JPH09285844A - 連続鋳造用鋳型およびこれへの溶射方法 - Google Patents
連続鋳造用鋳型およびこれへの溶射方法Info
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- JPH09285844A JPH09285844A JP8123937A JP12393796A JPH09285844A JP H09285844 A JPH09285844 A JP H09285844A JP 8123937 A JP8123937 A JP 8123937A JP 12393796 A JP12393796 A JP 12393796A JP H09285844 A JPH09285844 A JP H09285844A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 連続鋳造用鋳型において、耐腐食性の優れた
硬質被膜を鋳型表面に形成することによって鋳型の損傷
量を低減する。 【解決手段】 銅または銅合金からなる鋳型表面の一部
あるいは全部にＮｉを４０％以上含むＮｉ基合金の溶射
被膜を形成する。また鋳型表面にＮｉ電気メッキを施し
た後、前記Ｎｉ電気メッキ表面にブラスト処理を行い、
鋳型を１００℃以上２５０℃以下に加熱し、次いで前記
ブラスト処理した上にＮｉ基合金の被膜を溶射する方
法。
硬質被膜を鋳型表面に形成することによって鋳型の損傷
量を低減する。 【解決手段】 銅または銅合金からなる鋳型表面の一部
あるいは全部にＮｉを４０％以上含むＮｉ基合金の溶射
被膜を形成する。また鋳型表面にＮｉ電気メッキを施し
た後、前記Ｎｉ電気メッキ表面にブラスト処理を行い、
鋳型を１００℃以上２５０℃以下に加熱し、次いで前記
ブラスト処理した上にＮｉ基合金の被膜を溶射する方
法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は溶鋼を鋳造するため
の連続鋳造用鋳型に関する。
の連続鋳造用鋳型に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から連続鋳造用鋳型（以降、鋳型と
略す）には銅または銅合金が使用されている。この鋳型
は鋳片やパウダーによって摩耗を受けるため、この対策
として、鋳型表面に硬質メッキや硬質溶射被膜を形成す
る技術の開発がなされてきた（例えば、特開平３−３７
４５４、特開平１−１８６２４５、特開昭５６−１９７
８、特公平６−３６９６３）。しかし、モールド表面の
硬度を上げても必ずしも鋳型の損傷が軽減される訳では
なかった。また、これらの技術では２次的に腐食を取り
挙げているものもある。
略す）には銅または銅合金が使用されている。この鋳型
は鋳片やパウダーによって摩耗を受けるため、この対策
として、鋳型表面に硬質メッキや硬質溶射被膜を形成す
る技術の開発がなされてきた（例えば、特開平３−３７
４５４、特開平１−１８６２４５、特開昭５６−１９７
８、特公平６−３６９６３）。しかし、モールド表面の
硬度を上げても必ずしも鋳型の損傷が軽減される訳では
なかった。また、これらの技術では２次的に腐食を取り
挙げているものもある。
【０００３】また、特に溶射技術については、溶射材料
の選択範囲はメッキよりも広いものの、被膜と鋳型の密
着性が低いという課題がある。この対策として、特開昭
６３−３５７６２ではＮｉ基自溶性合金の溶射皮膜を使
用している。自溶性合金の溶射は一般的に銅鋳型表面に
溶射被膜を形成した後、次いで鋳型全体を１０００℃程
度の炉に入れて、被膜を再溶融処理する（溶射工学：養
賢堂１９６８年発行ｐ．８８〜９０）。また、溶射にお
いて密着性を高める手法としては、溶射粒子を高速で溶
射するＨＶＯＦ（Ｈｉｇｈ Ｖｅｌｏｃｉｔｙ Ｏｘｇ
ｅｎ Ｆｕｅｌ）系溶射が開発されている。この代表的
手法の燃焼ガスでは、酸素と水素（第一メテコ社 ＤＪ
−２６００ハイブリッド溶射パンフレット：１９９２年
