JPH09306031A - 光ディスク及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、基板の貼り合わせのための紫外線
硬化樹脂が均一に硬化されるようにした、光ディスク及
びその製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 透明合成樹脂から成る複数の基板１１，
１２と、各基板の表面に形成された記録層１４と、各基
板を貼り合わせる紫外線硬化樹脂１３と、を含んでい
る、光ディスク１０において、上記紫外線硬化樹脂を硬
化させるために照射される紫外線に対して、紫外線硬化
樹脂全体の紫外線照射が均一になるような調光手段１４
が設けられるように、光ディスク１０を構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えば高密度情報記録
用の複数の基板を貼り合わせることにより構成された光
ディスク及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、高密度情報記録用の光ディスク
は、二枚のディスク基板を、貼り合わせることにより構
成されている。このような光ディスクは、その情報記録
の方式により、両面記録，片面記録そして記録層の数に
より単層または二層の種類に分かれており、例えば片面
単層，片面二層，両面単層及び両面二層の型式がある。

【０００３】図７は、片面単層の光ディスクを示してい
る。図７において、光ディスク１は、例えばポリカーボ
ネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のディス
ク基板２の表面が、情報を表わす形状に形成された後、
図８に示すように、アルミニウム薄膜による反射膜３が
形成され、さらにその上に、第一のディスク基板２と同
様の第二のディスク基板４が、接着剤としての紫外線硬
化樹脂５を介して載置され、紫外線照射によって上記紫
外線硬化樹脂５を硬化させることにより、ディスク基板
２，４を貼り合わせるようにしている。ここで、第二の
ディスク基板４の外側面には、例えば記録内容を示すた
めの不定形の印刷パターン６（図９，１０参照）が形成
されている。

【０００４】このように構成された光ディスク１は、第
二のディスク基板４の貼り合わせの際に、紫外線硬化樹
脂５の硬化のために、紫外線照射が行なわれる。その
際、図９に示すように、第二のディスク基板４側から紫
外線照射が行なわれると、紫外線硬化樹脂５は、第二の
ディスク基板４側に関しては、反射膜３がないことか
ら、紫外線硬化樹脂５に対する紫外線照射は効率良く行
なわれるものの、第二のディスク基板４の外側面には、
印刷パターン６が形成されているので、この印刷パター
ン６による紫外線の遮光によって、紫外線硬化樹脂５に
対する紫外線照射が不均一になってしまう。このため、
従来は、図１０に示すように、第一のディスク基板２側
から、紫外線照射が行なわれている。

【０００５】図１１は、片面二層の光ディスクを示して
いる。図１１において、光ディスク１は、例えばポリカ
ーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のデ
ィスク基板２の表面が、情報を表わす形状に形成された
後、図１２に示すように、半透過膜４ａが形成され、さ
らにその上に、第一のディスク基板２と同様の第二のデ
ィスク基板４が、接着剤としての紫外線硬化樹脂５を介
して載置され、紫外線照射によって上記紫外線硬化樹脂
５を硬化させることにより、ディスク基板２，４を貼り
合わせるようにしている。この場合、第二のディスク基
板４の内側面は、情報を表わす形状に形成された後、ア
ルミニウム薄膜による反射膜３が形成されている。

【０００６】このように構成された光ディスク７は、第
二のディスク基板４の貼り合わせの際に、紫外線硬化樹
脂５の硬化のために、紫外線照射が行なわれる。この紫
外線照射は、図１３に示すように、第一のディスク基板
２側から、または第二のディスク基板４側から、あるい
は双方から行なわれる。

【０００７】図１４は、両面単層の光ディスクを示して
いる。図１４において、光ディスク８は、例えばポリカ
ーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のデ
ィスク基板２の表面が、情報を表わす形状に形成された
後、図１５に示すように、アルミニウム薄膜による反射
膜３が形成され、さらにその上に、第一のディスク基板
２と同様の第二のディスク基板４が、接着剤としての紫
外線硬化樹脂５を介して載置され、紫外線照射によって
上記紫外線硬化樹脂５を硬化させることにより、ディス
ク基板２，４を貼り合わせるようにしている。この場
合、第二のディスク基板４の内側面は、情報を表わす形
状に形成された後、第一のディスク基板２と同様に、ア
ルミニウム薄膜による反射膜４ｂが形成されている。

