキシナフト[1,2]チアゾー
ル、7−メトキシナフト[1,2]チアゾール等)、チ
アナフテノ−7’,6’,4,5−チアゾール類(例え
ば、4’−メトキシチアナフテノ−7’,6’,4,5
−チアゾール等)、オキサゾール類(例えば、4−メチ
ルオキサゾール、5−メチルオキサゾール、4−フェニ
ルオキサゾール、4,5−ジフェニルオキサゾール、4
−エチルオキサゾール、4,5−ジメチルオキサゾー
ル、5−フェニルオキサゾール等)、ベンゾオキサゾー
ル類(ベンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾ
ール、5−メチルベンゾオキサゾール、5−フェニルベ
ンゾオキサゾール、6−メチルベンゾオキサゾール、
5,6−ジメチルベンゾオキサゾール、4,6−ジメチ
ルベンゾオキサゾール、6−メトキシベンゾオキサゾー
ル、5−メトキシベンゾオキサゾール、4−エトキシベ
ンゾオキサゾール、5−クロロベンゾオキサゾール、6
−メトキシベンゾオキサゾール、5−ヒドロキシベンゾ
オキサゾール、6−ヒドロキシベンゾオキサゾール
等)、ナフトオキサゾール類(例えば、ナフト[1,
2]オキサゾール、ナフト[2,1]オキサゾール
等)、セレナゾール類(例えば、4−メチルセレナゾー
ル、4−フェニルセレナゾール等)、ベンゾセレナゾー
ル類(例えば、ベンゾセレナゾール、5−クロロベンゾ
セレナゾール、5−メトキシベンゾセレナゾール、5−
ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロベンゾセ
レナゾール等)、ナフトセレナゾール類(例えば、ナフ
ト[1,2]セレナゾール、ナフト[2,1]セレナゾ
ール等)、チアゾリン類(例えば、チアゾリン、4−メ
チルチアゾリン等)、2−キノリン類(例えば、キノリ
ン、3−メチルキノリン、5−メチルキノリン、7−メ
チルキノリン、8−メチルキノリン、6−クロロキノリ
ン、8−クロロキノリン、6−メトキシキノリン、6−
エトキシキノリン、6−ヒドロキシキノリン、8−ヒド
ロキシキノリン等)、4−キノリン類(例えば、キノリ
ン、6−メトキシキノリン、7−メチルキノリン、8−
メチルキノリン等)、1−イソキノリン類(例えば、イ
ソキノリン、3,4−ジヒドロイソキノリン等)、3−
イソキノリン類(例えば、イソキノリン等)、ベンズイ
ミダゾール類(例えば、1,3−ジエチルベンズイミダ
ゾール、1−エチル−3−フェニルベンズイミダゾール
等)、3,3−ジアルキルインドレニン類(例えば、
3,3−ジメチルインドレニン、3,3,5,−トリメ
チルインドレニン、3,3,7,−トリメチルインドレ
ニン等)、2−ピリジン類(例えば、ピリジン、5−メ
チルピリジン等)、4−ピリジン(例えば、ピリジン
等)等を挙げることができる。
ば、特開平3−296759号記載の色素類におけるジ
チオール部分構造を挙げることができる。
えば、ベンゾジチオール、5−t−ブチルベンゾジチオ
ール、5−メチルベンゾジチオール等)、ナフトジチオ
ール類(例えば、ナフト[1,2]ジチオール、ナフト
[2,1]ジチオール等)、ジチオール類(例えば、
4,5−ジメチルジチオール類、4−フェニルジチオー
ル類、4−メトキシカルボニルジチオール類、4,5−
ジメトキシカルボニルベンゾジチオール類、4,5−ジ
トリフルオロメチルジチオール、4,5−ジシアノジチ
オール、4−メトキシカルボニルメチルジチオール、4
−カルボキシメチルジチオール等)等を挙げることがで
きる。
述のA1 、A2 およびこれらに隣接する炭素原子と共同
して形成する含窒素あるいは硫黄複素環の例のうち、よ
り好ましい例としては、チアゾール類、ベンゾチアゾー
ル類、ナフトチアゾール類、ベンゾオキサゾール類、ベ
ンズイミダゾール類、3、3−ジアルキルインドレニン
類が挙げられ、さらにより好ましくはチアゾール類を挙
げることができる。
のを例示することができる。
A3 は酸素原子、硫黄原子、または水素原子、アルキル
基およびアリール基のうちの1個が結合した窒素原子、
または水素原子、アルキル基およびアリール基のうちの
2個が結合した炭素原子を表す。A3 中のアルキル基お
よびアリール基としては上述のR3 と同様のものを例示
することができる。
のA1 、A2 のところのもと同義であり、置換基Eはハ
メットのσ値が−0.9から+0.5までの範囲に有る
ものである。その例としては、水素原子、メチル基、イ
ソプロピル基、tert−ブチル基、フェニル基、トリ
フルオロメチル基、アセチル基、エトキシカルボニル
基、カルボキシル基、カルボキシラト基(−COO
- )、アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、
エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、アセチルアミノ
基、−PO3 H基、メトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、ベンシルオキシ
基、フェノキシ基、ヒドロキシ基、アセトキシ基、メチ
ルチオ基、エチルチオ基、イソプロピルチオ基、メルカ
プト基、アセチルチオ基、チオシアノ基、(−SC
N)、メチルスルフィニル基、エチルスルフィニル基、
メチルスルホニル基、エチルスルホニル基、アミノスル
ホニル基、ジメチルスルホニル基(−S+ (CH3 )
2 )、スルホナト基(−SO2 -)、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、沃素原子、ヨージル基、トリメチルシリ
