JPH09293767A - 基板搬送方法 - Google Patents

基板搬送方法

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JPH09293767A
JPH09293767A JP8105279A JP10527996A JPH09293767A JP H09293767 A JPH09293767 A JP H09293767A JP 8105279 A JP8105279 A JP 8105279A JP 10527996 A JP10527996 A JP 10527996A JP H09293767 A JPH09293767 A JP H09293767A
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JP
Japan
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station
substrate
substrates
stations
board
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP8105279A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshihiro Katsume
智弘 勝目
Norihiko Hara
典彦 原
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nikon Corp filed Critical Nikon Corp
Priority to JP8105279A priority Critical patent/JPH09293767A/ja
Publication of JPH09293767A publication Critical patent/JPH09293767A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
    • G03F7/7075Handling workpieces outside exposure position, e.g. SMIF box

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 何らかの障害で露光装置が停止した場合にも
各基板を所定の順序で正しく搬送することが可能な基板
搬送方法を提供する。 【解決手段】 基板が露光装置の最初のステーションP
1に搬送されたときその基板に管理番号1を付与し、基
板が最初のステーションに搬送されるごとに他のステー
ションに存在する各基板の管理番号を1だけ増分させ
る。ステーションに存在する基板の管理番号1〜3並び
にその基板が最前に通過したステーションSa〜Seを
ステーションごとに設けた記憶領域Ma〜Meに記憶す
る。このような構成では、露光装置内の基板の順番の管
理並びに次に進むべきステーションを確実に把握するこ
とができ、装置停止時の復旧を迅速に行うことが可能に
なり生産性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板搬送方法、更
に詳細には、管理番号が付される基板を露光装置内の複
数のステーションを所定の順序に通過させて搬送する基
板搬送方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年コンピュータ等のモニタ機器として
液晶デバイス(液晶ディスプレイ)が多用されるに従っ
て、大量の液晶デバイスの需要が高まっている。このよ
うな液晶デバイスは、レチクル(マスク)上のパターン
を投影光学系を介して基板上に投影露光する露光装置を
用いて作成されている。通常露光装置には、待機ステー
ション、露光ステーション、排出ステーション等複数の
ステーションが設けられており、基板は、露光装置のこ
れらのステーションを所定の順序に通過して搬送され
る。
【0003】このような基板搬送系において、通常同じ
回路パターン(以下レシピという)を焼き付ける基板が
連続して各ステーションに搬送される。この同じレシピ
が焼き付けられる一連の基板は、ロットと呼ばれ、ロッ
トの最後の基板は、ロットエンド基板と呼ばれており、
ロットエンド基板の処理が終了したところで次に露光す
るレシピに切り替える。
【0004】何らかの障害で露光装置が停止してしまっ
た場合、露光装置内を基板が一方通行で通る場合は、特
に基板の順番にこだわることなくそのまま復旧すればよ
い。
【0005】しかし、基板が同じ場所を所定の順序で何
度も通過する構成の露光装置の場合、露光装置が障害で
停止し基板の順番が不明になった場合、露光装置が障害
から回復しても基板の順番が不明なのでそのままでは復
旧できず、装置内の基板を露光しないで外部に搬出する
ため復旧するのに無駄な時間が掛かったり、或はそのま
ま露光を再開した場合、ロットエンド基板の順番が変わ
ってしまうと間違ったレシピで基板を露光することにな
り、最も重大な問題であるロットずれの原因となる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
を解決するためになされたもので、何らかの障害で露光
装置が停止した場合にも各基板を所定の順序で正しく搬
送することが可能な基板搬送方法を提供することを課題
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に、本発明は、管理番号が付される基板を露光装置内の
複数のステーションを所定の順序に通過させて搬送する
基板搬送方法において、基板が露光装置の最初のステー
ションに搬送されたときその基板に所定の管理番号を付
し、基板が最初のステーションに搬送されるごとに他の
ステーションに存在する各基板の管理番号を所定量変化
させ、ステーションに存在する基板の管理番号並びにそ
の基板が最前に通過したステーションをステーションご
とに設けた記憶領域に記憶することを特徴としている。
【0008】本発明では、各ステーションに関連するメ
モリには、そのステーションにある基板の管理番号とそ
