JP2000098605A - 感光性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 安価な短波半導体レーザが発振する３５０〜
４５０ｎｍの波長に対し高感度であり、作業性、経済性
に優れ、ＣＴＰシステムに適合した走査露光用平版印刷
版等の感光層等に用いられる感光性組成物を提供する。 【解決手段】 下記一般式（１）で表されるカルボニル
化合物とチタノセン化合物とを含有し、好ましくは、さ
らにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合
物を含有する。 【化１】 （式中、Ｙは隣接するＮおよび炭素原子と共同して含窒
素ヘテロ環を形成する非金属原子団を、Ｘは一価の非金
属原子団を表す。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は新規な感光性組成
物、特に、高感度でかつ、安定性に優れた感光性組成物
に関する。また、本発明は、平版印刷版用原版、特に、
ディジタル信号に基づいた走査露光により製版可能な平
版印刷版原版用の材料として優れた感光性組成物に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、平版印刷版としては親水性支持体
上に親油性の感光性樹脂を設けた構成を有するＰＳ版が
広く用いられ、その製版方法として、通常は、リスフイ
ルムを介してマスク露光（面露光）後、非画像部を溶解
除去することにより所望の印刷版を得ていた。近年、画
像情報をコンピュータを用いて電子的に処理、蓄積、出
力する、ディジタル化技術が広く普及してきている。そ
して、その様なディジタル化技術に対応した新しい画像
出力方式が種々実用される様になってきた。その結果レ
ーザ光のような指向性の高い光をディジタル化された画
像情報に従って走査し、リスフイルムを介す事無く、直
接印刷版を製造するコンピュータ トゥ プレート（Ｃ
ＴＰ）技術が切望されており、これに適応した印刷版用
原版を得ることが重要な技術課題となっている。

【０００３】従来のＣＴＰシステムとして優れているの
は、チタノセンを光開始剤とする光重合系感材で、特に
特開平９−２７２０９６、特開平８−２６２７１５記載
のカルボメロシアニン系色素との組合せが知られてい
る。しかしこのシステムは、光源としてＡｒレーザー
（４８８ｎｍ）やＦＤ−ＹＡＧレーザー（５３２ｎｍ）
の様な比較的長波長の可視光源を使用するため、５００
ｎｍ付近で高感度な感材を使用する事が問題であった。
すなわち、結果として、段ボール包装からの版の取り出
し、プレートセッターのカセットへの装填、プレートセ
ッターへの版の挿入等の作業は、すべて暗い赤灯セーフ
ライト下で行う必要があり、作業性が著しく悪かった。
従って、より明るい黄色もしくは白色のセーフライト下
で取り扱う事のできるＣＴＰシステムを構築する事が強
く望まれていた。

【０００４】一方、近年のレーザ技術の進歩は目覚まし
く、例えば、ＩｎＧａＮ系の材料を用い、３５０ｎｍ〜
４５０ｎｍ域で連続発振可能な半導体レーザが実用され
るに至った。これらの短波光源を用いたＣＴＰシステム
を構築できれば、より明るいセーフライト下での作業が
可能な、感光域が短波である感材が使用できるようにな
る。さらに、半導体レーザは構造上、安価な製造が可能
であり、ＣＴＰシステム用光源として非常に好ましいも
のである。これらのことから、３５０ｎｍ〜４５０ｎｍ
の比較的短波な半導体レーザを用いたＣＴＰシステムに
適した平版印刷版用原版を得ることが、本産業分野にお
いて強く望まれるようになっているが、従来のものでは
感度が十分でなかった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、３５
０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長に対し高感度な新規な感光性
組成物、および、安価な短波半導体レーザの発振波長に
対し高感度であり、作業性、経済性に優れ、ＣＴＰシス
テムに適合した走査露光用平版印刷版等の感光層等に用
いられる感光性組成物を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成すべく鋭意検討を重ねた結果、感光性組成物の光
開始系として特定の化合物の組合せが、短波半導体レー
ザの発振波長に対し十分な感度を有する事を見い出し、
本発明に到達したものである。即ち本発明は、下記の通
りである。 （１）下記一般式（１）で表されるカルボニル化合物と
チタノセン化合物とを含有する感光性組成物。

【０００７】

【化２】

【０００８】（式中、Ｙは隣接するＮおよび炭素原子と
共同して含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を、Ｘ
は一価の非金属原子団を表す。） （２）さらにエチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合性化合物を含有する前記（１）の感光性組成物。

【０００９】加えて、上記の３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの
短波半導体レーザ域に対し高い感光性を有する光重合性
組成物を得る事は、広く、ＣＴＰ以外の産業分野、例え
ば、光造形、ホログラフィー、カラーハードコピーとい
ったレーザイメージング分野や、フォトレジスト等の電
子材料製造分野、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂
材料分野においても、ますます要求の高まっている重要
な技術である。

【００１０】さらに、光により効率良く分解し、ラジカ
ルや酸のような活性種を発生する高感度光開始系を得る
ことは、広く画像形成材料、光硬化材料の高機能化（高
感度化）という点で尚、強く望まれ、例えば、本発明の
光開始系と光との相互作用により発生するラジカルは前
述の様に、ラジカル重合性化合物と組み合わせて、光硬
化・架橋を行いネガ型の画像形成に利用される他、酸化
あるいは発色団π電子系へのラジカル付加により吸収の
変化し得る化合物と組み合わせる事によって、光発色・
消色にも利用される。また、光開始系と光の相互作用に
より発生する酸は、酸分解性化合物や、酸架橋性化合物
と組み合わせて、ポジ・もしくはネガ型の画像形成に利
用されたり、酸により吸収の変化しうる化合物と組み合
わせて、光発色・消色に利用される。また、光開始系は
通常、ラジカル・酸の両方を発生しうるので、ラジカル
反応性・酸反応性、両方の化合物と同時に組み合わせる
事で、種々の画像形成、光応答材料系に適用される。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について詳細
に説明する。 「Ａ．光開始系」本発明の感光性組成物の光開始系は特
定構造を有するカルボニル化合物とチタノセン化合物か
らなる。本発明のカルボニル化合物、チタノセン化合物
は個々に光開始剤として作用し得る事が知られている
が、本発明は、両者を同時に併用することで、特にカル
ボニル化合物の吸収帯に対応する波長域での感度が著し
く向上する事を見い出したものである。本発明における
２種の化合物の機能は明確ではないが、主としてカルボ
ニル化合物が増感色素として機能し、露光光を吸収、励
起状態を生成し、共存するチタノセン化合物からの開始
ラジカル発生を促進するものと考えられる（この様なプ
ロセスを以下、色素増感という）。

【００１２】本発明のカルボニル系増感色素が優れる点
の一つは、その吸収波長が３５０〜４５０ｎｍ域である
ことにある。一方、後述するチタノセン化合物の多く
は、それ自体、紫外域の吸収に加え、５００ｎｍ付近ま
での可視域にも弱い吸収を持ち、そこでも感光性を有す
るが、本発明のカルボニル系増感色素の優れる第２の点
はチタノセンの感光性を著しく向上せしめる事である。
結果として、例えばチタノセン化合物の使用量を比較的
少量にとどめることで、短波での感光性を十分に高めな
がら、同時に、チタノセン化合物自体による５００ｎｍ
域での感光性は実質問題のない程度の低感度にすること
が可能となるものである。

【００１３】本発明におけるカルボニル系増感色素が特
に色素増感能に優れる理由は色素増感の機構の詳細が不
明のため、詳述する事はできないが、以下の様に考える
ことができる。すなわち、本発明の光開始系に含まれる
カルボニル系増感色素は色素の吸収に直接関わるπ電子
系（前記一般式（１）中の-N=C-C=O部分）は比較的短い
共役系からなり、rigidな構造を有するため、例えば特
開平９−２７２０９６、特開平８−２６２７１５記載の
カルボメロシアニン系色素に比較して、色素の光吸収に
より生じる励起状態の寿命が長くなり、色素増感反応の
効率が高くなったと考えられる。また、本発明における
カルボニル系色素は、他の一般的な色素に比較して、電
子供与性が低い（電気化学的な酸化・還元電位が相対的
に正側である。分子軌道法的なＨＯＭＯ、ＬＵＭＯ軌道
エネルギーが負に大きい。）化合物群と考えられ、その
ことが、色素増感効率向上に有利に作用しているとも考
えられる。さらに、本発明の前記一般式（１）中のカル
ボニル構造もしくは-N=C-C=O部分がチタノセンの光反応
中間体に対し配位する事で、そのラジカル発生効率を高
めているとも考えられる。

【００１４】（Ａ１）増感色素 本発明に用いられるカルボニル系増感色素は下記一般式
（１）で表されるものである。

【００１５】

【化３】

【００１６】（式中、Ｙは隣接するＮおよび炭素原子と
共同して含窒素ヘテロ環を形成する非金属原子団を、Ｘ
は一価の非金属原子団を表す。） 前記一般式（１）について詳しく説明する。Ｙは隣接す
るＮ原子および隣接炭素原子と共同して含窒素ヘテロ環
を形成する非金属原子団を表す。好ましい含窒素ヘテロ
環の例としては、例えば、F.M. Hamer著、 The Chemist
ry of Heterocyclic Compounds１８巻 "The Cyanine Dy
es and Related Compounds"(1964),JohnWilley & Sons
(New York)に記載されている様な、シアニンベース（Ba
se）化合物群を構成する含窒素ヘテロ環群を挙げる事が
できる。