ル基(−Si(CH3 )3 )、トリエチルシリル基、ト
リメチルスタニル基(−Sn(CH3 )3 )を挙げるこ
とができる。これらの置換基のうちで好ましいものは、
水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、塩素原子、
臭素原子である。
ついて具体的に説明する。R1 およびR2 はそれぞれ独
立して、水素原子、アルキル基、置換アルキル基、アリ
ール基または置換アリール基を表す。アルキル基、置換
アルキル基、アリール基または置換アリール基の好まし
い例としては、前述のR3 の例として挙げた置換基を挙
げることができる。
素原子、および炭素数10以下の直鎖状、分岐状、環状
のアルキル基が挙げられる。
を形成していてもよく、好ましい具体例としては、R1
とR3 が結合して炭素数2以上10以下の置換基を有し
ても良いアルキレン基をなすものを挙げることができ、
メチン鎖の一部とともに形成される環としては、シクロ
ペンテン、シクロヘキセン等が挙げられる。
成していても良い。好ましい具体例としては、R1 とR
2 が結合して炭素数3以上10以下の置換基を有しても
良いアルキレン基をなすものを挙げることができ、メチ
ン鎖の一部とともに形成される環としては、シクロペン
タン、シクロヘキサン等が挙げられる。このような部分
構造を有する式(I)で表される化合物の例としては、
USP2882159号に記載されるメロシアニン色素
の一部を挙げることができる。
ついて具体的に説明する。X1 およびX2 は各々独立し
て、シアノ基または置換カルボニル基を表し、X1 とX
2 とは互いに結合して環を形成してもよい。
(G2 −CO−)としては、G2 が一価の非金属原子団
のものを使用でき、具体的にはG2 が置換または無置換
アルキル基(具体例はR3 で挙げたものと同じ)、置換
または無置換アリール基(具体例はR3 で挙げたものと
同じ)、置換または無置換の芳香族ヘテロ環基(フリル
基、チエニル基、ピリジル基等)、置換または無置換の
アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、
ベンジルオキシ基等)、アリーロキシ基(フェノキシ基
等)、置換または無置換のアミノ基(ジエチルアミノ
基、フェニルアミノ基等)のものを用いることができ
る。このような置換カルボニル基の好ましい例として
は、ホルミル基、アシル基、フロイル基、テノイル基、
ピリジンカルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ーロキシカルボニル基、カルバモイル基、N−アルキル
カルバモイル基、N,N−ジアルキルカルバモイル基、
N−アリールカルバモイル基、N,N−ジアリールカル
バモイル基、N−アルキル−N−アリールカルバモイル
基が挙げられる。これらにおけるアルキル基、アリール
基としては前述R3 の例として挙げたアルキル基、置換
アルキル基、ならびにアリール基、置換アリール基を挙
げることができる。より好ましい具体例としては、アセ
チル基、ベンゾイル基、2−フロイル基、2−テノイル
基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ア
リルオキシカルボニル基、N−メチルカルバモイル基、
N−フェニルカルバモイル基、N,N−ジエチルカルバ
モイル基、モルホリノカルボニル基等が挙げられる。
ものとしては、下記部分構造式(Ia)で表される部分
構造をなすものを挙げることができる。
員もしくは7員の炭化水素環、もしくは複素環を完成す
るのに必要な非金属原子団を表す。
例としてはメロシアニン色素類の酸性核として知られる
ものを挙げることができる。
構造の例についてより詳しく述べる。
1,3−シクロペンタンジオン類(例えば、1,3−シ
クロペンタンジオン等)、1,3−シクロペンテンンジ
オン類(例えば、1,3−シクロペンテンジオン等)、
1,3−シクロヘキサンジオン類(例えば、1,3−シ
クロヘキサンジオン、ジメドン、5−フェニル−1,3
−シクロヘキサンジオン等)を挙げることができる。
部分構造式(Ia−1)で表されるインダンジオン類
(1,3−ジケトヒドリンデン等)を挙げることができ
る。
例と同様)、置換アルキル基(例えばR3 の例と同
様)、アリール基(例えばR3 の例と同様)、置換アリ
ール基(例えばR3 の例と同様)、アルコキシ基(例え
ばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基等)、ニトロ
基、シアノ基、置換または無置換のアミノ基(例えばア
ミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等)また
はハロゲン原子を表す。x1 は0〜4の整数である。]
キサ−2,4−シクロペンタンジオン類(例えば、テト
ロン酸等)、1−チア−2,4−シクロペンタンジオン
類(例えば、チオテトロン酸等)、1,3−ジオキサ−
4,5−シクロヘキサンジオン類(メロドラム酸等)を
挙げることができる。
造式(Ia−2)で表される2,4,6−トリケトヘキ
サヒドロピリミジン類(即ち、バルビツル酸類、2−チ
オバルビツル酸類およびこれらの1,3−置換体)、
表し、X11、X12はそれぞれ独立して、水素原子、アル
キル基(例えばR3 の例と同様)、置換アルキル基(例
えばR3 の例を同様)、アリール基(例えばR3 の例と