の基板の前歴が格納されるので、装置が停止し、その後
復旧したときでも、各基板の順番並びに次に進むべきス
テーションを指示することが可能になる。従って、露光
装置内の基板の順番の管理並びに次に進むべきステーシ
ョンを確実に把握することができ、装置停止時の復旧を
迅速に行うことが可能になり生産性が向上する。
【0009】
【発明の実施の形態】以下、図面に示す実施形態に基づ
いて本発明を詳細に説明する。
【0010】図1は、露光装置内における各処理ステー
ションと基板搬送経路の1例を示す。露光装置には、入
口から出口に向かって待機ステーションSa、バッファ
ステーションSb、プリアライメントステーションS
c、露光ステーションSd、並びに排出ステーションS
eが設けられている。基板は、待機ステーションに待機
した後X1の方向にバッファステーションSbに入り、
その後X2の方向に移動してここでプリアライメントが
行なわれる。その後X3の方向に搬送されて露光ステー
ションSdでレシピが焼き付けられた後、再びX4方向
にバッファステーションSbに搬送され、その後X5の
方向に排出ステーションに送られ、出口へ排出される。
【0011】また、図2に図示したように、各ステーシ
ョンSa〜Seに対応してメモリMa〜Meが設けられ
ており、各メモリの左側には、対応するステーションに
存在する基板の管理番号が、また各メモリの右側には、
対応するステーションに存在する基板が先刻どのステー
ションを通過したかがそれぞれ格納される。
【0012】このような基板搬送系において、図3のス
テップS1に示したように、待機ステーションSaに基
板が存在するか否かが判断される。ステーションが空い
ていると判断された場合には、基板が待機ステーション
Saに搬送され、このとき基板に管理番号1が付与され
る(ステップS2)。この基板がP1であるとして、そ
の状態が図4(a)に図示されている。
【0013】このとき、図3のステップS3で示したよ
うに、待機ステーションSaに対応するメモリMaに基
板P1の管理番号と、その基板P1の前歴、すなわちその
基板が最前に通過したステーション名を記憶する。待機
ステーションSaの前にはステーションがないので、そ
のような場合には、ステーション名を「S0」とする。
従って、メモリMaの格納状態は、図4(e)のように
なる。このとき、ステップS4に示したように、他のス
テーションに基板がある場合には、基板の管理番号を+
1増分する(ステップS5)。図4(a)の場合には、
他のステーションに基板がないので、ステップS5はス
キップされる。
【0014】次に基板P1がバッファステーションSb
に入ると(X1)、待機ステーションSaは空きになる
ので、次の基板P2が待機ステーションSaに搬送さ
れ、基板P2に対して管理番号1が付与され(ステップ
S1、S2)、またバッファステーションSbにある基
板P1の管理番号は+1増分されて2となる(ステップ
S4、S5)。このときメモリMaには基板P2の管理
番号1とその前歴S0が格納され、またメモリMbには
基板P1の管理番号2とその基板の最前に通過したステ
ーション名Saが格納される。この状態がそれぞれ図4
(b)、(f)に図示されている。
【0015】続く、図4(c)、(g)の状態は、各基
板がX1、X2に沿って次のステーションに移動した状態
を示しており、このとき、メモリMbにはその関連する
バッファステーションSbにある基板P2の管理番号1
と、その基板が先刻通過したステーション名Saが格納
され、またメモリMcにはプリアライメントステーショ
ンScにある基板P1の管理番号2と、その基板が先刻
通過したステーション名Sbがそれぞれ格納される。
【0016】次に、図4(d)、(h)に図示した状態
は、基板P1が露光ステーションSdに入り、一方新た
な基板P3が待機ステーションSaに搬送された状態を
示している。ここで、新たな基板P3には管理番号1が
付与され、そのとき同時に他のステーションにある基板
P1、P2の管理番号がぞれぞれ+1増分される。メモリ
Ma、Mb、Mdには、関連するステーションにある各
基板P3、P2、P1の管理番号と、その基板の前歴ステ
ーション名がそれぞれ格納される。
【0017】続く、図5(a)、(e)の状態は、基板
P2がX2の方向に次のステーションに移動したことを示
しており、メモリMcにその状態が格納される。このと
きには新しい基板は入っていないので、管理番号は増分
されることはない。
【0018】また、図5(b)、(f)では、基板P1
が露光ステーションSdからバッファステーションSb
へ移動した状態が、また図5(c)、(g)では、基板
P1がバッファステーションSbから排出ステーション
Seへ、基板P2がプリアライメントステーションSc
から露光ステーションSdへ、更に基板P3が待機ステ
ーションSaからバッファステーションSbへそれぞれ
搬送されたときの各ステーションとメモリの内容が図示
されている。
【0019】更に、図5(d)、(h)では、最初の基
板P1が排出ステーションSeから出口に排出された状
態であり、メモリMeがクリアされる以外変化はない。
【0020】このような搬送系では、各ステーションに
関連するメモリには、そのステーションにある基板の管
理番号とその基板の前歴が格納されるので、装置が停止
し、その後復旧したときでも、各基板の順番並びに次に
進むべきステーションを指示することが可能になる。例
えば、図5(b)、(f)の状態で障害が発生し、装置
が停止し、その後復旧させる場合には、管理番号が大き
い順に処理を進めるようにする。すなわち、管理番号の
一番大きい(管理番号3)の基板は、バッファステーシ
ョンSbにあることがわかり、またその基板は、前のス
テーションが露光ステーションSdであることから、そ
の基板を排出ステーションSeへ搬送するようにすれば
よい。同様に、管理番号が次の大きい基板に対して順次
処理を再開するようにすればよい。
【0021】上述した例で、搬送経路が直線的で一方向
である場合には、必ずしも基板が最前に通過したステー
ション名を格納する必要はないが、図1に示すように、
バッファステーションSbに存在する基板は、その前に
