JPH09319096A - 感光性平版印刷版の処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は感光性平版印刷版を、界面活性剤を
含有する水系アルカリ現像液で現像する現像処理におい
て、限外瀘過装置を用いることなく長期間にわたって繰
り返し現像処理を行っても地汚れの無い、安定した現像
状態を保つ現像処理方法を提供しようとするものであ
る。 【解決手段】 ネガ型及び／又はポジ型感光性平版印刷
版を、界面活性剤を含有する水系アルカリ現像液及び補
充液を用いて現像処理する方法において、該補充液の界
面活性剤濃度が該現像液の界面活性剤濃度の１．１〜５
倍の範囲にあることを特徴とする感光性平版印刷版の処
理方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ネガ型及び／又は
ポジ型感光性平版印刷版を界面活性剤を含有する水系ア
ルカリ現像液及び補充液を用いて現像処理する方法に関
し、更に詳しくは、現像液を長い期間繰り返し使用して
も安定した現像処理を行ない得る現像処理方法、つまり
現像液交換の頻度、廃液量の少ない現像処理方法に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】感光性平版印刷版を多数枚現像する感光
性平版用現像液は、現像処理を繰り返し行うに伴って、
現像液中に感光性平版印刷版より溶出した成分が次第に
蓄積したり、空気中の炭酸ガスによってアルカリ度が低
下したりすることで充分な現像能力が失われるため現像
液の交換が必要となる。しかしながら現像液の交換作業
は面倒である上、大量の廃液も出るため環境問題的にも
好ましくない。この問題を改善する方法として現像補充
液を補充し、現像液の劣化を回復させ、液交換頻度を減
少させる方法が公知であり、さらに液交換の頻度を減少
させるため補充液の組成についての種々の検討がなされ
ており、特開昭５４−６２００４号、特開昭５６−１２
６４５号、特開昭５８−９５３４９号、特開昭６２−７
３２７１号、特開平２−３０６５号、特開平５−２２７
３号等が開示されている。これらのうち例えば特開昭６
２−７３２７１号においては、現像液よりもアルカリ強
度の大なる珪酸塩を含む補充液を補充することを特徴と
する感光性平版印刷版の処理方法が開示されており、現
像液が繰り返し使用を続けた際のアルカリ度の低下を防
ぐため、現像液とほぼ同じ組成、濃度の補充液におい
て、アルカリ強度のみ高めたものを用いている。

【０００３】また特開平７−２３４５１６号には、限外
瀘過装置により現像液を限外瀘過処理し、その透過液に
現像液成分を加えて高濃度の補充液とし、それを補充し
て現像液を再生する方法が開示されている。このような
特殊な装置を用いない場合は操作の容易さから、補充液
は現像液とほぼ同じ濃度の成分を含んでいるものが用い
られる。また、２種の組成の補充液を用意し、それぞれ
別々に補充するという方法もあるが、１種の補充液を補
充する方法が有利に用いられる。しかしながら、界面活
性剤を必須とする水系アルカリ現像液で現像される感光
性平版印刷版の現像処理においては、従来の技術の範囲
では充分な期間にわたって安定した現像状態を保つこと
が難しく、地汚れが発生し易く、安定した印刷物を得る
ためには未だ高頻度での現像液の交換を必要としてい
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は感光性平版印
刷版を、界面活性剤を含有する水系アルカリ現像液で現
像する現像処理において、限外瀘過装置を用いることな
く、長期間にわたって繰り返し現像処理を行っても地汚
れの無い、安定した現像状態を保つ現像処理方法を提供
しようとするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、ネガ型
及び／又はポジ型感光性平版印刷版を、界面活性剤を含
有する水系アルカリ現像液及び補充液を用いて現像処理
する方法において、該補充液の界面活性剤濃度が該現像
液の界面活性剤濃度の１．１〜５倍の範囲にあることを
特徴とする感光性平版印刷版の処理方法に存する。