【００１７】具体例としては、チアゾール類（例えば、
チアゾール、４−メチルチアゾール、４ーフェニルチア
ゾール、５−メチルチアゾール、５−フェニルチアゾー
ル、４，５−ジメチルチアゾール、４，５−ジフェニル
チアゾール、４，５−ジ（ｐ−メトキシフェニルチアゾ
ール）、４−（２−チエニル）チアゾール、等）、ベン
ゾチアゾール類（例えば、ベンゾチアゾール、４−クロ
ロベンゾチアゾール、５−クロロベンゾチアゾール、６
−クロロベンゾチアゾール、７−クロロベンゾチアゾー
ル、４−メチルベンゾチアゾール、５−メチルベンゾチ
アゾール、６−メチルベンゾチアゾール、５−ブロモベ
ンゾチアゾール、４−フェニルベンゾチアゾール、５−
フェニルベンゾチアゾール、４−メトキシベンゾチアゾ
ール、５−メトキシベンゾチアゾール、６−メトキシベ
ンゾチアゾール、５−ヨードベンゾチアゾール、６−ヨ
ードベンゾチアゾール、４−エトキシベンゾチアゾー
ル、５−エトキシベンゾチアゾール、テトラヒドロベン
ゾチアゾール、５，６−ジメトキシベンゾチアゾール、
５，６−ジオキシメチレンベンゾチアゾール、５−ヒド
ロキシベンゾチアゾール、６−ヒドロキシベンゾチアゾ
ール、６ージメチルアミノベンゾチアゾール、５−エト
キシカルボニルベンゾチアゾール、等）、

【００１８】ナフトチアゾール類（例えば、ナフト
［１，２］チアゾール、ナフト［２，１］チアゾール、
５−メトキシナフト［２，１］チアゾール、５−エトキ
シナフト［２，１］チアゾール、８−メトキシナフト
［１，２］チアゾール、７−メトキシナフト［１，２］
チアゾール、等）、チアナフテノ−７’，６’，４，５
−チアゾール類（例えば、４’−メトキシチアナフテノ
−７’，６’，４，５−チアゾール、等）、オキサゾー
ル類（例えば、４−メチルオキサゾール、５−メチルオ
キサゾール、４−フェニルオキサゾール、４，５−ジフ
ェニルオキサゾール、４−エチルオキサゾール、４，５
−ジメチルオキサゾール、５−フェニルオキサゾール
等）、ベンゾオキサゾール類（ベンゾオキサゾール、５
−クロロベンゾオキサゾール、5ーメチルベンゾオキサゾ
ール、５−フェニルベンゾオキサゾール、６−メチルベ
ンゾオキサゾール、５，６−ジメチルベンゾオキサゾー
ル、４，６−ジメチルベンゾオキサゾール、６−メトキ
シベンゾオキサゾール、５−メトキシベンゾオキサゾー
ル、４−エトキシベンゾオキサゾール、５−クロロベン
ゾオキサゾール、６ーメトキシベンゾオキサゾール、５
−ヒドロキシベンゾオキサゾール、６−ヒドロキシベン
ゾオキサゾール、等）、

【００１９】ナフトオキサゾール類（例えば、ナフト
［１，２］オキサゾール、ナフト［２，１］オキサゾー
ル、等）、セレナゾール類（例えば、４−メチルセレナ
ゾール、４−フェニルセレナゾール、等）、ベンゾセレ
ナゾール類（例えば、ベンゾセレナゾール、５−クロロ
ベンゾセレナゾール、５−メトキシベンゾセレナゾー
ル、５−ヒドロキシベンゾセレナゾール、テトラヒドロ
ベンゾセレナゾール、等）、ナフトセレナゾール類（例
えば、ナフト［１，２］セレナゾール、ナフト［２，
１］セレナゾール、等）、チアゾリン類（例えば、チア
ゾリン、４−メチルチアゾリン、等）、２−キノリン類
（例えば、キノリン、３−メチルキノリン、５−メチル
キノリン、７−メチルキノリン、８−メチルキノリン、
６−クロロキノリン、８−クロロキノリン、６−メトキ
シキノリン、６−エトキシキノリン、６ーヒドロキシキ
ノリン、８−ヒドロキシキノリン、等）、４−キノリン
類（例えば、キノリン、６−メトキシキノリン、７−メ
チルキノリン、８−メチルキノリン、等）、１−イソキ
ノリン類（例えば、イソキノリン、３，４−ジヒドロイ
ソキノリン、等）、３−イソキノリン類（例えば、イソ
キノリン等）、イミダゾール類（例えば、イミダゾール
等）、

【００２０】ベンズイミダゾール類（例えば、１，３−
ジエチルベンズイミダゾール、１−エチル−３−フェニ
ルベンズイミダゾール、等）、３，３−ジアルキルイン
ドレニン類（例えば、３，３−ジメチルインドレニン、
３，３，５，−トリメチルインドレニン、３，３，７，
−トリメチルインドレニン、等）、２−ピリジン類（例
えば、ピリジン、５−メチルピリジン、等）、４−ピリ
ジン（例えば、ピリジン等）等が挙げられ、さらに、ジ
アゾール類（例えば、１，３，４−オキサジアゾール、
１，３，４−チアジアゾール、１，３，４−セレナジア
ゾール等）、トリアゾール類（例えば、１，２，４−ト
リアゾール等）、の他、ピラジン類、キノキサリン類、
トリアジン類（例えば１，３，５−トリアジン等）、フ
ェナントリジン、２Ｈピロール類、ピラゾール類、イソ
チアゾール類、イソオキサゾール類、ピリミジン類、ピ
リダジン類、インダゾール類、フタラジン類、ナフチリ
ジン類、キナゾリン類、シンノリン類、プテリジン類、
β−カルボリン類、ペリミジン類、フラザン類等も好適
に用いられる。

【００２１】これらのＹが隣接するＮおよび隣接炭素原
子と共同して形成する含窒素ヘテロ環類はそれを構成す
る水素原子を任意の置換基に置き換える事もできる。そ
のような置換基の好ましい例としては、アルキル基、置
換アルキル基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、
−Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アリーロキシ
基、メルカプト基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
アルキルジチオ基、アリールジチオ基、アミノ基、Ｎ−
アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−
アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールアミノ基、アシルオキシ基、カ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ
基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカル
バモイルオキシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバ
モイルオキシ基、アルキルスルホキシ基、アリールスル
ホキシ基、アシルチオ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキ
ルアシルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレ
イド基、Ｎ′−アルキルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジア
ルキルウレイド基、Ｎ′−アリールウレイド基、Ｎ′，
Ｎ′−ジアリールウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ′−
アリールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、

【００２２】Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−アルキル
−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′−アルキル−Ｎ−アリ
ールウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アルキ
ルウレイド基、Ｎ′，Ｎ′−ジアルキル−Ｎ−アリール
ウレイド基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド
基、Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′，
Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ′，
Ｎ′−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ′−ア
ルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ′−アルキル−Ｎ′−アリール−Ｎ−アリールウレイ
ド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロキシカ
ルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキシカル
ボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキシカル
ボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシカルボ
ニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシカルボ
ニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキシル
基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル
基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカル
バモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、アルキルスル
フィニル基、アリールスルフィニル基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、

【００２３】スルホ基（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基
基（以下、スルホナト基と称す）、アルコキシスルホニ
ル基、アリーロキシスルホニル基、スルフィナモイル
基、Ｎ−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルスルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイ
ル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールスルフィナモイル基、スルファモ
イル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
ルキルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールスルファモイル基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスフォノ基（−
ＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、ホスフォナト基
と称す）、ジアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃(alky
l)₂）、ジアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃(aryl)₂）、
アルキルアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃(alkyl)(ary
l)）、モノアルキルホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(alkyl)）
及びその共役塩基基（以後、アルキルホスフォナト基と
称す）、モノアリールホスフォノ基（−ＰＯ₃Ｈ(ary
l)）及びその共役塩基基（以後、アリールホスフォナト
基と称す）、ホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及び
その共役塩基基（以後、ホスフォナトオキシ基と称
す）、ジアルキルホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃(alky
l)₂）、

【００２４】ジアリールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ
₃(aryl)₂）、アルキルアリールホスフォノオキシ基（−
ＯＰＯ₃(alkyl)(aryl)）、モノアルキルホスフォノオキ
シ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(alkyl)）及びその共役塩基基（以
後、アルキルホスフォナトオキシ基と称す）、モノアリ
ールホスフォノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ(aryl)）及びそ
の共役塩基基（以後、アリールフォスホナトオキシ基と
称す）、シアノ基、ニトロ基、アリール基、ヘテロアリ
ール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。

【００２５】これらの置換基における、アルキル基の好
ましい例としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖
状、分岐状、および環状のアルキル基を挙げることがで
き、その具体例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキシル基、
２−エチルヘキシル基、２−メチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、２−ノルボルニル基を
挙げることができる。これらの中では、炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状、ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
ル基がより好ましい。

【００２６】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては前述の炭素数１から２０までのアルキル基上
の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基とし
たものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１か
ら１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分岐
状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキレ
ン基を挙げることができる。

【００２７】置換アルキル基の置換基は任意であるが、
好ましい置換アルキル基の具体例としては、クロロメチ
ル基、ブロモメチル基、２−クロロエチル基、トリフル
オロメチル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエ
チル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、
メチルチオメチル基、トリルチオメチル基、エチルアミ
ノエチル基、ジエチルアミノプロピル基、モルホリノプ
ロピル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシ
メチル基、Ｎ−シクロヘキシルカルバモイルオキシエチ
ル基、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシエチル基、アセ
チルアミノエチル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロ
ピル基、２−オキソエチル基、２−オキソプロピル基、
カルボキシプロピル基、メトキシカルボニルエチル基、
アリルオキシカルボニルブチル基、クロロフェノキシカ
ルボニルメチル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチル
カルバモイルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルカルバモイ
ルメチル基、Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルエ
チル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバモ
イルメチル基、スルホブチル基、スルホナトブチル基、
スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルファモイルメ
チル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイルプロピル
基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ−メチル
−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイルオクチル
基、ホスフォノブチル基、ホスフォナトヘキシル基、ジ
エチルホスフォノブチル基、ジフェニルホスフォノプロ
ピル基、メチルホスフォノブチル基、メチルホスフォナ
トブチル基、トリルホスフォノヘキシル基、トリルホス
フォナトヘキシル基、ホスフォノオキシプロピル基、ホ
スフォナトオキシブチル基、ベンジル基、フェネチル
基、α−メチルベンジル基、１−メチル−１−フェニル
エチル基、ｐ−メチルベンジル基、シンナミル基、アリ
ル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−
メチルアリル基、２−メチルプロペニルメチル基、２−
プロピニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基等を挙
げることができる。