同様)、置換アリール基(例えばR3 の例と同様)を表
す。]
−ジオキソ−6,7−ジヒドロ−5−チアゾロ[3,2
−a]ピリミジン類(例えば5,7−ジオキソ−3−フ
ェニル−6,7−ジヒドロ−5−チアゾロ[3,2−
a]ピリミジン等)
水素原子、アルキル基(例えばR3 の例と同様)、置換
アルキル基(例えばR3 の例と同様)、アリール基(例
えばR 3 の例と同様)、置換アリール基(例えばR3 の
例と同様)を表す。]
−ピラゾリジンジオン類(例えば1,2−ジフェニル−
3,5−ピラゾリジンジオン等)、
水素原子、アルキル基(例えばR3 の例と同様)、置換
アルキル基(例えばR3 の例と同様)、アリール基(例
えばR3 の例と同様)、置換アリール基(例えばR3 の
例と同様)を表す。]
2,3,4−テトラヒドロ−2,4−キノリンジオン類
(例えば1−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ−
2,4−キノリンジオン等)
えばR3 の例と同様)、置換アルキル基(例えばR3 の
例と同様)、アリール基(例えばR3 の例と同様)、置
換アリール基(例えばR3 の例と同様)を表し、X18は
X10と同様の置換基を表す。x2 は0〜4の整数であ
る。]
−クロマンジオン類(例えば2,4−クロマンジオン
等)
を表す。x3 は0〜4の整数である。]
−ジオキソ−3,4−ジヒドロ−2H−ピラン類(例え
ば2,4−ジオキソ−3,4−ジヒドロ−6−メチル−
2H−ピラン等)
と同様の置換基を表す。]
しい例としては、部分構造(Ia)が、(Ia−1)で
表されるインダンジオン類、(Ia−2)で表される
2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン類である
ものが挙げられ、さらにより好ましくは、(Ia−2)
で表される2−チオバルビツル酸類であるものが挙げら
れる。
あり、1または2が好ましい。
下に示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。以下では、Q1 で完成される環(Q1 で表示)、X
1 とX2 とが結合した炭素二価基およびnの組み合わせ
で示しているものもあり、これらではR1 =R2 =Hで
ある(No.1〜86)。
ヘイマーら著、「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リレ
ィテッド・コンパウンズ」(F.M.Hamer et al., "The Cy
anine Dyes and Related Compounds ") 第511〜61
1頁(1964年)に記載された方法、KAI ARNE JENSEN お
よびLARS HENRIKSENらがACTA CHEMICA SCANDINAVICA22
巻1107〜1128頁(1968年)に記載した方法などを参照し
て合成することができる。
上を併用してもよい。これらの増感色素の使用量は、エ
チレン性不飽和二重結合を有する化合物100重量部に
対し、0.05〜30重量部、好ましくは0.1〜20
重量部、さらに好ましくは0.2〜10重量部の範囲で
ある。
られるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共存
下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタノ
セン化合物であればいずれであってもよく、例えば、特
開昭59−152396号、特開昭61−151197
号公報に記載されている公知の化合物を適宜に選択して
用いることができる。
ニル−Ti−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ti−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ti−ビス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフ
ェニ−1−イル(以下「A−1」ともいう。)、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テ
トラフルオロフェニ−1−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ti−ビス−2,4,6−トリフルオロフェニ−
1−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ti−ビス−
2,6−ジフルオロフエニ−1−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−
1−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ti−ビ
ス−2,3,4,5,6−ペンタフルオロフエニ−1−
イル(以下「A−2」ともいう。)、ジ−メチルシクロ
ペンタジエニル−Ti−ビス−2,3,5,6−テトラ
フルオロフエニ−1−イル、ジ−メチルシクロペンタジ
エニル−Ti−ビス−2,4−ジフルオロフエニ−1−
イル、ビス(シクロペンタジエニル)−ビス(2,6−
ジフルオロ−3−(ピリ−1−イル)フェニル)チタニ
ウム(以下「A−3」ともいう。)等を挙げることがで
きる。
ノセン化合物は単独でまたは2種以上併用して用いるこ
とができる。
飽和二重結合を有する化合物100重量部に対し、0.
