JPH09273991A - 赤外線ガス分析計 - Google Patents
赤外線ガス分析計Info
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- JPH09273991A JPH09273991A JP11009896A JP11009896A JPH09273991A JP H09273991 A JPH09273991 A JP H09273991A JP 11009896 A JP11009896 A JP 11009896A JP 11009896 A JP11009896 A JP 11009896A JP H09273991 A JPH09273991 A JP H09273991A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N33/00—Investigating or analysing materials by specific methods not covered by groups G01N1/00 - G01N31/00
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- G01N2021/3545—Disposition for compensating effect of interfering gases
Abstract
(57)【要約】
【課題】 測定値に含まれる水分干渉影響値の補正を容
易に行えて、性能が向上すると共に、その省スペース化
を達成する赤外線ガス分析計を提供する。 【解決手段】 水分干渉影響値のチェック時にはサンプ
ルガスＳの代わりに乾燥ユニット３０を通した比較ガス
ＤＲを分析部に供給する乾燥ガスライン３４を形成し、
比較ガスＲと乾燥比較ガスＤＲとの出力差によって水分
干渉影響値を測定し、これによって測定対象成分の測定
値を補正するように構成した。
易に行えて、性能が向上すると共に、その省スペース化
を達成する赤外線ガス分析計を提供する。 【解決手段】 水分干渉影響値のチェック時にはサンプ
ルガスＳの代わりに乾燥ユニット３０を通した比較ガス
ＤＲを分析部に供給する乾燥ガスライン３４を形成し、
比較ガスＲと乾燥比較ガスＤＲとの出力差によって水分
干渉影響値を測定し、これによって測定対象成分の測定
値を補正するように構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は水分干渉影響値の補
正を行う赤外線ガス分析計に関する。
正を行う赤外線ガス分析計に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、赤外線ガス分析計は、サンプル
ガスが導入されるセルと、このセルの一端側に配置され
セル内に赤外光を照射する光源と、セル内を通過した赤
外光を検出する検出器からなっており、この検出器から
検出される赤外光の波長および強さによってセル内の気
体の成分および濃度を検出できる。
ガスが導入されるセルと、このセルの一端側に配置され
セル内に赤外光を照射する光源と、セル内を通過した赤
外光を検出する検出器からなっており、この検出器から
検出される赤外光の波長および強さによってセル内の気
体の成分および濃度を検出できる。
【０００３】ところが、サンプルガスには幾らかの水分
が含まれているため、この水分が分析計によって検出さ
れる。そして、たとえばＣＯ分析計の場合には測定対象
成分（ＣＯ）による赤外線の吸収領域波長が水分（Ｈ2
Ｏ）による吸収領域波長と近接しているので、サンプル
ガスに含まれる水分がＣＯ分析の測定値に影響を与えて
いた。そこで、この水分干渉影響を軽減するために、従
来より図４に示す構成の赤外線ガス分析計が用いられて
いる。
が含まれているため、この水分が分析計によって検出さ
れる。そして、たとえばＣＯ分析計の場合には測定対象
成分（ＣＯ）による赤外線の吸収領域波長が水分（Ｈ2
Ｏ）による吸収領域波長と近接しているので、サンプル
ガスに含まれる水分がＣＯ分析の測定値に影響を与えて
いた。そこで、この水分干渉影響を軽減するために、従
来より図４に示す構成の赤外線ガス分析計が用いられて
いる。
【０００４】図４において、５０は流体変調方式のシン
グルビーム型赤外線ガス分析計であり、２はこの赤外線
ガス分析計５０の分析部、３および４はこの分析部２に
供給されるガスが流通する第１ガスラインおよび第２ガ
スライン、５はこのガスライン３，４内のガスを分析部
２に供給するためのポンプ、６はガスライン３，４の何
れか一方を選択的に分析ガスライン７に、他方を排気ガ
スライン８に適当な周期で切り換えて接続する流体変調
弁である。
グルビーム型赤外線ガス分析計であり、２はこの赤外線
ガス分析計５０の分析部、３および４はこの分析部２に
供給されるガスが流通する第１ガスラインおよび第２ガ
スライン、５はこのガスライン３，４内のガスを分析部
２に供給するためのポンプ、６はガスライン３，４の何
れか一方を選択的に分析ガスライン７に、他方を排気ガ
スライン８に適当な周期で切り換えて接続する流体変調
弁である。
【０００５】第１ガスライン３には電磁弁９が介在して
おり、この電磁弁９がオフの状態の時は第１ガスライン
３にサンプルガスＳが供給される。一方第２ガスライン
４には測定対象成分（例えばＣＯ）を除去する酸化触媒
１０が介在しており、前記排気ガスライン８から排出さ
れるサンプルガスＳ中の一酸化炭素（ＣＯ）を二酸化炭
素（ＣＯ2 ）に酸化して比較ガスＲを生成し、第２ガス