１０月発行）、あるいは酸素と灯油（ウエスコジャパン
社 ＪＰ−５０００溶射パンフレット：１９９２年６月
発行など）などを混合している。
の選択範囲はメッキよりも広いものの、被膜と鋳型の密
着性が低いという課題がある。この対策として、特開昭
６３−３５７６２ではＮｉ基自溶性合金の溶射皮膜を使
用している。自溶性合金の溶射は一般的に銅鋳型表面に
溶射被膜を形成した後、次いで鋳型全体を１０００℃程
度の炉に入れて、被膜を再溶融処理する（溶射工学：養
賢堂１９６８年発行ｐ．８８〜９０）。また、溶射にお
いて密着性を高める手法としては、溶射粒子を高速で溶
射するＨＶＯＦ（Ｈｉｇｈ Ｖｅｌｏｃｉｔｙ Ｏｘｇ
ｅｎ Ｆｕｅｌ）系溶射が開発されている。この代表的
手法の燃焼ガスでは、酸素と水素（第一メテコ社 ＤＪ
−２６００ハイブリッド溶射パンフレット：１９９２年
１０月発行）、あるいは酸素と灯油（ウエスコジャパン
社 ＪＰ−５０００溶射パンフレット：１９９２年６月
発行など）などを混合している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は鋳型の損
傷機構を詳細に調査した結果、鋳型表面の硬質被膜がＨ
Ｆ、ＨＣｌ、Ｈ2 ＳＯ4 、Ｈ2 Ｓなどの酸腐食と電気腐
食によって腐食され、硬質部が腐食した後に軟質部のＮ
ｉメッキや銅母材が摩耗していることが判った。また、
先の自溶性合金の溶射に関しては、鋳型全体を高温にす
るために鋳型への熱影響、熱変形が大きく、特に鋳型長
辺には適用できない。さらに、ＨＶＯＦ系溶射技術をも
ってしても、密着強度が鋳型として使用するには十分と
はいい難く、溶射条件の最適化が必要である。
傷機構を詳細に調査した結果、鋳型表面の硬質被膜がＨ
Ｆ、ＨＣｌ、Ｈ2 ＳＯ4 、Ｈ2 Ｓなどの酸腐食と電気腐
食によって腐食され、硬質部が腐食した後に軟質部のＮ
ｉメッキや銅母材が摩耗していることが判った。また、
先の自溶性合金の溶射に関しては、鋳型全体を高温にす
るために鋳型への熱影響、熱変形が大きく、特に鋳型長
辺には適用できない。さらに、ＨＶＯＦ系溶射技術をも
ってしても、密着強度が鋳型として使用するには十分と
はいい難く、溶射条件の最適化が必要である。
【０００５】したがって、本発明の目的は耐腐食性の優
れた硬質被膜を鋳型表面に形成することによって、鋳型
の損傷量を低減する溶射技術を提供することにある。ま
たあわせて、この被膜形成の際、鋳型が熱変形すること
なく、かつ被膜と鋳型の密着性を確保した溶射技術を提
供することにある。
れた硬質被膜を鋳型表面に形成することによって、鋳型
の損傷量を低減する溶射技術を提供することにある。ま
たあわせて、この被膜形成の際、鋳型が熱変形すること
なく、かつ被膜と鋳型の密着性を確保した溶射技術を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するものであって、連続鋳造用鋳型において、銅または
銅合金からなる鋳型表面の一部あるいは全部にＮｉを４
０％以上含むＮｉ基合金の溶射被膜が形成されているこ
とを特徴とする連続鋳造用鋳型である。ここにおいて、
Ｎｉ基合金がハステロイＣ、インコネル、モネル、Ｎｉ
ＣｏＣｒＡｌＹ、ＮｉＣｒのうちの１種であること、Ｎ
ｉ基合金の材料に炭化物セラミックスまたは窒化物セラ
ミックスの少なくとも一方を１〜５０重量％添加するこ
とも特徴とする。
するものであって、連続鋳造用鋳型において、銅または
銅合金からなる鋳型表面の一部あるいは全部にＮｉを４
０％以上含むＮｉ基合金の溶射被膜が形成されているこ
とを特徴とする連続鋳造用鋳型である。ここにおいて、
Ｎｉ基合金がハステロイＣ、インコネル、モネル、Ｎｉ
ＣｏＣｒＡｌＹ、ＮｉＣｒのうちの１種であること、Ｎ
ｉ基合金の材料に炭化物セラミックスまたは窒化物セラ
ミックスの少なくとも一方を１〜５０重量％添加するこ
とも特徴とする。
【０００７】また、連続鋳造用鋳型の銅または銅合金か
らなる鋳型表面の一部あるいは全部に厚み０．０５〜２
ｍｍのＮｉ電気メッキを施した後、前記Ｎｉ電気メッキ
