JPH09303383A - 回転装置及び光偏向装置 - Google Patents

回転装置及び光偏向装置

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JPH09303383A
JPH09303383A JP8114756A JP11475696A JPH09303383A JP H09303383 A JPH09303383 A JP H09303383A JP 8114756 A JP8114756 A JP 8114756A JP 11475696 A JP11475696 A JP 11475696A JP H09303383 A JPH09303383 A JP H09303383A
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rotating body
bearing
area
thrust bearing
rotor
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JP8114756A
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Masao Gan
雅夫 翫
Satoshi Shibuya
智 渋谷
Shoji Kamimura
尚司 上村
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Konica Minolta Inc
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    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems
    • G02B26/12Scanning systems using multifaceted mirrors
    • G02B26/121Mechanical drive devices for polygonal mirrors

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Connection Of Motors, Electrical Generators, Mechanical Devices, And The Like (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 種々の要因により回転体にアンバランスが生
じたとしても、バランス変化の小さい構造、バランス変
化に強い構造の動圧軸受を用いた回転装置または光偏向
装置を提供することにある。 【解決手段】 回転体の回転により、動圧発生用溝の作
用で、前記回転体と下スラスト軸受およびラジアル軸受
との間に間隙を形成する動圧軸受を用いた回転装置にお
いて、前記ラジアル軸受と対向する前記回転体の面の面
積である「ラジアル軸受面積」(mm2)、前記下スラ
スト軸受と対向する前記回転体の面の面積である「スラ
スト軸受面積」(mm2)、および、前記回転体の重量
である「回転体重量」(g)の間に次の式を 「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×「回転
体重量」<300 (π×D2×H/{π×(D12−D22)/4}×W<
300) 満足することを特徴とする回転装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、回転体の回転によ
り、動圧発生用溝の作用で、回転体と下スラスト軸受お
よびラジアル軸受との間に間隙を形成する動圧軸受を用
いた回転装置に関するものである。また、該回転装置を
用いた光偏向装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】動圧軸受を用いた回転装置は、従来のボ
ールベアリングを用いた回転装置に比して、高速回転が
可能である点で優れており、近年その開発が盛んになっ
ている。一般的に、この動圧軸受を用いた回転装置は、
上下位置のスラスト軸受と、ラジアル軸受と、ラジアル
軸受に対して回転可能な回転体とから成り、回転体の回
転により、各軸受に設けられた動圧発生用溝の作用で、
回転体と軸受との間に数μmの空気間隙を形成させ、軸
受と回転体との間の抵抗を低下させることで高速回転を
可能とするものである。この動圧軸受けを用いた回転装
置では、回転体と軸受との間の間隙を数μmを維持する
必要があり、回転体のバランスに高い精度が要求されて
いる。例えば、20,000rpmで使用する回転体の
バランスはG1級(JISB0905−1978)以下
にしなければならず、G2級程度では振動が大きくな
り、光偏向の精度に影響を及ぼすばかりでなく、かじり