ライン４にはこの比較ガスＲが供給される。すなわち、
第１ガスライン３，第２ガスライン４は通常サンプルガ
スライン１１，比較ガスライン１２として機能してい
る。
おり、この電磁弁９がオフの状態の時は第１ガスライン
３にサンプルガスＳが供給される。一方第２ガスライン
４には測定対象成分（例えばＣＯ）を除去する酸化触媒
１０が介在しており、前記排気ガスライン８から排出さ
れるサンプルガスＳ中の一酸化炭素（ＣＯ）を二酸化炭
素（ＣＯ2 ）に酸化して比較ガスＲを生成し、第２ガス
ライン４にはこの比較ガスＲが供給される。すなわち、
第１ガスライン３，第２ガスライン４は通常サンプルガ
スライン１１，比較ガスライン１２として機能してい
る。
【０００６】電磁弁１３は前記赤外線ガス分析計５０を
校正するときに用いる三方電磁弁であり、前記電磁弁９
をオンにした状態で、電磁弁１３をオンにすることによ
り第１ガスライン３に校正ガス供給ライン１４を介して
校正ガスボンベ（例えばスパンガス）１５を接続する。
この場合には第１ガスライン３および校正ガス供給ライ
ン１４は二点鎖線の矢印で示される校正ガスライン１６
として機能する。また、１７は校正ガスのオーバーフロ
ーラインである。
校正するときに用いる三方電磁弁であり、前記電磁弁９
をオンにした状態で、電磁弁１３をオンにすることによ
り第１ガスライン３に校正ガス供給ライン１４を介して
校正ガスボンベ（例えばスパンガス）１５を接続する。
この場合には第１ガスライン３および校正ガス供給ライ
ン１４は二点鎖線の矢印で示される校正ガスライン１６
として機能する。また、１７は校正ガスのオーバーフロ
ーラインである。
【０００７】なお、本願の図面において電磁弁の形状は
二方電磁弁も三方電磁弁も互いに頂点を突き合わせた三
角形で表わし、特に白抜きの三角形はオンの状態で閉，
オフの状態で開となる弁口、黒塗りの三角形はオンの状
態で開，オフの状態で閉となる弁口、半分黒塗りの三角
形はオンオフ共通の弁口である。すなわち、電磁弁がオ
フの時には白抜き三角形と半分黒塗りの三角形が流通状
態となり、オンの時には黒塗り三角形と半分黒塗りの三
角形が流通状態となる。
二方電磁弁も三方電磁弁も互いに頂点を突き合わせた三
角形で表わし、特に白抜きの三角形はオンの状態で閉，
オフの状態で開となる弁口、黒塗りの三角形はオンの状
態で開，オフの状態で閉となる弁口、半分黒塗りの三角
形はオンオフ共通の弁口である。すなわち、電磁弁がオ
フの時には白抜き三角形と半分黒塗りの三角形が流通状
態となり、オンの時には黒塗り三角形と半分黒塗りの三
角形が流通状態となる。
【０００８】前記赤外線ガス分析計５０において、水分
干渉影響値の補正は、分析部２において行っているの
で、以下に分析部２の構成を説明する。分析部２は、例
えば両端に赤外線透過性材料よりなる透過窓を形成した
筒状のセル１８と、このセル１８の一端側に赤外光を入
射する光源１９と、セル１８の他端側から出射する赤外
光のうち測定対象成分（例えばＣＯ）を検出するための
測定用検出器２０と干渉成分（例えばＨ2 Ｏ）を検出す
るための干渉成分補償用検出器２１とが、光学的に直列
に配置されている。
干渉影響値の補正は、分析部２において行っているの
で、以下に分析部２の構成を説明する。分析部２は、例
えば両端に赤外線透過性材料よりなる透過窓を形成した
筒状のセル１８と、このセル１８の一端側に赤外光を入
射する光源１９と、セル１８の他端側から出射する赤外
光のうち測定対象成分（例えばＣＯ）を検出するための
測定用検出器２０と干渉成分（例えばＨ2 Ｏ）を検出す
るための干渉成分補償用検出器２１とが、光学的に直列
に配置されている。
【０００９】前記検出器２０，２１は、例えばコンデン
サマイクロフォン検出器よりなる。測定用検出器２０に
は、ＣＯまたはこれと同等の吸収特性を有するガスが封
入してあり、また、干渉成分補償用検出器２１には、Ｈ
2 Ｏと同等の吸収特性を有するガスが封入してある。２
２，２３は前記両検出器２０，２１の出力を適宜増幅す
るプリアンプ、２４はプリアンプ２２, ２３からの出力
ＤS ，ＤC をＡ／Ｄ変換し、適当な係数ｋを乗算した後
にその差をとる以下の式（１）の計算をするマイクロコ
ンピュータである。なお、２５は測定値ＤOUT の出力部
である。 ＤOUT ＝ＤS −ｋＤC ・・・・（１）
サマイクロフォン検出器よりなる。測定用検出器２０に
は、ＣＯまたはこれと同等の吸収特性を有するガスが封
入してあり、また、干渉成分補償用検出器２１には、Ｈ
2 Ｏと同等の吸収特性を有するガスが封入してある。２
２，２３は前記両検出器２０，２１の出力を適宜増幅す
るプリアンプ、２４はプリアンプ２２, ２３からの出力
ＤS ，ＤC をＡ／Ｄ変換し、適当な係数ｋを乗算した後
にその差をとる以下の式（１）の計算をするマイクロコ
ンピュータである。なお、２５は測定値ＤOUT の出力部
である。 ＤOUT ＝ＤS −ｋＤC ・・・・（１）
【００１０】一般に赤外線ガス分析計５０は、検出部
２、増幅部２２，２３などの温度ドリフトあるいは経時
変化によって生ずる誤差を補正するために、測定を行う
に際しては、その測定作業に先立って分析部２の調整を
行う必要がある。また、前記検出器２０，２１の検出値
にかけられる係数ｋについても同様に、サンプルガスＳ
中に含まれる水分干渉影響値による影響を最小限に抑え
るために、定期的に水分干渉影響値をチェックして調整
する必要が生じる。
２、増幅部２２，２３などの温度ドリフトあるいは経時
変化によって生ずる誤差を補正するために、測定を行う
に際しては、その測定作業に先立って分析部２の調整を