【０００６】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の感光性平版印刷版は露光後、界面活性剤
を含有する水系アルカリ現像液及び補充液を用いて現像
処理することで支持体上に画像を形成することができ
る。この水系アルカリ現像液及び補充液に用いるアルカ
リ剤としては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第
３リン酸ナトリウム、第２リン酸ナトリウム、炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、重炭酸ナトリウム等の無機アル
カリ剤およびトリメチルアミン、ジエチルアミン、モノ
イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノー
ルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン
等の有機アミン化合物が挙げられ、これらは単独もしく
は組み合わせて使用できる。これらの中では特に、ｐＨ
調整の容易さや支持体の侵食程度の管理面等からアルカ
リ金属の珪酸塩やアルカリ金属の水酸化物、又はそれら
の組み合わせが特に好適に用いられる。また、これらア
ルカリ剤によって調整される現像液、及び補充液のｐＨ
は１０．０以上であり、好ましくは１１．０〜１４．０
の範囲である。また補充液のｐＨは現像液より高い値で
あることが好ましい。

【０００７】本発明の現像液及び現像補充液に用いられ
る界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、
ポリオキシエチレンステアリルエーテル等のポリオキシ
エチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンオク
チルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェ
ニルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルアリルエ
ーテル類、ポリオキシエチレンステアレート等のポリオ
キシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンモノラウ
レート、ソルビタンモノステアレート、ソルビタンジス
テアレート、ソルビタンモノオレエート、ソルビタンセ
スキオレエート、ソルビタントリオレエート等のソルビ
タンアルキルエステル類、グリセロールモノステアレー
ト、グリセロールモノオレート等のモノグリセリドアル
キルエステル類等のノニオン界面活性剤；ドデシルベン
ゼンスルホン酸ナトリウム等のアルキルベンゼンスルホ
ン酸塩類、ブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ペ
ンチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、ヘキシルナフ
タレンスルホン酸ナトリウム、オクチルナフタレンスル
ホン酸ナトリウム等のアルキルナフタレンスルホン酸塩
類、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸塩類、ド
デシルスルホン酸ソーダ等のアルキルスルホン酸塩類、
ジラウリルスルホコハク酸ナトリウム等のスルホコハク
酸エステル塩類等のアニオン界面活性剤；ラウリルベタ
イン、ステアリルベタイン等のアルキルベタイン類、ア
ミノ酸類等の両性界面活性剤が使用可能である。

【０００８】これら界面活性剤は単独、もしくは組み合
わせて使用することが出来る。本発明の最大の特徴は、
補充液における界面活性剤濃度（以下、本発明において
濃度は重量％で示す）が、現像液の界面活性剤濃度の
１．１〜５倍であるところにあり、より好ましくは１．
２〜４．５倍である。尚、現像液中における界面活性剤
の含有量は０．０５重量％以上１５重量％以下が好まし
く、さらに好ましくは０．５重量％以上、１０重量％以
下の範囲である。また本発明の補充液中における界面活
性剤の含有量は、０．０５重量％を越え、２０重量％以
下であることが好ましく、０．１〜２０重量％が更に好
ましく、特に好ましくは１〜１５重量％である。補充液
の界面活性剤濃度が、この様に現像液の界面活性剤濃度
の１．１〜５倍の範囲にあることによって長期間安定し
た現像状態を保つことが可能となる。

【０００９】本発明が前記した効果を達成する理由は必
ずしも明らかではないが、現像液中の界面活性剤が感光
性平版印刷版より溶出した成分によってミセルを形成
し、界面活性剤としての効力を、界面活性剤濃度が現像
液の１．１〜５倍の範囲である補充液を補充すること
で、現像液中における活性な界面活性剤の濃度を補償し
長期間安定な現像処理を継続させるものと考えられる。