【０００８】このように構成された光ディスク８は、第
二のディスク基板４の貼り合わせの際に、紫外線硬化樹
脂５の硬化のために、紫外線照射が行なわれる。この紫
外線照射は、図１６に示すように、第一のディスク基板
２側から、または第二のディスク基板４側から行なわれ
るようになっている。

【０００９】図１７は、両面二層の光ディスクを示して
いる。図１７において、光ディスク９は、例えばポリカ
ーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の第一のデ
ィスク基板２の表面が、情報を表わす形状に形成された
後、図１８に示すように、半透過膜２ａが形成され、さ
らにその上に、スペーサ材２ｂが形成され、このスペー
サ材２ｂの表面が、同様に情報を表わす形状に形成され
た後、アルミニウム薄膜による反射膜３が形成され、そ
の上に、第一のディスク基板２と同様の第二のディスク
基板４が、接着剤としての紫外線硬化樹脂５を介して載
置され、紫外線照射によって上記紫外線硬化樹脂５を硬
化させることにより、ディスク基板２，４を貼り合わせ
るようにしている。この場合、第二のディスク基板４の
内側面は、情報を表わす形状に形成された後、半透過膜
４ｃが形成され、さらにその上に、スペーサ材４ｄが形
成され、このスペーサ材４ｄの表面が、同様に情報を表
わす形状に形成された後、アルミニウム薄膜による反射
膜４ｂが形成されている。

【００１０】このように構成された光ディスク９は、第
二のディスク基板４の貼り合わせの際に、紫外線硬化樹
脂５の硬化のために、紫外線照射が行なわれる。この紫
外線照射は、上述した光ディスク８の場合と同様にし
て、第一のディスク基板２側から、または第二のディス
ク基板４側から行なわれるようになっている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな光ディスク１，７，８，９においては、紫外線硬化
樹脂５に対する紫外線照射は、何れの場合も、反射膜
３，４ｂまたは半透過膜２ａ，４ａ，４ｃを介して行な
われている。ここで、これら反射膜３，４ｂまたは半透
過膜２ａ，４ａ，４ｃは、通常光ディスク１，７，８，
９の内周側及び外周側には配設されず、例えば直径１２
０ｍｍの光ディスクの場合、直径４０ｍｍから１１８ｍ
ｍの部分に設けられている。従って、上述した紫外線硬
化樹脂５の硬化のための照射された紫外線は、これら反
射膜３，４ｂまたは半透過膜２ａ，４ａ，４ｃにより、
遮光または減衰されることになり、透過率が著しく低下
してしまう。このため、反射膜３，４ｂまたは半透過膜
２ａ，４ａ，４ｃがある部分とない部分とで、紫外線硬
化樹脂５の硬化速度及び硬化状態に差が発生してしま
い、貼り合わされた光ディスク１，７，８，９内に、比
較的大きなストレスが残留することになる。かくして、
このような光ディスク１，７，８，９は、経時変化によ
って、この残留ストレスによって、反りを生ずることが
あり、光ディスク１，７，８，９の再生が正しく行なわ
れ得なくなってしまうという問題があった。

【００１２】本発明は、以上の点に鑑み、基板の貼り合
わせのための紫外線硬化樹脂が均一に硬化されるように
した、光ディスク及びその製造方法を提供することを目
的としている。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的は、本発明によ
れば、透明合成樹脂から成る複数の基板と、各基板の表
面に形成された記録層と、各基板を貼り合わせる紫外線
硬化樹脂と、を含んでいる、光ディスクにおいて、前記
紫外線硬化樹脂を硬化させるために照射される紫外線に
対して、紫外線硬化樹脂全体の紫外線照射が均一になる
ような調光手段が設けられていることを特徴とする光デ
ィスクにより、達成される。