【００２８】これらの置換基におけるアリール基の具体
例としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形成
したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成し
たものを挙げることができ、具体例としては、フェニル
基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、イ
ンデニル基、アセナフテニル基、フルオレニル基、を挙
げることができ、これらのなかでは、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。

【００２９】置換アリール基の具体例としては、前述の
アリール基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を
除く一価の非金属原子団を有するものが用いられる。置
換アリール基の好ましい具体例としては、ビフェニル
基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、
クロロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニ
ル基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル
基、メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、
トリルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチ
ルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−
フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル
基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェ
ノキシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル
基、Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）カルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スル
ホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル
基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジ
プロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルフ
ァモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフ
ェニル）スルファモイルフェニル基、ホスフォノフェニ
ル基、ホスフォナトフェニル基、ジエチルホスフォノフ
ェニル基、ジフェニルホスフォノフェニル基、メチルホ
スフォノフェニル基、メチルホスフォナトフェニル基、
トリルホスフォノフェニル基、トリルホスフォナトフェ
ニル基、アリル基、１−プロペニルメチル基、２−ブテ
ニル基、２−メチルアリルフェニル基、２−メチルプロ
ペニルフェニル基、２−プロピニルフェニル基、２−ブ
チニルフェニル基、３−ブチニルフェニル基等を挙げる
ことができる。

【００３０】ヘテロアリール基としては、窒素、酸素、
硫黄原子の少なくとも一つを含有する単環、もしくは多
環芳香族環が用いられ、好ましくは、フラン、ピロー
ル、ピリジン等の５員または６員環芳香族置換基が使用
できる。また、アルケニル基の例としては、ビニル基、
１−プロペニル基、１−ブテニル基、シンナミル基、２
−クロロ−１−エテニル基等が挙げられ、アルキニル基
の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブ
チニル基、トリメチルシリルエチニル基等が挙げられ
る。

【００３１】アシル基（Ｇ₁ ＣＯ−）におけるＧ₁ とし
ては、水素、ならびに上記のアルキル基、アリール基を
挙げることができる。これら置換基の内、更により好ま
しいものとしてはハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ
ｌ、−Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、、アルキ
ルチオ基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイ
ルオキシ基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカ
ルバモイル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイ
ル基、Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアル
キルスルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル
基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホ
スフォノ基、ホスフォナト基、ジアルキルホスフォノ
基、ジアリールホスフォノ基、モノアルキルホスフォノ
基、アルキルホスフォナト基、モノアリールホスフォノ
基、アリールホスフォナト基、ホスフォノオキシ基、ホ
スフォナトオキシ基、アリール基、アルケニル基が挙げ
られる。

【００３２】以上に述べた一般式（１）において、Ｙが
隣接するＮおよび隣接炭素原子と共同して形成する含窒
素ヘテロ環の例の内、下記、部分構造式（Ａ−１）で表
される構造を有する色素は、高い増感能を有する上、保
存安定性にも非常に優れた、光開始系を与えるため、特
に好ましい。

【００３３】

【化４】

【００３４】（式（Ａ−１）中、Ｘ₁ 、Ｘ₂ はそれぞれ
独立に、置換もしくは非置換のアルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基を表し、Ｘ₁ 、Ｘ₂ が互いに結合
して５、６もしくは７員の脂肪族または芳香族環を形成
してもよい。） Ｘ₁ 、Ｘ₂ の具体例としては、先に挙げた置換もしくは
非置換のアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基の
例が挙げられる。

【００３５】次に、一般式（１）中のＸについて説明す
る。Ｘは一価の非金属原子団を表し、例えば、一般式
（１）中のＹが隣接するＮおよび隣接炭素原子と共同し
て形成する含窒素ヘテロ環類の水素原子を置き換えても
よい置換基の例として挙げたものや、水素原子等を何れ
も好適に用いる事ができる。これらの置換基の内、置換
されてもよいアルキル基、置換されても良いアリール
基、置換されても良いヘテロアリール基、置換されても
よいアルケニル基を用いる場合、色素の製造において、
比較的安価な原料から、短工程での合成が可能となるた
め、経済的である。また、特にＹが、置換されても良い
アリール基、置換されても良いヘテロアリール基、置換
されてもよいアルケニル基の色素は、吸収波長的に有利
でかつ、保存安定性に非常に優れた色素を与える。

【００３６】Ｙとして特に好ましいアリール基、置換ア
リール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、
アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセ
ナフテニル基、フルオレニル基、を挙げることができ
る。置換アリール基の具体例としては、ビフェニル基、
トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、クロ
ロフェニル基、ブロモフェニル基、フルオロフェニル
基、クロロメチルフェニル基、トリフルオロメチルフェ
ニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシフェニル基、
メトキシエトキシフェニル基、アリルオキシフェニル
基、フェノキシフェニル基、メチルチオフェニル基、ト
リルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエチ
ルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチル
オキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ−
シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−フ
ェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミノ
フェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル基、
カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル
基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェノ
キシカルボニルフェニル基、カルバモイルフェニル基、
Ｎ−メチルカルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピ
ルカルバモイルフェニル基、

【００３７】Ｎ−（メトキシフェニル）カルバモイルフ
ェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）カルバ
モイルフェニル基、スルホフェニル基、スルホナトフェ
ニル基、スルファモイルフェニル基、Ｎ−エチルスルフ
ァモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイ
ルフェニル基、Ｎ−トリルスルファモイルフェニル基、
Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスフォノフェニル）スルファモイ
ルフェニル基、ホスフォノフェニル基、ホスフォナトフ
ェニル基、ジエチルホスフォノフェニル基、ジフェニル
ホスフォノフェニル基、メチルホスフォノフェニル基、
メチルホスフォナトフェニル基、トリルホスフォノフェ
ニル基、トリルホスフォナトフェニル基、アリル基、１
−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルア
リルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル基、２
−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル基、３
−ブチニルフェニル基、等を挙げることができる。

【００３８】特に好ましいヘテロアリール基の例として
は、例えば、一般式（１）中のＹが隣接するＮおよび隣
接炭素原子と共同して形成する含窒素ヘテロ環類の例と
して挙げたものが何れも好適に使用できる。その他、チ
オフェン、チアスレン、フラン、ピラン、イソベンゾフ
ラン、クロメン、キサンテン、フェノキサジン、ピロー
ル、ピラゾール、イソチアゾール、イソオキサゾール、
ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドリジン、イ
ソインドリジン、インドイール、インダゾール、プリ
ン、キノリジン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリ
ジン、キナゾリン、シノリン、プテリジン、カルバゾー
ル、カルボリン、フェナンスリン、アクリジン、ペリミ
ジン、フェナンスロリン、フタラジン、フェナルザジ
ン、フェノキサジン、フラザン、フェノキサジンや等が
挙げられ、これらは、さらにベンゾ縮環しても良く、ま
た置換基を有していても良い。

【００３９】Ｙとして好ましいアルケニル基の例として
は先に述べたアルケニル基の例に加え、特に下記部分構
造（Ａ−２）で表されるものが優れる。

【００４０】

【化５】

【００４１】（部分構造式（Ａ−２）中、Ｍ₁ 、Ｍ₂ は
それぞれ独立に、置換されてもよいメチン炭素を表し、
Ｘ₃ は置換もしくは非置換のアリール基もしくは、ヘテ
ロアリール基を表し、ｎは１以上の整数である。） Ｍ₁ 、Ｍ₂ が独立にＣＨ、ＣＣＨ₃ である場合、特に色
素の製造が容易であり、ｎが１、２の場合、吸収特性と
安定性の両方に優れた色素が得られる。Ｘ₃ は置換もし
くは非置換のアリール基もしくは、ヘテロアリール基は
既に例示したものが何れも好適に使用できる。

【００４２】以下に、本発明の増感色素の例を、より、
具体的な記述として、化学構造式（Ｄ１）〜（Ｄ５４）
で示すが、本発明の増感色素は上述の構造用件を満たす
ものをいずれも好適に使用でき、本発明は、以下の化学
構造式によって制限を受けるものではない。

【００４３】

【化６】

【００４４】

【化７】

【００４５】

【化８】

【００４６】

【化９】

【００４７】以上にのべた一般式（１）で示される増感
色素は公知の合成法およびその関連合成法を用いて容易
に合成できる。より具体的な合成法は、例えば、特公平
６−９７３３９に詳しく記載されている。

【００４８】本発明の増感色素に関しては、さらに、平
版印刷版の感光層とした場合、その特性を改良するため
の様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増
感色素と、付加重合性化合物構造（例えば、アクリロイ
ル基やメタクリロイル基）とを、共有結合、イオン結
合、水素結合等の方法により結合させる事で、露光膜の
高強度化や、露光後の膜からの色素の不要な析出抑制を
行う事ができる。また、増感色素と後述のチタノセン化
合物やその他のラジカル発生パート（例えば、ハロゲン
化アルキル、オニウム、過酸化物、ビイミダゾール、オ
ニウム、ビイミダゾール等の還元分解性部位や、ボレー
ト、アミン、トリメチルシリルメチル、カルボキシメチ
ル、カルボニル、イミン等の酸化解裂性部位）との結合
により、特に開始系の濃度の低い状態での感光性を著し
く高める事ができる。さらに、本感光層の好ましい使用
様態である、（アルカリ）水系現像液への処理適性を高
める目的に対しては、親水性部位（カルボキシル基並び
にそのエステル、スルホン酸基並びにそのエステル、エ
チレンオキサイド基等の酸基もしくは極性基）の導入が
有効である。特にエステル型の親水性基は、感光層中で
は比較的疎水的構造を有するため相溶性に優れ、かつ、
現像液中では、加水分解により酸基を生成し、親水性が
増大するという特徴を有する。その他、例えば、感光層
中での相溶性向上、結晶析出抑制のために適宜置換基を
導入する事ができる。例えば、ある種の感光系では、ア
リール基やアリル基等の不飽和結合が相溶性向上に非常
に有効である場合があり、また、分岐アルキル構造導入
等の方法により、色素π平面間の立体障害を導入する事
で、結晶析出が著しく抑制できる。また、ホスホン酸基
やエポキシ基、トリアルコキシシリル基等の導入によ
り、金属や金属酸化物等の無機物への密着性を向上させ
る事ができる。そのほか、目的に応じ、増感色素のポリ
マー化等の方法も利用できる。