【００１０】本発明の現像液及び補充液には上記の成分
の他に、必要に応じて以下の様な成分を併用することが
できる。例えば安息香酸、フタル酸、ｐ−エチル安息香
酸、ｐ−ｎ−プロピル安息香酸、ｐ−イソプロピル安息
香酸、ｐ−ｎ−ブチル安息香酸、ｐ−ｔ−ブチル安息香
酸、ｐ−２−ヒドロキシエチル安息香酸、デカン酸、サ
リチル酸、３−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸等の有機カ
ルボン酸。イソプロピルアルコール、ベンジルアルコー
ル、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセ
ロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコー
ル等の有機溶剤。この他、キレート剤、還元剤、染料、
顔料、硬水軟化剤、防腐剤等が挙げられる。

【００１１】本発明の処理方法に用いる自動現像機の現
像処理方法は従来公知の種々の方法、例えばノズルから
現像液を噴射する方法、多量の現像液に浸漬する方法、
現像液を含んだスポンジで拭う方法、現像液をローラー
で塗布する方法等を用いることが出来る。そして本発明
の処理方法に用いる自動現像機は、上記現像処理部に現
像補充液補充機構が設けられている必要があり、その補
充方法としては公知のいずれの技術も用いられ、例えば
処理量と経時により連続的又は間欠的に補充する方法、
現像ゾーンの途中に感光層の溶出度を測定するセンサー
を設け、検出された溶出度に応じて補充する方法、現像
液のインピーダンスを測定し、検出されたインピーダン
ス値をコンピューター処理し補充する方法、それらの組
み合わせ等が挙げられる。

【００１２】本発明の処理方法に用いる自動現像機には
上記現像処理ゾーンの他に必要に応じて、水洗ゾーン、
乾燥ゾーン等の様々な機能を付与することが可能であ
る。図１は、本発明を実施するための自動現像機の一例
を示す概略側断面図である。本発明の処理方法における
補充液の補充の種類としては感光性平版印刷版の処理量
に応じて設定される処理補充（単位；ｍｌ／ｍ² ）、自
動現像液の稼働時間に応じて設定される経時補充（単
位；ｍｌ／ｈ）、自動現像機の非稼働時間に応じて設定
される日間補充（単位；ｍｌ／ｈ）が挙げられる。これ
らは液の疲労度により添加量が異なり、感光性平版印刷
版による現像液の現像層外への持ち出し、感光層の溶出
による現像液の疲労、空気中の炭酸ガスとの接触による
ｐＨの低下等に支配され、感光層の組成、処理内容、自
動現像液のシステム、現像液や現像補充液の組成によっ
て左右されるため、各条件の組み合わせによって設定す
る必要がある。

【００１３】本発明における処理方法で処理される感光
性平版印刷版は、親水性表面を有する支持体の上に感光
性組成物を含有する感光層を設けたものであり、ネガ
型、及び／又はポジ型の感光性平版印刷版が適合する。
支持体としては、金属、プラスチック、紙等が用いられ
るが、特にアルミニウム支持体が好適に用いられる。支
持体としてアルミニウム板を使用する場合、砂目立て処
理、陽極酸化処理及び必要に応じて封孔処理等の表面処
理が施される。これらの処理には公知の方法を適用する
ことができる。

【００１４】砂目立て処理の方法としては、例えば、機
械的方法、電解によりエッチングする方法が挙げられ
る。機械的方法としては、例えば、ボール研磨法、ブラ
シ研磨法、液体ホーミングによる研磨法、バフ研磨法等
が挙げられる。アルミニウム材の組成等に応じて上述の
各種方法を単独あるいは組み合わせて用いることが出来
る。さらに砂目立て処理の施されたアルミニウム板は、
必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデスマット
処理される。

【００１５】陽極酸化処理は、電解液として、硫酸、ク
ロム酸、シュウ酸、リン酸、マロン酸等を１種又は２種
以上含む溶液を用い、アルミニウム板を陽極として電解
して行われる。形成された陽極酸化皮膜量は１〜５０ｍ
ｇ／ｄｍ² が適当であり、好ましくは１０〜４０ｍｇ／
ｄｍ² である。封孔処理は、沸騰水処理、水蒸気処理、
珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処理等が具体例と
して挙げられる。