5〜100重量部、好ましくは1〜80重量部、さらに
好ましくは2〜50重量部の範囲で用いることができ
る。
色素とチタノセン化合物の他に、感度向上の目的で以下
に説明する(a)〜(h)の化合物を添加することがで
きる。
としては、まず下記式(VI)で表される化合物が好まし
いものとして挙げられる。
2 は−CX3 、−NH2 、−NHR31 、−NR31 2 、−OR31を表
す。ここでR31はアルキル基、置換アルキル基、アリー
ル基、置換アリール基を表す。またR30は−CX3 、アル
キル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール
基、置換アルケニル基を表す。
としては、下記式(VII) で表される化合物も好ましい。
ルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アリール
基、置換アリール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、置
換アルコキシ基、ニトロ基またはシアノ基であり、Xは
ハロゲン原子であり、kは1〜3の整数である。
物としては、下記式(VIII)で表される化合物も好まし
い。
であり、R34は−CO−NR35R36、下記のオキサジア
ゾリル基
−、−CS−または−SO2 −であり、R35、R36はア
ルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケ
ニル基、アリール基または置換アリール基であり、R37
は式(VII) 中のR32と同じであり、mは1または2であ
る。
としては、下記式(IX)で表される化合物も好ましい。
リール基または複素環基であり、R39は炭素原子数1〜
3のアルキル基またはアルケニル基を有するトリハロア
ルキル基またはトリハロアルケニル基であり、pは1、
2または3である。
としては、下記式(X) で表されるトリハロゲノメチル基
を有するカルボニルメチレン複素環式化合物も好まし
い。
40)q (CX3)rの置換基であり、Mは置換または非置換の
アルキレン基またはアリーレン基であり、Q2 はイオ
ウ、セレンまたは酸素原子、ジアルキルメチレン基、ア
ルケン−1,2−イレン基、1,2−フェニレン基また
はN−R41基であり、M+Q2 は一緒になって炭素原子
および窒素原子とともに5もしくは6員環を形成し、R
40は炭素環式または複素環式の芳香族基であり、R41は
アルキル基、アラルキル基またはアルコキシアルキル基
であり、Xは塩素、臭素またはヨウ素のハロゲン原子で
あり、q=0およびr=1の組合せであるかまたはq=
1およびr=1または2の組合せである。
としては、下記式(XI)で表される4−ハロゲノ−5−
(ハロゲノメチル−フェニル)−オキサゾール誘導体も
好ましい。
1〜3の整数であり、sは1〜4の整数であり、R42は
水素原子またはCH3-t Xt 基であり、R43はs価の置
換されていてもよい不飽和有機基である。
としては、下記式(XII) で表される2−(ハロゲノメチ
ル−フェニル)−4−ハロゲノ−オキサゾール誘導体も
好ましい。
は1〜3の整数であり、uは1〜4の整数であり、R44
は水素原子またはCH3-v Xv 基であり、R45はu価の
置換されていてもよい不飽和有機基である。
合物としては、例えば、若林ら著、Bull. Chem. Soc. J
apan, 42,2924(1969)記載の化合物、例え
ば、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロルメチル)
−S−トリアジン[以下「a−90」ともいう。]、2
−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,
6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−
(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロ
ルフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S
−トリアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−
4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、
2−(α,α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン等が挙げられ
る。その他、英国特許第1388492 号明細書記載の化合
物、例えば、2−スチリル−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(p−メチルスチリ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジン、2−(p−メトキシスチリル)−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メ
トキシスチリル)−4−アミノ−6−トリクロルメチル
−S−トリアジン等、特開昭53−133428号記載
の化合物、例えば、2−(4−メトキシ−ナフト−1−
イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリア
ジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,
6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−
〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−
4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2
−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル〕−4,6
−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2−(ア
セナフト−5−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチ
ル−S−トリアジン等、独国特許第3337024 号明細書記
載の化合物、例えば下記の化合物を挙げることができ
る。
hem.,29,1527(1964)記載の化合物、例え
ば2−メチル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S
−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロムメチ
ル)−S−トリアジン、2,4,6−トリス(ジブロム
メチル)−S−トリアジン、2−アミノ−4−メチル−
6−トリブロムメチル−S−トリアジン、2−メトキシ
−4−メチル−6−トリクロルメチル−S−トリアジン
等を挙げることができる。
合物、例えば下記の化合物を挙げることができる。
合物、例えばの下記の化合物を挙げることができる。
ger および L. M. Werbel 著 Journal of Heterocyclic
chemistry, 第7巻(No. 3), 第511頁以降(19
70年)に記載されている合成方法に準じて当業者が容
易に合成することができる次のような化合物群を挙げる
ことができる。
に記載されているような化合物、例えば、4−(4−メ
トキシ−スチリル)−6−(3,3,3−トリクロルプ
ロペニル)−2−ピロンおよび4−(3,4,5−トリ
メトキシ−スチリル)−6−トリクロルメチル−2−ピ
ロン、あるいはドイツ特許第3333450号に記載さ
れている化合物、例えば下記の化合物を挙げることがで
きる。
の化合物群のなかから下記の化合物を例示することがで
きる。
記載の化合物群のなかから、例えば下記の化合物を挙げ
ることができる。
[前記化3に掲載]で表されるケトン化合物について説
明する。ここで、R10、R11は水素原子または炭素原子
数1〜8のアルキル基を表す。またR10とR11とは互い
に結合して炭素原子とともに環を形成してもよく、この
ような環としてはシクロヘキサノン等が挙げられる。ま
たR10とR11と炭素原子とによって形成される環はカル
ボニル基とモルホリノ基とを連結する二価基となってい
てもよく、このような二価基としてはp−フェニレン基
等が挙げられる。
香族基であるが、R12〜R16は、互いに独立して、水素
原子、ハロゲン原子、炭素原子数1〜12のアルキル
基、炭素原子数3〜12のアルケニル基、アリール基、
炭素原子数1〜12のアルコキシ基、ヒドロキシ基、−
S−R18、−SO−R18、−SO2 −R18を表し、R18
は水素原子、アルキル基またはアルケニル基である。