表面に粗度がＲｍａｘ＝３０〜５０のブラスト処理を行
い、鋳型を１００℃以上２５０℃以下に加熱し、次いで
前記ブラスト処理した上に厚み０．１〜１ｍｍのＮｉ基
合金の被膜を溶射することを特徴とする連続鋳造用鋳型
への溶射方法である。ここにおいて溶射するさい、酸素
と灯油とを混合してフレーム溶射するとともに溶射ガン
出口から鋳型表面（Ｎｉメッキ部）までの距離を１５０
〜３００ｍｍに、フレームの速度を１３００〜２３００
ｍ／ｓに、原料粉末の供給量を６０〜１２０ｇ／ｍｉｎ
にして溶射することも特徴とする。
らなる鋳型表面の一部あるいは全部に厚み０．０５〜２
ｍｍのＮｉ電気メッキを施した後、前記Ｎｉ電気メッキ
表面に粗度がＲｍａｘ＝３０〜５０のブラスト処理を行
い、鋳型を１００℃以上２５０℃以下に加熱し、次いで
前記ブラスト処理した上に厚み０．１〜１ｍｍのＮｉ基
合金の被膜を溶射することを特徴とする連続鋳造用鋳型
への溶射方法である。ここにおいて溶射するさい、酸素
と灯油とを混合してフレーム溶射するとともに溶射ガン
出口から鋳型表面（Ｎｉメッキ部）までの距離を１５０
〜３００ｍｍに、フレームの速度を１３００〜２３００
ｍ／ｓに、原料粉末の供給量を６０〜１２０ｇ／ｍｉｎ
にして溶射することも特徴とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明においては鋳型表面にＮｉ
を４０％以上含むＮｉ基合金を溶射するが、鋳型表面へ
溶射を行う場合、まずＮｉ電気メッキを行なう。これは
鋳型表面を酸洗した後、速やかにメッキ浴中に鋳型を入
れ、鋳型に通電して行う。メッキ厚みは使用環境に準じ
て決定されるが０．０５〜２ｍｍにする。下限はメッキ
後のブラスト処理によってメッキの一部が削り取られて
も銅が表面に露出しないため、また上限は経済的な理由
による。
を４０％以上含むＮｉ基合金を溶射するが、鋳型表面へ
溶射を行う場合、まずＮｉ電気メッキを行なう。これは
鋳型表面を酸洗した後、速やかにメッキ浴中に鋳型を入
れ、鋳型に通電して行う。メッキ厚みは使用環境に準じ
て決定されるが０．０５〜２ｍｍにする。下限はメッキ
後のブラスト処理によってメッキの一部が削り取られて
も銅が表面に露出しないため、また上限は経済的な理由
による。
【０００９】次いで、溶射前にブラスト処理を行う。ブ
ラストではＳｉＣ、アルミナ、鉄などのグリッドを５ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 程度の圧力でメッキ表面に吹き付けるが、
いかなるグリッドの種類や圧力であっても最終的にメッ
キ表面に粗度Ｒｍａｘが３０〜５０の凹凸を形成すれば
よい。この凹凸によって皮膜とメッキの接触面積が広く
なるためにアンカリング効果、すなわち機械的結合が強
化される。ここで粗度がＲｍａｘが３０より低くなると
アンカリング効果が不十分であるために密着強度が低下
し、一方、Ｒｍａｘが５０より高くなると溶射された粒
子がメッキ凹部の底に十分に入らずメッキと皮膜に未接
合部が形成されるために粗度はＲｍａｘ＝３０〜５０に
する。
ラストではＳｉＣ、アルミナ、鉄などのグリッドを５ｋ
ｇｆ／ｃｍ2 程度の圧力でメッキ表面に吹き付けるが、
いかなるグリッドの種類や圧力であっても最終的にメッ
キ表面に粗度Ｒｍａｘが３０〜５０の凹凸を形成すれば
よい。この凹凸によって皮膜とメッキの接触面積が広く
なるためにアンカリング効果、すなわち機械的結合が強
化される。ここで粗度がＲｍａｘが３０より低くなると
アンカリング効果が不十分であるために密着強度が低下
し、一方、Ｒｍａｘが５０より高くなると溶射された粒
子がメッキ凹部の底に十分に入らずメッキと皮膜に未接
合部が形成されるために粗度はＲｍａｘ＝３０〜５０に
する。
【００１０】溶射前に鋳型全体を１００℃以上、２５０
℃以下に加熱する。この温度は結露を防ぐために１００
℃以上に、鋳型素材の銅あるいは銅合金の熱変形、熱影
響（再結晶など）を防ぐために２５０℃以下にする必要
がある。