【００１４】また、上記目的は、本発明によれば、透明
合成樹脂から成る複数の基板を形成する第一の工程と、
各基板の表面に、記録層としての反射膜または半透過膜
を形成する第二の工程と、各基板を紫外線硬化樹脂によ
り、貼り合わせる第三の工程と、紫外線照射により、紫
外線硬化樹脂を硬化させる第四の工程と、を含んでい
る、光ディスクの製造方法において、上記第四の工程に
て、照射される紫外線に対して、紫外線硬化樹脂全体の
紫外線照射が均一になるように、紫外線照射が行なわれ
ることを特徴とする光ディスクの製造方法により、達成
される。

【００１５】上記構成によれば、複数の基板を紫外線硬
化樹脂により貼り合わせた後、紫外線照射によって紫外
線硬化樹脂を硬化させる際に、調光手段の存在により、
紫外線硬化樹脂全体に亘って、均一な紫外線照射が行な
われることになる。これにより、紫外線硬化樹脂は、全
体が同じ硬化速度及び硬化条件で硬化することになるの
で、内部に大きなストレスが残留してしまうようなこと
はない。従って、光ディスクが、経時変化により、残留
ストレスによる反りを生ずるようなことはなく、光ディ
スクの再生が正しく行なわれることになる。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を図１乃至図６を参照しながら、詳細に説明する。尚、
以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例である
から、技術的に好ましい種々の限定が付されているが、
本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定
する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるもの
ではない。

【００１７】図１は、本発明により製造された光ディス
クの第一の実施形態を示している。図１において、光デ
ィスク１０は、片面単層式の光ディスクであって、例え
ばポリカーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の
二枚のディスク基板１１，１２と、これら二枚のディス
ク基板１１，１２を貼り合わせるための紫外線硬化樹脂
１３とから構成されている。

【００１８】第一のディスク基板１１は、その内側面
が、情報を表わす形状に形成された後、その上に、アル
ミニウム薄膜による反射膜１４が形成されている。第二
のディスク基板１２は、その外側面に、例えば記録内容
を示すための不定形の印刷パターン（図示せず）が形成
されている。

【００１９】以上の構成は、図７に示した光ディスク１
と同様の構成であるが、本発明の実施の形態による光デ
ィスク１０においては、上記反射膜１４が、光ディスク
１の反射膜３に比較して、内周側及び外周側に拡大され
ることにより、ディスク基板１１の内側面のほぼ全域に
亘って形成されている。例えば、光ディスク１０が直径
１２０ｍｍの場合、反射膜１４は、従来の直径４０ｍｍ
から１１８ｍｍの部分に比較して、直径２０ｍｍから１
１９ｍｍの部分に形成されている。

【００２０】本発明の実施の形態による光ディスク１０
は、以上のように構成されており、光ディスク１０は、
第一及び第二のディスク基板１１，１２を互いに紫外線
硬化樹脂１３を挟んで重ね合わせた後、紫外線照射によ
って、紫外線硬化樹脂１３を硬化させることにより、製
造される。その際、図１に示すように、第一のディスク
基板１１側から紫外線照射が行なわれる。これにより、
照射された紫外線は、ディスク基板１１のほぼ全域に亘
って、反射膜１４を透過した後に、紫外線硬化樹脂１３
に達することになる。従って、紫外線硬化樹脂１３は、
全体に亘って同じ光量の紫外線を受けることになるの
で、各部にて硬化速度及び硬化条件が均一になる。これ
により、紫外線硬化樹脂１３は、硬化後に、内部にスト
レスが残留するようなことがない。かくして、光ディス
ク１０は、経時変化によって、内部の残留ストレスによ
り反りを生ずるようなことはなく、その再生が正しく行
なわれることになる。

【００２１】図２は、本発明により製造された光ディス
クの第二の実施形態を示している。図２において、光デ
ィスク１５は、図７に示した光ディスク１と同様の構成
である。即ち、図１の光ディスク１０に比較して、拡大
された反射膜１４の代わりに、従来通り、例えば直径４
０ｍｍから１１８ｍｍの部分に形成された反射膜１６を
備えている。

