JPH09283420A - 回転式基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の汚染と処理基板における膜厚均一性の
低下を極力低減するとともに、カップ洗浄用治具などの
着脱操作やその保管の専用スペースを不要にできなが
ら、飛散防止カップに対する洗浄能力を向上する。 【解決手段】 回転軸３に一体に設けた回転台４上に、
基板Ｗの外周端縁に部分的に当接して基板Ｗの水平方向
の移動を規制する規制部材６と、基板Ｗの下面側に部分
的に当接して基板を支持する基板支持部材５とを設けて
基板保持手段７を構成し、回転台４の下部に、飛散防止
カップ９の内周面に洗浄液供給ノズル１５からの洗浄液
を供給するカップ用洗浄液供給部２０を回転台４と一体
回転可能に設け、基板の外周を飛散防止カップ９が覆う
飛散防止位置とカップ用洗浄液供給部２０からの洗浄液
を供給する洗浄位置とに飛散防止カップ９を変位し、回
転台４を回転しながら飛散防止カップ９の内周面を洗浄
できるように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基板、液晶
表示器のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光
ディスク用の基板などの基板を基板保持手段で保持して
鉛直軸心周りに回転させながら、基板の表面にフォトレ
ジスト液、現像液、感光性ポリイミド、ドーパント材、
シリカ系被膜形成用塗布液などの処理液を均一に塗布処
理する回転式基板処理装置に係り、特に、基板保持手段
の周囲に設けられた飛散防止カップの内周面に付着した
処理液などを洗浄除去する技術に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、この種の回転式基板処理装置に
は、基板を回転可能に保持する基板保持手段の周囲を取
り囲むように飛散防止カップが設けられ、回転する基板
表面に処理液を塗布する際に飛散した処理液を飛散防止
カップで受け止めて回収するように構成されている。

【０００３】ところで、回転塗布処理に伴って飛散した
処理液が飛散防止カップの内周面に付着して、それが乾
燥して固化すると、飛散防止カップの内部形状が実質的
に変化することとなり、塗布性能に影響を与えたり、回
転時の振動等によって処理液の固化物が微粉末状の塵埃
となって浮遊して、被処理基板の表面に付着して基板を
汚染することがある。このような不都合を防止するため
には、飛散防止カップの内周面に付着した処理液を適宜
洗浄することが好ましい。このような洗浄を行う手段と
して、従来、次のようなものがあった。

【０００４】（１）実公平５−１３４３号公報に開示さ
れた装置では、飛散防止カップの周囲に洗浄液を流通さ
せる導管を設け、この導管から分岐した複数個の送液管
を飛散防止カップの内周面に開口させ、これらの開口か
ら飛散防止カップの内周面に洗浄液を吐出して流下さ
せ、飛散防止カップの内周面を洗浄するように構成して
いる。

【０００５】（２）特開平５−８２４３５号公報や特開
平７−６６１１６号公報で開示された装置では、通常の
回転塗布処理の際には取り外されている洗浄治具を飛散
防止カップ洗浄時にスピンチャック上に装着して洗浄を
行っている。具体的には、略円盤状を呈した洗浄治具
に、洗浄液が供給される内部空間あるいは下部空間が備
えられ、この内部空間あるいは下部空間が多数の吐出口
を介して洗浄治具の周部に開口されている。この洗浄治
具をスピンチャックを介して回転させながら前記内部空
間あるいは下部空間にノズルを介して洗浄液を供給し、
この洗浄液を前記洗浄治具の周部に形成した吐出口から
遠心力によって噴射させて飛散防止カップの内周面を洗
浄するように構成している。

【０００６】（３）特開平５−１６００１７号公報で開
示された装置では、基板を真空吸着によって保持するス
ピンチャック自体に洗浄液誘導部を備え、スピンチャッ
クの回転に伴う遠心力により、外部から供給される洗浄
液を洗浄液誘導部を介して周囲に噴射させ、飛散防止カ
ップの内周面を洗浄するように構成している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
従来例には次のような問題点がある。すなわち、従来例
（１）によると、飛散防止カップの内周面の開口から吐
出された洗浄液を飛散防止カップの内周面を流下させる
ことによって洗浄している関係で、洗浄液を勢い良く噴
射して飛散防止カップの内周面を洗浄するというような
機械的な洗浄力を作用させることができない。そのため
に洗浄能力が低く、充分な洗浄効果を得るのに多量の洗
浄液が必要になるという問題点があった。