や焼き付きを引き起こす原因にもなる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、回転体を回
転させるとモータコイルからの発熱により周囲温度が上
昇する。特に、画像形成装置などのレーザー光を偏向さ
せる光偏向装置においては、20,000rpm以上の
回転をさせた場合、周囲温度が40deg近く上昇し、
回転体も同じように温度上昇を伴う。そして、上述した
ように、動圧軸受を用いた回転装置では回転体のバラン
ス精度が要求されるところ、回転体の温度が変化した場
合、回転体にアンバランスが生じ、かじりや焼き付きを
引き起こすなど、初期の性能を発揮できなくなるという
問題がある。例えば、約40degの温度上昇により、
G1級からG2級に悪化することもあり、そのため発生
する振動は約10倍にもなり、光偏向装置の場合、偏向
されたレーザー光にブレが生じ、きれいな画像を形成す
ることができなくなる。
【0004】この温度変化により回転体にアンバランス
が生じる原因として、回転体の構造材質の熱膨張の影
響、複数の構成部材からなる場合はそれら構成部材の熱
膨張の影響、又は、それら構成物間を結合させる接着剤
の影響など、マクロあるいはミクロ的な回転体の熱膨張
に起因するものと考えられる。
【0005】そこで、本発明では、種々の要因により回
転体にアンバランスが生じたとしても、バランス変化の
小さい構造、バランス変化に強い構造の動圧軸受を用い
た回転装置または光偏向装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
本発明は、請求項1に於いて、回転体の回転により、動
圧発生用溝の作用で、前記回転体と下スラスト軸受およ
びラジアル軸受との間に間隙を形成する動圧軸受を用い
た回転装置において、前記ラジアル軸受と対向する前記
回転体の面の面積である「ラジアル軸受面積」(m
2)、前記下スラスト軸受と対向する前記回転体の面
の面積である「スラスト軸受面積」(mm2)、およ
び、前記回転体の重量である「回転体重量」(g)の間
に次の式を満足すること。
【0007】「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面
積」×「回転体重量」<300 請求項2に於いて、前記ラジアル軸受の上部に、前記回
転体の抜けを防止する抜け防止手段を有すること、請求
項3に於いて、前記下スラスト軸受に、動圧発生用溝を
形成したこと、請求項4に於いて、前記回転体の下側
に、前記回転体を回転させるためのマグネットを配設す
るとともに、前記マグネットと対向する位置にコイルを
配設し、前記コイルに通電することにより、前記回転体
を回転させること、請求項5に於いて、前記回転体が多
面鏡を有したことにより達成される。
【0008】
【発明の実施の形態】図1は、本発明の動圧軸受を用い
た回転装置101を使用し、光偏向装置であるポリゴン
ミラーを用いたビーム光走査光学系ユニット1の実施形
態例を示す斜視図である。
【0009】図1に於いて、100は取り付け用の基
台、1Aは半導体レーザ発光体、2はコリメータレンズ
(ビーム整形用光学系)、5は第1シリンドリカルレン
ズ、116はポリゴンミラー、7はfθレンズ、8は第
2シリンドリカルレンズ、9は反射ミラー、10は感光
体ドラムをそれぞれ示している。なお、11はタイミン
グ検出用のミラー、12は同期検知器、13は上記ポリ
ゴンミラー116の駆動モータである。半導体レーザ発
光体1Aから出射したビームは、コリメータレンズ2に
より平行光となる。上記ビームは第1結像光学系の第1
シリンドリカルレンズ5を経て回転するポリゴンミラー
116に入射して反射する。該反射光は、fθレンズ
7、第2シリンドリカルレンズ8から成る第2結像光学
系を透過し、反射ミラー9を介して感光体ドラム10面
上に、所定のスポット径で、主走査方向に走査する。な
お、1ライン毎の同期検知は、主走査開始前の光束をミ
ラー11を介して同期検知器12に入射することにより
行う。
【0010】図2は、図1において用いた回転装置10
1を拡大した図であり、動圧軸受を用いた回転装置10
1の全体構成を示す断面図である。
【0011】動圧軸受を用いた回転装置101は、下ス
ラスト軸受103、ラジアル軸受105、抜け止め手段
として保持座金118、及びネジ119と、回転体10
4とを有し、下スラスト軸受103に動圧発生用溝12
1が設けられている。
【0012】基台100上には、前記回転装置101を
支持固定するための芯軸102の一端が垂直に固定され
ている。この芯軸102に貫通し、円板状のセラミック
材からなる下スラスト軸受103、セラミック材からな
る円筒状のラジアル軸受105を順次基台100上に設
け、抜け防止手段である保持座金118とネジ119に
より、下スラスト軸受103とラジアル軸受105とを