【００４９】これらの増感色素のどの構造を用いるか、
単独で使用するか、２種以上併用するか、添加量はどう
か、といった使用法の詳細は、最終的な感材の性能設計
にあわせて適宜設定できる。例えば、増感色素を２種以
上併用することで、感光層への相溶性を高める事ができ
る。増感色素の選択は、感光性の他、使用する光源の発
光波長でのモル吸光係数が重要な因子である。モル吸光
係数の大きな色素を使用する事により、色素の添加量は
比較的少なくできるので、経済的であり、かつ感光層の
膜物性の点からも有利である。感光層の感光性、解像度
や、露光膜の物性は光源波長での吸光度に大きな影響を
受けるので、これらを考慮して増感色素の添加量を適宜
選択する。例えば、吸光度が０．１以下の低い領域では
感度が低下する。また、ハレーションの影響により低解
像度となる。但し、例えば５μｍ以上の厚い膜を硬化せ
しめる目的に対しては、この様な低い吸光度の方がかえ
って硬化度をあげられる場合もある。また、吸光度が３
以上の様な高い領域では、感光層表面で大部分の光が吸
収され、より内部での硬化が阻害され、例えば印刷版と
して使用した場合には膜強度、基板密着性の不十分なも
のとなる。比較的薄い膜厚で使用する平版印刷版として
の使用に際しては、増感色素の添加量は、感光層の吸光
度が０．１〜１．５の範囲、好ましくは０．２５〜１の
範囲となるように設定するのが好ましい。平版印刷版と
して利用する場合には、これは、通常、感光層成分１０
０重量部に対し、０．０５〜３０重量部、好ましくは
０．１〜２０重量部、さらに好ましくは０．２〜１０重
量部の範囲である。

【００５０】（Ａ２）チタノセン化合物 本発明の感光性組成物において光重合性開始系として用
いられるチタノセン化合物は、前記した増感色素との共
存下で光照射した場合、活性ラジカルを発生し得るチタ
ノセン化合物であればいずれであってもよく、例えば、
特開昭５９−１５２３９６号、特開昭６１−１５１１９
７号、特開昭６３−４１４８３号、特開昭６３−４１４
８４号、特開平２−２４９号、特開平２−２９１号、特
開平３−２７３９３号、特開平３−１２４０３号、特開
平６−４１１７０号公報に記載されている公知の化合物
を適宜に選択して用いることができる。

【００５１】さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニ−１−イル（以下「Ｔ−１」ともいう。）、ジ−シ
クロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，５，６−テ
トラフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−トリフルオロフェニ−
１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，６−ジフルオロフエニ−１−イル、ジ−シクロペン
タジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−ジフルオロフエニ−
１−イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビ
ス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフエニ−１−
イル、ジ−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−
２，３，５，６−テトラフルオロフエニ−１−イル、ジ
−メチルシクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４−
ジフルオロフエニ−１−イル、ビス（シクロペンタジエ
ニル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−
イル）フェニル）チタニウム（以下「Ｔ−２」ともい
う。）等を挙げることができる。

【００５２】本発明のチタノセン化合物に関しても、先
の増感色素と同様、さらに、感光層の特性を改良するた
めの様々な化学修飾を行うことも可能である。例えば、
増感色素や、付加重合性不飽和化合物その他のラジカル
発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向上、
結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上させる
置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。

【００５３】これらのチタノセン化合物の使用法に関し
ても、先述の付加重合性化合物、増感色素同様、感材の
性能設計により適宜、任意に設定できる。例えば、２種
以上併用することで、感光層への相溶性を高める事がで
きる。チタノセン化合物の使用量は通常多い方が感光性
の点で有利であり、感光層成分１００重量部に対し、
０. ５〜８０重量部、好ましくは１〜５０重量部の範囲
で用いることで十分な感光性が得られる。一方、本発明
の主要な目的である、黄色等、白色灯化での使用に際し
ては、５００ｎｍ付近の光によるカブリ性の点からチタ
ノセンの使用量は少ない事が好ましいが、本発明の増感
色素との組み合わせによりチタノセンの使用量は６重量
部以下、さらに１．９重量部以下、さらには１．４重量
部以下にまで下げても十分な感光性を得ることができ
る。

【００５４】「Ｂ．感光性組成物」本発明の感光性組成
物の光開始系は、広く、例えば、ラジカル反応性、もし
くは酸反応性化合物と併用した感光性樹脂材料、光記録
材料に用いる事ができるが、特に次のような感光性（光
重合性）組成物として使用した場合に、優れた特性を示
す。即ち、本発明に用いられる好ましい光重合性組成物
は、前記「Ａ．光開始系」に加え、さらに、「Ｂ．少な
くとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重
合性化合物（以下、付加重合性化合物という）」を含有
してなる。さらに特に、平版印刷版への適用に際して
は、必要に応じ、（Ｃ）バインダーポリマーを含んでな
る。以下、これらの成分について具体的に説明する。

【００５５】（Ｂ）付加重合性化合物 本発明に使用される少なくとも一個のエチレン性不飽和
二重結合を有する付加重合性化合物は、末端エチレン性
不飽和結合を少なくとも１個、好ましくは２個以上有す
る化合物から選ばれる。この様な化合物群は当該産業分
野において広く知られるものであり、本発明においては
これらを特に限定無く用いる事ができる。これらは、例
えばモノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体
およびオリゴマー、またはそれらの混合物ならびにそれ
らの共重合体などの化学的形態をもつ。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸（例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸など）や、そのエステ
ル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボ
ン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽
和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド類が
用いられる。

【００５６】また、ヒドロキシル基や、アミノ基、メル
カプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エ
ステル、アミド類と単官能もしくは多官能イソシアネー
ト類、エポキシ類との付加反応物、単官能もしくは、多
官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用さ
れる。また、イソシアナト基や、エポキシ基等の親電子
性置換基を有する、不飽和カルボン酸エステル、アミド
類と単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類、
チオール類との付加反応物、ハロゲン基や、トシルオキ
シ基等の脱離性置換基を有する、不飽和カルボン酸エス
テル、アミド類と単官能もしくは多官能のアルコール
類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適であ
る。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸の代
わりに、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル
等に置き換えた化合物群を使用する事も可能である。

【００５７】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１，３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１，４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等がある。

【００５８】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１，３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等がある。

【００５９】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１，３−ブタンジオールジイタコネート、
１，４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレ
ングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジ
イタコネート、ソルビトールテトライタコネート等があ
る。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビト
ールテトラジクロトネート等がある。

【００６０】イソクロトン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトー
ルジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロト
ネート等がある。マレイン酸エステルとしては、エチレ
ングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマ
レート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトー
ルテトラマレート等がある。その他のエステルの例とし
て、例えば、特公昭４６−２７９２６、特公昭５１−４
７３３４、特開昭５７−１９６２３１記載の脂肪族アル
コール系エステル類や、特開昭５９−５２４０、特開昭
５９−５２４１、特開平２−２２６１４９記載の芳香族
系骨格を有するもの、特開平１−１６５６１３記載のア
ミノ基を含有するもの等も好適に用いられる。さらに、
前述のエステルモノマーは混合物としても使用すること
ができる。

【００６１】また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カ
ルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリル
アミド、１，６−ヘキサメチレンビス−アクリルアミ
ド、１，６−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、
ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレ
ンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミ
ド等がある。その他の好ましいアミド系モノマーの例と
しては、特公昭５４−２１７２６記載のシクロへキシレ
ン構造を有すものを挙げる事ができる。

【００６２】また、イソシアネートと水酸基の付加反応
を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適
であり、そのような具体例としては、例えば、特公昭４
８−４１７０８号公報中に記載されている１分子に２個
以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化
合物に、下記一般式（２）で示される水酸基を含有する
ビニルモノマーを付加させた１分子中に２個以上の重合
性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げら
れる。 CH₂ ＝C(R)COOCH₂CH(R′)OH 一般式（２） （ただし、ＲおよびＲ′はＨあるいはＣＨ₃ を示す。）

【００６３】また、特開昭５１−３７１９３号、特公平
２−３２２９３号、特公平２−１６７６５号に記載され
ているようなウレタンアクリレート類や、特公昭５８−
４９８６０号、特公昭５６−１７６５４号、特公昭６２
−３９４１７、特公昭６２−３９４１８号記載のエチレ
ンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類も好適で
ある。さらに、特開昭６３−２７７６５３，特開昭６３
−２６０９０９号、特開平１−１０５２３８号に記載さ
れる、分子内にアミノ構造やスルフィド構造を有する付
加重合性化合物類を用いることによっては、非常に感光
スピードに優れた光重合性組成物を得ることができる。

【００６４】その他の例としては、特開昭４８−６４１
８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２−３０
４９０号の各公報に記載されているようなポリエステル
アクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸を
反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のアクリ
レートやメタクリレートを挙げることができる。また、
特公昭４６−４３９４６号、特公平１−４０３３７号、
特公平１−４０３３６号記載の特定の不飽和化合物や、
特開平２−２５４９３号記載のビニルホスホン酸系化合
物等も挙げることができる。また、ある場合には、特開
昭６１−２２０４８号記載のペルフルオロアルキル基を
含有する構造が好適に使用される。さらに日本接着協会
誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０８ページ（１９８
４年）に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。