【０００８】従来例（２）によれば、洗浄液を飛散防止
カップの内周面に向けて遠心噴射させているので、洗浄
液の溶解洗浄能力に機械的な洗浄力が付加される結果、
洗浄能力は高められるが、洗浄処理の都度、洗浄治具を
スピンチャックに保持装着する必要があるとともに、洗
浄処理後は洗浄治具を取り外して保管しておく必要があ
る。その結果、洗浄処理のための事前の準備に時間がか
かるとともに、洗浄治具を保管する専用スペースを要す
るという問題点がある。また、洗浄治具の装着によって
スピンチャック表面が汚損されやすく、その結果、スピ
ンチャックに載置された基板の裏面を汚染するおそれも
ある。

【０００９】従来例（３）によると、スピンチャック自
体に洗浄液誘導部を備えてあるので、上記従来例（１）
および（２）に見られたような不都合はなく、高い洗浄
能力が得られるが、洗浄液誘導部を飛散防止カップの内
周面に近づけるためにスピンチャック自体を大径にする
必要がある。その結果、スピンチャックが大型になり、
それだけ、基板を保持するときにスピンチャックが基板
に接触する面積が大きくなり、基板を汚染するという問
題点がある。

【００１０】そこで、基板との接触面積だけを小さくし
ながら、洗浄液誘導部を備える部分だけを大きくするこ
とが考えられるが、そのように構成した場合、洗浄液誘
導部を備える部分と基板との間に処理液の塗布の際に飛
散したミストが侵入して付着する。このようなミスト
を、基板の下方から洗浄液を供給して除去する、いわゆ
るバックリンスで除去しようとしても、洗浄液誘導部を
備える部分が邪魔になってミストの除去が物理的に不可
能であるという問題点がある。

【００１１】また、一般的に、飛散防止カップの内周面
に付着した処理液を溶解除去するために、洗浄液として
は、シンナーなどの揮発性を有する有機溶剤が使用さ
れ、そのため、飛散防止カップの内周面に対する洗浄に
伴ってスピンチャックの温度が低下し、その後に基板を
吸着保持したときに、基板の吸着面部分に温度低下が伝
わり、基板面内で温度ムラが発生し、そのような基板に
処理液を塗布した場合に膜厚均一性が損なわれる欠点が
あった。

【００１２】本発明は、このような事情に着目してなさ
れたものであって、請求項１に係る発明の回転式基板処
理装置は、基板の汚染と処理基板における膜厚均一性の
低下を極力低減するとともに、カップ洗浄用治具などの
着脱操作やその保管の専用スペースを不要にできなが
ら、飛散防止カップに対する洗浄能力を向上できるよう
にすることを目的とし、また、請求項２に係る発明の回
転式基板処理装置は、簡単な構成で飛散防止カップの内
周面に洗浄液を噴出供給できるようにすることを目的と
する。

【００１３】

【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
上述のような目的を達成するために、基板を保持する基
板保持手段と、その基板保持手段を回転軸を介して鉛直
軸心周りに回転駆動する回転駆動手段と、基板上に処理
液を供給する処理液供給手段と、基板保持手段の周囲を
囲むように配置されて基板に供給された処理液が基板の
回転に伴って飛散するのを防止する飛散防止カップと、
その飛散防止カップの内周面を洗浄するための洗浄液を
供給する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板処理装置
において、基板保持手段を、回転軸に一体に設けた回転
台上に、基板の外周端縁に部分的に当接して基板の水平
方向の移動を規制する規制部材と、基板の下面側に部分
的に当接して基板を支持する基板支持部材とを設けて構
成し、かつ、回転台の下部に、飛散防止カップの内周面
に洗浄液供給手段からの洗浄液を供給するカップ用洗浄
液供給部を回転台と一体回転可能に設けるとともに、基
板保持手段に保持された基板の外周を飛散防止カップが
覆う飛散防止位置とカップ用洗浄液供給部が飛散防止カ
ップの内周面に対向する洗浄位置とに変位するように回
転台と飛散防止カップとを相対的に昇降する昇降機構を
備えて構成する。