基台100に固定される。尚、下スラスト軸受103と
ラジアル軸受105を一体に形成してもよい。
【0013】又、前記ラジアル軸受105に貫通し、下
スラスト軸受103および保持座金118との間に、ラ
ジアル軸受105に対して回転自在になるように回転体
104が設けられている。ラジアル軸受105と回転体
104の回転体芯107との間隙は、若干の間隙(1〜
7μm)を有するように高精度に各々が表面加工されて
いる。
【0014】回転体104の回転体芯107の外周に
は、支持部114を一体に固定し、多数の反射面115
が形成されたポリゴンミラー116を固定部材117で
固定されて、回転体104として、ラジアル軸受105
に対して一体的に回転自在になっている。
【0015】本発明でいう回転体104とは、実際に一
体となって回転する部材全ての部材を含めたものであ
り、本実施形態では、回転体芯107、支持部114、
多数の反射面115が形成されたポリゴンミラー11
6、固定部材117、後述するマグネット125であ
る。
【0016】なお、本実施形態で、抜け防止手段とし
て、上スラスト軸受を用いずに保持座金118とネジ1
19とを用いた。これは、回転体104が抜け出るのを
防止し、下スラスト軸受103やラジアル軸受105を
固定するという2つの機能を備えるためである。そのた
め、さほどの加工精度を必要とせず、部品点数も少なく
なるため低コストになる。勿論、保持座金118とラジ
アル軸受105との間に上スラスト軸受を設けてもよい
ことは言うまでもない。
【0017】又、動圧発生用溝121は、下スラスト軸
受103だけに設けるのではなく、ラジアル軸受105
及び/又は上スラスト軸受が設けられている場合は上ス
ラスト軸受にも設けてもよいが、本実施形態のように、
下スラスト軸受103の上面にのみ動圧発生用溝121
を形成しても、回転精度には影響がなく、加工精度を必
要とする動圧発生用溝の加工が少なくて済み、低コスト
になる。
【0018】この回転体104を回転させるための駆動
源として、アキシャル型の駆動モータ13が用いられ
る。そのため、基台100上に絶縁部材123を介して
ステータコイル124を設け、回転体104の支持部1
14の下部に前記ステータコイル124に対向する位置
にマグネット125が設けられている。そして、ステー
タコイル124に通電することで、回転体104を誘導
回転させることにより、下スラスト軸受103に形成し
た前記動圧発生用溝121による動圧作用により、回転
体104と下スラスト軸受103との間、および、回転
体104とラジアル軸受105との間に空気間隙が形成
され、ポリゴンミラー116の円滑な高速度回転を可能
にしている。回転装置101は以上の様に構成され、高
速回転駆動される。
【0019】次に本発明の実施例および比較例について
説明する。
【0020】図2の回転装置101に於ける動圧軸受の
回転体104の部分を拡大した図3に於いて、スラスト
軸受径D1(mm)、回転体の内径D2(mm)、回転
体高さH(mm)、回転体重量W(g)を、下記の表1
に示すように種々採り、耐アンバランス実験を行った。
【0021】
【表1】
【0022】この実験で、回転装置の周囲温度を変化さ
せ、焼き付きの発生状況を確認した結果、「◎」は50
degの変化を越えても全く発生しなかった回転装置、
「○」は40degの変化まで全く発生しなかった回転
装置、「△」は30degの変化まで発生しなかった回
転装置、「×」は30degまでに発生した回転装置を
示す。
【0023】なお、表1中の指標とは、ラジアル軸受1
05と対向する回転体104の面の面積である「ラジア
ル軸受面積」(mm2)、下スラスト軸受103と対向
する回転体104の面の面積である「スラスト軸受面
積」(mm2)、および、回転体の重量である「回転体
重量」(g)から求められる、 指標=「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×
「回転体重量」 の値である。
【0024】具体的に、図3を参照にして言えば、 「ラジアル軸受面積」=π×D2×H(mm2)、 「スラスト軸受面積」=π×(D12−D22)/4(m
2)、 「回転体重量」=W(g)を用いて、指標を表すと 指標=π×D2×H/{π×(D12−D22)/4}×
W である。
【0025】表1中の種々の実施例および比較例の結果
から、指標が300未満であれば、温度変化すなわちバ
ランス変化に対して強く、好ましくは100未満、更に
好ましくは50未満であることが分かった。
【0026】ところで、回転装置の製造段階において
は、回転装置を組み付けたとき、段階的に回転数を上げ
その都度バランス調整を行い、最終的に所期の回転数で
回転体104のバランス調整を行うことが必要である。
これは、回転装置の製造初期においては、回転体にアン