行う必要がある。また、前記検出器２０，２１の検出値
にかけられる係数ｋについても同様に、サンプルガスＳ
中に含まれる水分干渉影響値による影響を最小限に抑え
るために、定期的に水分干渉影響値をチェックして調整
する必要が生じる。
【００１１】上述のシングルビーム型の赤外線ガス分析
計５０は、以下の方法で、水分干渉影響値のチェックお
よび補正を行っている。すなわち、サンプルガスＳの流
入口２６に窒素ガスなど、測定対象成分が入っていない
乾燥ガスのボンベ２７を接続すると共に、前記第２ガス
ライン４の途中に接続部２８を設けて、この接続部２８
に加湿器２９を取り付けて、分析部２に乾燥ガスと加湿
された比較ガスを流入させ、分析部２にて水分干渉影響
値をチェックする。
計５０は、以下の方法で、水分干渉影響値のチェックお
よび補正を行っている。すなわち、サンプルガスＳの流
入口２６に窒素ガスなど、測定対象成分が入っていない
乾燥ガスのボンベ２７を接続すると共に、前記第２ガス
ライン４の途中に接続部２８を設けて、この接続部２８
に加湿器２９を取り付けて、分析部２に乾燥ガスと加湿
された比較ガスを流入させ、分析部２にて水分干渉影響
値をチェックする。
【００１２】つまり、赤外線ガス分析計５０のガスライ
ン３，４を介して、分析部２に窒素ガスのような乾燥ガ
スと、酸化触媒１０および加湿器２９を通って加湿され
た比較ガスを流入する。このときに、測定用検出器２０
と干渉成分補償用検出器２１からの出力ＤS ，ＤC が同
じになるように、干渉成分補償用検出器２０の構造およ
びその内部に封入されるガスの濃度を調整したり、両方
を減算する際の係数ｋを調整することにより、水分干渉
による影響をなくすることができる。
ン３，４を介して、分析部２に窒素ガスのような乾燥ガ
スと、酸化触媒１０および加湿器２９を通って加湿され
た比較ガスを流入する。このときに、測定用検出器２０
と干渉成分補償用検出器２１からの出力ＤS ，ＤC が同
じになるように、干渉成分補償用検出器２０の構造およ
びその内部に封入されるガスの濃度を調整したり、両方
を減算する際の係数ｋを調整することにより、水分干渉
による影響をなくすることができる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来の赤外
線ガス分析計５０では、水分干渉影響値のチェックだけ
のために赤外線ガス分析計５０に乾燥ガスを供給するボ
ンベ２７を取付ける必要があった。または、通常の測定
時に乾燥ガスのボンベ２７を取り外している場合には水
分干渉影響値のチェック時にボンベ２７を分析計５０に
接続する必要があるので、そのためのスペースの確保や
ボンベ２７の交換作業を行なう必要も生じていた。ま
た、比較的大きな加湿器２９を赤外線ガス分析計５０に
接続する手間も必要となっていた。
線ガス分析計５０では、水分干渉影響値のチェックだけ
のために赤外線ガス分析計５０に乾燥ガスを供給するボ
ンベ２７を取付ける必要があった。または、通常の測定
時に乾燥ガスのボンベ２７を取り外している場合には水
分干渉影響値のチェック時にボンベ２７を分析計５０に
接続する必要があるので、そのためのスペースの確保や
ボンベ２７の交換作業を行なう必要も生じていた。ま
た、比較的大きな加湿器２９を赤外線ガス分析計５０に
接続する手間も必要となっていた。
【００１４】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、測定値に含まれる水分干渉影響値の補正を容
易に行えて、性能が向上すると共に、その省スペース化
を達成する赤外線ガス分析計を提供することを目的とし
ている。
たもので、測定値に含まれる水分干渉影響値の補正を容
易に行えて、性能が向上すると共に、その省スペース化
を達成する赤外線ガス分析計を提供することを目的とし
ている。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の赤外線ガス分析計は、水分干渉影響値のチ
ェック時に前記サンプルガスの代わりに乾燥ユニットを
通した比較ガスを分析部に供給する乾燥ガスラインを形
成し、比較ガスと乾燥比較ガスとの出力差によって水分
干渉影響値を測定し、これによって測定対象成分の測定
値を補正するように構成している。
め、本発明の赤外線ガス分析計は、水分干渉影響値のチ
ェック時に前記サンプルガスの代わりに乾燥ユニットを
通した比較ガスを分析部に供給する乾燥ガスラインを形
成し、比較ガスと乾燥比較ガスとの出力差によって水分
干渉影響値を測定し、これによって測定対象成分の測定
値を補正するように構成している。
【００１６】上述のように、水分干渉影響値のチェック
時に、比較ガスの一部を乾燥ユニットを通して乾燥比較
ガスを得、こうして得られた乾燥比較ガスと比較ガスと
の水分濃度差により分析部が検出した信号を処理するこ
とにより、従来のように乾燥ガスのボンベを用いること
なく、水分干渉影響値の少ない値を得ることができる。
時に、比較ガスの一部を乾燥ユニットを通して乾燥比較
ガスを得、こうして得られた乾燥比較ガスと比較ガスと
の水分濃度差により分析部が検出した信号を処理するこ
とにより、従来のように乾燥ガスのボンベを用いること
なく、水分干渉影響値の少ない値を得ることができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】図１は本発明の一例の赤外線ガス
分析計１のフローを示す図である。図１において、図４
と同一の符号が付された部材は同一または同等の部材で