【００６５】これらの、付加重合性化合物について、ど
の様な構造を用いるか、単独で使用するか併用するか、
添加量はどうかといった、使用方法の詳細は、最終的な
感材の性能設計にあわせて、任意に設定できる。例えば
次のような観点から選択される。感光スピードの点では
１分子あたりの不飽和基含量が多い構造が好ましく、多
くの場合、２官能以上がこのましい。また、画像部すな
わち硬化膜の強度を高くするためには、３官能以上のも
のが良く、さらに、異なる官能数・異なる重合性基（例
えばアクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、スチ
レン系化合物、ビニルエーテル系化合物）のものを併用
することで、感光性と、強度を両方を調節する方法も有
効である。大きな分子量の化合物や、疎水性の高い化合
物は感光スピードや、膜強度に優れる反面、現像スピー
ドや現像液中での析出といった点で好ましく無い場合が
ある。また、感光層中の他の成分（例えばバインダーポ
リマー、開始剤、着色剤等）との相溶性、分散性に対し
ても、付加重合化合物の選択・使用法は重要な要因であ
り、例えば、低純度化合物の使用や、２種以上の併用に
より相溶性を向上させうる事がある。また、支持体、オ
ーバーコート層等の密着性を向上せしめる目的で特定の
構造を選択することもあり得る。感光層中の付加重合性
化合物の配合比に関しては、多い方が感度的に有利であ
るが、多すぎる場合には、好ましく無い相分離が生じた
り、感光層の粘着性による製造工程上の問題（例えば、
感材成分の転写、粘着に由来する製造不良）や、現像液
からの析出が生じる等の問題を生じうる。これらの観点
から、好ましい配合比は、多くの場合、組成物全成分に
対して５〜８０重量％、好ましくは２５〜７５重量％で
ある。また、これらは単独で用いても２種以上併用して
もよい。そのほか、付加重合性化合物の使用法は、酸素
に対する重合阻害の大小、解像度、かぶり性、屈折率変
化、表面粘着性等の観点から適切な構造、配合、添加量
を任意に選択でき、さらに場合によっては下塗り、上塗
りといった層構成・塗布方法も実施しうる。

【００６６】（Ｃ）バインダーポリマー 本発明の好ましい実施形態である、平版印刷版への適用
に際しては、感光層にさらにバインダーポリマーを使用
することが好ましい。バインダーとしては線状有機高分
子重合体を含有させることが好ましい。このような「線
状有機高分子重合体」としては、どれを使用しても構わ
ない。好ましくは水現像あるいは弱アルカリ水現像を可
能とする水あるいは弱アルカリ水可溶性または膨潤性で
ある線状有機高分子重合体が選択される。線状有機高分
子重合体は、組成物の皮膜形成剤としてだけでなく、
水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤現像剤としての用途
に応じて選択使用される。例えば、水可溶性有機高分子
重合体を用いると水現像が可能になる。このような線状
有機高分子重合体としては、側鎖にカルボン酸基を有す
る付加重合体、例えば特開昭５９−４４６１５号、特公
昭５４−３４３２７号、特公昭５８−１２５７７号、特
公昭５４−２５９５７号、特開昭５４−９２７２３号、
特開昭５９−５３８３６号、特開昭５９−７１０４８号
に記載されているもの、すなわち、メタクリル酸共重合
体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロト
ン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マ
レイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖にカルボン
酸基を有する酸性セルロース誘導体がある。この他に水
酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加させたも
のなどが有用である。

【００６７】特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アク
リレート／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体および〔アリル
（メタ）アクリレート／（メタ）アクリル酸／必要に応
じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕共重合体は、
膜強度、感度、現像性のバランスに優れており、好適で
ある。

【００６８】また、特公平７−１２００４号、特公平７
−１２００４１号、特公平７−１２００４２号、特公平
８−１２４２４号、特開昭６３−２８７９４４号、特開
昭６３−２８７９４７号、特開平１−２７１７４１号、
特願平１０−１１６２３２号等に記載される、酸基を含
有するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度
に優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。

【００６９】さらにこの他に水溶性線状有機高分子とし
て、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド等
が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにアル
コール可溶性ナイロンや２，２−ビス−（４−ヒドロキ
シフェニル）−プロパンとエピクロロヒドリンのポリエ
ーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合体
は全組成物中に任意な量を混和させることができる。し
かし９０重量％を超える場合には形成される画像強度等
の点で好ましい結果を与えない。好ましくは３０〜８５
重量％である。また光重合可能なエチレン性不飽和二重
結合を有する化合物と線状有機高分子重合体は、重量比
で１／９〜７／３の範囲とするのが好ましい。

【００７０】（Ｄ）その他の成分 本発明の感光性組成物を平版印刷版の感光層に使用する
場合、その感光層には、さらにその用途、製造方法等に
適したその他の成分を適宜添加することができる。以
下、好ましい添加剤に関し例示する。 （Ｄ１）共増感剤 ある種の添加剤（以後、共増感剤という）を用いること
で、感光層の感度をさらに向上させる事ができる。これ
らの作用機構は、明確ではないが、多くは次のような化
学プロセスに基づくものと考えられる。即ち、先述の開
始系の光吸収により開始される光反応と、それに引き続
く付加重合反応の過程で生じる様々な中間活性種（ラジ
カル、過酸化物、酸化剤、還元剤等）と、共増感剤が反
応し、新たな活性ラジカルを生成するものと推定され
る。これらは、大きくは、（ａ）還元されて活性ラジカ
ルを生成しうるもの、（ｂ）酸化されて活性ラジカルを
生成しうるもの、（ｃ）活性の低いラジカルと反応し、
より活性の高いラジカルに変換するか、もしくは連鎖移
動剤として作用するものに分類できるが、個々の化合物
がこれらのどれに属するかに関しては、通説がない場合
も多い。

【００７１】（ａ）還元されて活性ラジカルを生成する
化合物 炭素−ハロゲン結合を有する化合物：還元的に炭素−ハ
ロゲン結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えら
れる。具体的には、例えば、トリハロメチル−ｓ−トリ
アジン類や、トリハロメチルオキサジアゾール類等が好
適に使用できる。 窒素−窒素結合を有する化合物：還元的に窒素−窒素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的にはヘキサアリールビイミダゾール類等が好適に使
用される。 酸素−酸素結合を有する化合物：還元的に酸素−酸素結
合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられる。具
体的には、例えば、有機過酸化物類等が好適に使用され
る。 オニウム化合物：還元的に炭素−ヘテロ結合や、酸素−
窒素結合が解裂し、活性ラジカルを発生すると考えられ
る。具体的には例えば、ジアリールヨードニウム塩類、
トリアリールスルホニウム塩類、Ｎ−アルコキシピリジ
ニウム（アジニウム）塩類等が好適に使用される。 フェロセン、鉄アレーン錯体類：還元的に活性ラジカル
を生成しうる。

【００７２】（ｂ）酸化されて活性ラジカルを生成する
化合物 アルキルアート錯体：酸化的に炭素−ヘテロ結合が解裂
し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には
例えば、トリアリールアルキルボレート類が好適に使用
される。アルキルアミン化合物：酸化により窒素に隣接
した炭素上のＣ−Ｘ結合が解裂し、活性ラジカルを生成
するものと考えられる。Ｘとしては、水素原子、カルボ
キシル基、トリメチルシリル基、ベンジル基等が好適で
ある。具体的には、例えば、エタノールアミン類、Ｎ−
フェニルグリシン類、Ｎ−トリメチルシリルメチルアニ
リン類等が挙げられる。 含硫黄、含錫化合物：上述のアミン類の窒素原子を硫黄
原子、錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活
性ラジカルを生成しうる。また、Ｓ−Ｓ結合を有する化
合物もＳ−Ｓ解裂による増感が知られる。

【００７３】α−置換メチルカルボニル化合物：酸化に
より、カルボニル−α炭素間の結合解裂により、活性ラ
ジカルを生成しうる。また、カルボニルをオキシムエー
テルに変換したものも同様の作用を示す。具体的には、
２−アルキル−１−［４−（アルキルチオ）フェニル］
−２−モルフォリノプロノン−１類、並びに、これら
と、ヒドロキシアミン類とを反応したのち、Ｎ−ＯＨを
エーテル化したオキシムエーテル類を挙げる事ができ
る。 スルフィン酸塩類：還元的に活性ラジカルを生成しう
る。具体的は、アリールスルフィン酸ナトリウム等を挙
げる事ができる。

【００７４】ｃ）ラジカルと反応し高活性ラジカルに変
換、もしくは連鎖移動剤として作用する化合物：例え
ば、分子内にＳＨ、ＰＨ、ＳｉＨ、ＧｅＨを有する化合
物群が用いられる。これらは、低活性のラジカル種に水
素供与して、ラジカルを生成するか、もしくは、酸化さ
れた後、脱プロトンする事によりラジカルを生成しう
る。具体的には、例えば、２−メルカプトベンズイミダ
ゾール類等が挙げられる。これらの共増感剤のより具体
的な例は、例えば、特開昭９−２３６９１３中に、感度
向上を目的とした添加剤として、多く記載されている。
以下に、その一部を例示するが、本発明はこれらに限定
されるものはない。

【００７５】

【化１０】

【００７６】これらの共増感剤に関しても、先の増感色
素と同様、さらに、感光層の特性を改良するための様々
な化学修飾を行うことも可能である。例えば、増感色素
やチタノセン、付加重合性不飽和化合物その他のラジカ
ル発生パートとの結合、親水性部位の導入、相溶性向
上、結晶析出抑制のための置換基導入、密着性を向上さ
せる置換基導入、ポリマー化等の方法が利用できる。こ
れらの共増感剤は、単独でまたは２種以上併用して用い
ることができる。使用量はエチレン性不飽和二重結合を
有する化合物１００重量部に対し０．０５〜１００重量
部、好ましくは１〜８０重量部、さらに好ましくは３〜
５０重量部の範囲が適当である。

【００７７】（Ｄ２）重合禁止剤 また、以上の基本成分の他に本発明の感光性組成物の製
造中あるいは保存中において重合可能なエチレン性不飽
和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止するた
めに少量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適
当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキ
シフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロ
ガロール、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，
４′−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）、２，２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−
ブチルフェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシ
アミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤の
添加量は、全組成物の重量に対して約０．０１重量％〜
約５重量％が好ましい。また必要に応じて、酸素による
重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸アミドの
ような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の乾燥の
過程で感光層の表面に偏在させてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成物の約０．５重量％〜約１０重
量％が好ましい。