【００１６】この他にアルミニウム支持体に対して、カ
チオン性４級アンモニウム基を有する樹脂やポリビニル
ホスホン酸等の水溶性高分子化合物、フッ化ジルコン酸
等の金属塩の水溶液による下引き処理を施すこともでき
る。本発明における感光性平版印刷版の感光層としては
例えば光重合性感光層が挙げられる。光重合性感光層は
光重合性組成物から成り、これは通常エチレン性不飽和
二重結合を少なくとも１個有する付加重合可能な化合
物、光重合開始剤、及び高分子結合剤を含有する。

【００１７】本発明において、エチレン性不飽和結合を
少なくとも１個有する付加重合可能な化合物（以下「エ
チレン性化合物」と略す）とは、光重合性組成物が活性
光線の照射を受けた場合、光重合開始系の作用により付
加重合し、硬化するようなエチレン性不飽和結合を有す
る化合物であって、例えばエチレン性不飽和結合を有す
る単量体、または、側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽
和結合を有する重合体である。なお、本発明における単
量体の意味するところは、いわゆる高分子物質に相対す
る概念である。従って、狭義の単量体以外に二量体、三
量体、オリゴマーをも包含するものである。

【００１８】エチレン性不飽和結合を有する単量体とし
ては、例えば不飽和カルボン酸；脂肪族ポリヒドロキシ
化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；芳香族ポリヒ
ドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；不飽
和カルボン酸と多価カルボン酸及び前述の脂肪族ポリヒ
ドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価
ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエ
ステル等が挙げられる。

【００１９】前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和
カルボン酸とのエステルとしては、エチレングリコール
ジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトー
ルジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリ
スリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の
アクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレート
をメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様
にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロトネ
ートに代えたクロトン酸エステル、マレイネートに代え
たマレイン酸エステル等がある。

【００２０】芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリ
レート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシン
ジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガ
ロールトリアクリレート等が挙げられる。不飽和カルボ
ン酸と多価カルボン酸および多価ヒドロキシ化合物との
エステル化反応により得られるエステルとしては必ずし
も単一物ではないが代表的な具体例を挙げれば、アクリ
ル酸、フタル酸及びエチレングリコールの縮合物；アク
リル酸、マレイン酸及びジエチレングリコールの縮合
物；メタクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリト
ールの縮合物；アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオー
ル及びグリセリンの縮合物等がある。

【００２１】その他のエチレン性化合物の例としては、
トリレンジイソシアネートとヒドロキシエチルアクリレ
ートとの付加反応の様なウレタンアクリレート類；ジエ
ポキシ化合物とヒドロキシエチルアクリレートとの付加
反応の様なエポキシアクリレート類；エチレンビスアク
リルアミド等のアクリルアミド類；フタル酸ジアクリル
等のアクリル酸エステル類；ジビニルフタレート等のビ
ニル基含有化合物などが有用である。

【００２２】前記した主鎖にエチレン性不飽和結合を有
する重合体は、例えば、不飽和二価カルボン酸とジヒド
ロキシ化合物との重縮合反応により得られるポリエステ
ル、不飽和二価カルボン酸とジアミンとの重縮合反応に
より得られるポリアミド等がある。側鎖にエチレン性不
飽和結合を有する重合体は、側鎖に不飽和結合をもつ二
価カルボン酸、例えばイタコン酸、プロヒリデンコハク
酸、エチリデンマロン酸等とジヒドロキシまたはジアミ
ン化合物等との縮合重合体がある。また、側鎖にヒドロ
キシ基やハロゲン化メチル基の如き反応活性を有する官
能基を持つ重合体、例えばポリビニルアルコール、ポリ
（２−ヒドロキシエチルメタクリレート）、ポリエピク
ロルヒドリン等とアクリル酸、メタクリル酸、クロトン
酸等の不飽和カルボン酸との高分子反応により得られる
ポリマーも好適に使用し得る。