あるのでその詳細な説明を省略する。
分析計１のフローを示す図である。図１において、図４
と同一の符号が付された部材は同一または同等の部材で
あるのでその詳細な説明を省略する。
【００１８】本発明の特徴となる構成について説明する
と、３０はシリカゲルやＣａＣｌ2等の乾燥ユニットで
あり、この乾燥ユニット３０は、酸化触媒１０の下流側
の第２ガスライン４に分岐接続されると共に三方電磁弁
３１を介して選択的に第１ガスライン３に接続された乾
燥ガス生成ライン３２上に設けられている。３３はこの
乾燥ガス生成ライン３２の乾燥ユニット３０の上流側に
設けられた電磁弁であり、電磁弁３１，３３の両方がオ
ンの時に第２ガスライン４が乾燥ユニット３０を介して
第１ガスライン３と流通接続され、この乾燥ガス生成ラ
イン３２と第１ガスライン３によって仮想線矢印で示さ
れる乾燥ガスライン３４を形成する。
と、３０はシリカゲルやＣａＣｌ2等の乾燥ユニットで
あり、この乾燥ユニット３０は、酸化触媒１０の下流側
の第２ガスライン４に分岐接続されると共に三方電磁弁
３１を介して選択的に第１ガスライン３に接続された乾
燥ガス生成ライン３２上に設けられている。３３はこの
乾燥ガス生成ライン３２の乾燥ユニット３０の上流側に
設けられた電磁弁であり、電磁弁３１，３３の両方がオ
ンの時に第２ガスライン４が乾燥ユニット３０を介して
第１ガスライン３と流通接続され、この乾燥ガス生成ラ
イン３２と第１ガスライン３によって仮想線矢印で示さ
れる乾燥ガスライン３４を形成する。
【００１９】酸化触媒１０の上流側に設けられた三方電
磁弁３５は排気ガスライン８から分岐するフィードバッ
クライン３６または第１ガスライン３から分岐する分岐
ガスライン３７の何れか一方を選択して第２ガスライン
４に接続する。
磁弁３５は排気ガスライン８から分岐するフィードバッ
クライン３６または第１ガスライン３から分岐する分岐
ガスライン３７の何れか一方を選択して第２ガスライン
４に接続する。
【００２０】以下に、この赤外線ガス分析計１の動作に
ついて説明する。まず、サンプル測定時には電磁弁９，
１３，３１，３３，３５の全てをオフとして、第１ガス
ライン３はサンプルガスライン１１としてサンプルガス
Ｓを供給し、第２ガスライン４およびフィードバックガ
スライン３６は比較ガスライン１２として比較ガスＲを
供給する。
ついて説明する。まず、サンプル測定時には電磁弁９，
１３，３１，３３，３５の全てをオフとして、第１ガス
ライン３はサンプルガスライン１１としてサンプルガス
Ｓを供給し、第２ガスライン４およびフィードバックガ
スライン３６は比較ガスライン１２として比較ガスＲを
供給する。
【００２１】したがって、分析部２にはサンプルガスＳ
と、サンプルガスＳから測定対象成分（本例では一例と
して一酸化炭素ＣＯ）を酸化して生成した比較ガスＲが
供給されて通常の測定が行われる。なお、この通常の測
定を行う場合に、三方電磁弁３５をオフにすることによ
り排気ガスライン８に流れるサンプルガスＳまたは比較
ガスＲを比較ガスライン１２において酸化して新たに比
較ガスＲを生成することにより、酸化触媒１０の機能低
下をおさえているが、この三方電磁弁３５をオンにして
第１ガスライン３に流れるサンプルガスＳを、分岐ガス
ライン３７を介して酸化触媒１０に流入させるようにし
てもよい。
と、サンプルガスＳから測定対象成分（本例では一例と
して一酸化炭素ＣＯ）を酸化して生成した比較ガスＲが
供給されて通常の測定が行われる。なお、この通常の測
定を行う場合に、三方電磁弁３５をオフにすることによ
り排気ガスライン８に流れるサンプルガスＳまたは比較
ガスＲを比較ガスライン１２において酸化して新たに比
較ガスＲを生成することにより、酸化触媒１０の機能低
下をおさえているが、この三方電磁弁３５をオンにして
第１ガスライン３に流れるサンプルガスＳを、分岐ガス
ライン３７を介して酸化触媒１０に流入させるようにし
てもよい。
【００２２】次に、水分干渉影響値をチェックする時の
動作を説明する。水分干渉影響値をチェックする時は電
磁弁９，１３をオフにしたままの状態で電磁弁３１，３
３，３５をオンにする。このとき、第１ガスライン３は
電磁弁３１の位置で切断され、サンプルガスＳは分岐ガ
スライン３７と三方電磁弁３５を介して酸化触媒１０に
導かれる。酸化触媒１０でサンプルガスＳ中の測定対象
成分が酸化されてサンプルガスＳが比較ガスＲとなり、
分岐点Ａにおいて分岐する。
動作を説明する。水分干渉影響値をチェックする時は電
磁弁９，１３をオフにしたままの状態で電磁弁３１，３
３，３５をオンにする。このとき、第１ガスライン３は
電磁弁３１の位置で切断され、サンプルガスＳは分岐ガ
スライン３７と三方電磁弁３５を介して酸化触媒１０に
導かれる。酸化触媒１０でサンプルガスＳ中の測定対象
成分が酸化されてサンプルガスＳが比較ガスＲとなり、
分岐点Ａにおいて分岐する。
【００２３】そして、分岐した一方の比較ガスＲはポン
プ５と流路変調弁６を介して分析部２に流入し、他方の
比較ガスＲは二方電磁弁３３を介して乾燥ユニット３０
に流入する。そして、この乾燥ユニット３０は第２ガス
ラインを流れる比較ガスＲを、例えば露点−２０℃以下
の乾燥した乾燥比較ガスＤＲに精製する。生成された乾
燥比較ガスＤＲは三方電磁弁３１を介して再び第１ガス
ライン３に戻り、ポンプ５と流路変調弁６を介して分析
部２に流入する。
プ５と流路変調弁６を介して分析部２に流入し、他方の
比較ガスＲは二方電磁弁３３を介して乾燥ユニット３０
に流入する。そして、この乾燥ユニット３０は第２ガス