12のアルキル基、または炭素原子数2〜13のアシル
基を表す。
ニル基、アシル基はさらに炭素原子数1〜6の置換基で
置換されてもよい。
チレン基、エチル−ジメチルアミノエチレン基等)を表
す。L1 が単なる結合であるとき、R12〜R16のうちの
少なくとも1個は−S−R18、−SO−R18である。
載]で表される置換カルボニル基を表し、式中R10およ
びR11は上記と同義のものである。
号、欧州特許0284561A号に記載の下記化合物を
挙げることができる。
II) [前記化6に掲載]で表されるケトオキシム化合物
について説明する。
るものであってもよく、置換基を有していてもよく不飽
和結合を含んでいても良い脂肪族ないし芳香族炭化水素
基、あるいは複素環基を表す。R19、R20の具体例とし
ては、アリル基、フェニルメチル基、n−ブチル基、n
−ドデシル基、2−メトキシエトキシエチル基、4−メ
トキシカルボニルフェニルメチル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、エトキシカルボニルメチル基、4−メトキ
シカルボニルブチル基、2−メトキシカルボニルエチル
基、3−メトキシカルボニルアリル基、ベンジルオキシ
カルボニルメチル基、4−メトキシフェニル基、4−メ
チルチオフェニル基、4−モルホリノフェニル基等があ
る。
てもよく、水素原子、置換基を有していても良く不飽和
結合を含んでいても良い脂肪族ないし芳香族炭化水素
基、複素環基、ヒドロキシル基、置換オキシ基、メルカ
プト基、置換チオ基を表す。R21、R22の具体例として
は、メチル基等がある。
ても良く不飽和結合を含んでいてもよい脂肪族ないし芳
香族炭化水素基、あるいは置換カルボニル基を表す。ま
た、R23、R24は互いに結合して環を形成してもよく、
環の連結主鎖中には−O−、−NR23−、−O−CO
−、−NH−CO−、−S−、および−SO2 −のうち
の少なくとも1個含んでいてもよく、環の炭素原子数は
2〜8である。
あり、これらにより形成される環の具体例としてはモル
ホリン環等がある。
のを挙げることができるが、これに限定されるものでは
ない。
化物としては、分子中に酸素−酸素結合を有する化合物
を挙げることができる。例えばメチルエチルケトンパー
オキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、3,
3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、
メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセ
トンパーオキサイド、1,1−ビス(t−ブチルパーオ
キシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,
1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、
2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、t−ブ
チルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキ
サイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド、パラメタンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメ
チルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、
1,1,3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキ
サイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルク
ミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ビス
(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,
5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘ
キサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパ
ーオキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキサイド、イ
ソブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイ
ド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサ
イド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサ
イド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、
ド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピル
パーオキシジカーボネート、ジ−2−エチルヘキシルパ
ーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキシエチルパー
オキシジカーボネート、ジメトキシイソプロピルパーオ
キシカーボネート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチ
ル)パーオキシジカーボネート、t−ブチルパーオキシ
アセテート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブ
チルパーオキシネオデカノエート、t−ブチルパーオキ
シオクタノエート、t−ブチルパーオキシ−3,5,5
−トリメチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシラ
ウレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ジ−t
−ブチルパーオキシイソフタレート、2,5−ジメチル
−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、t−
ブチル過酸化マレイン酸、t−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート、3,3′,4,4′−テトラ−
(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3′,4,4′−テトラ−(t−アミルパーオキシ
カルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テ
トラ(t−ヘキシルパーオキシカルボニル)ベンゾフェ
ノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−オクチルパー
オキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,
4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾフ
ェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピ
ルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カル
ボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレー
ト)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二
フタレート)等がある。
ラ−(t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン(以下「d−1」ともいう。)、3,3′,4,4′
−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−ヘキシル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ(t−オクチルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(ク
ミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,
3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルクミルパー
オキシカルボニル)ベンゾフェノン、ジ−t−ブチルジ
パーオキシイソフタレートなどの過酸化エステル系が好