【００２３】以上記載したエチレン性化合物の内、アク
リル酸エステルまたはメタクリル酸エステルの単量体が
特に好適に使用できる。次に光重合開始剤について説明
する。光重合開始剤としては、前記エチレン性不飽和結
合を少なくとも１個有する化合物の重合を開始させうる
ものはすべて使用できる。特に可視領域の光線に対して
感光性を有するものであれば、いずれも好適に使用でき
る。この内、光励起された増感剤と何らかの作用を惹起
することにより活性ラジカルを生成する活性剤として
は、例えば、ヘキサアリールビイミダゾール類、チタノ
セン化合物、ハロゲン化炭化水素誘導体、ジアリールヨ
ードニウム塩、有機過酸化物等を挙げることができる。
この内、ヘキサアリールビイミダゾール類あるいは、チ
タノセン化合物を用いた系が、感度、保存性、塗膜の基
板への密着性等が良く好ましい。

【００２４】ヘキサアリールビイミダゾール類として
は、種々のものを用いることができるが、例えば、２，
２′−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラ（ｐ−フルオロフェニル）ビイミダゾー
ル、２，２′−ビス（ｏ−ブロムフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラ（ｐ−ヨードフェニル）ビイミ
ダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロルフェニル）−
４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロルナフチル）ビ
イミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−クロルフェニル）
−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロルフェニル）
ビイミダゾール、２，２′−ビス（ｏ−ブロムフェニ
ル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｐ−クロル−ｐ−
メトキシフェニル）ビイミダゾール、２，２′−ビス
（ｏ−クロルフェニル）−４，４′，５，５′−テトラ
（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）ビイミダゾール、２，
２′−ビス（ｏ−クロルフェニル）−４，４′，５，
５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジブロムフェニル）ビイミダゾ
ール、２，２′−ビス（ｏ−ブロムフェニル）−４，
４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロルフェニル）
ビイミダゾール、２，２′−ビスｏ，ｐ−ジクロルフェ
ニル）−４，４′，５，５′−テトラ（ｏ，ｐ−ジクロ
ルフェニル）ビイミダゾール等が挙げられる。これらの
ビイミダゾールは、必要に応じ、他種のビイミダゾール
と併用して使用することもできる。ビイミダゾール類
は、例えばＢｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，
３３，５６５（１９６０）およびＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅ
ｍ，３６［１６］２２６２（１９７１）に開示されてい
る方法により容易に合成することができる。

【００２５】チタノセン化合物としては、種々のものを
用いることができるが、例えば、特開昭５９−１５２３
９６号、特開昭６１−１５１１９７号各公報に記載され
ている各種チタノセン化合物から適宜選んで用いること
ができる。さらに具体的には、ジ−シクロペンタジエニ
ル−Ｔｉ−ジ−クロライド、ジ−シクロペンタジエニル
−Ｔｉ−ビス−フェニル、ジ−シクロペンタジエニル−
Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェ
ニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス
−２，３，５，６−テトラフルオロフェニ−１−イル、
ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４，６−
トリフルオロフェニ−１−イル、ジ−シクロペンタジエ
ニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジ−フルオロフェニ−１−
イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，４
−ジ−フルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペ
ンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，３，４，５，６−ペン
タフルオロフェニ−１−イル、ジ−メチルシクロペンタ
ジエニル−Ｔｉ−ビス−２，６−ジフルオロフェニ−１
−イル、ジ−シクロペンタジエニル−Ｔｉ−ビス−２，
６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）−フェニ−１
−イル等を挙げることができる。