待機ステーションSaあるいは露光ステーションSdを
通過する可能性があるので、前歴を格納しておかない
と、復旧時次に進むべきステーションを見失ってしま
う。しかし、本発明では、その前歴が格納されるので、
このような問題はなくなる。図1に示すような搬送系の
場合、復旧時次に進むべきステーションがわからなくな
るのは、輻輳するステーション、例えばバッファステー
ションSbだけであり、他のステーションでは、その前
に通過してステーションが一義的なので必ずしもメモリ
に前歴を格納する必要はない。
【0022】また、基板に付与される管理番号は、最初
に1が与えられ、最大増分されてもステーション数、す
なわち最大5までなので、メモリ容量を減少させること
ができる。この場合、上述した例のように、最初に1の
番号を与える代りに最大数5を付与し、基板が待機ステ
ーションSaに入るごとに管理番号を−1減少させるよ
うにしてもよい。増分あるいは減少させる場合でも、一
般的に最初に整数Nを付与することからはじめてもよい
ことは自明である。
【0023】また、上述した実施形態では、基板を一枚
ずつ装置に搬入する形式の露光装置であったが、これに
限定されず、露光装置内に基板を複数枚収納するキャリ
アを複数持ち、そのキャリアから一枚ずつ基板を搬送す
る構成の装置で、装置内に異なるレシピで露光する基板
が混在するような場合露光装置に対しても本発明は有効
である。
【0024】更に、基板の管理番号並びに前歴を不揮発
性メモリに記憶するようにすれば、停電時でも確実に基
板の順番の管理が行え復旧が容易になる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、基板
が最初のステーションに搬送されるごとに他のステーシ
ョンに存在する各基板の管理番号を所定量変化させ、ス
テーションに存在する基板の管理番号並びにその基板が
最前に通過したステーションをステーションごとに設け
た記憶領域に記憶するようにしているので、露光装置内
の基板の順番の管理並びに次に進むべきステーションを
確実に把握することができ、装置停止時の復旧を迅速に
行うことが可能になり生産性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図1】基板搬送系の一例の説明図である。
【図2】基板の管理番号並びに前歴を格納するメモリの
説明図である。
【図3】基板の管理番号の付与の流れを示すフローチャ
ート図である。
【図4】基板の搬送の流れとメモリの内容を示す説明図
である。
【図5】基板の搬送の流れとメモリの内容を示す説明図
である。
【符号の説明】
Sa 待機ステーション Sb バッファステーション Sc プリアライメントステーション Sd 露光ステーション Se 排出ステーション Ma〜Me メモリ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 管理番号が付される基板を露光装置内の
    複数のステーションを所定の順序に通過させて搬送する
    基板搬送方法において、 基板が露光装置の最初のステーションに搬送されたとき
    その基板に所定の管理番号を付し、 基板が最初のステーションに搬送されるごとに他のステ
    ーションに存在する各基板の管理番号を所定量変化さ
    せ、 ステーションに存在する基板の管理番号並びにその基板
    が最前に通過したステーションをステーションごとに設
    けた記憶領域に記憶することを特徴とする基板の搬送方
    法。
  2. 【請求項2】 基板が最初のステーションに搬送される
    ごとに他のステーションに存在する各基板の管理番号を
    一定量増加あるいは減少させることを特徴とする請求項
    1に記載の基板搬送方法。
  3. 【請求項3】 前記一定量が1であることを特徴とする
    請求項2に記載の基板搬送方法。
JP8105279A 1996-04-25 1996-04-25 基板搬送方法 Withdrawn JPH09293767A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009071326A (ja) * 2008-11-28 2009-04-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板検出方法及び半導体製造装置に於ける基板検出方法及び半導体製造装置及び半導体製造装置に於ける基板回収方法
KR100919084B1 (ko) * 2002-01-31 2009-09-28 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판반송방법
KR100937083B1 (ko) * 2002-01-11 2010-01-15 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100937083B1 (ko) * 2002-01-11 2010-01-15 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판처리방법
KR100919084B1 (ko) * 2002-01-31 2009-09-28 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판처리장치 및 기판반송방법
JP2009071326A (ja) * 2008-11-28 2009-04-02 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板検出方法及び半導体製造装置に於ける基板検出方法及び半導体製造装置及び半導体製造装置に於ける基板回収方法
JP4669544B2 (ja) * 2008-11-28 2011-04-13 株式会社日立国際電気 基板検出方法及び半導体製造装置に於ける基板検出方法及び半導体製造装置及び半導体製造装置に於ける基板回収方法

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Effective date: 20061003