【００１４】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置は、請求項１に係る発明の回転式基板処理装置に
おけるカップ用洗浄液供給部を、洗浄液供給手段から供
給された洗浄液を外周部へ導くように回転台の下部に設
けられた洗浄液案内部と、その洗浄液案内部からの洗浄
液を飛散防止カップの内周面に供給する供給孔とから構
成する。

【００１５】

【作用】請求項１に係る発明の回転式基板処理装置の構
成によれば、通常の基板の回転処理時には、基板支持部
材を基板の下面に部分的に当接させて支持するとともに
規制部材を基板の外周端縁に部分的に当接させて水平方
向の移動を規制し、この基板支持部材と規制部材との協
働によって、基板を接触面積の少ない状態で保持し、基
板を回転させながら、その基板上に処理液供給手段から
処理液を供給して処理する。基板は、基板保持手段との
接触面積が少ない状態で保持されるので、基板の汚染を
抑制して処理できる。一方、飛散防止カップの洗浄時に
は、昇降機構により回転台と飛散防止カップとを相対的
に昇降することにより、カップ用洗浄液供給部を洗浄位
置に位置させ、その状態で回転台を回転させ、洗浄液供
給手段からの洗浄液を、遠心力を利用しながらカップ用
洗浄液供給部を通じて飛散防止カップの内周面に勢い良
く供給し、飛散防止カップの内周面を洗浄することがで
きる。また飛散防止カップの内周面の洗浄の影響を受け
て、基板保持手段自体の温度が低下することとなって
も、基板は、基板保持手段との接触面積が少ない状態で
保持されるので、基板への温度低下の影響は低減され
る。

【００１６】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置の構成によれば、洗浄液供給手段から供給された
洗浄液を、洗浄液案内部で受け止めて回転台の回転に伴
う遠心力により回転台の外周部へと導き、供給孔を通じ
て飛散防止カップの内周面に勢い良く供給し、飛散防止
カップの内周面を洗浄することができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。図１は、本発明に係る回転式基板処理
装置の第１実施例を示す全体縦断面図であり、基台１に
設けられた回転駆動手段としての電動モータ２によって
鉛直方向の軸芯Ｐ周りで回転駆動される回転軸３に回転
台４が一体回転可能に取り付けられ、その回転台４上の
周方向に所定間隔を隔てた６箇所に、基板Ｗの下面側に
部分的に当接して基板Ｗを支持する基板支持部材５が設
けられるとともに、それらの基板支持部材５上に、基板
Ｗの外周端縁に部分的に当接して基板Ｗの水平方向の移
動を規制する規制部材６が設けられ、基板Ｗを接触面積
の少ない状態で鉛直方向の軸芯Ｐ周りで回転可能に保持
する基板保持手段７が構成されている。

【００１８】図２の平面図に示すように、基板支持部材
５および規制部材６は、それらによって保持される基板
Ｗの中心Ｃが回転軸３の回転軸芯Ｐから偏位するように
回転台４に設けられ、回転に伴う遠心力により、基板Ｗ
の外周端縁を回転軸芯Ｐから遠い側に位置する規制部材
６に押圧し、基板Ｗに対する保持力を大きくできるよう
に構成されている（特開平５−９０２３８号公報参
照）。

【００１９】基板保持手段７の中心上方には、図示しな
いが、フォトレジスト液などの処理液を基板Ｗの表面に
供給する処理液供給手段としての処理液供給ノズルが設
けられている。回転台４と基板支持部材５および規制部
材６によって保持される基板Ｗの周囲を囲むように飛散
防止カップ９が設けられ、基板Ｗの回転に伴う処理液の
飛散を防止するように構成されている。飛散防止カップ
９の下部には、回収した余剰の処理液を排出する排液回
収部９ａや、カップ内を排気する排気口（図示せず）が
設けられている。ここでは、排液回収部９ａに接続され
る排液配管や、排気口に接続される排気ダクトの図示を
省略してある。