【００２６】次に、光重合開始剤の内の増感剤について
説明する。本発明における増感剤とは、前述の活性剤と
共存した場合、可視光線照射により、効果的に活性ラジ
カルを発生し得る化合物を意味している。代表的な増感
剤の例としては、例えば、米国特許第３，４７９，１８
５号明細書に開示されている様なロイコクリスタルバイ
オレットやロイコマラカイトグリーンの様なトリフェニ
ルメタン系ロイコ色素、エリスロシンやエオシンＹの様
な光還元性染料、米国特許第３，５４９，３６７号明細
書、米国特許第３，６５２，２７５号明細書等に開示さ
れているミヒラーズケトンやアミノスチリルケトンの様
なアミノフェニルケトン類、米国特許第３，８４４，７
９０号明細書に示されるβ−ジケトン類、米国特許第
４，１６２，１６２号明細書に見られるインダノン類、
特開昭５２−１１２６８１号公報に示されるケトクマリ
ン類、特開昭５９−５６４０３号公報で開示されている
アミノスチレン誘導体やアミノフェニルブタジエン誘導
体、米国特許第４，５９４，３１０号明細書に見られる
アミノフェニル複素環類、米国特許第４，９６６，８３
０号明細書に示されるジュロリジン複素環類、特開平５
−２４１３３８号公報に示されるピロメテン系色素など
が挙げられる。

【００２７】さらに、本発明で用いる重合開始剤に必要
に応じて２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカ
プトベンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサ
ゾール、３−メルカプト１，２，４−トリアゾール、Ｎ
−フェニルグリシン、Ｎ，Ｎ−ジアルキル安息香酸アル
キルエステル等の水素供与性化合物を加えることによっ
てさらに光重合開始能力を高めることができる。このう
ち特に好ましいのは、２−メルカプトベンゾチアゾー
ル、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプ
トベンズオキサゾール、３−メルカプト１，２，４−ト
リアゾール等のメルカプト基を有する化合物である。

【００２８】次に高分子結合剤について説明する。これ
は、皮膜形成能や粘度調節能を付与する成分であり、そ
の具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メ
タ）アクリル酸エステル、（メタ）アクリルアミド、マ
レイン酸、（メタ）アクリロニトリル、スチレン、酢酸
ビニル、塩化ビニリデン、マレイミド等の単独もしくは
共重合体、その他、ポリエチレンオキサイド、ポリビニ
ルピロリドン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリエチレ
ンテレフタレート、アセチルセルロース、またはポリビ
ニルブチラール等が挙げられる。

【００２９】以上、本発明の光重合性組成物の主要構成
成分について詳述してきたが、それらの好適な使用比率
は重合可能なエチレン性化合物１００重量部に対して光
重合開始剤の内、増感剤が好ましくは０．０１〜２０重
量部、特に好ましくは０．０５〜１０重量部、活性剤が
好ましくは０．１〜８０重量部、特に好ましくは０．５
〜５０重量部、高分子結合剤が、好ましくは１０〜４０
０重量部、特に好ましくは２０〜２００重量部の範囲で
ある。

【００３０】本発明の光重合性組成物は前記の各構成成
分の他に、それの使用目的に応じて、更に他の物質を添
加混合することができる。例えば、ハイドロキノン、ｐ
−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−
クレゾールなどの熱重合防止剤；有機または無機の染顔
料からなる着色剤；ジオクチルフタレート、ジドデシル
フタレート、トリクレジルホスフェート等の可塑剤、三
級アミンやチオールの様な感度特性改善剤、その他色素
前駆体などの添加剤も加えることができる。

【００３１】以上述べた各種添加剤の好ましい添加量
は、エチレン性化合物１００重量部に対して熱重合防止
剤２重量部以下、着色剤２０重量部以下、可塑剤４０重
量部以下、色素前駆体３０重量部以下の範囲であること
が一般的である。以上述べた光重合性組成物は、適当な
溶媒で希釈して、前記支持体上に塗布、乾燥し感光層と
して塗設される。塗布方法としては、ディップコート、
コーティグロッド、スピナーコート、スプレーコート、
ロールコート等の周知の方法により塗布することが可能
である。塗布膜厚は、０．１〜１０ｇ／ｍ² が好まし
い。乾燥温度は、好ましくは３０〜１５０℃、特に好ま
しくは４０〜１１０℃である。

【００３２】本発明の感光性平版印刷版における光重合
性感光層の上層には、酸素による重合禁止作用を防止す
るための酸素遮断層として、保護層を設けている。保護
層は通常水溶性高分子結合剤を含有し、公知の種々の水
溶性高分子が挙げられるが、具体例としてはポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ポリエチレンオキ
サイド、セルロース等の水溶性高分子が挙げられる。こ
の内、特に酸素ガスバリア性の高いポリビニルアルコー
ルが好ましい。