ましい。
オ化合物は、式(IV)[前記化7に掲載]で表される。
アリール基を表し、R26は水素原子またはアルキル基を
表す。R25、R26のアルキル基としては炭素原子数1〜
4のものが好ましい。またR25のアリール基としてはフ
ェニル基、ナフチル基のような炭素原子数6〜10のも
のが好ましく、置換アリール基としては、上記のような
アリール基に塩素原子のようなハロゲン原子、メチル基
のようなアルキル基、メトキシ基、エトキシ基のような
アルコキシ基で置換されたものが含まれる。R25とR26
とは互いに結合して炭素原子および窒素原子とともに縮
合環を有していてもよい複素環を完成するのに必要な原
子群となってもよい。この場合の縮合環としてはベンゼ
ン環等が挙げられる。
ては以下のものが挙げられる。以下では式(IV)を再掲
し、式(IV)のR25等の組合せで示している。
リールビイミダゾールとしては、2,2′−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニ
ルビイミダゾール[以下「f−1」ともいう。]、2,
2′−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4′,5,
5′−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス
(o,p−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′−
テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−
クロロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラ(m−
メトキシフェニル)ビイミダゾール、2,2′−ビス
(o,o′−ジクロロフェニル)−4,4′,5,5′
−テトラフェニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o
−ニトロフェニル)−4,4′,5,5′−テトラフェ
ニルビイミダゾール、2,2′−ビス(o−メチルフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール、2,2′−ビス(o−トリフルオロメチルフェ
ニル)−4,4′,5,5′−テトラフェニルビイミダ
ゾール等が挙げられる。ケトオキシムエステルとして
は、3−ベンゾイロキシイミノブタン−2−オン、3−
アセトキシイミノブタン−2−オン、3−プロピオニル
オキシイミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノ
ペンタン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェ
ニルプロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−
1−フェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンス
ルホニルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシ
カルボニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−
オン等が挙げられる。
香族オニウム塩としては、周期表の15(5B)、16
(6B)、17(7B)族の元素、具体的にはN、P、
As、Sb、Bi、O、S、Se、TeまたはIの芳香
族オニウム塩が含まれる。このような芳香族オニウム塩
は、特公昭52−14277号、特公昭52−1427
8号、特公昭52−14279号に示されている化合物
を挙げることができ、具体的には、以下の化合物を挙げ
ることができる。
たはPF6 塩の化合物、さらに好ましくは芳香族ヨード
ニウム塩のBF4 塩またはPF6 塩である。
シムエステルとしては3−ベンゾイロキシイミノブタン
−2−オン[以下「h−1」ともいう。]、3−アセト
キシイミノブタン−2−オン、3−ブロピオニルオキシ
イミノブタン−2−オン、2−アセトキシイミノペンタ
ン−3−オン、2−アセトキシイミノ−1−フェニルプ
ロパン−1−オン、2−ベンゾイロキシイミノ−1−フ
ェニルプロパン−1−オン、3−p−トルエンスルホニ
ルオキシイミノブタン−2−オン、2−エトキシカルボ
ニルオキシイミノ−1−フェニルプロパン−1−オン等
が挙げられる。
でまたは2種以上併用して用いることができる。使用量
はエチレン性不飽和二重結合を有する化合物100重量
部に対し0.05〜100重量部、好ましくは1〜80
重量部、さらに好ましくは3〜50重量部の範囲が適当
である。
系の含有濃度は通常わずかなものである。また、不適当
に多い場合には有効光線の遮断等好ましくない結果を生
じる。本発明における光重合開始剤系の量は、光重合可
能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と必要に
応じて添加される線状有機高分子重合体との合計に対し
て0.01重量%から60重量%の範囲で使用するのが
好ましい。より好ましくは、1重量%から30重量%で
良好な結果を得る。
としての線状有機高分子重合体を含有させることが好ま
しい。このような「線状有機高分子重合体」としては、
光重合可能なエチレン性不飽和化合物と相溶性を有して
いる線状有機高分子重合体である限り、どれを使用して
も構わない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現
像を可能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨
潤性である線状有機高分子重合体が選択される。線状有
機高分子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでな
く、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての
用途に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高
分子重合体を用いると水現像が可能になる。このような
線状有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を
有する付加重合体、例えば特開昭59−44615号、
特公昭54−34327号、特公昭58−12577
号、特公昭54−25957号、特開昭54−9272
3号、特開昭59−53836号、特開昭59−710
48号に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸
共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、
クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステ
ル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカ
ルボン酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この
他に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加さ
せたものなどが有用である。
リレート/(メタ)アクリル酸/必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好
適である。さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85
重量%である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で1/9〜7/3の範囲とするのが好ましい。より好ま
しい範囲は3/7〜5/5である。
他に感光性組成物の製造中あるいは保存中において重合
可能なエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の不要
な熱重合を阻止するために少量の熱重合防止剤を添加す
ることが望ましい。適当な熱重合防止剤としてはハイド
ロキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−
p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコー
ル、ベンゾキノン、4,4′−チオビス(3−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、2,2′−メチレンビス
(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニト
ロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げ
られる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対
して約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必
要に応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘ
ン酸やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添
加して、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させ
てもよい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約
0.5重量%〜約10重量%が好ましい。
しくは顔料を添加してもよい。着色剤としては例えばフ
タロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、
酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタ
ルバイオレット、アゾ系染料、アントラキノン系染料、
シアニン系染料などの染料がある。染料および顔料の添
加量は全組成物の約0.5重量%〜約5重量%が好まし
い。加えて、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填
剤や、その他可塑剤等の公知の添加剤を加えてもよい。
ト、ジドデシルフタレート、トリエチレングリコールジ
カプリレート、ジメチルグリコールフタレート、トリク
レジルホスフェート、ジオクチルアジペート、ジブチル
セバケート、トリアセチルグリセリン等があり、結合剤
を使用した場合、エチレン性不飽和二重結合を有する化
合物と結合剤との合計重量に対し10重量%以下添加す
ることができる。
する際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。
ここで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチル
ケトン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロ
ライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエ
チルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シ
クロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコ
ールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモ
ノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、3−メトキシプロパノール、メ
トキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノ
メチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート、3−メトキシプロピ
ルアセテート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳
酸エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混
合して使用することができる。そして、塗布溶液中の固
形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
〜約10g/m2の範囲が適当である。より好ましくは0.
5〜5g/m2である。
物が用いられる。寸度的に安定な板状物としては、紙、
プラスチック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリスチレンなど)がラミネートされた紙、また、例え
ばアルミニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、
銅などのような金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロ
ース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタールなどのようなプラスチックのフィルム、上記
のような金属がラミネートもしくは蒸着された紙もしく
はプラスチックフィルムなどが挙げられる。これらの支
持体のうち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であ
り、しかも安価であるので特に好ましい。さらに、特公
昭48−18327号に記載されているようなポリエチ
レンテレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが
結合された複合体シートも好ましい。
る支持体の場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化
ジルコニウム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処
理、あるいは陽極酸化処理などの表面処理がなされてい
ることが好ましい。
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭47−5125号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属珪酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使用
される。上記陽極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム
酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくは蓚酸、スルファミ
ン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または非水溶
液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中でアル
ミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施され
る。
されているようなシリケート電着も有効である。
昭52−58602号、特開昭52−30503号に開
示されているような電解グレインを施した支持体と、上
記陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を組合せた表面処
理も有用である。
れているような機械的粗面化、化学的エッチング、電解
グレイン、陽極酸化処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行
ったものも好適である。
性の樹脂、例えばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基
を側鎖に有する重合体および共重合体、ポリアクリル
酸、水溶性金属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染
料、アミン塩等を下塗りしたものも好適である。
れているようなラジカルによって付加反応を起こし得る
官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用
いられる。
水性とするために施される以外に、その上に設けられる
光重合性組成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の
密着性の向上等のために施されるものである。
の上には、空気中の酸素による重合禁止作用を防止する
ため、例えばポリビニルアルコール、特にケン化度99
%以上のポリビニルアルコール、酸性セルロース類など
のような酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を
設けてもよい。このような保護層の塗布方法について
は、例えば米国特許第3,458,311号、特開昭55−
49729号に詳しく記載されている。
合反応に使用できる。さらに、印刷版、プリント基板等
作成の際のフォトレジスト等多方面に適用することが可
能である。特に本発明の光重合性組成物の特徴である高
感度性と可視光領域までの幅広い分光感度特性により、
Ar+ レーザー、YAG−SHGレーザー等の可視光レ