【００２０】基台１に、昇降機構１２を構成するガイド
１１、エアシリンダ１０、エアシリンダ１０のシリンダ
ロッド１０ａを介して昇降台１３が昇降可能に設けられ
るとともに、その昇降台１３に支持台１４が一体的に設
けられ、支持台１４に前記飛散防止カップ９が設けられ
ている。飛散防止カップ９は、昇降機構１２により、基
板保持手段７に保持された基板Ｗの外周を覆う飛散防止
位置と、後述する洗浄位置（図４参照）とに変位するよ
うに構成されている。回転軸３は、昇降台１３および支
持台１４それぞれの中央箇所に形成された開口１３ａ，
１４ａ内を貫通して設けられている。

【００２１】支持台１４上の、開口１４ａを間にして対
向する２箇所に、洗浄液を回転台４の下面に噴出供給す
る洗浄液供給手段としての洗浄液供給ノズル１５が設け
られている。その洗浄液供給ノズル１５は、中間を昇降
台１３に支持されるとともに基台１を貫通した配管１６
を介して洗浄液供給タンク１７に接続されている。図示
しないが、洗浄液供給タンク１７までの途中箇所にはエ
アーを作動源とする開閉弁と残量検知システム、流量計
が介装され、そして、洗浄液タンク１７には、窒素ガス
などの不活性ガスの供給管が接続されるとともに、その
供給管に大気との連通管が接続され、かつ、供給管およ
び連通管それぞれに開閉弁が介装され、洗浄液タンク１
７内を不活性ガスの供給により加圧し、その加圧力によ
って洗浄液供給ノズル１５から洗浄液を供給し、一方、
連通管の開閉弁を開くことにより加圧を解除して供給を
停止するように構成されている。

【００２２】回転台４の周囲の下部に、図３の要部の斜
視図、および、図４の要部の拡大断面図に示すように、
飛散防止カップ９の内周面に洗浄液供給ノズル１５から
供給された洗浄液を外周部へ導く環状の洗浄液案内部１
８が設けられるとともに、その洗浄液案内部１８の外周
壁に、周方向に所定間隔を隔てて分散して、上向き、水
平向きおよび下向きの供給孔１９が設けられ、飛散防止
カップ９の内周面に洗浄液を噴出供給するように洗浄液
供給部２０が構成されている。なお、図４においては、
基板支持部材５および規制部材６を省略している。

【００２３】以上の構成による回転式基板処理装置にお
いて、まず図１に示すような状態、すなわち飛散防止カ
ップ９が、基板保持手段７に保持された基板Ｗの外周を
覆う飛散防止位置で前述したフォトレジスト液などの処
理液による基板処理を行う。基板処理が終了すると、エ
アシリンダ１０のシリンダロッド１０ａを短縮して支持
台１４および飛散防止カップ９を飛散防止カップ９の洗
浄位置まで下降させる。すると図５の全体縦断面図に示
すように、基板保持手段７を構成する基板支持部材５の
上端が、飛散防止カップ９の上端より高く位置し、洗浄
液供給部２０の洗浄液案内部１８が、洗浄液供給ノズル
１５から洗浄液の供給を受け得るように位置し、さらに
飛散防止カップ９の内周面が、洗浄液供給部２０の供給
孔１９に対面するように位置するようになる。この状態
においてまず、図示しない基板搬送機構により基板保持
手段７から基板Ｗを搬出する。そして基板保持手段７か
らの基板Ｗの搬出が終了すると次に、基板保持手段７の
回転台４を回転させながら洗浄液供給ノズル１５から洗
浄液供給ノズル１５から洗浄液案内部１８に向けて洗浄
液を供給する。そして回転台４の回転による遠心力を利
用して洗浄液案内部１８に供給された洗浄液を供給孔１
９から飛散防止カップ９の内周面に向けて供給し、飛散
防止カップ９の内周面に付着した処理液などを洗浄除去
することができる。

【００２４】図６は、本発明に係る回転式基板処理装置
の第２実施例を示す全体縦断面図であり、第１実施例と
異なるところは次の通りである。

【００２５】すなわち、基台１にエアシリンダ２１が設
けられるとともに、そのエアシリンダ２１のシリンダロ
ッド２１ａに環状部材２２が取り付けられ、その環状部
材２２に、支持台１４を貫通する状態で３本の基板昇降
ピン２３が取り付けられている。

【００２６】回転台４の所定の３箇所に、基板昇降ピン
２３を挿脱可能なピン孔２４が形成され、基板昇降ピン
２３を昇降することにより、基板Ｗを基板保持手段７に
保持させる位置と、それより上方の基板搬送装置（図示
せず）によって基板Ｗを搬入・搬出する位置とに変位で
きるように構成されている。他の構成は第１実施例と同
じであり、同一の図番を付してその説明は省略する。

【００２７】この第２実施例の回転式基板処理装置にお
いては、第１実施例と同様に図６の実線で示すような状
態、すなわち飛散防止カップ９が、基板保持手段７に保
持された基板Ｗの外周を覆う飛散防止位置で前述したフ
ォトレジスト液などの処理液による基板処理を行う。基
板処理が終了すると、エアシリンダ２１のシリンダロッ
ド２１ａを伸張して基板昇降ピン２３を上昇させ、基板
Ｗを図６の２点鎖線で示す基板Ｗの搬入搬出位置まで上
昇させ、図示しない基板搬送装置により基板Ｗの搬出を
行う。基板Ｗの搬出が終了すると、エアシリンダ２１の
シリンダロッド２１ａを短縮させて基板昇降ピン２３を
回転台４の下方まで降下させる。そして、次にエアシリ
ンダ２１のシリンダロッド２１ａを短縮して支持台１４
および飛散防止カップ９を飛散防止カップ９の洗浄位置
まで下降させる。すると、洗浄液供給部２０の洗浄液案
内部１８が、洗浄液供給ノズル１５から洗浄液の供給を
受け得るように位置し、さらに飛散防止カップ９の内周
面が、洗浄液供給部２０の供給孔１９に対面するように
位置するようになる。この状態において、基板保持手段
７の回転台４を回転させながら洗浄液供給ノズル１５か
ら洗浄液案内部１８に向けて洗浄液を供給する。そして
回転台４の回転による遠心力を利用して洗浄液案内部１
８に供給された洗浄液を供給孔１９から飛散防止カップ
９の内周面に向けて供給し、飛散防止カップ９の内周面
に付着した処理液などを洗浄除去することができる。

【００２８】図７は、本発明に係る回転式基板処理装置
の第３実施例を示す全体縦断面図、図８は要部の斜視図
であり、第１実施例と異なるところは次の通りである。

【００２９】すなわち、回転台４の、回転軸芯Ｐを間に
して対向する２箇所、合計４箇所それぞれに基板Ｗの下
面側に部分的に当接して基板Ｗを支持する基板支持部材
２５が設けられるとともに、それらの基板支持部材２５
上に、基板Ｗの外周端縁に部分的に当接して基板Ｗの水
平方向の移動を規制する第１の規制部材２６が設けら
れ、かつ、同様に回転軸芯Ｐを間にして対向する所定箇
所に、基板Ｗの外周端縁に部分的に当接して基板Ｗの水
平方向の移動を規制する第２の規制部材２７が設けら
れ、基板Ｗを接触面積の少ない状態で鉛直方向の軸芯Ｐ
周りで回転可能に保持する基板保持手段２８が構成され
ている。

【００３０】前記第２の規制部材２７は小径の円柱体で
形成されるとともに、その第２の規制部材２７が、大径
の円柱体で形成された回転部材２９上に円柱軸芯を偏芯
させた状態で立設されている。一方、回転部材２９の下
方には、円柱軸芯相当箇所に支軸３０が突設され、この
支軸３０が回転台４に軸受部材３１（図１０および図１
１参照）を介して回転可能に設けられるとともに、図９
の要部の斜視図に示すように、支軸３０の下端に、中央
に棒状の第１の永久磁石３２を有する円形の磁石保持部
材３３が取り付けられている。