【００７８】（Ｄ３）着色剤等 さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を
添加してもよい。これにより、印刷版としての、製版後
の視認性や、画像濃度測定機適性といった、いわゆる検
版性を向上させる事ができる。着色剤としては、多くの
染料は光重合系感光層の感度の低下を生じるので、着色
剤としては、特に顔料の使用が好ましい。具体例として
は例えばフタロシアニン系顔料、アゾ系顔料、カーボン
ブラック、酸化チタンなどの顔料、エチルバイオレッ
ト、クリスタルバイオレット、アゾ系染料、アントラキ
ノン系染料、シアニン系染料などの染料がある。染料お
よび顔料の添加量は全組成物の約０．５重量％〜約５重
量％が好ましい。

【００７９】（Ｄ４）その他の添加剤 さらに、硬化皮膜の物性を改良するために無機充填剤
や、その他可塑剤、感光層表面のインク着肉性を向上さ
せうる感脂化剤等の公知の添加剤を加えてもよい。可塑
剤としては例えばジオクチルフタレート、ジドデシルフ
タレート、トリエチレングリコールジカプリレート、ジ
メチルグリコールフタレート、トリクレジルホスフェー
ト、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート、トリ
アセチルグリセリン等があり、結合剤を使用した場合、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と結合剤との
合計重量に対し１０重量％以下添加することができる。

【００８０】また、後述する膜強度（耐刷性）向上を目
的とした、現像後の加熱・露光の効果を強化するため
の、ＵＶ開始剤や、熱架橋剤等の添加もできる。その
他、感光層と支持体との密着性向上や、未露光感光層の
現像除去性を高めるための添加剤、中間層を設ける事が
可能である。例えば、ジアゾニウム構造を有する化合物
や、ホスホン化合物等、基板と比較的強い相互作用を有
する化合物の添加や下塗りにより、密着性が向上し、耐
刷性を高める事が可能であり、一方ポリアクリル酸や、
ポリスルホン酸のような親水性ポリマーの添加や下塗り
により、非画像部の現像性が向上し、汚れ性の向上が可
能となる。

【００８１】本発明の感光性組成物を支持体上に塗布す
る際には種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。こ
こで使用する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロラ
イド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プ
ロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレング
リコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シク
ロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ
イソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチル
エーテルアセテート、３−メトキシプロパノール、メト
キシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメ
チルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピル
アセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸
エチルなどがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合
して使用することができる。そして、塗布溶液中の固形
分の濃度は、２〜５０重量％が適当である。

【００８２】感光層の支持体への被覆量は、主に、感光
層の感度、現像性、露光膜の強度・耐刷性に影響しうる
もので、用途に応じ適宜選択することが望ましい。被覆
量が少なすぎる場合には、耐刷性が十分でなくなる。一
方多すぎる場合には、感度が下がり、露光に時間がかか
る上、現像処理にもより長い時間を要するため好ましく
ない。本発明の主要な目的である走査露光用平版印刷版
としては、その被覆量は乾燥後の重量で約０．１g/m²〜
約１０g/m²の範囲が適当である。より好ましくは０．５
〜５g/m²である。

【００８３】「支持体」本発明の感光性組成物の主要な
目的の一つである、平版印刷版を得るには上記感光層
を、表面が親水性の支持体上に設ける事が望ましい。親
水性の支持体としては、従来公知の、平版印刷版に使用
される親水性支持体を限定無く使用することができる。
使用される支持体は寸度的に安定な板状物であることが
好ましく、例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエ
チレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネー
トされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅
等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロ
[ス、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪
酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチ
レン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニル
アセタール等）、上記の如き金属がラミネート若しくは
蒸着された紙若しくはプラスチックフィルム等が含ま
れ、これらの表面に対し、必要に応じ親水性の付与や、
強度向上、等の目的で適切な公知の物理的、化学的処理
を施しても良い。

【００８４】特に、好ましい支持体としては、紙、ポリ
エステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられ、その
中でも寸法安定性がよく、比較的安価であり、必要に応
じた表面処理により親水性や強度にすぐれた表面を提供
できるアルミニウム板が特に好ましい。また、特公昭４
８−１８３２７号に記載されているようなポリエチレン
テレフタレートフィルム上にアルミニウムシートが結合
された複合体シートも好ましい。

【００８５】好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネート又は蒸着
されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウム合
金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、銅、
マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チ
タン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１０重量
％以下である。本発明において特に好適なアルミニウム
は、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアルミニウ
ムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異元素を
含有するものでもよい。このように本発明に適用される
アルミニウム板は、その組成が特定されるものではな
く、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適宜に
利用することができる。本発明で用いられるアルミニウ
ム板の厚みはおよそ０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ま
しくは０．１５ｍｍ〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．
２ｍｍ〜０．３ｍｍである。

【００８６】また金属、特にアルミニウムの表面を有す
る支持体の場合には、粗面化（砂目立て）処理、ケイ酸
ソーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の
水溶液への浸漬処理、あるいは陽極酸化処理などの表面
処理がなされていることが好ましい。アルミニウム板の
表面の粗面化処理は、種々の方法により行われるが、例
えば、機械的に粗面化する方法、電気化学的に表面を溶
解粗面化する方法及び化学的に表面を選択溶解させる方
法により行われる。機械的方法としては、ボール研磨
法、ブラシ研磨法、ブラスト研磨法、バフ研磨法等の公
知の方法を用いることができる。また、電気化学的な粗
面化法としては塩酸、硝酸等の電解液中で交流又は直流
により行う方法がある。また、特開昭５４−６３９０２
号に開示されているように両者を組み合わせた方法も利
用することができる。また、アルミニウム板を粗面化す
るに先立ち、所望により、表面の圧延油を除去するため
に、例えば、界面活性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶
液等による脱脂処理が行われる。

【００８７】さらに、粗面化したのちにケイ酸ナトリウ
ム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使
用できる。特公昭４７−５１２５号に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理したのちに、アルカ
リ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものが好適に使
用される。陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム
酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、もしくはシュウ酸、スル
ファミン酸等の有機酸またはそれらの塩の水溶液または
非水溶液の単独または二種以上を組み合わせた電解液中
でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実
施される。また、米国特許第３６５８６６２号に記載さ
れているようなシリケート電着も有効である。

【００８８】さらに、特公昭４６−２７４８１号、特開
昭５２−５８６０２号、特開昭５２−３０５０３号に開
示されているような電解グレインを施した支持体と、上
記陽極酸化処理およびケイ酸ソーダ処理を組合せた表面
処理も有用である。また、特開昭５６−２８８９３号に
開示されているような機械的粗面化、化学的エッチン
グ、電解グレイン、陽極酸化処理さらにケイ酸ソーダ処
理を順に行ったものも好適である。さらに、これらの処
理を行った後に、水溶性の樹脂、例えばポリビニルホス
ホン酸、スルホン酸基を側鎖に有する重合体および共重
合体、ポリアクリル酸、水溶性金属塩（例えばホウ酸亜
鉛）もしくは、黄色染料、アミン塩等を下塗りしたもの
も好適である。

【００８９】さらに特開平７−１５９９８３号に開示さ
れているようなラジカルによって付加反応を起こし得る
官能基を共有結合させたゾル−ゲル処理基板も好適に用
いられる。その他好ましい例として、任意の支持体上に
表面層として耐水性の親水性層を設けたものも挙げるこ
とができる。この様な表面層としては例えばＵＳ３０５
５２９５や、特開昭５６ー１３１６８号記載の無機顔料
と結着剤とからなる層、特開平９ー８０７４４記載の親
水性膨潤層、特表平８ー５０７７２７記載の酸化チタ
ン、ポリビニルアルコール、ケイ酸類からなるゾルゲル
膜等を上げる事ができる。これらの親水化処理は、支持
体の表面を親水性とするために施される以外に、その上
に設けられる感光性組成物の有害な反応を防ぐため、か
つ感光層の密着性の向上等のために施されるものであ
る。

【００９０】「保護層」本発明の感光性組成物を用いた
平版印刷版の望ましい様態である、走査露光用平版印刷
版においては、通常、露光を大気中で行うため、感光性
組成物の層の上に、さらに、保護層を設ける事が好まし
い。保護層は、感光層中で露光により生じる画像形成反
応を阻害する大気中に存在する酸素や、塩基性物質等の
低分子化合物の感光層への混入を防止し、大気中での露
光を可能とする。従って、この様な保護層に望まれる特
性は、酸素等の低分子化合物の透過性が低いことであ
り、さらに、露光に用いる光の透過は実質阻害せず、感
光層との密着性に優れ、かつ、露光後の現像工程で容易
に除去できる事が望ましい。この様な、保護層に関する
工夫が従来よりなされており、米国特許第３、４５８、
３１１号、特開昭５５−４９７２９号に詳しく記載され
ている。

【００９１】保護層に使用できる材料としては例えば、
比較的、結晶性に優れた水溶性高分子化合物を用いる事
がよく、具体的には、ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルピロリドン、酸性セルロース類、ゼラチン、アラビア
ゴム、ポリアクリル酸などのような水溶性ポリマーが知
られていが、これらの内、ポリビニルアルコールを主成
分として用いる事が、酸素遮断性、現像除去性といった
基本特性的にもっとも良好な結果を与える。保護層に使
用するポリビニルアルコールは、必要な酸素遮断性と水
溶性を有するための、未置換ビニルアルコール単位を含
有する限り、一部がエステル、エーテル、およびアセタ
ールで置換されていても良い。また、同様に一部が他の
共重合成分を有していても良い。ポリビニルアルコール
の具体例としては７１〜１００％加水分解され、分子量
が３００から２４００の範囲のものを挙げる事ができ
る。