【００３３】これら水溶性高分子は単独または混合で用
い、また感光層への塗布性を向上させる目的等で界面活
性剤の添加が好適に行われる。塗布方法としては、感光
層と同様に周知の塗布方法により塗布することが可能で
ある。塗布膜厚は、０．５〜１０ｇ／ｍ² であることが
一般的で、好ましくは２〜７ｇ／ｍ² である。乾燥温度
は、３０〜１１０℃であることが一般的であり、好まし
くは４０〜７０℃である。

【００３４】本発明の組成物に適用し得る露光光源とし
ては、特に限定されないが例えば、カーボンアーク、高
圧水銀燈、キセノンランプ、メタルハライドランプ、蛍
光ランプ、タングステンランプ、ハロゲンランプ、ヘリ
ウムカドミウムレーザー、アルゴンイオンレーザー、Ｙ
ＡＧレーザー、ヘリウムネオンレーザー等が特に好適に
使用し得る。

【００３５】

【実施例】以下、本発明を実施例および比較例により更
に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限
定されるものではない。 （実施例１〜２、比較例１〜４）０．２４ｍｍの厚さの
アルミニウム板を脱脂処理後、表面をナイロン製ブラシ
を用い軽石粉末を水に懸濁させた液を流しながら研磨し
て砂目立てを施した。このアルミニウム版を３０％リン
酸を電解浴として、３５℃において電流密度４Ａ／ｄｍ
² の条件で１分間陽極酸化処理を施し、皮膜重量が１７
ｍｇ／ｄｍ² の酸化皮膜を持つアルミニウム支持体を得
た。得られた支持体に下記組成の光重合性組成物塗布液
をバーコーターを用いて乾燥膜厚２ｇ／ｍ² となるよう
塗布、乾燥を行った。

【００３６】光重合性組成物塗布液−１ トリメチロールプロパントリアクリレート ３０重量部 下記構造のエチレン性化合物 化−１ ２０重量部 表−１に示す高分子結合剤−１ ５０重量部 下記構造の増感剤 化−２ ２重量部 下記構造の活性剤 化−３ ２重量部 ２−メチルカプトベンゾチアゾール ５重量部 銅フタロシアニン顔料 ３重量部 メチルエチルケトン ９００重量部

【００３７】光重合性組成物塗布液−２ トリメチロールプロパントリアクリレート ６０重量部 表−１に示す高分子結合剤−２ ４０重量部 下記構造の増感剤 化−４ １．５重量部 下記構造の活性剤 化−５ １３重量部 ２−メチルカプトベンゾチアゾール １０重量部 銅フタロシアニン顔料 ３重量部 メチルエチルケトン ９００重量部

【００３８】

【表１】

【００３９】

【化１】

【００４０】

【化２】

【００４１】

【化３】

【００４２】

【化４】

【００４３】

【化５】

【００４４】塗布乾燥して得られた版上に、水溶性高分
子結合剤を含有する下記組成の保護層液をバーコーター
を用いて乾燥膜厚が３ｇ／ｍ² に成るように塗布、乾燥
を行い、光重合性感光層と保護層から成る感光性平版印
刷版−１及び２を得た。水溶性高分子結合剤を含有する保護層液 ポリビニルアルコールＧＬ−０３ １０重量部 （日本合成化工（株）製） リポノックスＮＣ−９５（ライオン（株）製） ０．０２重量部 脱塩水 ９０重量部 上記の感光性平版印刷版を、アルゴンレーザー（出力３
５ｍＷ，波長４８８ｎｍ）で内面ドラム式の走査露光を
行った。

【００４５】〈比較例−１〉上記の様に露光処理した感
光性平版印刷版−１を自動現像機ＨＬ−８６０Ｘ（三菱
化学（株）製）を用いて、下記現像液−１で現像処理を
行った。尚その際、処理面積１ｍ² 当たり３０ｍｌの割
合で下記補充液−１を補充した。得られた印刷版を用い
て印刷を行ったところ、現像処理量が５ｍ² ／１あたり
で地汚れが発生した。

