JPH09293465A - 陰極線管用抵抗体の製造方法 - Google Patents

陰極線管用抵抗体の製造方法

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JPH09293465A
JPH09293465A JP8313845A JP31384596A JPH09293465A JP H09293465 A JPH09293465 A JP H09293465A JP 8313845 A JP8313845 A JP 8313845A JP 31384596 A JP31384596 A JP 31384596A JP H09293465 A JPH09293465 A JP H09293465A
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正樹 青木
Mitsuhiro Otani
光弘 大谷
Katsuyoshi Yamashita
勝義 山下
Tatsuo Hiratani
辰夫 平谷
Ryuichi Murai
隆一 村井
Masatoshi Kudo
眞壽 工藤
Hideji Omae
秀治 大前
Masahiko Chikada
雅彦 近田
Mamoru Inoue
守 井上
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 陰極線管用ガラス基板上に抵抗値の焼成温度
依存性が少なく、しかも、負荷特性や温度特性の優れた
高抵抗体を得る。 【解決手段】 酸化ルテニウム粒子の粒径、ガラス粒子
の組成と粒径、金属酸化物粒子の組成と粒径の最適化、
特に酸化ルテニウムの粒径を０．０５〜０．４μm、ガ
ラスの粒径を０．０１μm〜２．０μm、ガラスの組成を
ＰbＯ−Ｂ2Ｏ3−ＳiＯ2−Ａl2Ｏ3−ＺnＯ系、金属酸化
物の粒径を０．０５〜２．０μmの範囲に構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、映像画像表示装
置、特に陰極線管や陰極線管の電子銃部分に用いられる
高抵抗体の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来のカラー表示用陰極線管の概
略断面図である。この陰極線管は図２に示すように蛍光
体スクリーン面(フェースプレート部)２１、ネック部２
２を持ち、そのネック部内にカソード２３と電子レンズ
系から成る電子銃が設けられている。電子レンズ系はト
ライオード部２４と金属円筒より成る主電子レンズ部２
５に分けられている。この電子レンズ系はカソード２３
から出射した電子ビームのクロスオーバ像を主電子レン
ズ部２５によりスクリーン面２１に結像させる構造にな
っている。このような電子レンズ系において、電子光学
的倍率Ｍと球面収差係数Ｃsoを用いて、スクリーン上の
スポット径Ｄsを求めると、Ｄsは下記数式「数１」とな
る。
【０００３】
【数１】 Ｄs＝[(Ｍ・dx＋(１／２)Ｍ・Ｃso・αo3)2＋Ｄsc2]1/2 …………(１)
【０００４】ここでdxは仮想クロスオーバ径,αoはビー
ムの発散角,Ｄscは空間電荷の反発効果によるビームの
拡がり成分である。
【０００５】近年スクリーン上のスポット径Ｄsを小さ
くすることで高精細の画像を得ようとして、主電子レン
ズ部の球面収差係数Ｃsoを小さくする努力がなされてい
る。その一つの方法として、従来の集束電極である複数
の金属円筒から成る主電子レンズに代わり、陰極線管中
のネック部分に螺旋状の抵抗体で構成され集束電極を設
けることにより、球面収差係数Ｃsoを小さくする方法が
考案されている。(例えば、特開昭６０−２０８０２７
号公報,特開平２−２７６１３８号公報)
【０００６】この螺旋状抵抗体の従来の製造は、水酸化
ルテニウム[Ｒu(ＯＨ)3]とガラス粒子とを結合剤を含有
しない安定な懸濁液を用いて、ディッピング法によりガ
ラス管(例えばガラスの軟化点が６４０℃の鉛ガラス)の
内面に膜を形成し、乾燥後この膜を機械的に螺旋状に切
削加工し、その後焼成して酸化ルテニウム(ＲuＯ2)を含
有する抵抗体を形成することにより行われていた。(例
えば、特開昭６１−２２４４０２号公報）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の螺旋状抵抗体を作成する一つの方法は、水酸化ルテ
ニウム［Ｒu(ＯＨ)3]と低融点ガラス(６００℃以下で軟
化するガラス)粉体を含有し、結合剤(有機バインダー)
を含有しない懸濁液を用いる方法であり、その方法で
は、絶縁体であるＲu(ＯＨ)3が焼成時(４００〜６００
℃)に熱分解して、導電体であるＲuＯ2を析出すると同
時にガラスが流動して、ガラス粒子のまわりに０．０１
〜０．０３μmの非常に細いＲuＯ2粒子が析出して抵抗
体を形成する。そのため１０ＧΩという高抵抗(面積抵
抗値は、１ＭΩ／口)を得ようとすると、抵抗値の焼成
温度依存性が大きくなる(焼成温度が少し変動しただけ
で抵抗値が大幅に変化する)とともに、および抵抗値の
温度係数(ＴＣＲ)が負に大きくなる、という問題が生じ
ている。
【０００８】他方、酸化ルテニウム(ＲuＯ2)とガラス粒
子からなる抵抗体の製造方法として例えば、特開昭５５
−１４６２７号公報が提案されているが、このＲuＯ2−
ガラス系の抵抗体は、分圧抵抗器として、アルミナ(Ａl
2Ｏ3)基板上にスクリーン印刷法にて形成され、その全
抵抗値は、３００〜１０００ＭΩであるに過ぎない。ま
た、この抵抗体は、基板にアルミナ(熱膨張係数７５×
１０-7／℃、融点２０５０℃)が用いられており、高電
圧(３０ＫＶ程度)や電子線に対して信頼性の高い抵抗体
が必要なことから７５０℃〜８５０℃の比較的高温度で
焼成されるように調製されている（ＲuＯ2−ガラス系
(高融点のガラス)からなるグレーズ抵抗体を用いる）た