℃以下に加熱する。この温度は結露を防ぐために１００
℃以上に、鋳型素材の銅あるいは銅合金の熱変形、熱影
響（再結晶など）を防ぐために２５０℃以下にする必要
がある。
【００１１】このようなブラスト処理をした後、皮膜の
厚みが０．１〜１ｍｍのＮｉ基合金を溶射する。Ｎｉ基
合金が鋳型に適している理由は、Ｎｉ基合金がＣｏ、Ｃ
ｒ、Ｆｅ合金と比べて、（１）耐ＨＦ、耐ＨＣｌに優れ
ていること、（２）被膜にクラックが発生しても下地の
Ｎｉメッキと共金であるために腐食電位小さく、電気腐
食速度が低いためである。この耐腐食性を確保するため
にＮｉの含有量は４０％以上にする必要がある。被膜の
厚みは耐腐食、摩耗効果を得るためには０．１ｍｍ以上
に、また溶射中の剥離や鋳造時の熱応力による剥離をさ
せないために１ｍｍ以下にすることが必要である。
厚みが０．１〜１ｍｍのＮｉ基合金を溶射する。Ｎｉ基
合金が鋳型に適している理由は、Ｎｉ基合金がＣｏ、Ｃ
ｒ、Ｆｅ合金と比べて、（１）耐ＨＦ、耐ＨＣｌに優れ
ていること、（２）被膜にクラックが発生しても下地の
Ｎｉメッキと共金であるために腐食電位小さく、電気腐
食速度が低いためである。この耐腐食性を確保するため
にＮｉの含有量は４０％以上にする必要がある。被膜の
厚みは耐腐食、摩耗効果を得るためには０．１ｍｍ以上
に、また溶射中の剥離や鋳造時の熱応力による剥離をさ
せないために１ｍｍ以下にすることが必要である。
【００１２】また、これらの被膜の硬度を上げるために
Ｃｒ2 Ｃ2 、ＷＣ、ＳｉＣなどの炭化物セラミックスや
Ｓｉ3 Ｎ4 、ＴｉＮなどの窒化物セラミックスのいずれ
かまたは両方を１〜５０重量％添加するのが好ましい。
５０％を越えない理由は被膜の靱性が低下することを抑
制するためである。１％以上にするのは被膜の硬度を上
げる目的のためである。
Ｃｒ2 Ｃ2 、ＷＣ、ＳｉＣなどの炭化物セラミックスや
Ｓｉ3 Ｎ4 、ＴｉＮなどの窒化物セラミックスのいずれ
かまたは両方を１〜５０重量％添加するのが好ましい。
５０％を越えない理由は被膜の靱性が低下することを抑
制するためである。１％以上にするのは被膜の硬度を上
げる目的のためである。
【００１３】前記４０％以上Ｎｉを含むＮｉ基合金とし
てはハステロイＣ、インコネル、モネル、ＮｉＣｏＣｒ
ＡｌＹなど実用合金として知られているものが使用でき
る。上記各合金の代表的成分組成はハステロイＣがＮｉ
−１７％Ｍｏ−５％Ｗ−１４％Ｃｒ−６％Ｆｅ、インコ
ネルがＮｉ−１３％Ｃｒ−５％Ｆｅ、モネルがＮｉ−３
１％Ｃｕ−４％（Ｆｅ＋Ｍｎ）、ＮｉＣｏＣｒＡｌＹが
Ｎｉ−２３％Ｃｏ−２０％Ｃｒ−８．５％Ａｌ＋４％Ｔ
ａ−０．６％Ｙ、ＮｉＣｒがＮｉ−５０％Ｃｒである。
てはハステロイＣ、インコネル、モネル、ＮｉＣｏＣｒ
ＡｌＹなど実用合金として知られているものが使用でき
る。上記各合金の代表的成分組成はハステロイＣがＮｉ
−１７％Ｍｏ−５％Ｗ−１４％Ｃｒ−６％Ｆｅ、インコ
ネルがＮｉ−１３％Ｃｒ−５％Ｆｅ、モネルがＮｉ−３
１％Ｃｕ−４％（Ｆｅ＋Ｍｎ）、ＮｉＣｏＣｒＡｌＹが
Ｎｉ−２３％Ｃｏ−２０％Ｃｒ−８．５％Ａｌ＋４％Ｔ
ａ−０．６％Ｙ、ＮｉＣｒがＮｉ−５０％Ｃｒである。
【００１４】溶射中のガス条件としてはフレームの速度
を１３００〜２３００ｍ／ｓにするのが好ましい。フレ
ームの速度が上がると溶射粒子の速度も上がり、基板と
の衝突時に粒子の基板への噛み込み、言い替えるとアン
カリング効果が高くなるために密着性が上昇する。ま
た、粒子の速度が高いと衝突時に運動エネルギーから変
換される熱エネルギーが増加し、基板側の最表面を溶融
させるために密着性が向上する。この密着性を確保する
のに必要なフレーム速度は１３００ｍ／ｓ以上である。
一方、現状の装置の構造上からフレームの最高速度は２
３００ｍ／ｓ以下と制限される。
を１３００〜２３００ｍ／ｓにするのが好ましい。フレ
ームの速度が上がると溶射粒子の速度も上がり、基板と
の衝突時に粒子の基板への噛み込み、言い替えるとアン
カリング効果が高くなるために密着性が上昇する。ま