【００４６】現像液−１ 水酸化カリウム １．５重量％ Ａ珪酸カリ １１重量％ ペレックスＮＢＬ（花王（株）製） ５重量％ （アルキルナフタレンスルフォン酸ナトリウム；含有率３５％） 水 ８２．５重量％補充液−１ 現像液−１と同組成

【００４７】〈比較例−２〉比較例−１における補充液
−１を補充液−２に置き換えて、その他は同様の処理を
行ったところ、現像処理量が８ｍ² ／１あたりで地汚れ
が発生した。補充液−２ 水酸化カリウム ２．５重量％ Ａ珪酸カリ １１重量％ ペレックスＮＢＬ（花王（株）製） ５重量％ 水 ８１．５重量％

【００４８】〈実施例−１〉比較例−１における補充液
−１を補充液−３に置き換えてその他は同様の処理を行
ったところ、現像処理量が４０ｍ² ／１に達した時点で
も良好な印刷物が得られた。補充液−３ 水酸化カリウム ２．５重量％ Ａ珪酸カリ １１重量％ ペレックスＮＢＬ（花王（株）製） ６．５重量％ 水 ８０重量％

【００４９】〈比較例−３〉比較例−１における感光性
平版印刷版−１を感光性平版印刷版−２に、現像液−１
を現像液−２に、補充液−１を補充液−４に置き換え、
その他は同様の処理を行ったところ現像処理量４．０ｍ
² ／１あたりで地汚れが発生した。現像液−２ メタ珪酸ナトリウム（２種） ５重量％ ペレックスＮＢＬ（花王（株）製） ３．５重量％ 水 ９１．５重量％現像補充液−４ 現像液−２と同組成

【００５０】〈比較例−４〉比較例−３における補充液
−４を補充液−５に置き換えてその他は同様の処理を行
ったところ、現像処理量が８ｍ² ／１あたりで地汚れが
発生した。補充液−５ メタ珪酸ナトリウム（２種） ６重量％ ペレックスＮＢＬ（花王（株）製） ３．５重量％ 水 ９０．５重量％

【００５１】〈実施例−２〉比較例−３における補充液
−４を補充液−６に変えて同様の処理を行ったところ、
現像処理量が４０ｍ² ／１に達した時点でも良好な印刷
物が得られた。補充液−６ メタ珪酸ナトリウム（２種） ６重量％ ペレックスＮＢＬ（花王（株）製） ６重量％ 水 ８８重量％

【００５２】

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版の処理方法に
より、安定な現像処理が長期間継続可能となり、現像液
の交換頻度の大幅な減少が可能となった。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ネガ型及び／又はポジ型感光性平版印刷
   版を、界面活性剤を含有する水系アルカリ現像液及び補
   充液を用いて現像処理する方法において、該補充液の界
   面活性剤濃度が該現像液の界面活性剤濃度の１．１〜５
   倍の範囲にあることを特徴とする感光性平版印刷版の処
   理方法。
2. 【請求項２】 前記補充液がアルカリ剤として少なくと
   も水酸化アルカリを含有し、該補充液の水酸化アルカリ
   濃度が現像液の水酸化アルカリ濃度の１．２倍以上であ
   ることを特徴とする請求項１に記載の感光性平版印刷版
   の処理方法。
3. 【請求項３】 前記補充液がアルカリ剤として少なくと
   も珪酸アルカリを含有し、該補充液の珪酸アルカリ濃度
   が現像液の珪酸アルカリ濃度の１．１倍以上であること
   を特徴とする請求項１に記載の感光性平版印刷版の処理
   方法。
4. 【請求項４】 前記感光性平版印刷版が、支持体上に光
   重合性感光層及び保護層が順次積層されてなる感光性平
   版印刷版であることを特徴とする請求項１乃至３に記載
   の感光性平版印刷版の処理方法。