め、陰極線管用の低融点ガラス(ガラスの転移点が６０
０℃)の内面にこのような抵抗体を形成することが不可
能である。
【０００９】そこで、本発明は、陰極線管用の低融点ガ
ラス(ガラスの転移点が６００℃)の内面にこのような抵
抗体を形成することができ、しかも低温焼成によっても
抵抗値の焼成温度依存性が少なく、従来例より高電圧印
加による負荷特性や抵抗値の温度特性の変化の少ない、
信頼性の高い螺旋状抵抗体を得ることを目的とする。ま
た、本発明は酸化ルテニウム粒子の粒径、ガラス粒子の
粒径および組成、要すれば金属酸化物の種類と粒径、こ
れらの配合比などを調製することにより集束電極用ガラ
ス基盤上に低温焼成により安定な高抵抗体を形成するこ
とができる方法を提供することを目的とする。
【００１０】本発明者らは、ＲuＯ2粒子の粒径を従来に
比べて大きくし、ガラス粒子の組成(特に熱膨張係数を
ガラス基板に合わせる)と粒径および抵抗体の膜厚の最
適化を計ると、１０ＧΩ(面積抵抗値として、１ＭΩ／
口)という高い抵抗値を抵抗値の焼成温度依存性が少な
く、しかも高電圧印加による負荷特性に対して安定で抵
抗値の温度係数(ＴＣＲ)の低い抵抗体が得られることを
見出した。
【００１１】即ち、本発明者らは、集束電極用ガラス管
内に安定して、高抵抗体を得るために、ＲuＯ2粒子の粒
径およびガラス粒子の粒径と組成、酸化物粉末の粒径と
組成ならびにＲuＯ2粉末とガラス粉末の配合比の最適化
を計る多くの実験をした結果、ＲuＯ2とガラスの比率に
おいて、ＲuＯ2の量を１〜１５重量％と少なくし、同時
にＲuＯ2の粒径は０．０５〜０．４μmと比較的大き
く、ガラスの粒径を０．０１〜２．０μmと細かくする
ことにより、５００℃前後の低温で焼成しても、面積抵
抗値が１ＭΩ／口の高抵抗値と低い抵抗値温度係数(Ｔ
ＣＲ)が安定して得られ、又、短時間過負荷やＴＣＲ
は、ガラス組成と焼成条件によって、短時間過負荷を±
２％以内,ＴＣＲを±４５０ppm／℃以内にすることが出
来ることを見出した。
【００１２】本発明は平均粒径が０．０５μm〜０．４
μmの酸化ルテニウム(ＲuＯ2)粉末１重量％〜１５重量
％と,平均粒径が０．０１μm〜２．０μmのガラス粉末
８５重量％〜９９重量％を含む抵抗用塗布液を、ガラス
管内面に塗布して抵抗層を形成し、乾燥後上記抵抗層を
螺旋状に切削加工し、次に焼成して少なくとも１ＭΩ／
口以上の面積抵抗値を有する陰極線管用抵抗体を製造す
ることを特徴とする陰極線管用抵抗体の製造方法にあ
る。
【００１３】本発明方法で得られるＲuＯ2−ガラス系グ
レーズ抵抗体は、焼成後ガラス粒子のネットワーク中
に、ＲuＯ2粒子が分散された状態となっている(例え
ば、米国の雑誌ジャーナル オブ アメリカンセラミッ
クソサエティー ７３巻７号（１９９０）１９５３
頁)。
【００１４】上記ガラス粉末の組成は特に熱膨張係数を
ガラス基板に合わせるのが好ましく 、１）酸化鉛(ＰbＯ)６７重量％〜９５重量％、酸化硅
素(ＳiＯ2)２重量％〜１５重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)３
重量％〜１９重量％の組成、 ２）酸化鉛(ＰbＯ)６９重量％〜９０重量％、酸化亜鉛
(ＺnＯ)４重量％〜２０重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)５重
量％〜１５重量％の組成、 ３）酸化燐(Ｐ2Ｏ5)４０重量％〜５２重量％、酸化亜鉛
(ＺnＯ)３４重量％〜５６重量％、酸化アルミニウム(Ａ
l2Ｏ3)４重量％〜１４重量％の組成、 ４）酸化亜鉛(ＺnＯ)１５重量％〜３０重量％、酸化硼
素５重量％〜２５重量％、酸化パナジウム(Ｖ2Ｏ5)５０
重量％〜７５重量％の組成、 ５）酸化鉛(ＰbＯ)６９重量％〜９２重量％、酸化硅素
(ＳiＯ2)２重量％〜１０重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)２重
量％〜２０重量％、酸化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)１重量
％〜５重量％、酸化亜鉛(ＺnＯ)２重量％〜５重量％の
組成が例示される。
【００１５】酸化ルテニウム粉末およびガラス粉末の他
に、金属酸化物を添加することもできる。その場合には
平均粒径が０．０５μm〜０．４μmの酸化ルテニウム
(ＲuＯ2)粉末３重量％〜１３重量％と,平均粒径が０．
０１μm〜２．０μmのガラス粉末６９重量％〜９２重量
％および平均粒径０．０５μm〜２．０μmの金属酸化物
１５重量％〜４０重量％を混合して抵抗用塗布液を調製
する。なお、上記金属酸化物は、酸化チタン(ＴiＯ2)、
酸化ジルコニウム(ＺrＯ2)、酸化亜鉛(ＺnＯ)、酸化硅
素(ＳiＯ2)および酸化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)からなる
群から選ぶのが好ましい。
【００１６】この場合のガラス粉末組成としては、１）
酸化鉛(ＰbＯ)６９重量％〜９２重量％、酸化硅素(Ｓi
Ｏ2)２重量％〜１０重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)２重量％
〜２０重量％、酸化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)１重量％〜
５重量％、酸化亜鉛(ＺnＯ)２重量％〜５重量％からな
る組成および２）酸化鉛(ＰbＯ)６７重量％〜９５重量
％,酸化硅素(ＳiＯ2)２重量％〜１５重量％,酸化硼素
(Ｂ2Ｏ3)３重量％〜１９重量％からなる組成が好ましい
組成として例示される。
【００１７】上記ガラス管としては、抵抗層の低温によ
る焼成が可能であるから、上記ガラス管のＴｇ：ガラス
転移点が６００℃以下であるものを使用可能である。そ