バランスが生じているため、いきなり所期の回転数まで
上げることができず、従来の回転装置では、バランス調
整を3〜4回行って、最終的に所期の回転数でのバラン
ス調整を行っていた。しかしながら、本発明の回転装置
においては、バランス変化に対して強いということは、
アンバランスに対しても強いということである。
【0027】そこで、上述した表1の実施例および比較
例において、製造段階のバランス調整の際に、かじりの
発生しない回転数(初期回転数)を調べてみたところ、
「◎」の付いた回転装置は、16,000rpm迄は接
触(カジリ)が発生せず、「○」の回転装置は、12,
000rpm迄はカジリが発生せず、「△」の回転装置
は、8,000rpm迄はカジリが発生しなかったのに
対し、「×」の回転装置は、8,000rpm迄にカジ
リが発生した。
【0028】このことより、本発明の指標を満たすこと
により、製造段階において、初期回転数が高くなるた
め、段階的に回転数を上げバランス調整を行う回数を減
らすことができ、製造コストを大幅に下げ、製造時間が
大幅に短縮することができるという付随的な効果を奏す
ることがわかる。
【0029】尚、上述した実施例および比較例で示した
ように、図3のような回転体104の形状に限らず、図
4に示すような形状でも、上述した結果と同様の結果を
得る。
【0030】図4の回転体104には、ラジアル軸受1
05に対向する回転体104の面に面取り104A、1
04Bを施しており、又、下スラスト軸受103に対向
する回転体104の面のうち外側に切り欠き104Cを
施している。
【0031】この場合、「ラジアル軸受面積(m
2)」とは、ラジアル軸受105に対向する回転体1
04の面の面積のことであるので、図4でいうと、「ラ
ジアル軸受面積(mm2)」=π×D2×H′で表され
る。又、図3のように、回転体104に面取り104
A、104Bを施していない場合は、H′=Hとなるの
で、「ラジアル軸受面積(mm2)」=π×D2×Hと
なる。なお、回転体104の面取り幅が0.5mm以下
であれば、面取りが無いものとしてH′=Hとすること
ができ、又、ラジアル軸受105に対向する回転体10
4の面が傾斜していても、その傾斜によるスラスト方向
の幅が数mm以下であれば、傾斜を無視し、D2をその
平均とする。
【0032】また、「スラスト軸受面積(mm2)」と
は、下スラスト軸受103に対向する回転体104の面
の面積のことであるので、図4でいうと、「スラスト軸
受面積(mm2)」=π×(D1′2−D2′2)/4で
表される。又、図3のように、回転体104に面取りお
よび切り欠きを施していない場合は、D2′=D2、D
1′=D1となるので、「スラスト軸受面積(m
2)」=π×(D12−D22)/4となる。尚、回転
体104の面取り幅が1mm以下であれば、面取りが無
いものとしてD2′=D2とすることができ、切り欠き
がスラスト方向に数mm以下の幅であれば、切り欠きが
無いものとしてD1′=D1とすることができる。
【0033】また、「回転体重量(g)」とは、回転体
の重量(g)のことであり、実際に回転をする部材の総
重量(g)のことである。例えば、回転体104が回転
するためのマグネットや多面鏡を回転体104に有して
いる場合は、それらマグネットや多面鏡も含めた重量の
ことである。
【0034】以上のことから、本発明の指標である「ラ
ジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×「回転体重
量」は、「回転体の重量」をW(g)とすると、図4に
示される回転装置101の場合、 指標=(π×D2×H)/(π×(D1′2−D2′2
/4)×Wとなる。
【0035】図4のような回転装置においても、本発明
の指標「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×
「回転体重量」は、300未満とすることで上述した効
果を奏し、好ましくは100以下、さらに好ましくは5
0以下とするとよい。
【0036】このように、本発明においては、回転体1
04の形状如何に係わらず、ラジアル軸受105と対向
する回転体104の面の面積である「ラジアル軸受面
積」(mm2)、下スラスト軸受103と対向する回転
体104の面の面積である「スラスト軸受面積」(mm
2)、および、回転体の重量である「回転体重量」
(g)の間に 「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×「回転
体重量」<300 の式を満足することにより、種々の要因により回転体1
04にアンバランスが生じたとしても、バランス変化の
小さい構造、バランス変化に強い構造の動圧軸受を提供
することができる。
【0037】
【発明の効果】請求項1に於いて、回転体の回転によ