【００９２】具体的には、株式会社クラレ製のＰＶＡ−
１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１
１７Ｈ、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１
２４Ｈ、ＰＶＡ−ＣＳ、ＰＶＡ−ＣＳＴ、ＰＶＡ−Ｈ
Ｃ、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０４、ＰＶＡ−２０
５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２
０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２１７ＥＥ、ＰＶＡ−２
１７Ｅ、ＰＶＡ−２２０Ｅ、ＰＶＡ−２２４Ｅ、ＰＶＡ
−４０５、ＰＶＡ−４２０、ＰＶＡ−６１３、Ｌ−８等
が挙げられる。保護層の成分（ＰＶＡの選択、添加剤の
使用）、塗布量等は、酸素遮断性・現像除去性の他、カ
ブリ性や密着性・耐傷性を考慮して選択される。一般に
は使用するＰＶＡの加水分解率が高い程（保護層中の未
置換ビニルアルコール単位含率が高い程）、膜厚が厚い
程酸素遮断性が高くなり、感度の点で有利である。しか
しながら、極端に酸素遮断性を高めると、製造時・生保
存時に不要な重合反応が生じたり、また画像露光時に、
不要なカブリ、画線の太りが生じたりという問題を生じ
る。また、画像部との密着性や、耐傷性も版の取り扱い
上極めて重要である。即ち、水溶性ポリマーからなる親
水性の層を親油性の重合層に積層すると、接着力不足に
よる膜剥離が発生しやすく、剥離部分が酸素の重合阻害
により膜硬化不良などの欠陥を引き起こす。

【００９３】これに対し、これら２層間の接着性を改善
すべく種々の提案がなされている。たとえば米国特許第
２９２、５０１号、米国特許第４４、５６３号には、主
にポリビニルアルコールからなる親水性ポリマー中に、
アクリル系エマルジョンまたは水不溶性ビニルピロリド
ン−ビニルアセテート共重合体などを２０〜６０重量％
混合し、重合層の上に積層することにより、十分な接着
性が得られることが記載されている。本発明における保
護層に対しては、これらの公知の技術をいずれも適用す
る事ができる。このような保護層の塗布方法について
は、例えば米国特許第３，４５８，３１１号、特開昭５
５−４９７２９号に詳しく記載されている。

【００９４】さらに、保護層に他の機能を付与する事も
できる。例えば、露光に使う、３５０ｎｍから４５０ｎ
ｍの光の透過性に優れ、かつ５００ｎｍ以上の光を効率
良く吸収しうる着色剤（水溶性染料等）の添加により、
感度低下を起こすことなく、セーフライト適性をさらに
高める事ができる。

【００９５】本発明の感光性組成物を用いた感光材料を
画像形成材料として使用する際には、通常、画像露光し
たのち、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得
る。これらの感光性組成物を平版印刷版の作成に使用す
る際の好ましい現像液としては、特公昭５７−７４２７
号に記載されているような現像液が挙げられ、ケイ酸ナ
トリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第
二リン酸ナトリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リ
ン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、アンモニア水などのような無機アルカリ剤やモ
ノエタノールアミンまたはジエタノールアミンなどのよ
うな有機アルカリ剤の水溶液が適当である。このような
アルカリ溶液の濃度が０．１〜１０重量％、好ましくは
０．５〜５重量％になるように添加される。

【００９６】また、このようなアルカリ性水溶液には、
必要に応じて界面活性剤やベンジルアルコール、２−フ
ェノキシエタノール、２−ブトキシエタノールのような
有機溶媒を少量含むことができる。例えば、米国特許第
３３７５１７１号および同第３６１５４８０号に記載さ
れているものを挙げることができる。さらに、特開昭５
０−２６６０１号、同５８−５４３４１号、特公昭５６
−３９４６４号、同５６−４２８６０号の各公報に記載
されている現像液も優れている。

【００９７】その他、本発明の感光性組成物を用いた平
版印刷版用原版の製版プロセスとしては、必要に応じ、
露光前、露光中、露光から現像までの間に、全面を加熱
しても良い。この様な加熱により、感光層中の画像形成
反応が促進され、感度や耐刷性の向上や、感度の安定化
といった利点が生じ得る。さらに、画像強度・耐刷性の
向上を目的として、現像後の画像に対し、全面後加熱も
しくは、全面露光を行う事も有効である。通常現像前の
加熱は１５０℃以下の穏和な条件で行う事が好ましい。
温度が高すぎると、非画像部までもがかぶってしまう等
の問題を生じる。現像後の加熱には非常に強い条件を利
用する。通常は２００〜５００℃の範囲である。温度が
低いと十分な画像強化作用が得られず、高すぎる場合に
は支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を生じ
る。

【００９８】本発明の感光性組成物を用いた走査露光平
版印刷版の露光方法は、公知の方法を制限なく用いる事
ができる。望ましい、光源の波長は３５０ｎｍから４５
０ｎｍであり、具体的にはＩｎＧａＮ系半導体レーザが
好適である。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム
方式、フラットベッド方式等の何れでも良い。また、本
発明の感光層成分は、高い水溶性のものを使用する事
で、中性の水や弱アルカリ水に可溶とすることもできる
が、この様な構成の平版印刷版は印刷機上に装填後、機
上で露光−現像といった方式を行う事もできる。

【００９９】また、本発明による感光性組成物に対する
その他の露光光線としては、超高圧、高圧、中圧、低圧
の各水銀灯、ケミカルランプ、カーボンアーク灯、キセ
ノン灯、メタルハライド灯、可視および紫外の各種レー
ザーランプ、蛍光灯、タングステン灯、太陽光等も使用
できる。また、本発明による感光性組成物の用途として
は走査露光用平版印刷版の他、広く、光硬化樹脂の用途
として知られるものに制限なく適用できる。例えば、必
要に応じカチオン重合性化合物と併用した液状の感光性
組成物に適用することで、高感度な光造形用材料が得ら
れる。また、光重合にともなう、屈折率の変化を利用
し、ホログラム材料とすることもできる。光重合に伴
う、表面の粘着性の変化を利用して様々な転写材料（剥
離感材、トナー現像感材等）にも応用できる。マイクロ
カプセルの光硬化にも適用できる。フォトレジスト等の
電子材料製造、インクや塗料、接着剤等の光硬化樹脂材
料にも応用できる。

【０１００】さらに、本発明によるカルボニル化合物、
チタノセンからなる開始系は、感光性に優れ、かつ安定
性に優れた光開始系であり、上記に詳述した感光性組成
物以外にも、種々の利用法を使用することができる。例
えば、光による高効率でのラジカル生成は例えば、トリ
フェニルメタン系ロイコ染料の酸化発色を高感度で引き
起こす事ができる。また、ある種のポリメチン系色素に
対し、ラジカル付加による消色反応を引き起こすことが
できる。また、本開始系は光によりラジカルと同時に、
酸成分も発生するので、酸により吸収の変化する化合物
や、酸により架橋反応を起こす樹脂組成物、酸により分
解し溶解性が向上しうる樹脂組成物と組み合わせる事
で、高感度な画像形成材料を作成する事ができる。

【０１０１】

【実施例】以下、実施例によって本発明を説明するが、
本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 「参考実験」一般的に用いられる、セーフライトの発光
強度分布を測定し、短波側での発光強度分布の立ち上が
る位置を測定した。また、それぞれのセーフライト下で
の作業性を評価した。

【０１０２】

【表１】

【０１０３】この様に、作業性を考慮すると黄色灯が望
まれ、黄色灯下での取り扱い可能な感材は、少なくとも
５２０ｎｍ、望ましく４９０ｎｍより長波での感光性が
低い事が必要である。

【０１０４】〔実施例１〜１４、比較例１〜２〕以下
に、本発明の感光性組成物を用いて平版印刷版を作成
し、その短波長光に対する感光性、セーフライト適性等
を試験した。 （支持体の調製）厚さ０．３mmのアルミニウム板を１０
重量％水酸化ナトリウムに６０℃で２５秒間浸漬してエ
ッチングした後、流水で水洗後２０重量％硝酸で中和洗
浄し、次いで水洗した。これを正弦波の交番波形電流を
用いて１重量％硝酸水溶液中で３００クーロン／dm² の
陽極時電気量で電解粗面化処理を行った。引き続いて１
重量％水酸化ナトリウム水溶液中に４０℃で５秒間浸漬
後３０重量％の硫酸水溶液中に浸漬し、６０℃で４０秒
間デスマット処理した後、２０重量％硫酸水溶液中、電
流密度２A/dm² において、陽極酸化皮膜の厚さが２．７
g/m²になるように、２分間陽極酸化処理した。その表面
粗さを測定したところ、０．３μm （ＪＩＳＢ０６０１
によるＲａ表示）であった。

【０１０５】このように処理された基板の裏面に下記の
ゾル−ゲル反応液をバーコーターで塗布し１００℃で１
分間乾燥し、乾燥後の塗布量が７０mg/m² のバックコー
ト層を設けた支持体を作成した。

【０１０６】 ゾル−ゲル反応液 テトラエチルシリケート ５０ 重量部 水 ２０ 重量部 メタノール １５ 重量部 リン酸 ０．０５重量部

【０１０７】上記成分を混合、撹拌すると約５分で発熱
が開始した。６０分間反応させた後、以下に示す液を加
えることによりバックコート塗布液を調製した。

【０１０８】 ピロガロールホルムアルデヒド縮合樹脂 ４ 重量部 （分子量２０００） ジメチルフタレート ５ 重量部 フッ素系界面活性剤 ０．７重量部 （Ｎ−ブチルペルフルオロオクタン スルホンアミドエチルアクリレート／ ポリオキシエチレンアクリレート 共重合体：分子量２万） メタノールシリカゾル ５０ 重量部 （日産化学工業（株）製，メタノール30重量％） メタノール ８００ 重量部

【０１０９】（感光層の調製）このように処理されたア
ルミニウム板上に、下記組成の感光性組成物を乾燥塗布
量が１．４g/m²となるように塗布し、８０℃、２分間乾
燥させ感光層を形成させた。