【００３１】一方、支持台１４に、飛散防止カップ９の
内周面に対する洗浄を行うときに、洗浄液供給ノズル１
５から洗浄液案内部１８への洗浄液の供給に支障の無い
状態で、支持ロッド３４を介して環状の第２の永久磁石
３５が取り付けられ、かつ、飛散防止カップ９を飛散防
止位置に上昇させた状態で、第２の永久磁石３５が第１
の永久磁石３２に近接し、一方、内周面洗浄のために飛
散防止カップ９を下降させたときに第２の永久磁石３５
が第１の永久磁石３２から離間するように構成されてい
る。

【００３２】図１０の（ａ）の要部の側面図に示すよう
に、第２の永久磁石３５において、外周側がＮ極に内周
側がＳ極になるように設定されており、一方、第１の永
久磁石３２において、平面視で回転部材２９に対して第
２の規制部材２７が偏芯している側がＳ極に、他方側が
Ｎ極になるように設定されている。

【００３３】以上の構成により、基板Ｗを基板保持手段
７に搬入・搬出したり、飛散防止カップ９の内周面を洗
浄したりするときには、第２の永久磁石３５が飛散防止
カップ９とともに下降して第１の永久磁石３２から離間
し、磁力の影響が変化されて、例えば、図１０の（ｂ）
の要部の平面図に示すように、第２の規制部材２７が基
板Ｗの外周端縁から離れた状態になり、基板Ｗを容易に
搬入・搬出できる。

【００３４】一方、基板Ｗを基板保持手段７に保持させ
て基板Ｗ上に処理液を供給処理するときには、図１１の
（ａ）の要部の側面図に示すように、第２の永久磁石３
５が飛散防止カップ９とともに上昇して第１の永久磁石
３２に近接し、第２の永久磁石３５のＳ極側が第１の永
久磁石３２のＮ極に引かれるように回転部材２９が回転
し、第２の規制部材２７が基板Ｗの外周端縁に押圧され
ることにより、基板Ｗの中心と回転軸の中心が合致して
いても基板Ｗを強い力で保持して回転させることができ
る。他の構成は第１実施例と同じであり、同一の図番を
付してその説明は省略する。

【００３５】洗浄液供給部２０の構成としては、図１２
の他の実施例の要部の断面図に示すように、回転台４の
下面の外周側そのものを洗浄液案内部１８に構成すると
か［図１２の（ａ）参照］、洗浄液案内部１８の形状を
コの字形状するとか［図１２の（ｂ）参照］、回転台４
の外周端面に、外周側程拡がった水平方向の溝３６を形
成し、その溝３６の奥部に供給孔１９と洗浄液案内部１
８を設けるように構成する［図１２の（ｃ）参照］な
ど、各種の構成が採用できる。

【００３６】上記実施例では、飛散防止カップ９を昇降
させることにより、処理液の飛散を防止する飛散防止位
置と、カップ用洗浄液供給部２０を飛散防止カップ９の
内周面に対向する洗浄位置とに変位するように構成して
いるが、本発明としては、回転台４を昇降するように構
成しても良い。

【００３７】本発明は、上述のような円形基板Ｗに限ら
ず、角形基板を処理する回転式基板処理装置にも適用で
きる。

【００３８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に係る発明の回転式基板処理装置によれば、通常の基
板の回転処理時には、基板支持部材と規制部材との協働
により、基板を接触面積の少ない状態で保持して回転さ
せながら、その基板上に処理液供給手段から処理液を供
給して処理するから、基板との接触に起因する基板の汚
染を低減できるようになった。しかも、飛散防止カップ
の洗浄時には、洗浄液供給手段からの洗浄液を、遠心力
を利用しながらカップ用洗浄液供給部を通じて飛散防止
カップの内周面に勢い良く供給するから、洗浄液自体の
洗浄能力に加えて遠心力による機械的な洗浄力を作用さ
せることが出来、カップ洗浄用治具などの着脱操作やそ
の保管の専用スペースを不要にできながら、飛散防止カ
ップの内周面に対する洗浄能力を向上できるようになっ
た。また、基板を接触面積の少ない状態で保持するか
ら、飛散防止カップの洗浄のための洗浄液供給に起因し
て基板保持手段側で温度低下があっても、基板を吸着保
持する場合に比べて基板に及ぼす熱影響が極めて小さ
く、膜厚均一性が低下することを低減して処理品質を向
上できる。

【００３９】また、請求項２に係る発明の回転式基板処
理装置によれば、回転台の下部に洗浄液案内部と供給孔
とを設けるだけでありながら、洗浄液供給手段から供給
された洗浄液を、洗浄液案内部により回転台の外周部へ
と導き、供給孔を通じて飛散防止カップの内周面に供給
するから、簡単な構成で洗浄液を飛散防止カップの内周
面に噴出供給して飛散防止カップの内周面をより良好に
洗浄することができるようになった。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る回転式基板処理装置の第１実施例
を示す全体縦断面図である。

【図２】平面図である。

【図３】要部の斜視図である。

【図４】要部の拡大断面図である。

【図５】飛散防止カップの洗浄状態を示す全体縦断面図
である。

【図６】本発明に係る回転式基板処理装置の第２実施例
を示す全体縦断面図である。

【図７】本発明に係る回転式基板処理装置の第３実施例
を示す全体縦断面図である。

【図８】要部の斜視図である。

【図９】要部の斜視図である。

【図１０】（ａ）は、基板保持を解除した状態を示す要
部の断面図、（ｂ）は平面図である。

【図１１】（ａ）は、基板保持状態を示す要部の断面
図、（ｂ）は平面図である。

【図１２】洗浄液供給部の他の実施例を示す要部の断面
図である。

【符号の説明】

２…電動モータ（回転駆動手段） ３…回転軸 ４…回転台 ５…基板支持部材 ６…規制部材 ７…基板保持手段 ９…飛散防止カップ １２…昇降機構 １５…洗浄液供給ノズル（洗浄液供給手段） １８…洗浄液案内部 １９…供給孔 ２０…洗浄液供給部 ２５…基板支持部材 ２６…第１の規制部材 ２７…第２の規制部材 Ｗ…基板

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を保持する基板保持手段と、前記基
   板保持手段を回転軸を介して鉛直軸心周りに回転駆動す
   る回転駆動手段と、前記基板上に処理液を供給する処理
   液供給手段と、前記基板保持手段の周囲を囲むように配
   置されて前記基板に供給された処理液が前記基板の回転
   に伴って飛散するのを防止する飛散防止カップと、前記
   飛散防止カップの内周面を洗浄するための洗浄液を供給
   する洗浄液供給手段とを備えた回転式基板処理装置にお
   いて、 前記基板保持手段を、前記回転軸に一体に設けた回転台
   上に、前記基板の外周端縁に部分的に当接して前記基板
   の水平方向の移動を規制する規制部材と、前記基板の下
   面側に部分的に当接して前記基板を支持する基板支持部
   材とを設けて構成し、かつ、前記回転台の下部に、前記
   飛散防止カップの内周面に前記洗浄液供給手段からの洗
   浄液を供給するカップ用洗浄液供給部を前記回転台と一
   体回転可能に設けるとともに、前記基板保持手段に保持
   された前記基板の外周を前記飛散防止カップが覆う飛散
   防止位置と前記カップ用洗浄液供給部が前記飛散防止カ
   ップの内周面に対向する洗浄位置とに変位するように前
   記回転台と前記飛散防止カップとを相対的に昇降する昇
   降機構を備えたことを特徴とする回転式基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のカップ用洗浄液供給部
   が、洗浄液供給手段から供給された洗浄液を外周部へ導
   くように回転台の下部に設けられた洗浄液案内部と、そ
   の洗浄液案内部からの洗浄液を飛散防止カップの内周面
   に供給する供給孔とから構成されている回転式基板処理
   装置。