り、動圧発生用溝の作用で、前記回転体と下スラスト軸
受およびラジアル軸受との間に間隙を形成する動圧軸受
を用いた回転装置において、前記ラジアル軸受と対向す
る前記回転体の面の面積である「ラジアル軸受面積」
(mm2)、前記下スラスト軸受と対向する前記回転体
の面の面積である「スラスト軸受面積」(mm2)、お
よび、前記回転体の重量である「回転体重量」(g)の
間に 「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×「回転
体重量」<300 の式を満足するとしたので、種々の要因により回転体に
アンバランスが生じたとしても、バランス変化の小さい
構造、バランス変化に強い構造の動圧軸受を提供するこ
とができる。
【0038】請求項2に於いて、前記ラジアル軸受の上
部に、前記回転体の抜けを防止する抜け防止手段を有す
るので、加工精度をさほど必要としない抜け防止手段で
よいため、低コストとなる。
【0039】請求項3に於いて、前記下スラスト軸受
に、動圧発生用溝を形成したので、加工精度を必要とす
る動圧発生用溝の加工が少なくて済み、低コストとな
る。
【0040】請求項4に於いて、前記回転体の下側に、
前記回転体を回転させるためのマグネットを配設すると
ともに、前記マグネットと対向する位置にコイルを配設
し、前記コイルに通電することにより、前記回転体の高
速回転を容易にする。
【0041】請求項5に於いて、前記回転体が多面鏡を
有するので、多面鏡で反射させ、例えばレーザー光にブ
レなどが発生しない。
【図面の簡単な説明】
【図1】動圧軸受を用いた回転装置を光偏向装置として
用いたビーム光走査光学系ユニットを示す斜視図であ
る。
【図2】動圧軸受を用いた回転装置101の全体構成を
示す断面図である。
【図3】図2の回転装置の動圧軸受および回転体の部分
を拡大した断面図。
【図4】他の実施例の回転装置の構成を示す断面図。
【符号の説明】
1 光走査光学ユニット 101 回転装置 103 下スラスト軸受 104 回転体 105 ラジアル軸受 116 ポリゴンミラー 118 保持座金 119 ネジ 121 動圧発生用溝

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転体の回転により、動圧発生用溝の作
    用で、前記回転体と下スラスト軸受およびラジアル軸受
    との間に間隙を形成する動圧軸受を用いた回転装置にお
    いて、 前記ラジアル軸受と対向する前記回転体の面の面積であ
    る「ラジアル軸受面積」(mm2)、前記下スラスト軸
    受と対向する前記回転体の面の面積である「スラスト軸
    受面積」(mm2)、および、前記回転体の重量である
    「回転体重量」(g)の間に次の式を満足することを特
    徴とする回転装置。 「ラジアル軸受面積」/「スラスト軸受面積」×「回転
    体重量」<300
  2. 【請求項2】 前記ラジアル軸受の上部に、前記回転体
    の抜けを防止する抜け防止手段を有することを特徴とす
    る請求項1記載の回転装置。
  3. 【請求項3】 前記下スラスト軸受に、動圧発生用溝を
    形成したことを特徴とする請求項1又は2記載の回転装
    置。
  4. 【請求項4】 前記回転体の下側に、前記回転体を回転
    させるためのマグネットを配設するとともに、前記マグ
    ネットと対向する位置にコイルを配設し、前記コイルに
    通電することにより、前記回転体を回転させることを特
    徴とする請求項1、2、又は3記載の回転装置。
  5. 【請求項5】 前記回転体が多面鏡を有する請求項1、
    2、3、又は4記載の回転装置及び光偏向装置。
JP8114756A 1996-05-09 1996-05-09 回転装置及び光偏向装置 Pending JPH09303383A (ja)

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JP8114756A JPH09303383A (ja) 1996-05-09 1996-05-09 回転装置及び光偏向装置
US08/840,671 US5946122A (en) 1996-05-09 1997-04-29 Rotating device and light beam deflecting apparatus
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EP97107123A EP0806690B1 (en) 1996-05-09 1997-04-30 Rotating device and light beam deflecting apparatus

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