ラインを流れる比較ガスＲを、例えば露点−２０℃以下
の乾燥した乾燥比較ガスＤＲに精製する。生成された乾
燥比較ガスＤＲは三方電磁弁３１を介して再び第１ガス
ライン３に戻り、ポンプ５と流路変調弁６を介して分析
部２に流入する。
【００２４】すなわち、比較ガスＲと乾燥比較ガスＤＲ
とを交互に分析部２に供給して流体変調することによ
り、両方のガスＲ，ＤＲの水分差による分析部２の測定
値ＤOUT （水分干渉影響値）をチェックすることができ
る。すなわち、この水分干渉影響値がゼロになるよう
に、検出器２０，２１の検出値ＤS ，ＤC にかけられる
係数ｋをソフトウェアにより調整することにより、分析
部２の水分干渉影響値を補正できる。したがって、本発
明の赤外線ガス分析計１は従来の赤外線ガス分析計のよ
うに、水分干渉影響値をチェックするだけの目的で乾燥
ボンベ２７や大がかりな加湿器２９を接続する必要がな
くなり、構造が簡略になる。
とを交互に分析部２に供給して流体変調することによ
り、両方のガスＲ，ＤＲの水分差による分析部２の測定
値ＤOUT （水分干渉影響値）をチェックすることができ
る。すなわち、この水分干渉影響値がゼロになるよう
に、検出器２０，２１の検出値ＤS ，ＤC にかけられる
係数ｋをソフトウェアにより調整することにより、分析
部２の水分干渉影響値を補正できる。したがって、本発
明の赤外線ガス分析計１は従来の赤外線ガス分析計のよ
うに、水分干渉影響値をチェックするだけの目的で乾燥
ボンベ２７や大がかりな加湿器２９を接続する必要がな
くなり、構造が簡略になる。
【００２５】また、分析部２の校正時には電磁弁９，１
３をオンにすると共に、電磁弁３１，３３，３５をオフ
にする事により、既知の測定対象成分を含む校正ガスに
よって分析部２を校正することができる。
３をオンにすると共に、電磁弁３１，３３，３５をオフ
にする事により、既知の測定対象成分を含む校正ガスに
よって分析部２を校正することができる。
【００２６】上述のように、水分干渉影響値のチェック
時に、比較ガスＲの一部を乾燥ユニット３０を通し乾燥
して乾燥比較ガスＤＲを得、こうして得られた乾燥比較
ガスＤＲと比較ガスＲとの水分濃度差により分析部２が
検出した信号を処理することにより、従来のように乾燥
ガスのボンベを用いることなく、水分干渉影響値のない
値を得ることが極めて容易に行える。
時に、比較ガスＲの一部を乾燥ユニット３０を通し乾燥
して乾燥比較ガスＤＲを得、こうして得られた乾燥比較
ガスＤＲと比較ガスＲとの水分濃度差により分析部２が
検出した信号を処理することにより、従来のように乾燥
ガスのボンベを用いることなく、水分干渉影響値のない
値を得ることが極めて容易に行える。
【００２７】また、水分干渉影響値のチェック時に、乾
燥ガスを封入するボンベや加湿器のような特別な部材を
接続する必要がなく、また、これらの部材を赤外線ガス
分析計１に組み込む必要もなく、電磁弁の切換え操作に
より行えるので、ボンベの交換に伴うランニングコスト
の引き上げや手間などの問題が生じない。また、乾燥剤
ユニット３０は、例えば、週に１回程度行われる水分干
渉影響値のチェック時のみ比較ガスＲ中の水分を吸収す
ればよいので、その寿命が長く、この点でもコストを引
き下げることができる。
燥ガスを封入するボンベや加湿器のような特別な部材を
接続する必要がなく、また、これらの部材を赤外線ガス
分析計１に組み込む必要もなく、電磁弁の切換え操作に
より行えるので、ボンベの交換に伴うランニングコスト
の引き上げや手間などの問題が生じない。また、乾燥剤
ユニット３０は、例えば、週に１回程度行われる水分干
渉影響値のチェック時のみ比較ガスＲ中の水分を吸収す
ればよいので、その寿命が長く、この点でもコストを引
き下げることができる。
【００２８】次に、本発明の別の実施形態を図２を参照
しながら説明する。この図２においても、図１または図
４と同一の符号が付された部材は同一または同等の部材
である。
しながら説明する。この図２においても、図１または図
４と同一の符号が付された部材は同一または同等の部材
である。
【００２９】図２において、図１と異なる点は図１の二
方電磁弁３３の位置に三方電磁弁３８を設け、この三方
電磁弁３８によって乾燥ユニット３０をバイパスするバ
イパスガスライン３９を形成した点にある。つまり、三
方電磁弁３８をオフにすることによりＡ点で分岐したゼ
ロガスＺ（測定成分を含まないガスのことで本例では図
１において示した比較ガスＲと同一のガスである）は乾
燥ユニット３０をバイパスして分析部２に流入し、分析
部２をゼロ校正できるようにしている。
方電磁弁３３の位置に三方電磁弁３８を設け、この三方
電磁弁３８によって乾燥ユニット３０をバイパスするバ
イパスガスライン３９を形成した点にある。つまり、三
方電磁弁３８をオフにすることによりＡ点で分岐したゼ
ロガスＺ（測定成分を含まないガスのことで本例では図
１において示した比較ガスＲと同一のガスである）は乾
燥ユニット３０をバイパスして分析部２に流入し、分析
部２をゼロ校正できるようにしている。
【００３０】上記構成の動作の詳細を説明すると、電磁
弁３１，３５をオンにし、電磁弁９，１３，３８をオフ
にすることにより、サンプルガスは矢印４０に示すよう
に分岐ガスライン３７を介して酸化触媒１０に供給され
てゼロガスＺとなる。そして、このゼロガスＺは分岐点
Ａにおいて分岐して一方が矢印４１に示すように第２ガ
スラインに供給され、他方が矢印４２に示すように電磁
弁３８，バイパスガスライン３９，電磁弁３１を介して
第１ガスライン３に供給される。つまり、第１，第２ガ