た、粒子の速度が高いと衝突時に運動エネルギーから変
換される熱エネルギーが増加し、基板側の最表面を溶融
させるために密着性が向上する。この密着性を確保する
のに必要なフレーム速度は１３００ｍ／ｓ以上である。
一方、現状の装置の構造上からフレームの最高速度は２
３００ｍ／ｓ以下と制限される。
【００１５】溶射時に、溶射ガンから鋳型までの距離が
３００ｍｍを越えると溶射粒子が減速し、１５０ｍｍ以
下では溶射ガンへの影響があるため、この距離は１５０
〜３００ｍｍにする。また、溶射材料の粉末供給量は６
０ｇ／ｍｉｎ未満ではコスト高になり、１２０ｇ／ｍｉ
ｎ超では溶射ガンのノズル内壁へのスピッティングや被
膜中の残留応力が過大になるため６０〜１２０ｇ／ｍｉ
ｎにする。
３００ｍｍを越えると溶射粒子が減速し、１５０ｍｍ以
下では溶射ガンへの影響があるため、この距離は１５０
〜３００ｍｍにする。また、溶射材料の粉末供給量は６
０ｇ／ｍｉｎ未満ではコスト高になり、１２０ｇ／ｍｉ
ｎ超では溶射ガンのノズル内壁へのスピッティングや被
膜中の残留応力が過大になるため６０〜１２０ｇ／ｍｉ
ｎにする。
【００１６】ここでフレームを発生させるための燃焼ガ
スとして従来はアセチレンやプロパンが用いられていた
が燃焼エネルギーを向上させるために灯油を用いること
が好ましい。この場合の灯油（ケロシン）の量は１５〜
４０リットル／ｍｉｎ、酸素の流量５０〜６５ｍ3 ／ｈ
ｒ（圧力１３〜１８ｂａｒ）にする。この時フレーム速
度を１３００ｍ／ｓ以上にするため灯油の量が１５リッ
トル／ｍｉｎ、酸素の流量が５０ｍ3 ／ｈｒ以上必要で
ある。また、溶射ガンの冷却能力から灯油の量や酸素の
流量が多すぎるとガン損傷が発生すること、および皮膜
内部の圧縮応力が高くなりすぎるため、灯油量は４０リ
ットル／ｍｉｎ、酸素流量は６５ｍ3 ／ｈｒ以下にする
ことが好ましい。
スとして従来はアセチレンやプロパンが用いられていた
が燃焼エネルギーを向上させるために灯油を用いること
が好ましい。この場合の灯油（ケロシン）の量は１５〜
４０リットル／ｍｉｎ、酸素の流量５０〜６５ｍ3 ／ｈ
ｒ（圧力１３〜１８ｂａｒ）にする。この時フレーム速
度を１３００ｍ／ｓ以上にするため灯油の量が１５リッ
トル／ｍｉｎ、酸素の流量が５０ｍ3 ／ｈｒ以上必要で
ある。また、溶射ガンの冷却能力から灯油の量や酸素の
流量が多すぎるとガン損傷が発生すること、および皮膜
内部の圧縮応力が高くなりすぎるため、灯油量は４０リ
ットル／ｍｉｎ、酸素流量は６５ｍ3 ／ｈｒ以下にする
ことが好ましい。
【００１７】
実施例１（各種溶射材料の耐腐食試験結果） 銅表面にＮｉメッキを形成し、その上に各種溶射被膜を
形成し、８０℃での耐酸腐食試験を行なった。その結果
を表１に示す。表中○は良好、△はやや劣る、×は劣る
ものである。Ｎｉ系合金、これをベースとするサーメッ
トは総合で腐食性が良好であった。Ｃｏ系合金は何れの
酸環境下でも耐腐食性が劣る、Ｃｒは耐酸腐食性は良好
であるものの、クラック部位での電気腐食が大きい。酸
化物系セラミックスは耐弗酸性が劣る。なお、セラミッ
クスでこのように耐腐食性が低いのは、金属系材料より
も被膜の気孔が大きく、実際に酸と接触する面積が大き
かったためである。
形成し、８０℃での耐酸腐食試験を行なった。その結果
を表１に示す。表中○は良好、△はやや劣る、×は劣る
ものである。Ｎｉ系合金、これをベースとするサーメッ
トは総合で腐食性が良好であった。Ｃｏ系合金は何れの
酸環境下でも耐腐食性が劣る、Ｃｒは耐酸腐食性は良好
であるものの、クラック部位での電気腐食が大きい。酸
化物系セラミックスは耐弗酸性が劣る。なお、セラミッ
クスでこのように耐腐食性が低いのは、金属系材料より
も被膜の気孔が大きく、実際に酸と接触する面積が大き
かったためである。
【００１８】
【表１】
【００１９】実施例２（鋳型への溶射方法） 幅２６００ｍｍ×高さ９００ｍｍの連続鋳造用の長辺鋳
型の下端部（高さ３５０ｍｍ）へ溶射を行なった。まず
従来の手法と同様に鋳型表面を酸洗した後、速やかにメ
ッキ浴中に浸し、鋳型に通電し平均厚み２ｍｍのＮｉメ
ッキを形成した。ついで、ＳｉＣグリッドを圧力５ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 で先のＮｉメッキ表面に吹き付けた。ブラス
ト処理後のメッキ表面の粗度はＲｍａｘが３２〜４５で
あった。
型の下端部（高さ３５０ｍｍ）へ溶射を行なった。まず
従来の手法と同様に鋳型表面を酸洗した後、速やかにメ
ッキ浴中に浸し、鋳型に通電し平均厚み２ｍｍのＮｉメ
ッキを形成した。ついで、ＳｉＣグリッドを圧力５ｋｇ
ｆ／ｃｍ2 で先のＮｉメッキ表面に吹き付けた。ブラス
ト処理後のメッキ表面の粗度はＲｍａｘが３２〜４５で
あった。
【００２０】次に以下の条件で溶射を行なった。 酸素流量 ：５７ｍ3 ／ｈｒ（圧力＝１３ｂａｒ） 灯油量 ：２３リットル／ｍｉｎ 粉末供給ガス流量：１．４ｍ3 ／ｈｒ 粉末供給速度 ：７ｋｇ／ｈｒ フレーム速度 ：１９００ｍ／ｓ 溶射距離 ：２００ｍｍ 溶射材料 ：ハステロイＣ 皮膜厚み ：０．４５ｍｍ
【００２１】溶射後の熱変形量は鋳型の両端（幅２６０
０ｍｍ）を直線で結んだ線と中心部のたわみ量の変化で
定義した変形量で８０μｍ以下であった。このようにし
て作製した溶射鋳型を実際の鋳型として用い、１５０ト
ンの鋳造を１５００チャージ行い、従来から用いている
鋳型表面に厚さ３０μｍのＣｒメッキを施した鋳型と比
較した。その結果、下端部の摩耗量は１／３に改善され
た。
０ｍｍ）を直線で結んだ線と中心部のたわみ量の変化で
定義した変形量で８０μｍ以下であった。このようにし
て作製した溶射鋳型を実際の鋳型として用い、１５０ト
ンの鋳造を１５００チャージ行い、従来から用いている
鋳型表面に厚さ３０μｍのＣｒメッキを施した鋳型と比
較した。その結果、下端部の摩耗量は１／３に改善され
た。
【００２２】
【発明の効果】本発明により熱変形が無く耐摩耗性の優
れた連続鋳造用鋳型の製造が可能となり、従来の鋳型よ
りも寿命が伸びたことから鋳型の維持に要するコストの
大幅な削減が可能となった。
れた連続鋳造用鋳型の製造が可能となり、従来の鋳型よ
りも寿命が伸びたことから鋳型の維持に要するコストの
大幅な削減が可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小原 昌弘 千葉県富津市新富20−１ 新日本製鐵株式 会社技術開発本部内 (72)発明者 本多 清之 大分県大分市大字西ノ洲１番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 金子 克志 大分県大分市大字西ノ洲１番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 児島 亮 大分県大分市大字西ノ洲１番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 小森 俊也 大分県大分市大字西ノ洲１番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 波多野 今左由 大分県大分市大字西ノ洲１番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内 (72)発明者 外 賢治 大分県大分市大字西ノ洲１番地 新日本製 鐵株式会社大分製鐵所内
Claims (5)
- 【請求項１】 連続鋳造用鋳型において、銅または銅合
金からなる鋳型表面の一部あるいは全部にＮｉを４０％
以上含むＮｉ基合金の溶射被膜が形成されていることを
特徴とする連続鋳造用鋳型。 - 【請求項２】 Ｎｉ基合金がハステロイＣ、インコネ
ル、モネル、ＮｉＣｏＣｒＡｌＹ、ＮｉＣｒのうちの１
種であることを特徴とする請求項１に記載の連続鋳造用
鋳型。 - 【請求項３】 Ｎｉ基合金の材料に炭化物セラミックス
または窒化物セラミックスの少なくとも一方を１〜５０
重量％添加することを特徴とする請求項１または２に記
載の連続鋳造用鋳型。 - 【請求項４】 連続鋳造用鋳型の銅または銅合金からな
る鋳型表面の一部あるいは全部に厚み０．０５〜２ｍｍ
のＮｉ電気メッキを施した後、前記Ｎｉ電気メッキ表面
に粗度がＲｍａｘ＝３０〜５０のブラスト処理を行い、
鋳型を１００℃以上２５０℃以下に加熱し、次いで前記
ブラスト処理した上に厚み０．１〜１ｍｍのＮｉ基合金
の被膜を溶射することを特徴とする連続鋳造用鋳型への
溶射方法。 - 【請求項５】 溶射するさい、酸素と灯油とを混合して
フレーム溶射するとともに溶射ガン出口から鋳型表面
（Ｎｉメッキ部）までの距離を１５０〜３００ｍｍに、
フレームの速度を１３００〜２３００ｍ／ｓに、原料粉
末の供給量を６０〜１２０ｇ／ｍｉｎにして溶射するこ
とを特徴とする請求項４記載の連続鋳造用鋳型への溶射
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8123937A JPH09285844A (ja) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | 連続鋳造用鋳型およびこれへの溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8123937A JPH09285844A (ja) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | 連続鋳造用鋳型およびこれへの溶射方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09285844A true JPH09285844A (ja) | 1997-11-04 |
Family
ID=14873054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8123937A Withdrawn JPH09285844A (ja) | 1996-04-23 | 1996-04-23 | 連続鋳造用鋳型およびこれへの溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09285844A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010285641A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Nishimura Tekkosho:Kk | 溶射材料及び溶射層を有する構造体並びに回転ディスク型乾燥装置 |
| JP2015067883A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 連続鋳造用モールド材 |
| JP2019098371A (ja) * | 2017-12-04 | 2019-06-24 | 株式会社野村鍍金 | 連続鋳造用金型およびその製造方法 |
-
1996
- 1996-04-23 JP JP8123937A patent/JPH09285844A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010285641A (ja) * | 2009-06-10 | 2010-12-24 | Nishimura Tekkosho:Kk | 溶射材料及び溶射層を有する構造体並びに回転ディスク型乾燥装置 |
| JP2015067883A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 三菱マテリアル株式会社 | 連続鋳造用モールド材 |
| JP2019098371A (ja) * | 2017-12-04 | 2019-06-24 | 株式会社野村鍍金 | 連続鋳造用金型およびその製造方法 |
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