ーザー用の感光材料に適用すると良好な効果が得られ
る。
は、画像露光したのち、現像液で感光層の未露光部を除
去し、画像を得る。これらの光重合性組成物を平版印刷
版の作成に使用する際の好ましい現像液としては、特公
昭57−7427号に記載されているような現像液が挙
げられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第三リン
酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸アン
モニウム、第二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリ
ウム、重炭酸ナトリウム、アンモニア水などのような無
機アルカリ剤やモノエタノールアミンまたはジエタノー
ルアミンなどのような有機アルカリ剤の水溶液が適当で
ある。このようなアルカリ溶液の濃度が0.1〜10重
量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添加さ
れる。
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、2−フ
ェノキシエタノール、2−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
3375171号および同第3615480号に記載さ
れているものを挙げることができる。
8−54341号、特公昭56−39464号、同56
−42860号の各公報に記載されている現像液も優れ
ている。
可視光の幅広い領域のものであってよく、光源として
は、超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカルラ
ンプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライド
灯、可視および紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タ
ングステン灯、太陽光等が使用できる。
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
リウムに60℃で25秒間浸漬してエッチングした後、
流水で水洗後20重量%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗
した。これを正弦波の交番波形電流を用いて1重量%硝
酸水溶液中で300クーロン/dm2 の陽極時電気量で電
解粗面化処理を行った。引き続いて1重量%水酸化ナト
リウム水溶液中に40℃で5秒間浸漬後30重量%の硫
酸水溶液中に浸漬し、60℃で40秒間デスマット処理
した後、20重量%硫酸水溶液中、電流密度2A/dm2 に
おいて、陽極酸化皮膜の厚さが2.7g/m2になるよう
に、2分間陽極酸化処理した。その表面粗さを測定した
ところ、0.3μm (JISB0601によるRa表
示)であった。
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し100℃で1
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が70mg/m2 のバックコー
ト層を設けた支持体を作成した。
が開始した。60分間反応させた後、以下に示す液を加
えることによりバックコート塗布液を調製した。
に、下記組成の光重合性組成物を乾燥塗布量が1.4g/
m2となるように塗布し、80℃2分間乾燥させ感光層を
形成させた。
ン化度98モル%、重合度550)の3重量%の水溶液
を乾燥塗布重量が2g/m2となるように塗布し、100℃
で2分間乾燥した。
を用いた感光材料No. 1〜No. 36(表1)を作成し
た。
チタノセン化合物および(a)〜(h)の化合物を表2
に示すように変更するほかは同様にして光重合性組成物
を得、これらの光重合性組成物を各々用いて、上記と同
様にして比較例の感光材料No. 50〜No. 62を作成し
た。
写真フイルム(株)製の富士PSステップガイド(ΔD
=0.15で不連続に透過濃度が変化するグレースケー
ル)を密着させ、その上から露光した。
ー光学フィルターBP−49を通した光を0.0132
mW/cm2で80秒間照射した。
加熱を行った後に現像した。感度は作成直後の感光材料
について求め、現像後のPSステップガイドのクリアー
段数で示した。この段数の値が大きいほど感度が高い。
なお、現像は下記の現像液に25℃の条件下、10秒間
浸漬して行った。
感色素であるアルコール可溶性エオシンE0 −1は以下
に示すものであり、また(a)〜(h)の化合物のう
ち、a−90、d−1、e−34、e−41、f−1、
h−1の構造式は以下のとおりである。
光重合性組成物において、光重合開始系として本発明の
増感色素およびチタノセン化合物を含むものは、高感度
であることが明白である。そして、さらに(a)〜
(h)の化合物を併用することで、さらに高感度になる
ことがわかる。これに対し、光重合開始系が増感色素を
含まずチタノセン化合物のみしか含まないものとなった
り、また増感色素が含まれていても式(I)の増感色素
と異なる色素では、本発明の効果は得られない。
物を下記組成とするほかは同様にして感光材料No.1
00〜No.133(表3)を作成した。
チタノセン化合物および(a)〜(h)の化合物を表4
に示すように変更するほかは同様にして光重合性組成物
を得、これらの光重合性組成物を各々用いて、上記と同
様にして比較例の感光材料No. 150〜No. 162を作
成した。
の処理を行って同様に特性を調べた。結果を表3、4に
示す。表中のE0 −1等は実施例1と同様のものであ
る。
傾向を示すことがわかった。
物を下記組成とするほかは同様にして感光材料No.2
00〜No.204(表5)を作成し、同様にして特性
を調べた。結果を表5に示す。表中のE0 −1は実施例
1と同様のものである。
すことがわかった。
視光の幅広い領域の活性光線に対して高感度を有する。
したがって光源としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各
水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセノン
灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レーザー
ランプ、蛍光灯、タングステン灯、および太陽光等が使
用できる。
Claims (1)
- 【請求項1】 i)エチレン性不飽和二重結合を有する付
加重合可能な化合物、ii) 下記式(I)で表される増感
色素およびiii)チタノセン化合物を含有する光重合性組
成物。 【化1】 [式(I)において、A1 およびA2 は各々炭素原子ま
たはヘテロ原子を表す。Q1 はA1 、A2 およびこれら
に隣接する炭素原子とともに複素環を形成するのに必要
な非金属原子団を表す。R1 およびR2 は各々水素原
子、アルキル基またはアリール基を表す。R1 とR2 と
は互いに結合して環を形成してもよい。X1およびX2
は各々シアノ基または置換カルボニル基を表し、X1 と
X2 とは互いに結合して環を形成してもよい。nは0、
1または2である。]
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---|---|---|---|---|
EP0985683A1 (en) * | 1998-09-09 | 2000-03-15 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Photosensitive composition and method for manufacturing lithographic printing plate |
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DE112011101165T5 (de) | 2010-03-29 | 2013-03-28 | Mitsubishi Paper Mills Limited | Fotoempfindliche Zusammensetzung und fotoempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial |
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-
1996
- 1996-10-02 JP JP28145496A patent/JP3672137B2/ja not_active Expired - Fee Related
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