スライン３，４共にゼロガスＺが供給されるので、分析
部２をゼロ校正できる。なお、その他の構成および動作
は図１に示した例と同様であるので、その説明を省略す
る。
弁３１，３５をオンにし、電磁弁９，１３，３８をオフ
にすることにより、サンプルガスは矢印４０に示すよう
に分岐ガスライン３７を介して酸化触媒１０に供給され
てゼロガスＺとなる。そして、このゼロガスＺは分岐点
Ａにおいて分岐して一方が矢印４１に示すように第２ガ
スラインに供給され、他方が矢印４２に示すように電磁
弁３８，バイパスガスライン３９，電磁弁３１を介して
第１ガスライン３に供給される。つまり、第１，第２ガ
スライン３，４共にゼロガスＺが供給されるので、分析
部２をゼロ校正できる。なお、その他の構成および動作
は図１に示した例と同様であるので、その説明を省略す
る。
【００３１】本例のように、サンプルガスＳを用いてゼ
ロ校正できるようにすることにより、サンプルガスＳの
流入口にゼロガスＺを供給するためのゼロガスボンベを
別途接続する必要がなくなる。したがって、赤外線ガス
分析計１の設置場所の省スペース化が達成できる。
ロ校正できるようにすることにより、サンプルガスＳの
流入口にゼロガスＺを供給するためのゼロガスボンベを
別途接続する必要がなくなる。したがって、赤外線ガス
分析計１の設置場所の省スペース化が達成できる。
【００３２】図３は本発明の更に異なる実施形態を示す
例である。この図３においても、図１，２または図４と
同一の符号が付された部材は同一または同等の部材であ
る。図３において、図２と異なる点は分岐ガスライン４
３の上流側がオーバーフローライン１７に分岐接続さ
れ、下流側が三方電磁弁３５に接続されている構成にあ
る。
例である。この図３においても、図１，２または図４と
同一の符号が付された部材は同一または同等の部材であ
る。図３において、図２と異なる点は分岐ガスライン４
３の上流側がオーバーフローライン１７に分岐接続さ
れ、下流側が三方電磁弁３５に接続されている構成にあ
る。
【００３３】上記構成の赤外線ガス分析計１によるゼロ
校正の動作について説明すると、電磁弁１３，３１，３
５をオンにし、電磁弁９，３８をオフにすることによ
り、校正ガスがボンベ１５からオーバーフローライン１
７，分岐ガスライン４３，三方電磁弁３５を介して矢印
４４に示すように酸化触媒１０に流入する。そして、こ
の酸化触媒１０によって校正ガスはゼロガスＺに精製さ
れ、矢印４１，４２に示すように第２，第１ガスライン
４，３に供給されるので、分析部２をゼロ校正できる。
なお、その他の構成および動作は図１，２に示した例と
同様であるので、その説明を省略する。
校正の動作について説明すると、電磁弁１３，３１，３
５をオンにし、電磁弁９，３８をオフにすることによ
り、校正ガスがボンベ１５からオーバーフローライン１
７，分岐ガスライン４３，三方電磁弁３５を介して矢印
４４に示すように酸化触媒１０に流入する。そして、こ
の酸化触媒１０によって校正ガスはゼロガスＺに精製さ
れ、矢印４１，４２に示すように第２，第１ガスライン
４，３に供給されるので、分析部２をゼロ校正できる。
なお、その他の構成および動作は図１，２に示した例と
同様であるので、その説明を省略する。
【００３４】本例のように、校正ガスをゼロガスとして
校正することにより、校正ガスの流入口にゼロガスＺを
供給するためのゼロガスボンベを別途接続する必要がな
くなる。したがって、赤外線ガス分析計１の設置場所の
省スペース化が達成できる。さらに、校正ガスをゼロガ
スに精製しているので常に安定したゼロ校正を行える。
校正することにより、校正ガスの流入口にゼロガスＺを
供給するためのゼロガスボンベを別途接続する必要がな
くなる。したがって、赤外線ガス分析計１の設置場所の
省スペース化が達成できる。さらに、校正ガスをゼロガ
スに精製しているので常に安定したゼロ校正を行える。
【００３５】なお、上述の各実施形態では、分析部２の
一例としてシングルビーム型の流体変調方式赤外線ガス
分析計を挙げているが、本発明はこれに限られるもので
はなく、例えば特公昭５６−４８８２２号公報に記載し
ているように、２セル２ビーム型の流体変調方式赤外線
ガス分析計等にも用いることができることは言うまでも
ないことである。
一例としてシングルビーム型の流体変調方式赤外線ガス
分析計を挙げているが、本発明はこれに限られるもので
はなく、例えば特公昭５６−４８８２２号公報に記載し
ているように、２セル２ビーム型の流体変調方式赤外線
ガス分析計等にも用いることができることは言うまでも
ないことである。
【００３６】また、上記各例では分析部２の測定値Ｄ
OUT はマイクロコンピュータ２４による演算によって計
算されて出力部２５から出力されるので、分析部２の水
分干渉影響値のチェックおよび調整もソフトウェアによ
って行っているが、これに変えてアナログ回路の乗算器
を用いるなど種々の方法で調整可能であることは言うま
でもない。
OUT はマイクロコンピュータ２４による演算によって計
算されて出力部２５から出力されるので、分析部２の水
分干渉影響値のチェックおよび調整もソフトウェアによ
って行っているが、これに変えてアナログ回路の乗算器
を用いるなど種々の方法で調整可能であることは言うま
でもない。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば比
較ガスの一部を乾燥ユニットを通すことにより乾燥した
ガスを得、乾燥した比較ガスと比較ガスとの水分濃度差