【０１１０】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート １．５ ｇ ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 （共重合モル比７５／２５） ２．０ ｇ 光重合開始系 （下記表２） 増感色素（Ｄ１〜Ｄ１４、Ｈ１、Ｈ２） ０．０５ｇ チタノセン化合物（Ｔ−１） ０．０３ｇ フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ） ０．０３ｇ 熱重合禁止剤Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル ０．０１ｇ アミンアルミニウム塩 顔料分散物 ２．０ ｇ 顔料分散物の組成 組成： Pigment Blue １５：６ 15重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 10重量部 （共重合モル比８３／１７） シクロヘキサノン 15重量部 メトキシプロピルアセテート 20重量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 40重量部 メチルエチルケトン ２０ ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ２０ ｇ

【０１１１】なお、増感色素Ｄ１〜Ｄ１４の構造は前記
例示のものであり、増感色素Ｈ１、Ｈ２、チタノセン化
合物Ｔ−１の構造は以下に示す。

【０１１２】

【化１１】

【０１１３】（保護層の調製）この感光層上にポリビニ
ルアルコール（ケン化度９８モル％、重合度５５０）の
３重量％の水溶液を乾燥塗布重量が２g/m²となるように
塗布し、１００℃で２分間乾燥した。

【０１１４】（感光性、セーフライト適性の評価）この
様に得られた感材上に、富士写真フイルム（株）製の富
士ステップガイド（△Ｄ＝０．１５で不連続的に透過光
学濃度が変化するグレースケール）を密着させ、光学フ
ィルターを通したキセノンランプにより既知の露光エネ
ルギーとなるように露光を行った。その後、下記組成の
現像液に２５℃、１０秒間浸漬し、現像を行い、画像が
完全に除去される最高の段数を読み感度を算出した。こ
の段数が高い程高感度である。短波半導体レーザへの露
光適性を見積もる目的では、光学フィルターとしてケン
コーＢＰ−４１を用い、４１０ｎｍのモノクロミックな
光で露光を行い、黄色灯安全性を見積もる目的ではＢＰ
−４９を用い４９０ｎｍのモノクロミックな光で露光を
実施した。４１０ｎｍでの感度が高く、４９０ｎｍでの
感度が低い事が望ましい。下記表２に、この様にして求
めた、４１０ｎｍ感度（ｍＪ／ｃｍ² ）／４９０ｎｍ感
度（ｍＪ／ｃｍ² ）の比を示す。この値が大きいほど、
望ましい。結果を下記表２に、増感色素の溶液中での吸
収極大、測定に用いた溶媒とともに示す。

【０１１５】

【表２】

【０１１６】この様に、本発明の感光性組成物を用いた
平版印刷版は、黄色灯下でカブリに対応する４９０ｎｍ
の波長での感光性に比較して、短波半導体レーザの発振
波長に対応する４１０ｎｍの感度が著しく高く、セーフ
ライト適性に優れた平版印刷版である。一方、従来公知
のカルボメロシアニン増感色素を用いた比較例の平版印
刷版はむしろ４９０ｎｍでの感光性が高く、セーフライ
ト適性は全くない。

【０１１７】〔実施例１５〜３１、比較例３〜８〕感光
層を下記組成とし、塗布量１．０ｇ／ｍ² となる用にし
た以外は実施例１〜１４と同様にして平版印刷版用原版
を得た。同様に、３６０ｎｍもしくは４１０ｎｍ露光を
行い、クリア感度を求めた（下記表３）。

【０１１８】 ペンタエリスリトールテトラアクリレート ２０ 重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 ２０ 重量部 （共重合モル比 ８０／２０） 光重合開始系 （下記表３中に記載） 増感色素 チタノセン化合物 共増感剤 フッ素系ノニオン界面活性剤（Ｆ−１７７Ｐ） ０．３重量部 熱重合禁止剤Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシル ０．１重量部 アミンアルミニウム塩 顔料分散物 ０．６重量部 顔料分散物の組成 組成： Pigment Blue １５：６ 15重量部 アリルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 10重量部 （共重合モル比８３／１７）

【０１１９】なお、使用した増感色素およびチタノセン
化合物Ｔ−１の構造は前記のとおりであり、チタノセン
化合物Ｔ−２、共増感剤Ｈ−３〜８の構造は以下のとお
りである。

【０１２０】

【化１２】

【０１２１】

【表３】

【０１２２】この様に、本発明の感光性組成物を用いた
平版印刷版は、非常に高感度であり、走査露光方式に十
分な感度を示す。比較例３、４と実施例１６との比較に
より明らかであるように、本発明のカルボニル化合物と
チタノセン化合物の組み合わせからなる光開始系は、そ
れぞれを単独で用いた場合に比較して、著しく感度が高
い。また、従来公知の組み合わせた光開始系（比較例５
〜８）に比較しても遙かに高い感度を有する。

【０１２３】〔実施例３２〕光開始系を下記のような組
成に変え、光重合層の膜厚を１．５ｇ／ｍ² に変えた以
外は実施例１５〜３１と同様に、平版印刷版用原版を調
製した。

【０１２４】

【０１２５】得られた平版印刷版用原版に対し、発振波
長４１０ｎｍのＩｎＧａＮ系半導体レーザを用い、版面
でのビーム系２５μｍ、露光エネルギー密度０．２ｍＪ
／ｃｍ² となる条件で、走査露光を行った。次に、版を
１００℃で、１０秒間加熱後、先述の現像処理を実施し
た。その結果、視認性に優れた、青色の画像を有する平
版印刷版が得られた。得られた版を用い、ハイデルベル
グ社ＫＯＲーＤ機を用い、オフセット印刷を実施したと
ころ、画像濃度、汚れ性に優れた印刷物を５万枚以上得
ることができた。

【０１２６】〔実施例３３〕実施例３２の版を露光前に
黄色灯下に１時間さらした後、全く同様に製版・印刷を
実施した。実施例３２と全く同様の良好な結果が得られ
た。 〔実施例３４〕実施例３２の版を、湿度６５％、４５℃
の強制保存条件下で３日間保存後、実施例３２と同様
に、製版・印刷を実施した。実施例３２と同様の良好な
結果が得られた。

【０１２７】〔実施例３５〕開始系を下記のような組成
に変え、光重合層の膜厚を２．０ｇ／ｍ² に変えた以外
は実施例３２と同様に、平版印刷版用原版を調製した。

【０１２８】

【０１２９】得られた平版印刷版用原版に対し、発振波
長４１０ｎｍのＩｎＧａＮ系半導体レーザを用い、版面
でのビーム系２５μｍ、露光エネルギー密度０．１５ｍ
Ｊ／ｃｍ² となる条件で、走査露光を行った。次に、版
を１００℃で、１０秒間加熱後、先述の現像処理を実施
した。視認性に優れた、青色の画像を有する平版印刷版
が得られた。得られた版を、さらに、３００℃で５分間
加熱後、ハイデルベルグ社ＫＯＲーＤ機を用い、オフセ
ット印刷を実施したところ、画像濃度、汚れ性に優れた
印刷物を２０万枚以上得ることができた。

【０１３０】〔実施例３６〕ＰＥＴフイルム上に下記組
成からなる感光層を塗布量２．０ｇ／ｍ² となるように
塗設した。

【０１３１】 感光層全固形分中の含有量 バインダー樹脂（ポリメチルメタクリレート） ９０ wt% 増感色素 Ｄ１１ １．５wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−５ ５．０wt% 酸消色染料（ビクトリアピュアブルーの ２．０wt% ナフタレンスルホン酸塩）

【０１３２】得られた、青色の感材を、メタルハライド
ランプにて、３０秒間露光を行った。その結果、酸消色
染料の青色が完全に消色し、淡黄色の透明フイルムに変
化した。この様に、本開始系は酸発生剤としても機能す
る。

【０１３３】〔実施例３７〕ＰＥＴフイルム上に下記組
成からなる感光層を塗布量２．０ｇ／ｍ² となるように
塗設した。

【０１３４】 感光層全固形分中の含有量 バインダー樹脂（ポリベンジルメタクリレート） ９０ wt% 増感色素 Ｄ２９ １．５wt% チタノセン Ｔ−２ １．５wt% 共増感剤 Ｈ−５ ５．０wt% 酸化発色染料（ロイコクリスタルバイオレット） ２．０wt%

【０１３５】得られた、淡黄色透明の感材を、メタルハ
ライドランプにて、６０秒間露光を行った。その結果、
鮮やかな青色に発色した。上記は、本光開始系のラジカ
ル生成による、ロイコ色素の酸化発色と考えられる。

【０１３６】

【発明の効果】本発明の感光性組成物は、特定のカルボ
ニル化合物とチタノセン化合物を併用したことにより、
３５０ｎｍ〜４５０ｎｍの波長に対し高い感度を有し、
５００ｎｍ付近の波長の光に対しては影響を受けないも
のであった。これにより、本発明の感光性組成物は、平
版印刷版用原版の感光層として用いることにより、Ｉｎ
ＧａＮの様な短波長の半導体レーザによる走査露光に適
した十分な感度を有し、かつ耐刷性・汚れ性に優れた平
版印刷版を与えることができる。また本発明の光開始系
および光重合性組成物を使用することにより、黄色灯下
でのカブリ、取り扱い作業性、保存安定性等が大幅に改
善された走査露光用平版印刷版原版とすることができ
る。さらに、本発明の感光性組成物は、ＣＴＰ平版印刷
の技術分野に限らず、光造形、ホログラフィー、カラー
ハードコピーといったレーザイメージング分野や、フォ
トレジスト等の電子材料製造分野、インクや塗料、接着
剤等の光硬化樹脂材料分野等の広い範囲での応用が期待
できる。

フロントページの続き (72)発明者 川村 浩一 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA01 AB03 AC01 AC08 BC13 BC42 CA39 CA41 FA10 FA12 FA17 2H096 AA07 AA08 BA20 EA02 EA04

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるカルボニル
   化合物とチタノセン化合物とを含有する感光性組成物。 【化１】 （式中、Ｙは隣接するＮおよび炭素原子と共同して含窒
   素ヘテロ環を形成する非金属原子団を、Ｘは一価の非金
   属原子団を表す。）
2. 【請求項２】 さらにエチレン性不飽和二重結合を有す
   る付加重合性化合物を含有する請求項１記載の感光性組
   成物。