の典型的組成としては、酸化鉛２８重量％、酸化硅素６
０重量％、酸化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)１重量％、酸化
ナトリウム(Ｎa2Ｏ)８重量％、酸化カリウム(Ｋ2Ｏ)３
重量％からなるもの、酸化硅素(ＳiＯ2)７２重量％、酸
化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)７重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)
１０．５重量％、酸化バリウム(ＢaＯ)３重量％、酸化
ナトリウム(Ｎa2Ｏ)７．５重量％からなるものが挙げら
れる。
【００１８】
【発明の実施の形態】以下本発明の最良の実施の形態を
添付の図１および表１ないし表４を用いて説明する。図
１は本発明に係る陰極線管の概略断面図である。この陰
極線管はフェースプレート１１、ネック部１２をもち、
そのネック部内にカソード１３と電子レンズ系から成る
電子銃が設けられている。電子レンズ系はトライオード
部１４と螺旋状抵抗体から成る集束電極部１５に分けら
れている。
【００１９】実施例１ 図１のネック部１２に内蔵されるべき集束電極部１５用
のガラス管を用意する。このガラス管は直径１０mmφ,
長さ６５mmの、ＳiＯ2が６０重量％,ＰbＯが２８重量
％,Ｎa2Ｏが８重量％,Ｋ2Ｏが３重量％,Ａl2Ｏ3が１重
量％から成るガラス管(熱膨張係数９４×１０-7／℃,日
本電気硝子株式会社製,商品番号＃Ｌ−２９Ｆ)である。
次に、平均粒径０．０５μmの酸化ルテニウム(ＲuＯ2)
粉末と、組成が、ＰbＯが８５重量％,Ｂ2Ｏ3が１０重量
％,ＳiＯ2が５重量％で、平均粒径が０．１μｍのガラ
ス粉末とを、重量比で３対９７の割合で配合し、有機バ
インダーとしての１０％のエチルセルローズを溶解した
ターピネオールと共に、公知三本ロール混練機にて混練
し、抵抗体ペーストを作成した。得られた抵抗体ペース
トを前記ガラス管内面に塗布するためにトルエンをさら
に溶剤としてペーストに加えて５０センチポイズの粘度
に調整し抵抗体塗布液とした。
【００２０】次にガラス管を塗布液中に浸し、引き上げ
ることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に８
０℃で乾燥させ約１０μｍの厚さの抵抗層を形成した。
【００２１】次に、この内面をダイヤモンドバイトで螺
旋状(コイル状)に切削加工して、抵抗体パターンを形成
した。その抵抗体巾は２２５μm、全長３．５m(中間タ
ップ部を除く),巻線間の間隔７５μm,ピッチ３００μm
であった。
【００２２】この同じ抵抗体パターン付ガラス管を３本
作成し、それぞれを４４０℃,４５０℃,４６０℃で１０
分間保持できるトンネル炉で焼成した。この時の膜厚は
約７μmで全抵抗値は、それぞれ１７．９ＧΩ,１５．０
ＧΩ,１１．８ＧΩであった。(面積抵抗値は、それぞれ
３．６ＭΩ／口,３．０ＭＱ／口,２．４ＭΩ／口で、焼
成温度２０℃の変化内における抵抗値の最大最少比は
１．５２倍であった。)又、０℃〜１２５℃間の抵抗値
の温度変化,抵抗温度係数(ＴＣＲ)は、すべて−４０５p
pm／℃であった。なおppmは×１０-6を示す。
【００２３】次にこの螺旋状抵抗体を図１の陰極線管の
集束電極部１５に組み立てて、アノード部(集束電極部
１５の端部)に４０ＫＶの電圧を１分間印加し抵抗値の
変化を調べた結果、その変化は−１．０％であった。こ
の実験の結果を表１(作成条件)および表３(特性)の試料
番号１に示す。
【００２４】
【表１】
【００２５】
【表２】
【００２６】
【表３】
【００２７】
【表４】
【００２８】実施例２ 実施例１と同じく、図１のネック部１２に内蔵されるべ
き集束電極部１５用ガラス管を用意する。このガラス管
は直径１０mmφ、長さ６５mmのＳiＯ2が６０重量％、Ｐ
bＯが２８重量％、Ｎa2Ｏが８重量％、Ｋ2Ｏが３重量
％、Ａl2Ｏ3が１重量％から成る螺旋状抵抗体作成用ガ
ラス管(熱膨張係数９４×１０-7／℃、日本電気硝子株
式会社製、商品番号＃Ｌ−２９Ｆ)である。
【００２９】次に、平均粒径０．１μmの酸化ルテニウ
ム(ＲuＯ2)粉末と、組成が、ＰbＯが８０重量％、Ｂ2Ｏ
3が１５重量％、ＳiＯ2が５重量％で平均粒径が０．５
μmのガラス粉末とを重量比で５対９５の割合で配合
し、有機バインダーとしての１０％のエチルセルローズ
を溶解したターピネオールと共に、三本ロールにて混練
し、抵抗体ペーストを作成した。得られた抵抗体ペース
トを前記ガラス管内面に塗布するためにトルエンをさら
に溶剤としてペーストに加えて５０センチポイズの粘度
に調整し抵抗体塗布液とした。
【００３０】次にガラス管を塗布液中に浸し、引き上げ
ることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に８
０℃で乾燥させ約１２μmの厚さの抵抗層を形成した。
【００３１】次に、この内面をダイヤモンドバイトで螺
旋状(コイル状)に切削加工して、抵抗体パターンを形成
した。その抵抗体巾は２２５μm、全長３．５m(中間タ
ップ部を除く)、巻線間の間隔７５μm、ピッチ３００μ
mであった。
【００３２】この同じ抵抗体パターン付ガラス管を３本
作成し、それぞれを４４０℃、４５０℃、４６０℃で１
０分間保持できるトンネル炉で焼成した。この時の膜厚
は約９μmで全抵抗値は、それぞれ１４．９ＧΩ、１
１．９ＧΩ、１０．１ＧΩであった(面積抵抗値は、そ
れぞれ３．０ＭΩ／□、２．４ＭΩ／□、２．０ＭΩ／
□で、焼成温度２０℃の変化内における抵抗値の最大最
小比は１．４８倍であった。)。また、０℃〜１２５℃
間の抵抗値の温度変化、抵抗温度係数(ＴＣＲ)は、すべ
て−３７５ppm／℃であった。なお、ppmは×１０-6を示
す。