【００２２】この場合、第一のディスク基板１１及び第
二のディスク基板１２を貼り合わせる紫外線硬化樹脂１
３の硬化のために、紫外線を照射する際、反射膜１６が
設けられていない部分に対応して、光ディスク１５の上
部に、調光部材１７が配設される。この調光部材１７
は、この反射膜１６と同じ紫外線透過特性を有するもの
が使用され、例えば石英ガラス等から構成されている。

【００２３】これにより、光ディスク１５の紫外線硬化
樹脂１３は、全域に亘ってほぼ均一な紫外線照射によ
り、硬化速度及び硬化条件が均一となり、内部にストレ
スが残留するようなことがない。従って、光ディスク１
０の場合と同様にして、光ディスク１５は、経時変化に
よって、内部の残留ストレスにより反りを生ずるような
ことはなく、その再生が正しく行なわれることになる。

【００２４】図３は、本発明により製造された光ディス
クの第三の実施形態を示している。図３において、光デ
ィスク２０は、片面二層式の光ディスクであって、例え
ばポリカーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の
二枚のディスク基板２１，２２と、これら二枚のディス
ク基板２１，２２を貼り合わせるための紫外線硬化樹脂
２３とから構成されている。

【００２５】第一のディスク基板２１は、その内側面
が、情報を表わす形状に形成された後、その上に、半透
過膜２５が形成されている。第二のディスク基板２２
は、その内側面が、情報を表わす形状に形成された後、
その上に、アルミニウム薄膜による反射膜２４が形成さ
れている。

【００２６】以上の構成は、図１１に示した光ディスク
７と同様の構成であるが、本発明実施形態による光ディ
スク２０においては、上記反射膜２４及び半透過膜２５
が、光ディスク７の反射膜３，半透過膜２ａに比較し
て、内周側及び外周側に拡大されることにより、ディス
ク基板２１の内側面のほぼ全域に亘って形成されてい
る。例えば、光ディスク２０が直径１２０ｍｍの場合、
反射膜２４，半透過膜２５は、従来の直径４０ｍｍから
１１８ｍｍの部分に比較して、直径２０ｍｍから１１９
ｍｍの部分に形成されている。

【００２７】このような構成の光ディスク２０は、第一
及び第二のディスク基板２１，２２を互いに紫外線硬化
樹脂２３を挟んで重ね合わせた後、紫外線照射によっ
て、紫外線硬化樹脂２３を硬化させることにより、製造
される。その際、図３に示すように、第一のディスク基
板２１側及び／または第二のディスク基板２２側から紫
外線照射が行なわれる。これにより、照射された紫外線
は、ディスク基板２１，２２のほぼ全域に亘って、反射
膜２４，半透過膜２５を透過した後に、紫外線硬化樹脂
２３に達することになる。従って、紫外線硬化樹脂２３
は、全体に亘って同じ光量の紫外線を受けることになる
ので、各部にて硬化速度及び硬化条件が均一になる。こ
れにより、紫外線硬化樹脂２３は、硬化後に、内部にス
トレスが残留するようなことがない。かくして、光ディ
スク２０は、経時変化によって、内部の残留ストレスに
より反りを生ずるようなことはなく、その再生が正しく
行なわれ得ることになる。

【００２８】図４は、本発明により製造された光ディス
クの第四の実施形態を示している。図４において、光デ
ィスク２０は、図３に示した光ディスクと同じものであ
り、紫外線硬化樹脂２３の硬化のために、両面から紫外
線が照射されるようになっている。その際、各ディスク
基板２１，２２を介して紫外線硬化樹脂２３に入射する
紫外線光量が、互いに同じになるように、半透過膜２５
を透過すべき紫外線の経路に、減光部材２６が配設され
ている。この減光部材２６は、反射膜２４と半透過膜２
５の紫外線に対する透過率の差に相当する減光率を有す
るように、構成されている。これにより、第一のディス
ク基板２１及び第二のディスク基板２２を介してそれぞ
れ紫外線硬化樹脂２３に入射する紫外線の光量が、ほぼ
等しくなるので、紫外線硬化樹脂２３は、その厚さ方向
に関しても、その硬化速度及び硬化条件がより一層均一
化され得ることになり、内部にストレスが残留するよう
なことが確実に排除されることになる。

【００２９】図５は、本発明により製造された光ディス
クの第五の実施形態を示している。図５において、光デ
ィスク３０は、両面単層式の光ディスクであって、例え
ばポリカーボネイト等の透明合成樹脂から成る円板状の
二枚のディスク基板３１，３２と、これら二枚のディス
ク基板３１，３２を貼り合わせるための紫外線硬化樹脂
３３とから構成されている。

【００３０】第一のディスク基板３１は、その内側面
が、情報を表わす形状に形成された後、その上に、アル
ミニウム薄膜による反射膜３４が形成されている。第二
のディスク基板３２は、その内側面が、情報を表わす形
状に形成された後、その上に、同様にしてアルミニウム
薄膜による反射膜３５が形成されている。

【００３１】以上の構成は、図１４に示した光ディスク
８と同様の構成であるが、本発明実施形態による光ディ
スク３０においては、上記反射膜３４，３５が、光ディ
スク１４の反射膜３，４ｂに比較して、内周側及び外周
側に拡大されることにより、ディスク基板３１，３２の
内側面のほぼ全域に亘って形成されている。例えば、光
ディスク３０が直径１２０ｍｍの場合、反射膜３４，３
５は、従来の直径４０ｍｍから１１８ｍｍの部分に比較
して、直径２０ｍｍから１１９ｍｍの部分に形成されて
いる。

【００３２】このような構成の光ディスク３０は、第一
及び第二のディスク基板３１，３２を互いに紫外線硬化
樹脂３３を挟んで重ね合わせた後、紫外線照射によっ
て、紫外線硬化樹脂３３を硬化させることにより、製造
される。その際、図５に示すように、第一のディスク基
板３１側及び第二のディスク基板３２側から紫外線照射
が行なわれる。これにより、照射された紫外線は、ディ
スク基板３１，３２のほぼ全域に亘って、反射膜３４，
３５を透過した後に、紫外線硬化樹脂３３に達すること
になる。従って、紫外線硬化樹脂３３は、全体に亘って
同じ光量の紫外線を受けることになるので、各部にて硬
化速度及び硬化条件が均一になる。これにより、紫外線
硬化樹脂３３は、硬化後に、内部にストレスが残留する
ようなことがない。かくして、光ディスク３０は、経時
変化によって、内部の残留ストレスにより反りを生ずる
ようなことはなく、その再生が正しく行なわれることに
なる。

【００３３】図６は、本発明により製造された光ディス
クの第六の実施形態を示している。図６において、光デ
ィスク３６は、図１４に示した光ディスク８と同様の構
成である。即ち、光ディスク３６は、図５の光ディスク
３０に比較して、拡大された反射膜３４，３５の代わり
に、従来通り、例えば直径４０ｍｍから１１８ｍｍの部
分に形成された反射膜３７，３８を備えている。

【００３４】この場合、第一のディスク基板３１及び第
二のディスク基板３２を貼り合わせる紫外線硬化樹脂３
３の硬化のために、紫外線を照射する際、反射膜３７，
３８が設けられていない部分に対応して、光ディスク３
６の上下に、それぞれ調光部材３９，４０が配設され
る。この調光部材３９，４０は、反射膜３７，３８と同
じ紫外線透過特性を有するものが使用され、例えば石英
ガラス等から構成されている。

【００３５】これにより、光ディスク３６の紫外線硬化
樹脂３３は、全域に亘ってほぼ均一な紫外線照射によ
り、硬化速度及び硬化条件が均一となり、内部にストレ
スが残留するようなことがない。従って、光ディスク３
０の場合と同様にして、光ディスク３６は、経時変化に
よって、内部の残留ストレスにより反りを生ずるような
ことはなく、その再生が正しく行なわれることになる。

【００３６】尚、上記実施形態においては、反射膜１
４，１６，２４，３４，３５，３７，３８として、アル
ミニウム薄膜から成る反射膜が使用されているが、これ
に限らず、反射特性を有するものであれば、他の材料、
例えば金等の薄膜から成る反射膜も使用できることは明
らかである。

【００３７】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、基
板の貼り合わせのための紫外線硬化樹脂が均一に硬化さ
れるようにした、光ディスク及びその製造方法を提供す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を片面単層式光ディスクに適用した第一
の実施形態の構成を示す概略断面図である。

【図２】本発明を片面単層式光ディスクに適用した第二
の実施形態の構成を示す概略断面図である。

【図３】本発明を片面二層式光ディスクに適用した第三
の実施形態の構成を示す概略断面図である。

【図４】本発明を片面二層式光ディスクに適用した第四
の実施形態の構成を示す概略断面図である。

【図５】本発明を両面単層式光ディスクに適用した第五
の実施形態の構成を示す概略断面図である。

【図６】本発明を両面単層式光ディスクに適用した第六
の実施形態の構成を示す概略断面図である。

【図７】従来の片面単層式光ディスクの要部を示す断面
図である。

【図８】図７の光ディスクの部分拡大断面図である。

【図９】図７の光ディスクの一側からの紫外線照射の状
態を示す概略断面図である。

【図１０】図７の光ディスクの他側からの紫外線照射の
状態を示す概略断面図である。

【図１１】従来の片面二層式光ディスクの要部を示す断
面図である。

【図１２】図１１の光ディスクの部分拡大断面図であ
る。

【図１３】図１１の光ディスクの紫外線照射の状態を示
す概略断面図である。

【図１４】従来の両面単層式光ディスクの要部を示す断
面図である。

【図１５】図１４の光ディスクの部分拡大断面図であ
る。

【図１６】図１４の光ディスクの紫外線照射の状態を示
す概略断面図である。

【図１７】従来の両面二層式光ディスクの要部を示す断
面図である。

【図１８】図１７の光ディスクの部分拡大断面図であ
る。

【符号の説明】

１０，１５・・・光ディスク、１１，１２・・・ディス
ク基板、１３・・・紫外線硬化樹脂、１４，１６・・・
反射膜、１７・・・調光部材、２０・・・光ディスク、
２１，２２・・・ディスク基板、２３・・・紫外線硬化
樹脂、２４・・・反射膜、２５・・・半透過膜、２６・
・・減光部材、３０，３６・・・光ディスク、３１，３
２・・・ディスク基板、３３・・・紫外線硬化樹脂、３
４，３５，３７，３８・・・反射膜、３９，４０・・・
調光部材。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明合成樹脂から成る複数の基板と、 各基板の表面に形成された記録層と、 各基板を貼り合わせる紫外線硬化樹脂と、を含んでい
   る、光ディスクにおいて、 前記紫外線硬化樹脂を硬化させるために照射される紫外
   線に対して、紫外線硬化樹脂全体の紫外線照射が均一に
   なるような調光手段が設けられていることを特徴とする
   光ディスク。
2. 【請求項２】 前記記調光手段が、前記記録層としての
   反射膜及び／または半透過膜であり、これを基板の内周
   側及び外周側に拡大することにより、構成されているこ
   とを特徴とする請求項１に記載の光ディスク。
3. 【請求項３】 前記調光手段が、紫外線入射側の基板の
   表面に備えられた、前記記録層としての反射膜及び／ま
   たは半透過膜であり、これと同じ紫外線透過率を有する
   調光部材から構成されていることを特徴とする請求項１
   に記載の光ディスク。
4. 【請求項４】 前記調光手段が、紫外線入射側の基板の
   外側に配設された、前記記録層としての反射膜及び／ま
   たは半透過膜であり、これと同じ紫外線透過率を有する
   調光部材から構成されていることを特徴とする請求項１
   に記載の光ディスク。
5. 【請求項５】 透明合成樹脂から成る複数の基板を形成
   する第一の工程と、 各基板の表面に、記録層としての反射膜または半透過膜
   を形成する第二の工程と、 各基板を紫外線硬化樹脂により、貼り合わせる第三の工
   程と、 紫外線照射により、紫外線硬化樹脂を硬化させる第四の
   工程と、を含んでいる、光ディスクの製造方法におい
   て、 上記第四の工程にて、照射される紫外線に対して、紫外
   線硬化樹脂全体の紫外線照射が均一になるように、紫外
   線照射が行なわれることを特徴とする光ディスクの製造
   方法。