により分析部が検出した信号を処理し水分干渉影響値の
少ない値を得るので、乾燥したガスのボンベや加湿器な
どを準備する必要がなく、省スペースであるだけでな
く、水分干渉影響値の補正を自動的に行うことができ、
省メンテであり、ランニングコストの低減も可能とな
る。
較ガスの一部を乾燥ユニットを通すことにより乾燥した
ガスを得、乾燥した比較ガスと比較ガスとの水分濃度差
により分析部が検出した信号を処理し水分干渉影響値の
少ない値を得るので、乾燥したガスのボンベや加湿器な
どを準備する必要がなく、省スペースであるだけでな
く、水分干渉影響値の補正を自動的に行うことができ、
省メンテであり、ランニングコストの低減も可能とな
る。
【００３８】さらに、水分干渉影響値のチェックおよび
補正を定期的に行うことにより、測定データの信頼性を
向上することができ、水分干渉影響対策として有効であ
る。
補正を定期的に行うことにより、測定データの信頼性を
向上することができ、水分干渉影響対策として有効であ
る。
【図１】本発明の赤外線ガス分析計の一例のフローを示
す図である。
す図である。
【図２】前記赤外線ガス分析計の別の例を示すフローで
ある。
ある。
【図３】前記赤外線ガス分析計の更に異なる例を示すフ
ローである。
ローである。
【図４】従来の赤外線ガス分析計の例を示すフローであ
る。
る。
１…赤外線ガス分析計、２…分析部、１１…サンプルガ
スライン、１２…比較ガスライン、３０…乾燥ユニッ
ト、３４…乾燥ガスライン、ＤOUT …出力、ＤＲ…乾燥
比較ガス、Ｒ…比較ガス、Ｓ…サンプルガス。
スライン、１２…比較ガスライン、３０…乾燥ユニッ
ト、３４…乾燥ガスライン、ＤOUT …出力、ＤＲ…乾燥
比較ガス、Ｒ…比較ガス、Ｓ…サンプルガス。
フロントページの続き (72)発明者 大西 敏和 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内 (72)発明者 加藤 純治 京都府京都市南区吉祥院宮の東町２番地 株式会社堀場製作所内
Claims (1)
- 【請求項１】 サンプルガスを分析部へ供給するサンプ
ルガスラインと、サンプルガスから測定成分を除去した
比較ガスを分析部へ供給する比較ガスラインとをそれぞ
れ分析部に接続し、分析部にサンプルガスと比較ガスを
供給して、その出力差により測定対象成分を測定する流
体変調方式の赤外線ガス分析計において、水分干渉影響
値のチェック時には前記サンプルガスの代わりに乾燥ユ
ニットを通した比較ガスを分析部に供給する乾燥ガスラ
インを形成し、比較ガスと乾燥比較ガスとの出力差によ
って水分干渉影響値を測定し、これによって測定対象成
分の測定値を補正するように構成したことを特徴とする
赤外線ガス分析計。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11009896A JP3482070B2 (ja) | 1996-04-06 | 1996-04-06 | 赤外線ガス分析計 |
| DE1997112823 DE19712823C2 (de) | 1996-04-06 | 1997-03-26 | Infrarot-Gasanalysator |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11009896A JP3482070B2 (ja) | 1996-04-06 | 1996-04-06 | 赤外線ガス分析計 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09273991A true JPH09273991A (ja) | 1997-10-21 |
| JP3482070B2 JP3482070B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=14526990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11009896A Expired - Fee Related JP3482070B2 (ja) | 1996-04-06 | 1996-04-06 | 赤外線ガス分析計 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3482070B2 (ja) |
| DE (1) | DE19712823C2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017219499A (ja) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | 富士電機株式会社 | 赤外線ガス分析装置 |
| WO2018105169A1 (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-14 | 株式会社堀場製作所 | ガス分析装置及びガス分析方法 |
| JP2020008382A (ja) * | 2018-07-06 | 2020-01-16 | 富士電機株式会社 | 赤外線ガス分析計 |
| WO2023218983A1 (ja) * | 2022-05-09 | 2023-11-16 | 株式会社堀場製作所 | 赤外線ガス分析計及び赤外線ガス分析方法 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3336256B2 (ja) * | 1998-07-02 | 2002-10-21 | 日本酸素株式会社 | レーザ光によるガスの分光分析方法 |