【００３３】次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管
の集束電極部１５に組み立てて、アノード部(集束電極
部１５の端部)に４０ＫＶの電圧を１分間印加し抵抗値
の変化を調べた結果、その変化は−１．２％であった。
この実験の結果を表１(作成条件)および表３(特性)の試
料番号２に示す。
【００３４】実施例３ 図１のネック部１２に内蔵されるべき集束電極部１５用
のガラス管を用意する。このガラス管は直径１０mmφ、
長さ６５mmのＳiＯ2が７２重量％、Ａl2Ｏ3が７重量
％、Ｂ2Ｏ3が１０．５重量％、ＢaＯが３重量％、Ｎa2
Ｏが７．５重量％から成るガラス管(熱膨張係数５２×
１０-7／℃、日本電気硝子株式会社製、商品番号＃ＢＣ
Ｌ)である。
【００３５】次に、平均粒径０．４μmの酸化ルテニウ
ム(ＲuＯ2)粉末と、組成がＺnＯが５６重量％、Ａl2Ｏ3
が４重量％、Ｐ2Ｏ5が４０重量％で平均粒径が１．５μ
mのガラス粉末とを重量比で１５対８５の割合で配合
し、有機バインダーとしての１０％のエチルセルローズ
を溶解したターピネオールと共に、三本ロールにて混練
し、抵抗ペーストを作成した。得られた抵抗ペーストを
前記ガラス管内面に塗布するために、トルエンを溶剤と
してペーストに加えて、５０センチポイズの粘度に調整
し抵抗体塗布液とした。
【００３６】次にガラス管を塗布液中に浸し、引き上げ
ることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に８
０℃で乾燥させ抵抗層を約１５μm形成した。
【００３７】次にこの内面実施例(１)、(２)と同様にし
てダイヤモンドバイトで螺旋状に切削加工して、抵抗体
パターンを形成した。その抵抗体巾は２２５μm、全長
３．５μm(中間タップ部を除く)、巻線間の間隔７５μ
m、ピッチ３００μmであった。
【００３８】次にこのようなガラス管３本を作成し、４
９０℃、５００℃、５１０℃でそれぞれ１０分間保持で
きるトンネル炉で焼成した。この時の抵抗層の膜厚は１
０μmで全抵抗値は、それぞれ１４．２ＧΩ、１２．２
ＧΩ、９．５ＧΩであった(面積抵抗値は、それぞれ
２．８ＭΩ／□、２．４ＭΩ／□、１．９ＭΩ／□であ
った。)。焼成温度２０℃以内(４９０℃〜５１０℃)に
おける抵抗値の最大、最小比は１．４９倍であった。ま
た、０℃〜１２５℃間の抵抗値の温度変化、抵抗温度係
数(ＴＣＲ)はすべて、−３９５ppm／℃であった。
【００３９】次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管
の集束電極部１５に組み込んでアノード部(集束電極部
１５の端部)に４０ＫＶの電圧１分間印加し、抵抗値の
変化を調べた結果、その変化は−１．５％であった。
【００４０】この実験結果を表１および表３の試料番号
３に示す。
【００４１】実施例４〜２１ 以下、実施例１〜３と同様にしてガラス基板の種類、Ｒ
uＯ2粉末とガラス粉末の配合比、ＲuＯ2粒子の粒径、ガ
ラス粒子の粒径、抵抗体の膜厚等を変化させた時の螺旋
状抵抗体の各種特性を表１、表２、表３および表４の試
料番号４〜２１に示す。
【００４２】ただし、試料番号１７〜２１は、本願発明
外の比較例の試料である。
【００４３】以上記述したように、表１、表２、表３お
よび表４の実験データより、酸化ルテニウムの粒径が
０．０５μmより小さい場合、抵抗値の焼成温度依存性
が大きくなり、また０．４μmより大きくなると４０Ｋ
Ｖ１分印加後の抵抗値変化率が大きくなることが分かっ
た。
【００４４】また、ガラスの平均粒径が０．０１μm以
下の場合は、ガラスの分散が悪く、しかも抵抗体ペース
トがゲル化してしまい、良好な抵抗体塗布液が得られ
ず、２μm以上になると、抵抗体塗布液中においてガラ
スと酸化ルテニウムが分離しやすくなり、均一な抵抗体
膜が得られないことが分かった。
【００４５】また、焼成後の抵抗体の膜厚が０．５μm
より薄い場合は抵抗値のばらつきが大きくなり、１０μ
mより厚くなるとダイヤモンドバイトによる正確な螺旋
状加工が困難になることが分かった。
【００４６】ガラス粒子の組成は、その組成範囲を外れ
ると抵抗値の焼成温度依存性やＴＣＲが大きくなったり
するために好ましくない。
【００４７】実施例２２ 図１のネック部１２に内蔵されるべき集束電極部１５用
のガラス管を用意する。このガラス管は直径１０mmφ、
長さ６５mmの、ＳiＯ2が６０重量％、ＰbＯが２８重量
％、Ｎa2Ｏが８重量％、Ｋ2Ｏが３重量％、Ａl2Ｏ3が１
重量％から成るガラス管(熱膨張係数９４×１０-7／
℃、日本電気硝子株式会社製、商品番号＃Ｌ−２９Ｆ)
である。
【００４８】次に、平均粒径０．０５μmの酸化ルテニ
ウム(ＲuＯ2)粉末と、組成がＰbＯが８２重量％、Ｂ2Ｏ
3が５重量％、ＳiＯ2が１０重量％、Ａl2Ｏ3が１重量
％、ＺnＯが２重量％で平均粒径が０．１μmのガラス粉
末とを、重量比３対９７の割合で配合し、有機バインダ
ーとして１０％のエチルセルローズを溶解したターピネ
オールと共に、公知三本ロール混練機にて混練し、抵抗
体ペーストを作成した。
【００４９】得られた抵抗体ペーストを前記ガラス管内
面に塗布するために、トルエンをさらに溶剤としてペー
ストに加えて５０センチポイズの粘度に調整し抵抗体塗
布液とした。
【００５０】次にガラス管を塗布液中に浸し、引き上げ
ることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に８
０℃で乾燥させ約１０μmの厚さの抵抗層を形成した。
【００５１】次に、この内面をダイヤモンドバイトで螺
旋状(コイル状)に切削加工して、抵抗体パターンを形成
した。その抵抗体巾は２２５μm、全長３．５m(中間タ
ップ部を除く)、巻線間の間隔７５μm、ピッチ３００μ
mであった。
【００５２】この同じ抵抗体パターン付ガラス管を３本
作成し、それぞれを４４０℃、４５０℃、４６０℃で１
０分間保持できるトンネル炉で焼成した。この時の膜厚
は約７．５μmで全抵抗値は、それぞれ１７．８ＧΩ、
１５．３ＧΩ、１２．８ＧΩ(ギガオーム)であった(面
積抵抗値は、それぞれ３．６ＭΩ／□、３．１ＭΩ／
□、２．６ＭΩ／□で、焼成温度２０℃の変化内におけ
る抵抗値の最大、最小比は１．３９倍であった。)。
【００５３】また、０℃〜１２５℃間の抵抗値の温度変
化、抵抗温度係数(ＴＣＲ)は、すべて−３４５ppm／℃
であった。なお、ppmは１０-6を示す。
【００５４】次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管
の集束電極部１５に組み立てて、陰極線管内部を１０-7
Ｔorrの真空度にしてアノード部(集束電極部１５の端
部)に７０℃の恒温槽中において、３０ＫＶの電圧を５
０００時間印加し、抵抗値の変化を調べた結果、その変
化率は１．３％で陰極線管のスポット径の変化もなかっ
た。この実験の結果を表５(作成条件)および表７(特性)
の試料番号２２に示す。
【００５５】
【表５】
【００５６】
【表６】
【００５７】
【表７】
【００５８】
【表８】
【００５９】実施例２３ 実施例２２と同じく、図１のネック部１２に内蔵される
べき集束電極部１５用ガラス管を用意する。このガラス
管は直径１０mmφ、長さ６５mmのＳiＯ2が６０重量％、
ＰbＯが２８重量％、Ｎa2Ｏが８重量％、Ｋ2Ｏが３重量
％、Ａl2Ｏ3が１重量％から成る螺旋状抵抗体作成用ガ
ラス管(熱膨張係数９４×１０-7／℃、日本電気硝子株
式会社製、商品番号＃Ｌ−２９Ｆ)である。
【００６０】次に、平均粒径０．１μmの酸化ルテニウ
ム(ＲuＯ2)粉末と、組成がＰbＯが９２重量％、Ｂ2Ｏ3
が３重量％、ＳiＯ2が２重量％、Ａl2Ｏ3が１重量％、
ＺnＯが２重量％で平均粒径が０．５μmのガラス粉末と
平均粒径が０．０５μmの酸化チタニウム(ＴiＯ2)とを
重量比、３対８２対１５の割合で配合し、有機バインダ
ーとして１０％のエチルセルローズを溶解したターピネ
オールと共に、公知三本ロール混練機にて混練し、抵抗
体ペーストを作成した。得られた抵抗体ペーストを前記
ガラス管内面に塗布するためにトルエンをさらに溶剤と
してペーストに加えて５０センチポイズの粘度に調整し
抵抗体塗布液とした。
【００６１】次に、ガラス管を塗布液中に浸し、引き上
げることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に
８０℃で乾燥させ約１０μmの厚さの抵抗層を形成し
た。
【００６２】次に、この内面をダイヤモンドバイトで螺
旋状(コイル状)に切削加工して、抵抗体パターンを形成
した。その抵抗体巾は２２５μm、全長３．５m(中間タ
ップ部を除く)、巻線間の間隔７５μm、ピッチ３００μ
mであった。
【００６３】次に、この同じ抵抗体パターン付ガラス管
を３本作成し、それぞれを４４０℃、４５０℃、４６０
℃で１０分間保持できるトンネル炉で焼成した。
【００６４】この時の膜厚は約７．５μmで全抵抗値
は、それぞれ１４．１ＧΩ、１２．０ＧΩ、１１．２Ｇ
Ωであった(面積抵抗値は、それぞれ２．８ＭΩ／□、
２．６ＭΩ／□、２．４ＭΩ／□で焼成温度２０℃の変
化内における抵抗値の最大、最小比は１．２６倍であっ
た。)。
【００６５】また、０℃〜１２５℃間の抵抗値の温度変
化、抵抗温度係数(ＴＣＲ)は、すべて−３１５ppm／℃
であった。なお、ppmは１０-6を示す。
【００６６】次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管
の集束電極部１５に組み立てて、陰極線管内部を１０-7
Ｔorrの真空度にしアノード部(集束電極部１５の端部)
に、７０℃の恒温中において、３０ＫＶの電圧を５００
０時間印加し、抵抗値の変化を調べた結果、その変化率
は０．８％でスポット径の変化もなかった。
【００６７】この実験の係数を表５(作成条件)および表
８(特性)の試料番号２３に示す。
【００６８】実施例２４ 図１のネック部１２に内蔵されるべき集束電極部１５用
のガラス管を用意する。このガラス管は直径１０mmφ、
長さ６５mmのＳiＯ2が７２重量％、Ａl2Ｏ3が７重量
％、Ｂ2Ｏ3が１０．５重量％、ＢaＯが３重量％、Ｎa2
Ｏが７．５重量％から成るガラス管(熱膨張係数５．２
×１０-7／℃、日本電気硝子株式会社製、商品番号＃Ｂ
ＣＬ)である。
【００６９】次に、平均粒径０．４μmの酸化ルテニウ
ム(ＲuＯ2)粉末と組成がＰbＯが６９重量％、Ｂ2Ｏ3が
１６重量％、ＳiＯ2が５重量％、Ａl2Ｏ3が５重量％、
ＺnＯが５重量％で平均粒径が１．５μmのガラス粉末と
平均粒径が０．５μmの酸化ジルコニウム(ＺrＯ2)とを
重量比５対５５対４０の割合で配合し、有機バインダー
として、１０％のエチルセルローズを溶解したターピネ
オールと共に、公知三本ロール混練機にて混練し、抵抗
ペーストを作成した。
【００７０】得られた抵抗ペーストを前記ガラス管内面
に塗布するために、トルエンを溶剤としてペーストに加
えて、５０センチポイズの粘度に調整し抵抗体塗布液と
した。
【００７１】次に、ガラス管を塗布液中に浸し、引き上
げることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に
８０℃で乾燥させ抵抗層を約１０μm形成した。
【００７２】次に、この内面を実施例２２、２３と同様
にしてダイヤモンドバイトで螺旋状に切削加工して、抵
抗体パターンを形成した。その抵抗体巾は２２５μm全
長３．５μm(中間タップ部を除く)、巻線間の間隔７５
μm、ピッチ３００μmであった。
【００７３】次に、このようなガラス管３本を作成し、
５００℃、５１０℃、５２０℃でそれぞれ１０分間保持
できるトンネル炉で焼成した。この時の抵抗層の膜厚は
７．８μmで全抵抗値は、それぞれ１３．６ＧΩ、１
２．６ＧΩ、１０．８ＧΩであった(面積抵抗値は、そ
れぞれ２．７ＭΩ／□、２．５ＭΩ／□、２．１ＭΩ／
□であった。)。焼成温度２０℃内(５１０℃〜５３０
℃)における抵抗値の最大、最小比は１．２６倍であっ
た。また、０℃〜１２５℃間の抵抗値の温度変化、抵抗
温度係数(ＴＣＲ)は、すべて−３０５ppm／℃であっ
た。次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管の集束電
極部１５に組み込んで陰極線管内部を１０-7Ｔorrの真
空にし、アノード部(集束電極部１５の端部)に７０℃の
恒温槽中において、３０ＫＶの電圧を５０００時間印加
し、抵抗値の変化を調べた結果、その変化率は、１．５
％で陰極線管のスポット径の変化もなかった。
【００７４】この実験結果を表５(作成条件)および表７
(特性)の試料番号２４に示す。
【００７５】実施例２５ 図１のネック部１２に内蔵されるべき集束電極部１５用
のガラス管を用意する。このガラス管は直径１０mmφ、
長さ６５mmのＳiＯ2が７０．３重量％、Ｂ2Ｏ3が１．２
重量％、Ａl2Ｏ3が２重量％、ＭgＯが２．８重量％、Ｃ
aＯが５．９重量％、Ｎa2Ｏが１７．８重量％から成る
ガラス管(熱膨張係数９８．５×１０−７／℃、日本電
気硝子株式会社製、商品番号＃ＳＫ−Ｃ）である。平均
粒径０．１μmの酸化ルテニウム(ＲuＯ2)粉末と組成が
ＰbＯが９０重量％、Ｂ2Ｏ3が２重量％、ＳiＯ2が４重
量％、Ａl2Ｏ3が３重量％、ＺnＯが３重量％で平均粒径
０．０５μmのガラス粉末と平均粒径が共に０．１μmの
ＺrＯ2とＳiＯ2の混合酸化物(ＺrＯ2とＳiＯ2の重量比
は６６対３４)とを重量比１３対７２対１５の割合で配
合し、有機バインダーとして、１０％のエチルセルロー
ズを溶解したターピネオールと共に、公知三本ロール混
練機にて混練し、抵抗ペーストを作成した。
【００７６】得られた抵抗ペーストを前記ガラス管内面
に塗布するために、トルエンを溶剤としてペーストに加
えて、５０センチポイズの粘度に調整し抵抗体塗布液と
した。
【００７７】次に、ガラス管を塗布液中に浸し、引き上
げることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次
に、８０℃で乾燥させ抵抗層を約１０μm形成した。
【００７８】次に、この内面を実施例２２、２３と同様
にしてダイヤモンドバイトで螺旋状に切削加工して、抵
抗体パターンを形成した。その抵抗体巾は２２５μm、
全長３．５μm(中間タップ部を除く)、巻線間の間隔７
５μm、ピッチ３００μmであった。次に、このようなガ
ラス管３本を作成し、４９０℃、５００℃、５１０℃で
それぞれ１０分間保持できるトンネル炉で焼成した。こ
の時の抵抗層の膜厚は８．０μmで全抵抗値は、それぞ
れ６．５ＧΩ、５．１ＧΩ、５．０ＧΩであった(面積
抵抗値は、それぞれ１．３ＭΩ／□、１．２ＭΩ／□、
１．０ＭΩ／□で、焼成温度２０℃の変化内における抵
抗値の最大、最小比は１．３０倍であった。)。
【００７９】また、０℃〜１２５℃間の抵抗値の温度変
化、抵抗温度係数(ＴＣＲ)は、すべて−２９５ppm／℃
であった。なお、ppmは１０-6を示す。次に、この螺旋
状抵抗体を図１の陰極線管の集束電極部１５に組み立て
て、陰極線管内部を１０-7Ｔorrの真空度にし、アノー
ド部(集束電極部１５の端部)に７０℃の恒温槽中におい
て、３０ＫＶの電圧を５０００時間印加し、抵抗値の変
化を調べた結果、その変化率は、０．７％でスポット径
の変化もなかった。この実験の結果を表５(作成条件)お
よび表７(特性)の試料番号２５に示す。
【００８０】実施例２６ 実施例２２と同じく、図１のネック部１２に内蔵される
べき集束電極部１５用ガラス管を用意する。このガラス
管は直径１０mmφ、長さ６５mmのＳiＯ2が６０重量％、
ＰbＯが２８重量％、Ｎa2Ｏが８重量％、Ｋ2Ｏが３重量
％、Ａl2Ｏ3が１重量％から成る螺旋状抵抗体作成用ガ
ラス管(熱膨張係数９４×１０-7／℃、日本電気硝子株
式会社製、商品番号＃Ｌ−２９Ｆ)である。
【００８１】次に、平均粒径０．１μmの酸化ルテニウ
ム(ＲuＯ2)粉末と、組成がＰbＯ８０重量％、Ｂ2Ｏ3１
５重量％、ＳiＯ2５重量％で平均粒径が０．５μmのガ
ラス粉末と平均粒径が０．５μmのＡl2Ｏ3とＺnＯの混
合酸化物(Ａl2Ｏ3とＺnＯの重量比は６０対４０)とを重
量比、３対７２対２５の割合で配合し、有機バインダー
として１０％のエチルセルローズを溶解したターピネオ
ールを共に、公知三本ロール混練機にて混練し、抵抗ペ
ーストを作成した。得られた抵抗体ペーストを前記ガラ
ス管内面に塗布するためにトルエンをさらに溶剤として
ペーストに加えて５０センチポイズの粘度に調整し抵抗
体塗布液とした。
【００８２】次にガラス管を塗布液中に浸し、引き上げ
ることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、次に８
０℃で乾燥させ約１０μmの厚さの抵抗層を形成した。
【００８３】次に、この内面をダイヤモンドバイトで螺
旋状(コイル状)に切削加工して、抵抗体パターンを形成
した。その抵抗体巾は２２５μm、全長３．５m(中間タ
ップ部を除く)、巻線間の間隔７５μm、ピッチ３００μ
mであった。
【００８４】この同じ抵抗体パターン付ガラス管を３本
作成し、それぞれを４６０℃、４７０℃、４８０℃で１
０分間保持できるトンネル炉で焼成した。
【００８５】この時の膜厚は約８．０μmで全抵抗値
は、それぞれ１３．５ＧΩ、１２．０ＧΩ、１０．４Ｇ
Ωであった(面積抵抗値は、それぞれ２．７ＭΩ／□、
２．４ＭΩ／□、２．１ＭΩ／□で焼成温度２０℃の変
化内における抵抗値の最大、最小比は１．３０倍であっ
た。)。また、０℃〜１２５℃間の抵抗値の温度変化、
抵抗温度係数(ＴＣＲ)は、すべて−３３５ppm／℃であ
った。なお、ppmは１０-6を示す。
【００８６】次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管
の集束電極部１５に組み立てて、陰極線管内部を１０-7
Ｔorrの真空度にし、アノード部(集束電極部１５の端
部)に、７０℃の恒温槽中において、３０ＫＶの電圧を
５０００時間印加し、抵抗値の変化を調べた結果、その
変化率は１．３％でスポット径の変化もなかった。
【００８７】この実験の結果を表５(作成条件)および表
７(特性)の試料番号２６に示す。
【００８８】実施例２７〜４３ 以下、実施例２２〜２６と同様にして、ガラス基板の種
類、ＲuＯ2粉末、ガラス粉末および金属酸化物粉末の配
合比、ＲuＯ2粒子の粒径、ガラス粒子の粒径、金属酸化
物粉末の粒径等を変化させた時の螺旋状抵抗体の各種特
性を表５、表６、表７および表８の試料番号２７〜４３
に示す。ただし、試料番号４１〜４３は本願発明外の比
較例の試料である。
【００８９】以上記述したように、表５、表６、表７お
よび表８の実験データより、ＲuＯ2の粒径が０．０５μ
mより小さい場合、抵抗値の焼成温度依存性が大きくな
り、０．４μmより大きくなると３０ＫＶ(７０℃恒温槽
中)５０００時間の抵抗変化率が大きくなる(抵抗変化率
が２％を越えるとスポット径が変化する。)。
【００９０】ガラス組成についてＰbＯの量を６９〜９
２重量％としているのは６９重量％以下では焼成温度が
５２０℃以上になり、＃ＬＦ−２９、＃ＢＣＬ上に形成
出来なくなる。また、９２重量％以下では安定したガラ
スが得られないためである。他のガラス形成元素も、そ
の組成範囲を外れると、３０ＫＶ、５０００時間印加後
の抵抗値変化が大きくなってしまうので好ましくない。
【００９１】また、ガラスの平均粒径が０．０１μm以
下の場合は、ガラスの分散が悪く、しかも抵抗体ペース
トがゲル化してしまい、良好な抵抗体塗布液が得られ
ず、２μm以上になると、抵抗体塗布液中においてガラ
スと酸化ルテニウムが分離しやすくなり、均一な抵抗体
膜が得られないことが分かった。
【００９２】また、金属酸化物としては、絶縁性耐熱性
があり、ガラスに溶け込まない物質であれば良いが、特
に好ましいのがＴiＯ2、ＺrＯ2、ＳiＯ2、Ａl2Ｏ3であ
り、単独の添加あるいは混合物の添加でも効果がある。
【００９３】比較例 塩化ルテニウム（ＲｕＣｌ3）とガラス粉末を出発原料
として以下の抵抗体を従来法に基づき、製造する。実施
例２と同様に、図１のネック部１２に内蔵されるべき集
束電極部１５用ガラス管を用意する。このガラス管は、
直径１０ｍｍφ、長さ６５ｍｍのＳｉＯ2６０重量％、
ＰｂＯ２８重量％、Ｎａ2Ｏ８重量％、Ｋ2Ｏ３重量％，
Ａｌ2Ｏ3１重量％からなる螺旋状抵抗体作成用ガラス管
（日本電気硝子株式会社製、商品番号＃Ｌ２９−Ｆ）で
ある。次にガラス製ビーカを用意し、ＰｂＯ８０重量
％、Ｂ2Ｏ3１５重量％、ＳｉＯ2５重量％からなる平均
粒径１．５μｍのガラス粉末９５重量％と塩化ルテニウ
ム（ＲｕＣｌ3）５重量％からなる固形分と水を混合
し、混合水溶液を作る。次にこの混合水溶液にアニモニ
アを加え、水酸化ルテニウム［Ｒｕ（ＯＨ）3］を沈澱
させる。次にこの沈澱物を乾燥させ、これをボールミル
に移し変え、インプロパノールとアンモニアを加えてよ
く混合粉砕し、懸濁液を作り、実施例２と同様にして、
前記＃Ｌ−２９Ｆガラス管を前記懸濁液中に浸し、引き
上げることによってガラス管内面に抵抗液を塗布し、８
０℃で乾燥後７μｍの厚さの抵抗体層を形成した。次に
この内面をダイヤモンドで螺旋状（コイル状）に切削加
工して、抵抗体パターンを形成した。この抵抗体巾は、
２２５μｍ、全長３．５ｍ（中間タップ部を除く）巻線
間の間隔７５μｍ、ピッチ３００μｍであった。この同
じ抵抗体パターン付ガラス管を３本作成し、それぞれ４
４０℃、４５０℃、４６０℃で１０分間保持できるトン
ネル炉で焼成した。この時の膜厚は約７μｍで全抵抗値
はそれぞれ４５，０ＧΩ，１５，２ＧΩ、１０．３ＧΩ
であった（面積抵抗値は、それぞれ９．１ＧΩ，３．０
ＭΩ／□，２．１ＭΩ／□で焼成温度２０℃の変化内に
おける抵抗値の最大最小の比は、４．３７倍であっ
た）。０℃〜１２５℃の間の抵抗値の温度変化、抵抗温
度係数（ＴＣＲ）はすべて−５１０ｐｐｍ／℃であっ
た。次に、この螺旋状抵抗体を図１の陰極線管の集束電
極部１５に組み立てて、アノード部（集束電極部１５の
端部）に４０ＫＶの電圧を１分間印加し、抵抗値の変化
を調べた結果、その変化率は−１，３％であった。この
実験の結果を表１（作成条件）および表３（特性）の試
料番号２１に示す。又、比較例である試料番号２１と一
実施例である試料番号２を図３に示す。
【００９４】
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、酸
化ルテニウム粒子の粒径、ガラス粒子の組成と粒径、お
よび金属酸化物粒子の組成と粒径を変えて、これらをう
まく組み合わせることによって陰極線管用ガラス基板上
に抵抗値の焼成温度依存性が少なく、しかも、高電圧印
加による抵抗負荷特性(７０℃の恒温槽中３０ＫＶ印加
５０００時間)や、温度特性の変化の少ない、信頼性の
高い螺旋状抵抗体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の実施例の陰極線管の概略断面図であ
る。
【図２】 従来の陰極線管の概略断面図である。
【図３】 本発明方法と従来方法との抵抗値の焼成温度
依存性を比較するグラフである。
【符号の説明】 １１ フェイスプレート（蛍光体面) １２ ネック部 １３ カソード部 １４ トライオード部 １５ 集束電極部(螺旋状抵抗体) ２１ フェイスプレート(蛍光体面) ２２ ネック部 ２３ カソード部 ２４ トライオード部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 平谷 辰夫 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 村井 隆一 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 工藤 眞壽 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 大前 秀治 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 近田 雅彦 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 井上 守 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 平均粒径が０．０５μm〜０．４μmの酸
    化ルテニウム(ＲuＯ2)粉末１重量％〜１５重量％と,平
    均粒径が０．０１μm〜２．０μmのガラス粉末８５重量
    ％〜９９重量％を含む抵抗用塗布液を、ガラス管内面に
    塗布して抵抗層を形成し、乾燥後上記抵抗層を螺旋状に
    加工し、次に焼成して少なくとも１ＭΩ／口以上の面積
    抵抗値を有する陰極線管用抵抗体を製造することを特徴
    とする陰極線管用抵抗体の製造方法。
  2. 【請求項２】 上記ガラス粉末の組成が、酸化鉛(Ｐb
    Ｏ)６７重量％〜９５重量％、酸化硅素(ＳiＯ2)２重量
    ％〜１５重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)３重量％〜１９重量
    ％からなることを特徴とする請求項１記載の陰極線管用
    抵抗体の製造方法。
  3. 【請求項３】 上記ガラス粉末組成が、酸化鉛(ＰbＯ)
    ６９重量％〜９０重量％、酸化亜鉛(ＺnＯ)４重量％〜
    ２０重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)５重量％〜１５重量％か
    らなることを特徴とする請求項１記載の陰極線管用抵抗
    体の製造方法。
  4. 【請求項４】 上記ガラス粉末組成が、酸化燐(Ｐ2Ｏ5)
    ４０重量％〜５２重量％、酸化亜鉛(ＺnＯ)３４重量％
    〜５６重量％、酸化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)４重量％〜
    １４重量％からなることを特徴とする請求項１記載の陰
    極線管用抵抗体の製造方法。
  5. 【請求項５】 上記ガラス粉末組成が、酸化亜鉛(Ｚn
    Ｏ)１５重量％〜３０重量％、酸化硼素５重量％〜２５
    重量％、酸化パナジウム(Ｖ2Ｏ5)５０重量％〜７５重量
    ％からなることを特徴とする請求項１記載の陰極線管用
    抵抗体の製造方法。
  6. 【請求項６】 上記ガラス粉末組成が酸化鉛(ＰbＯ)６
    ９重量％〜９２重量％、酸化硅素(ＳiＯ2)２重量％〜１
    ０重量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)２重量％〜２０重量％、酸
    化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)１重量％〜５重量％、酸化亜
    鉛(ＺnＯ)２重量％〜５重量％からなるガラスフリット
    である請求項１記載の陰極線管用抵抗体の製造方法。
  7. 【請求項７】 平均粒径が０．０５μm〜０．４μmの酸
    化ルテニウム(ＲuＯ2)粉末３重量％〜１３重量％と,平
    均粒径が０．０１μm〜２．０μmのガラス粉末６９重量
    ％〜９２重量％および平均粒径０．０５μm〜２．０μm
    の金属酸化物１５重量％〜４０重量％を含む抵抗用塗布
    液を、ガラス管内面に塗布して抵抗層を形成し、乾燥後
    上記抵抗層を螺旋状に加工し、次に焼成して少なくとも
    １ＭΩ／口以上の面積抵抗値を有する陰極線管用抵抗体
    を製造することを特徴とする陰極線管用抵抗体の製造方
    法。
  8. 【請求項８】 上記ガラス粉末が酸化鉛(ＰbＯ)６９重
    量％〜９２重量％、酸化硅素(ＳiＯ2)２重量％〜１０重
    量％、酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)２重量％〜２０重量％、酸化ア
    ルミニウム(Ａl2Ｏ3)１重量％〜５重量％、酸化亜鉛(Ｚ
    nＯ)２重量％〜５重量％からなる請求項７記載の陰極線
    管用抵抗体の製造方法。
  9. 【請求項９】 上記ガラス粉末が酸化鉛(ＰbＯ)６７重
    量％〜９５重量％,酸化硅素(ＳiＯ2)２重量％〜１５重
    量％,酸化硼素(Ｂ2Ｏ3)３重量％〜１９重量％からなる
    請求項７記載の陰極線管用抵抗体の製造方法。
  10. 【請求項１０】 上記金属酸化物が、酸化チタン(ＴiＯ
    2)、酸化ジルコニウム(ＺrＯ2)、酸化亜鉛(ＺnＯ)、酸
    化硅素(ＳiＯ2)および酸化アルミニウム(Ａl2Ｏ3)から
    なる群から選ばれる少なくとも１種である請求項８また
    は９記載の陰極線管用抵抗体の製造方法。
  11. 【請求項１１】 上記ガラス管のＴｇ：ガラス転移点が
    ６００℃以下である請求項１または７記載の陰極線管用
    抵抗体の製造方法。
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