| DE19835335C1 (de) | 1998-08-05 | 1999-11-25 | Draeger Sicherheitstech Gmbh | Infrarotoptischer Gassensor |
| DE19859211C2 (de) * | 1998-12-21 | 2001-04-26 | Grimm Aerosol Technik Gmbh & C | Einrichtung und Verfahren zum Bestimmen der Korngrößenverteilung und der Gesamtkonzentration von Partikeln in einem Probengasstrom |
| DE10030134B4 (de) * | 2000-06-20 | 2004-01-08 | Grimm Aerosol Technik Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung einer Konzentration von Mikroorganismen in einem Gas |
| DE102009004278A1 (de) | 2009-01-05 | 2010-07-15 | Synthesechemie Dr. Penth Gmbh | Messgerät für geringe Kohlenwasserstoffkonzentrationen |
| DE102010020110A1 (de) | 2010-05-10 | 2012-11-22 | Synthesechemie Gmbh | Gerät zum Erfassen und Verdünnen für geringe Kohlenwasserstoffkonzentrationen in Druckluft |
| NL2022204B1 (nl) * | 2018-12-13 | 2020-07-03 | Green Vision Holding Bv | Werkwijze en inrichting voor het bepalen van de concentratie van een gasvormige verontreiniging in een productgas van zeer hoge zuiverheid |
| WO2020237513A1 (zh) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 深圳智人环保科技有限公司 | 一种消除环境温湿度变化影响的气体检测系统及其方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2049673A5 (ja) * | 1969-06-17 | 1971-03-26 | Schlumberger Cie N | |
| JPS5648822A (en) * | 1979-09-28 | 1981-05-02 | Iseki Agricult Mach | Dust discharging device of thresher |
| DE4432940C2 (de) * | 1993-09-24 | 1997-10-02 | Fuji Electric Co Ltd | Infrarot-Gasanalysator |
-
1996
- 1996-04-06 JP JP11009896A patent/JP3482070B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-03-26 DE DE1997112823 patent/DE19712823C2/de not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017219499A (ja) * | 2016-06-10 | 2017-12-14 | 富士電機株式会社 | 赤外線ガス分析装置 |
| WO2018105169A1 (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-14 | 株式会社堀場製作所 | ガス分析装置及びガス分析方法 |
| JPWO2018105169A1 (ja) * | 2016-12-08 | 2019-10-24 | 株式会社堀場製作所 | ガス分析装置及びガス分析方法 |
| US11035756B2 (en) | 2016-12-08 | 2021-06-15 | Horiba, Ltd. | Gas analyzing device and gas analyzing method |
| JP2020008382A (ja) * | 2018-07-06 | 2020-01-16 | 富士電機株式会社 | 赤外線ガス分析計 |
| WO2023218983A1 (ja) * | 2022-05-09 | 2023-11-16 | 株式会社堀場製作所 | 赤外線ガス分析計及び赤外線ガス分析方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE19712823C2 (de) | 1999-05-20 |
| DE19712823A1 (de) | 1997-10-30 |
| JP3482070B2 (ja) | 2003-12-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |